JPH09243848A - 光ファイバおよびファイバ型回折格子 - Google Patents
光ファイバおよびファイバ型回折格子Info
- Publication number
- JPH09243848A JPH09243848A JP8047513A JP4751396A JPH09243848A JP H09243848 A JPH09243848 A JP H09243848A JP 8047513 A JP8047513 A JP 8047513A JP 4751396 A JP4751396 A JP 4751396A JP H09243848 A JPH09243848 A JP H09243848A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- core
- diffraction grating
- region
- optical fiber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 239000000835 fiber Substances 0.000 title claims abstract description 56
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 19
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 20
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 7
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 4
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70408—Interferometric lithography; Holographic lithography; Self-imaging lithography, e.g. utilizing the Talbot effect
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外光照射により、反射率の十分大きなファ
イバ型回折格子を形成できる光ファイバを提供する。 【解決手段】 本発明の光ファイバは、酸化ゲルマニウ
ムが添加された石英ガラスから成り、第１の屈折率と第
１の外径を有するコア１００と、コア１００に密着し
て、コア１００の周囲に形成され、第１の外径の３倍以
上の径である第２の外径を有し、酸化ゲルマニウムが添
加された石英ガラスから成り、屈折率が径方向で減少せ
ず、少なくとも一部で増加する屈折率分布を有する第１
の領域を備えるクラッド２１０とを備える。この光ファ
イバに、側面から紫外光干渉縞の照射によって、照射領
域内のコア１００とクラッド２００の第１の領域とに干
渉縞の縞間隔を周期とする屈折率の変化による回折格子
が形成される。
イバ型回折格子を形成できる光ファイバを提供する。 【解決手段】 本発明の光ファイバは、酸化ゲルマニウ
ムが添加された石英ガラスから成り、第１の屈折率と第
１の外径を有するコア１００と、コア１００に密着し
て、コア１００の周囲に形成され、第１の外径の３倍以
上の径である第２の外径を有し、酸化ゲルマニウムが添
加された石英ガラスから成り、屈折率が径方向で減少せ
ず、少なくとも一部で増加する屈折率分布を有する第１
の領域を備えるクラッド２１０とを備える。この光ファ
イバに、側面から紫外光干渉縞の照射によって、照射領
域内のコア１００とクラッド２００の第１の領域とに干
渉縞の縞間隔を周期とする屈折率の変化による回折格子
が形成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、所定部位の屈折率
を周期的に変化させて回折格子を作り込む光ファイバお
よび回折格子が作り込まれたファイバ型回折格子に関す
るものである。
を周期的に変化させて回折格子を作り込む光ファイバお
よび回折格子が作り込まれたファイバ型回折格子に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】光学部品の一種として回折格子が作り込
まれたものには種々の態様のものがあるが、光通信シス
テム等に利用する場合には、特に、他の光ファイバとの
接続が容易で、かつ挿入損失を低くするために回折格子
が作り込まれた光ファイバ型のものが好適である。
まれたものには種々の態様のものがあるが、光通信シス
テム等に利用する場合には、特に、他の光ファイバとの
接続が容易で、かつ挿入損失を低くするために回折格子
が作り込まれた光ファイバ型のものが好適である。
【０００３】こうした回折格子を有する光ファイバとし
ては、例えば特開昭６２−５０００５２号公報に記載の
ものが知られている。これは、酸化ゲルマニウムを添加
して高屈折率のコアを形成した石英系光ファイバに強力
な紫外光を照射することより、コアに周期的な屈折率変
化を生じさせ、回折格子を形成したファイバ型回折格子
である。
ては、例えば特開昭６２−５０００５２号公報に記載の
ものが知られている。これは、酸化ゲルマニウムを添加
して高屈折率のコアを形成した石英系光ファイバに強力
な紫外光を照射することより、コアに周期的な屈折率変
化を生じさせ、回折格子を形成したファイバ型回折格子
である。
【０００４】そして、石英系光ファイバは、（i）酸化
ゲルマニウムを添加して高屈折率のコアとなるべき部分
と、（ii）酸化ゲルマニウムを実質的に含まない低屈折
率のクラッドなる部分とを備える光ファイバ母材を加熱
線引して作製される。そして、こうした光ファイバ母材
は、ＣＶＤ法、ＭＣＶＤ法、ＯＶＤ法、あるいは、ロッ
ドインチューブ法などの周知の方法によって製造され
る。
ゲルマニウムを添加して高屈折率のコアとなるべき部分
と、（ii）酸化ゲルマニウムを実質的に含まない低屈折
率のクラッドなる部分とを備える光ファイバ母材を加熱
線引して作製される。そして、こうした光ファイバ母材
は、ＣＶＤ法、ＭＣＶＤ法、ＯＶＤ法、あるいは、ロッ
ドインチューブ法などの周知の方法によって製造され
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】回折格子が作り込まれ
た光ファイバは、理想的には、反射率Ｒとして、 Ｒ＝ｔａｎｈ2（Ｌ・π・ΔｎUV／λ） …（１） ここで、Ｒ：反射率 Ｌ：コア内に作り込まれた回折格子長 ΔｎUV：紫外光に対する屈折率変化（光誘起屈折率変
化） λ：反射波長 のように、回折格子長（コア内において、屈折率が周期
的に変化している領域の長さ）と光誘起屈折率変化に依
存した反射率を備える。
た光ファイバは、理想的には、反射率Ｒとして、 Ｒ＝ｔａｎｈ2（Ｌ・π・ΔｎUV／λ） …（１） ここで、Ｒ：反射率 Ｌ：コア内に作り込まれた回折格子長 ΔｎUV：紫外光に対する屈折率変化（光誘起屈折率変
化） λ：反射波長 のように、回折格子長（コア内において、屈折率が周期
的に変化している領域の長さ）と光誘起屈折率変化に依
存した反射率を備える。
【０００６】しかし、紫外光の照射により生じたコアの
屈折率変化により、光ファイバの導波構造が変化する。
この導波構造の変化には、光の伝搬領域の径であるモー
ドフィールド径（ＭＦＤ）の変化と、光の伝搬モードの
変化がある。
屈折率変化により、光ファイバの導波構造が変化する。
この導波構造の変化には、光の伝搬領域の径であるモー
ドフィールド径（ＭＦＤ）の変化と、光の伝搬モードの
変化がある。
【０００７】紫外光を照射して、酸化ゲルマニウムが添
加されたコアの所定部分の屈折率を周期的に変化させた
場合に、上記の従来の光ファイバのクラッドには酸化ゲ
ルマニウムが添加されていないので、紫外光を照射して
もコアにおける屈折率変化に対して実質的な屈折率変化
は発生しない。
加されたコアの所定部分の屈折率を周期的に変化させた
場合に、上記の従来の光ファイバのクラッドには酸化ゲ
ルマニウムが添加されていないので、紫外光を照射して
もコアにおける屈折率変化に対して実質的な屈折率変化
は発生しない。
【０００８】したがって、導波構造として見た場合に、
モードフィールド径が周期的に変化する導波構造とな
る。この導波構造においては、クラッドへの漏れ光が発
生する。この漏れ光は、クラッドを伝搬するので、従来
から得られていたファイバ型回折格子のように、回折格
子がコア部のみに形成されているのでは、クラッドへの
漏れ光は反射されず、ファイバ型回折格子としての反射
率が（１）式から低減することとなり充分な反射率を得
ることができない。
モードフィールド径が周期的に変化する導波構造とな
る。この導波構造においては、クラッドへの漏れ光が発
生する。この漏れ光は、クラッドを伝搬するので、従来
から得られていたファイバ型回折格子のように、回折格
子がコア部のみに形成されているのでは、クラッドへの
漏れ光は反射されず、ファイバ型回折格子としての反射
率が（１）式から低減することとなり充分な反射率を得
ることができない。
【０００９】本発明は、上記を鑑みてなされたものであ
り、紫外光照射により回折格子を書き込んで、反射率の
十分大きなファイバ型回折格子を形成できる光ファイバ
を提供することを目的とする。
り、紫外光照射により回折格子を書き込んで、反射率の
十分大きなファイバ型回折格子を形成できる光ファイバ
を提供することを目的とする。
【００１０】また、本発明は、十分大きな反射率を有す
るファイバ型回折格子を提供することを目的とする。
るファイバ型回折格子を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者は、ファイバ型
回折格子の反射率の向上には、導波方向においてモード
フィールド径の変化を低減するため、コアのみならずク
ラッドのコア周辺部にも回折格子を形成することが有効
であることを見出した。そして、石英系ガラスの所定部
分に、紫外光照射によって回折格子を形成するには、こ
の所定部分に酸化ゲルマニウムを添加することが有効で
あるとともに、回折格子が形成されるクラッドのコア周
辺部の径方向に関する屈折率分布の形状に適当な形状が
あることを見出した。
回折格子の反射率の向上には、導波方向においてモード
フィールド径の変化を低減するため、コアのみならずク
ラッドのコア周辺部にも回折格子を形成することが有効
であることを見出した。そして、石英系ガラスの所定部
分に、紫外光照射によって回折格子を形成するには、こ
の所定部分に酸化ゲルマニウムを添加することが有効で
あるとともに、回折格子が形成されるクラッドのコア周
辺部の径方向に関する屈折率分布の形状に適当な形状が
あることを見出した。
【００１２】すなわち、請求項１の光ファイバは、
（ａ）酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラスから成
り、第１の屈折率と第１の外径を有するコアと、（ｂ）
コアに密着して、コアの周囲に形成され、第１の外径の
３倍以上の径である第２の外径を有し、酸化ゲルマニウ
ムが添加された石英ガラスから成り、屈折率が径方向で
減少せず、少なくとも一部では増加する屈折率分布を有
する第１の領域を備えるクラッドと、を備えることを特
徴とする。
（ａ）酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラスから成
り、第１の屈折率と第１の外径を有するコアと、（ｂ）
コアに密着して、コアの周囲に形成され、第１の外径の
３倍以上の径である第２の外径を有し、酸化ゲルマニウ
ムが添加された石英ガラスから成り、屈折率が径方向で
減少せず、少なくとも一部では増加する屈折率分布を有
する第１の領域を備えるクラッドと、を備えることを特
徴とする。
【００１３】請求項１の光ファイバによれば、側面から
の紫外光干渉縞の照射によって、照射領域内のコアとク
ラッドの第１の領域とに干渉縞の縞間隔を周期とする屈
折率の変化による回折格子が形成される。
の紫外光干渉縞の照射によって、照射領域内のコアとク
ラッドの第１の領域とに干渉縞の縞間隔を周期とする屈
折率の変化による回折格子が形成される。
【００１４】この結果として得られるファイバ型回折格
子では、紫外光が照射されて屈折率が増大したコアの部
分の周囲のクラッドの第１の領域でも屈折率が増大して
いるので、局所的なコアの屈折率と径方向に関するその
周辺部のクラッドの屈折率との比で決まる局所的なモー
ドフィールド径の導波方向に関する変化が低減され、漏
れ光が低減される。
子では、紫外光が照射されて屈折率が増大したコアの部
分の周囲のクラッドの第１の領域でも屈折率が増大して
いるので、局所的なコアの屈折率と径方向に関するその
周辺部のクラッドの屈折率との比で決まる局所的なモー
ドフィールド径の導波方向に関する変化が低減され、漏
れ光が低減される。
【００１５】また、第１の領域の外径はコアの外径の３
倍以上あり、光ファイバの光の伝搬領域はコアの外径の
３倍以下となることが一般的であるので、請求項１の光
ファイバから上記のようにして作製されたファイバ型回
折格子によれば、回折格子の形成領域が光の伝搬領域の
大部分をカバーすることができ、モードフィールド径の
導波方向に関する変化の低減による漏れ光の低減の効果
を伝搬光の大部分に及ぼすことができる。
倍以上あり、光ファイバの光の伝搬領域はコアの外径の
３倍以下となることが一般的であるので、請求項１の光
ファイバから上記のようにして作製されたファイバ型回
折格子によれば、回折格子の形成領域が光の伝搬領域の
大部分をカバーすることができ、モードフィールド径の
導波方向に関する変化の低減による漏れ光の低減の効果
を伝搬光の大部分に及ぼすことができる。
【００１６】また、光の伝搬モードには、１次モードと
高次モードとがあり、１次モード光はコア内を伝搬する
が、高次モードは容易にクラッドへ抜けて行く。したが
って、高次モードが回折格子を伝搬すると、漏れ光とな
り反射率の低下の原因となるほか、伝搬光の各種のモー
ド同士の結合が発生し、所定の波長以外の波長の光も反
射することになる。こうした高次モードの伝搬は、クラ
ッドの屈折率分布が径方向で減少する場合に顕著に現れ
る。
高次モードとがあり、１次モード光はコア内を伝搬する
が、高次モードは容易にクラッドへ抜けて行く。したが
って、高次モードが回折格子を伝搬すると、漏れ光とな
り反射率の低下の原因となるほか、伝搬光の各種のモー
ド同士の結合が発生し、所定の波長以外の波長の光も反
射することになる。こうした高次モードの伝搬は、クラ
ッドの屈折率分布が径方向で減少する場合に顕著に現れ
る。
【００１７】請求項１の光ファイバから上記のようにし
て作製されたファイバ型回折格子によれば、クラッドの
屈折率は光の伝搬領域の大部分を占める領域で、屈折率
が径方向に関して減少せず、少なくとも一部では増加す
るので、回折格子中の高次モードの伝搬が有効に低減さ
れ、所定波長の光を効率良く反射できるとともに、所定
波長以外の波長の光の反射を低減する。
て作製されたファイバ型回折格子によれば、クラッドの
屈折率は光の伝搬領域の大部分を占める領域で、屈折率
が径方向に関して減少せず、少なくとも一部では増加す
るので、回折格子中の高次モードの伝搬が有効に低減さ
れ、所定波長の光を効率良く反射できるとともに、所定
波長以外の波長の光の反射を低減する。
【００１８】請求項２の光ファイバは、請求項１の光フ
ァイバにおいて、クラッドが第１の領域に密着し、第１
の領域の周囲に形成された第２の領域を更に備え、第１
の領域の屈折率分布は径方向について単調増加であると
ともに、第２の領域の屈折率は第１の領域の最大屈折率
以上の屈折率を有することを特徴とする。
ァイバにおいて、クラッドが第１の領域に密着し、第１
の領域の周囲に形成された第２の領域を更に備え、第１
の領域の屈折率分布は径方向について単調増加であると
ともに、第２の領域の屈折率は第１の領域の最大屈折率
以上の屈折率を有することを特徴とする。
【００１９】請求項２の光ファイバの側面からの紫外光
干渉縞の照射によって、照射領域内のコアとクラッドの
第１の領域とに干渉縞の縞間隔を周期とする屈折率の変
化による回折格子を形成して得られるファイバ型回折格
子では、回折格子形成部の第１の領域における径方向で
の屈折率が単調に増大し、かつ、第１の外側の第２の領
域の屈折率が第１の領域の最大屈折率以上の屈折率を有
するので、高次モードの伝搬を効率良く抑制できる。
干渉縞の照射によって、照射領域内のコアとクラッドの
第１の領域とに干渉縞の縞間隔を周期とする屈折率の変
化による回折格子を形成して得られるファイバ型回折格
子では、回折格子形成部の第１の領域における径方向で
の屈折率が単調に増大し、かつ、第１の外側の第２の領
域の屈折率が第１の領域の最大屈折率以上の屈折率を有
するので、高次モードの伝搬を効率良く抑制できる。
【００２０】請求項３の光ファイバは、請求項１の光フ
ァイバにおいて、第１の領域にはフッ素が更に添加され
ていることを特徴とする。
ァイバにおいて、第１の領域にはフッ素が更に添加され
ていることを特徴とする。
【００２１】請求項１の光ファイバによれば、屈折率低
下材であり、添加濃度の制御が容易、すなわち、屈折率
の制御が容易なフッ素が第１の領域に添加されるので、
第１の領域への屈折率増大材である酸化ゲルマニウムが
添加していても所望の屈折率のクラッドの第１の領域を
実現することができる。
下材であり、添加濃度の制御が容易、すなわち、屈折率
の制御が容易なフッ素が第１の領域に添加されるので、
第１の領域への屈折率増大材である酸化ゲルマニウムが
添加していても所望の屈折率のクラッドの第１の領域を
実現することができる。
【００２２】請求項４の光ファイバは、請求項１の光フ
ァイバにおいて、第１の領域の各部位の酸化ゲルマニウ
ムの添加濃度は、いずれの部位においても前記コアの酸
化ゲルニウムの添加濃度以下であることを特徴とする。
ァイバにおいて、第１の領域の各部位の酸化ゲルマニウ
ムの添加濃度は、いずれの部位においても前記コアの酸
化ゲルニウムの添加濃度以下であることを特徴とする。
【００２３】紫外光の照射前後におけるコアの屈折率と
クラッドのコア周辺部の屈折率との比を略同一とするこ
とが、モードフィールド径の軸方向における変化を起こ
させないためには好ましい。
クラッドのコア周辺部の屈折率との比を略同一とするこ
とが、モードフィールド径の軸方向における変化を起こ
させないためには好ましい。
【００２４】酸化ゲルマニウム添加の石英ガラスの紫外
光照射による屈折率変化が高々１０-3程度、かつ、コア
とクラッドとの屈折率差が１程度であることを鑑みれ
ば、コアへの酸化ゲルマニウムの添加濃度と第１の領域
への酸化ゲルマニウムの添加濃度は同程度であることが
好ましい。しかしながら、コアの屈折率が第１の領域の
屈折率よりも高いので、第１の領域への酸化ゲルマニウ
ムの添加濃度がコアへの酸化ゲルマニウムの添加濃度よ
りも高ければ、紫外光の照射前後におけるコアの屈折率
とクラッドのコア周辺部の屈折率との比が必ず不一致と
なる。
光照射による屈折率変化が高々１０-3程度、かつ、コア
とクラッドとの屈折率差が１程度であることを鑑みれ
ば、コアへの酸化ゲルマニウムの添加濃度と第１の領域
への酸化ゲルマニウムの添加濃度は同程度であることが
好ましい。しかしながら、コアの屈折率が第１の領域の
屈折率よりも高いので、第１の領域への酸化ゲルマニウ
ムの添加濃度がコアへの酸化ゲルマニウムの添加濃度よ
りも高ければ、紫外光の照射前後におけるコアの屈折率
とクラッドのコア周辺部の屈折率との比が必ず不一致と
なる。
【００２５】したがって、第１の領域の各部位の酸化ゲ
ルマニウムの添加濃度は、いずれの部位においても前記
コアの酸化ゲルニウムの添加濃度以下であることが好ま
しい。
ルマニウムの添加濃度は、いずれの部位においても前記
コアの酸化ゲルニウムの添加濃度以下であることが好ま
しい。
【００２６】請求項５のファイバ型回折格子は、（ａ）
酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラスから成り、第
１の屈折率と第１の外径とを有し、所定部部分に光の伝
搬方向に沿って屈折率が所定の周期で変化する回折格子
を備えるコアと、（ｂ）コアに密着して、コアの周囲に
形成され、第１の外径の３倍以上の径である第２の外径
を有し、酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラスから
成り、屈折率が径方向で減少せず、少なくとも一部では
増加する屈折率分布を有し、前記コアの前記所定部分の
周囲部に光の伝搬方向に沿って屈折率が前記所定の周期
で変化する回折格子を備える第１の領域を備えるクラッ
ドとを備えることを特徴とする。
酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラスから成り、第
１の屈折率と第１の外径とを有し、所定部部分に光の伝
搬方向に沿って屈折率が所定の周期で変化する回折格子
を備えるコアと、（ｂ）コアに密着して、コアの周囲に
形成され、第１の外径の３倍以上の径である第２の外径
を有し、酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラスから
成り、屈折率が径方向で減少せず、少なくとも一部では
増加する屈折率分布を有し、前記コアの前記所定部分の
周囲部に光の伝搬方向に沿って屈折率が前記所定の周期
で変化する回折格子を備える第１の領域を備えるクラッ
ドとを備えることを特徴とする。
【００２７】請求項５のファイバ型回折格子は、請求項
１の光ファイバの所定部分に、側面から紫外光干渉縞を
照射して作製されるファイバ型回折格子である。したが
って、上述のように、請求項５のファイバ型回折格子に
よれば、所定波長の光を効率良く反射できるとともに、
所定波長以外の波長の光の反射を低減する。
１の光ファイバの所定部分に、側面から紫外光干渉縞を
照射して作製されるファイバ型回折格子である。したが
って、上述のように、請求項５のファイバ型回折格子に
よれば、所定波長の光を効率良く反射できるとともに、
所定波長以外の波長の光の反射を低減する。
【００２８】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施の形態を説明する。なお、図面の説明にあたって
同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略
する。
の実施の形態を説明する。なお、図面の説明にあたって
同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略
する。
【００２９】（第１実施形態）図１は、本発明の光ファ
イバの第１実施形態の構成図である。図１に示すよう
に、この光ファイバは、（ａ）酸化ゲルマニウムが添加
された石英ガラスから成り、屈折率ｎ１を有するコア１
００と、（ｂ）コア１００に密着して、コア１００の周
囲に形成され、コア１００の外径の３倍以上の外径を有
し、コアへの添加濃度以下の添加濃度であって、径方向
で増大する添加濃度の酸化ゲルマニウムと略一定濃度の
フッ素とが添加された石英ガラスから成り、コア１００
との界面での屈折率がｎ２であり、外周面での屈折率が
ｎ３であるクラッド２１０とを備える。
イバの第１実施形態の構成図である。図１に示すよう
に、この光ファイバは、（ａ）酸化ゲルマニウムが添加
された石英ガラスから成り、屈折率ｎ１を有するコア１
００と、（ｂ）コア１００に密着して、コア１００の周
囲に形成され、コア１００の外径の３倍以上の外径を有
し、コアへの添加濃度以下の添加濃度であって、径方向
で増大する添加濃度の酸化ゲルマニウムと略一定濃度の
フッ素とが添加された石英ガラスから成り、コア１００
との界面での屈折率がｎ２であり、外周面での屈折率が
ｎ３であるクラッド２１０とを備える。
【００３０】本実施形態の光ファイバの所定領域に紫外
光が照射されて、回折格子３００が形成され、本発明の
第１実施形態のファイバ型回折格子が得られる。
光が照射されて、回折格子３００が形成され、本発明の
第１実施形態のファイバ型回折格子が得られる。
【００３１】紫外光の照射は、以下のホログラフィック
法や位相格子法によって行われる。
法や位相格子法によって行われる。
【００３２】図２は、ホログラフィック法による回折格
子の形成の説明図である。図２に示すように、干渉機構
７４０を用いて干渉空間７５０を生成するように、光源
７３０から出射された紫外光を干渉させ、この干渉空間
７５０に光ファイバを設置する。光源７３０は、ＳＨＧ
（高調波発生器）アルゴンレーザやＫｒＦエキシマレー
ザ等であり、所定波長を有するコヒーレントな紫外光を
出射する。干渉機構７４０は、ビームスプリッタ７４１
及びミラー７４２，７４３で構成されている。ビームス
プリッタ７４１は、光源７３０からの紫外光を二つの分
岐光に二分岐させる。ミラー７４２及び７４３は、ビー
ムスプリッタ７４１からの分岐光をそれぞれ反射し、光
ファイバの軸方向に対して所定角度θ1 ，θ2 でそれぞ
れ入射して共面ビームとして相互に干渉させる。コア１
００および内層クラッド２１０は、上述したように酸化
ゲルマニウムがドープされており、紫外光の照射により
屈折率が変化する。なお、二つの分岐光の入射角度θ1
及びθ2 は相互に補角であり、これらの和（θ1 ＋θ
2 ）は１８０°になる。
子の形成の説明図である。図２に示すように、干渉機構
７４０を用いて干渉空間７５０を生成するように、光源
７３０から出射された紫外光を干渉させ、この干渉空間
７５０に光ファイバを設置する。光源７３０は、ＳＨＧ
（高調波発生器）アルゴンレーザやＫｒＦエキシマレー
ザ等であり、所定波長を有するコヒーレントな紫外光を
出射する。干渉機構７４０は、ビームスプリッタ７４１
及びミラー７４２，７４３で構成されている。ビームス
プリッタ７４１は、光源７３０からの紫外光を二つの分
岐光に二分岐させる。ミラー７４２及び７４３は、ビー
ムスプリッタ７４１からの分岐光をそれぞれ反射し、光
ファイバの軸方向に対して所定角度θ1 ，θ2 でそれぞ
れ入射して共面ビームとして相互に干渉させる。コア１
００および内層クラッド２１０は、上述したように酸化
ゲルマニウムがドープされており、紫外光の照射により
屈折率が変化する。なお、二つの分岐光の入射角度θ1
及びθ2 は相互に補角であり、これらの和（θ1 ＋θ
2 ）は１８０°になる。
【００３３】図３は、位相格子法による回折格子の形成
の説明図である。図３に示すように、光ファイバを位相
格子７６０に隣接して設置し、光源７３０から出射され
た紫外光を位相格子７６０表面の法線方向に対して所定
角度θで入射させる。光源７３０は、ＳＨＧアルゴンレ
ーザやＫｒＦエキシマレーザ等であり、これらは所定波
長を有するコヒーレントな紫外光を出射する。位相格子
７６０は、所定周期で格子を配列して形成されている。
コア１９０および内層クラッド２９１は、上述したよう
に酸化ゲルマニウムがドープされており、紫外光の照射
により屈折率が変化する。
の説明図である。図３に示すように、光ファイバを位相
格子７６０に隣接して設置し、光源７３０から出射され
た紫外光を位相格子７６０表面の法線方向に対して所定
角度θで入射させる。光源７３０は、ＳＨＧアルゴンレ
ーザやＫｒＦエキシマレーザ等であり、これらは所定波
長を有するコヒーレントな紫外光を出射する。位相格子
７６０は、所定周期で格子を配列して形成されている。
コア１９０および内層クラッド２９１は、上述したよう
に酸化ゲルマニウムがドープされており、紫外光の照射
により屈折率が変化する。
【００３４】図４は、本発明の第１実施形態のファイバ
型回折格子における屈折率分布の説明図である。図４で
は、紫外光の非照射部の径方向の屈折率分布と、紫外光
の最大照射部の径方向の屈折率分布を例示している。図
４から、紫外光の照射による純石英ガラスに対する比屈
折率差の変化が１０-3程度であり、純石英ガラスの屈折
率が１程度であることから、コア１００の屈折率とクラ
ッド２１０の屈折率との比が各軸方向の点において略一
定となることが確認される。
型回折格子における屈折率分布の説明図である。図４で
は、紫外光の非照射部の径方向の屈折率分布と、紫外光
の最大照射部の径方向の屈折率分布を例示している。図
４から、紫外光の照射による純石英ガラスに対する比屈
折率差の変化が１０-3程度であり、純石英ガラスの屈折
率が１程度であることから、コア１００の屈折率とクラ
ッド２１０の屈折率との比が各軸方向の点において略一
定となることが確認される。
【００３５】図４に示すファイバ型回折格子は、入力し
た所定波長の光を回折格子部で反射するが、クラッド２
１０の外径はコア１００の外径の３倍以上であり、紫外
光照射前のクラッド２１０の屈折率分布を径方向で増大
させることとしたので、回折格子部に入射した所定波長
の光を効率良く反射するとともに、高次モードの光の伝
搬を抑制するので、所定波長以外の波長の光の反射が抑
制される。
た所定波長の光を回折格子部で反射するが、クラッド２
１０の外径はコア１００の外径の３倍以上であり、紫外
光照射前のクラッド２１０の屈折率分布を径方向で増大
させることとしたので、回折格子部に入射した所定波長
の光を効率良く反射するとともに、高次モードの光の伝
搬を抑制するので、所定波長以外の波長の光の反射が抑
制される。
【００３６】（第２実施形態）図５は、本発明の光ファ
イバの第２実施形態の構成図である。図２に示すよう
に、この光ファイバは、（ａ）酸化ゲルマニウムが添加
された石英ガラスから成り、屈折率ｎ１と外径ａを有す
るコア１００と、（ｂ）コア１００に密着して、コア１
００の周囲に形成され、外径ｂ（＞３ａ）を有し、コア
への添加濃度よりも低い添加濃度の酸化ゲルマニウムと
フッ素とが添加された石英ガラスから成り、径方向で単
調に増加する屈折率ｎ２（ｒ）を有する内層クラッド２
２０と、（ｃ）内層クラッド２２０に密着して、内層ク
ラッド２２０の周囲に形成され、外径１２５μｍを有
し、ｎ２（ｂ／２）よりも高い屈折率ｎ３（ｒ）を有す
る石英径ガラスから成る外層クラッド２３０とを備え
る。
イバの第２実施形態の構成図である。図２に示すよう
に、この光ファイバは、（ａ）酸化ゲルマニウムが添加
された石英ガラスから成り、屈折率ｎ１と外径ａを有す
るコア１００と、（ｂ）コア１００に密着して、コア１
００の周囲に形成され、外径ｂ（＞３ａ）を有し、コア
への添加濃度よりも低い添加濃度の酸化ゲルマニウムと
フッ素とが添加された石英ガラスから成り、径方向で単
調に増加する屈折率ｎ２（ｒ）を有する内層クラッド２
２０と、（ｃ）内層クラッド２２０に密着して、内層ク
ラッド２２０の周囲に形成され、外径１２５μｍを有
し、ｎ２（ｂ／２）よりも高い屈折率ｎ３（ｒ）を有す
る石英径ガラスから成る外層クラッド２３０とを備え
る。
【００３７】本実施形態の光ファイバの所定領域に紫外
光が照射されて、回折格子が形成され、本発明の第２実
施形態のファイバ型回折格子が得られる。
光が照射されて、回折格子が形成され、本発明の第２実
施形態のファイバ型回折格子が得られる。
【００３８】紫外光の照射は、第１実施形態と同様にホ
ログラフィック法や位相格子法によって行われる。
ログラフィック法や位相格子法によって行われる。
【００３９】図６は、本発明の第２実施形態のファイバ
型回折格子の構成図である。図６では、紫外光の非照射
部の径方向の屈折率分布と、紫外光の最大照射部の径方
向の屈折率分布を例示している。図６から、紫外光の照
射による純石英ガラスに対する比屈折率差の変化が１０
-3程度であり、純石英ガラスの屈折率が１程度であるこ
とから、コア１００の屈折率と内層クラッド２２０の屈
折率との比が各軸方向の点において略一定となることが
確認される。
型回折格子の構成図である。図６では、紫外光の非照射
部の径方向の屈折率分布と、紫外光の最大照射部の径方
向の屈折率分布を例示している。図６から、紫外光の照
射による純石英ガラスに対する比屈折率差の変化が１０
-3程度であり、純石英ガラスの屈折率が１程度であるこ
とから、コア１００の屈折率と内層クラッド２２０の屈
折率との比が各軸方向の点において略一定となることが
確認される。
【００４０】図６に示すファイバ型回折格子は、入力し
た所定波長の光を回折格子部で反射するが、クラッド２
１０の外径はコア１００の外径の３倍以上であり、紫外
光照射前の内層クラッド２２０の屈折率を径方向で単調
増加とし、外層クラッド２３０の屈折率を内層クラッド
のどの部位よりも高くしたので、回折格子部に入射した
所定波長の光を効率良く反射するとともに、高次モード
の光の伝搬を抑制するので、所定波長以外の波長の光の
反射が抑制される。
た所定波長の光を回折格子部で反射するが、クラッド２
１０の外径はコア１００の外径の３倍以上であり、紫外
光照射前の内層クラッド２２０の屈折率を径方向で単調
増加とし、外層クラッド２３０の屈折率を内層クラッド
のどの部位よりも高くしたので、回折格子部に入射した
所定波長の光を効率良く反射するとともに、高次モード
の光の伝搬を抑制するので、所定波長以外の波長の光の
反射が抑制される。
【００４１】
【実施例】本発明者は、上記の実施形態に基づいて、以
下のような、光ファイバを製造し、この光ファイバを使
用してファイバ型回折格子の製造を実施し、反射率を測
定した。
下のような、光ファイバを製造し、この光ファイバを使
用してファイバ型回折格子の製造を実施し、反射率を測
定した。
【００４２】図７は、ファイバ型回折格子の反射率測定
を行うシステムの構成図である。図７に示すように、こ
のシステムは、光源８７０、ファイバ型回折格子及び光
スペクトルアナライザ８９０を光カプラ８８０で光結合
して構成されている。
を行うシステムの構成図である。図７に示すように、こ
のシステムは、光源８７０、ファイバ型回折格子及び光
スペクトルアナライザ８９０を光カプラ８８０で光結合
して構成されている。
【００４３】光源７０は通常の発光ダイオード等であ
り、ファイバ型回折格子における反射波長λR を有する
光成分を含む光を出射する。光カプラ８８０は通常の溶
融延伸型ファイバカプラであり、光源８７０からの入射
光をファイバ型回折格子に出力すると共にファイバ型回
折格子からの反射光を光スペクトルアナライザ８９０に
出力する。光スペクトルアナライザ８９０は、ファイバ
型回折格子からの反射光における波長と光強度との関係
を検出する。なお、ファイバ型回折格子の開放端は、マ
ッチングオイル８６０中に浸されている。このマッチン
グオイル８６０は、通常の屈折率整合液であり、不要な
反射光成分を除去している。
り、ファイバ型回折格子における反射波長λR を有する
光成分を含む光を出射する。光カプラ８８０は通常の溶
融延伸型ファイバカプラであり、光源８７０からの入射
光をファイバ型回折格子に出力すると共にファイバ型回
折格子からの反射光を光スペクトルアナライザ８９０に
出力する。光スペクトルアナライザ８９０は、ファイバ
型回折格子からの反射光における波長と光強度との関係
を検出する。なお、ファイバ型回折格子の開放端は、マ
ッチングオイル８６０中に浸されている。このマッチン
グオイル８６０は、通常の屈折率整合液であり、不要な
反射光成分を除去している。
【００４４】図７のシステムによれば、光源８７０から
出射された光は、光カプラ８８０を介してファイバ型回
折格子に入射する。ファイバ回折格子では、回折格子３
００が特定波長の光成分を反射する。ファイバ型回折格
子から出射された光は、光カプラ８８０を介して光スペ
クトルアナライザ８９０で受光される。光スペクトルア
ナライザ８９０では、波長と光強度とからなるファイバ
型回折格子の反射スペクトルが検出される。
出射された光は、光カプラ８８０を介してファイバ型回
折格子に入射する。ファイバ回折格子では、回折格子３
００が特定波長の光成分を反射する。ファイバ型回折格
子から出射された光は、光カプラ８８０を介して光スペ
クトルアナライザ８９０で受光される。光スペクトルア
ナライザ８９０では、波長と光強度とからなるファイバ
型回折格子の反射スペクトルが検出される。
【００４５】図８は、実施例の光ファイバの構成図であ
る。図８に示すように、この光ファイバは、（ａ）ゲル
マニウムが６重量％の濃度で添加された石英ガラスから
成り、純石英に対する比屈折率差Δｎ１が約０．３５％
のコア１０１と、（ｂ）ゲルマニウムが０〜６重量％で
径方向で線形に変化する濃度で、フッ素が１．６２重量
％の濃度で添加された石英ガラスから成り、純石英に対
する比屈折率差Δｎ２が−０．６〜−０．２５％で径方
向で線形に変化する、コア１０１の外径の略７倍の外径
の内層クラッド２２２と、（ｃ）実質的に石英ガラスの
みから成るコア１０１の外径の略１５倍の外径の内層ク
ラッド２３２とを備える。
る。図８に示すように、この光ファイバは、（ａ）ゲル
マニウムが６重量％の濃度で添加された石英ガラスから
成り、純石英に対する比屈折率差Δｎ１が約０．３５％
のコア１０１と、（ｂ）ゲルマニウムが０〜６重量％で
径方向で線形に変化する濃度で、フッ素が１．６２重量
％の濃度で添加された石英ガラスから成り、純石英に対
する比屈折率差Δｎ２が−０．６〜−０．２５％で径方
向で線形に変化する、コア１０１の外径の略７倍の外径
の内層クラッド２２２と、（ｃ）実質的に石英ガラスの
みから成るコア１０１の外径の略１５倍の外径の内層ク
ラッド２３２とを備える。
【００４６】この光ファイバに、図２に示したホログラ
フィック法または図３に示した位相格子法により、１．
５５μｍに反射波長を有する回折格子を形成し、ファイ
バ型回折格子を得た。図９は、このファイバ型回折格子
における屈折率分布の説明図である。図９では、紫外光
の非照射部の径方向の屈折率分布と、紫外光の最大照射
部の径方向の屈折率分布を例示している。
フィック法または図３に示した位相格子法により、１．
５５μｍに反射波長を有する回折格子を形成し、ファイ
バ型回折格子を得た。図９は、このファイバ型回折格子
における屈折率分布の説明図である。図９では、紫外光
の非照射部の径方向の屈折率分布と、紫外光の最大照射
部の径方向の屈折率分布を例示している。
【００４７】図９のファイバ型回折格子の反射率の波長
依存性を図７のシステムで測定した。図１０は、本実施
例におけるファイバ型回折格子の反射率の波長依存性の
測定結果を示すグラフである。
依存性を図７のシステムで測定した。図１０は、本実施
例におけるファイバ型回折格子の反射率の波長依存性の
測定結果を示すグラフである。
【００４８】図１０から、本実施例におけるファイバ型
回折格子の反射率は、１．５５μｍの波長の光に関して
は略１００％であり、かつ、１．０〜１．６μｍの波長
範囲において１．５５μｍの反射率ピーク以外の回折格
子に起因した損失ピークは見出されなかった。
回折格子の反射率は、１．５５μｍの波長の光に関して
は略１００％であり、かつ、１．０〜１．６μｍの波長
範囲において１．５５μｍの反射率ピーク以外の回折格
子に起因した損失ピークは見出されなかった。
【００４９】本発明者は、上記の実施例と比較するた
め、以下のような比較例のファイバ型回折格子を製造
し、反射率を測定した。
め、以下のような比較例のファイバ型回折格子を製造
し、反射率を測定した。
【００５０】図１１は、第１実施例の光ファイバの構成
図である。本実施例は第１実施形態に関する実施例であ
る。図１１に示すように、この光ファイバは、（ａ）ゲ
ルマニウムが６重量％の濃度で添加された石英ガラスか
ら成り、純石英に対する比屈折率差Δｎ１が約０．３５
％のコア１０１と、（ｂ）実質的に石英ガラスのみから
成り、コア１０１の外径の略１５倍の外径のクラッド２
１３とを備える。
図である。本実施例は第１実施形態に関する実施例であ
る。図１１に示すように、この光ファイバは、（ａ）ゲ
ルマニウムが６重量％の濃度で添加された石英ガラスか
ら成り、純石英に対する比屈折率差Δｎ１が約０．３５
％のコア１０１と、（ｂ）実質的に石英ガラスのみから
成り、コア１０１の外径の略１５倍の外径のクラッド２
１３とを備える。
【００５１】この光ファイバに、図２に示したホログラ
フィック法または図３に示した位相格子法により、１．
５５μｍに反射波長を有する回折格子を形成し、ファイ
バ型回折格子を得た。図１２は、このファイバ型回折格
子における屈折率分布の説明図である。図１２では、紫
外光の非照射部の径方向の屈折率分布と、紫外光の最大
照射部の径方向の屈折率分布を例示している。
フィック法または図３に示した位相格子法により、１．
５５μｍに反射波長を有する回折格子を形成し、ファイ
バ型回折格子を得た。図１２は、このファイバ型回折格
子における屈折率分布の説明図である。図１２では、紫
外光の非照射部の径方向の屈折率分布と、紫外光の最大
照射部の径方向の屈折率分布を例示している。
【００５２】図１２のファイバ型回折格子の反射率の波
長依存性を図７のシステムで測定した。図１３は、本実
施例におけるファイバ型回折格子の反射率の波長依存性
の測定結果を示すグラフである。
長依存性を図７のシステムで測定した。図１３は、本実
施例におけるファイバ型回折格子の反射率の波長依存性
の測定結果を示すグラフである。
【００５３】図１３から、本実施例におけるファイバ型
回折格子の反射率は、１．５５μｍの波長の光に関して
は略９０％であり、かつ、１．０〜１．６μｍの波長範
囲において、１．５５μｍの反射率ピーク以外に短波長
側に反射率ピークが観測された。これは、回折格子にお
いて１次モードから高次モードに変換された光が反射さ
れた結果と推測される。
回折格子の反射率は、１．５５μｍの波長の光に関して
は略９０％であり、かつ、１．０〜１．６μｍの波長範
囲において、１．５５μｍの反射率ピーク以外に短波長
側に反射率ピークが観測された。これは、回折格子にお
いて１次モードから高次モードに変換された光が反射さ
れた結果と推測される。
【００５４】
【発明の効果】以上、詳細に説明した通り、本発明の光
ファイバは、クラッドのコア側の領域であって、外径が
コアの外径の３倍以上の領域に酸化ゲルマニウムを添加
するととに、クラッドの酸化ゲルマニム添加領域では、
径方向で屈折率が減少せず、少なくとも一部で増加する
屈折率分布としたので、この光ファイバの側面から紫外
光の干渉縞を照射することにより、所定の波長の光の反
射率が十分大きく、所定の波長以外の波長の反射を抑制
したファイバ型回折格子を作製することができる。
ファイバは、クラッドのコア側の領域であって、外径が
コアの外径の３倍以上の領域に酸化ゲルマニウムを添加
するととに、クラッドの酸化ゲルマニム添加領域では、
径方向で屈折率が減少せず、少なくとも一部で増加する
屈折率分布としたので、この光ファイバの側面から紫外
光の干渉縞を照射することにより、所定の波長の光の反
射率が十分大きく、所定の波長以外の波長の反射を抑制
したファイバ型回折格子を作製することができる。
【００５５】また、本発明のファイバ型回折格子によれ
ば、酸化ゲルマニウムが添加されたコアの所定部分と、
その周辺のクラッドのコア側の領域であって、外径がコ
アの外径の３倍以上の酸化ゲルマニウム添加添加領域に
回折格子を形成したので、所定の波長の光の反射率が十
分大きく、所定の波長以外の波長の反射を抑制して光を
伝搬することができる。
ば、酸化ゲルマニウムが添加されたコアの所定部分と、
その周辺のクラッドのコア側の領域であって、外径がコ
アの外径の３倍以上の酸化ゲルマニウム添加添加領域に
回折格子を形成したので、所定の波長の光の反射率が十
分大きく、所定の波長以外の波長の反射を抑制して光を
伝搬することができる。
【図１】本発明の第１実施形態の光ファイバの構成図で
ある。
ある。
【図２】ホログラフィック法による回折格子書き込みの
説明図である。
説明図である。
【図３】位相格子法による回折格子書き込みの説明図で
ある。
ある。
【図４】本発明の第１実施形態のファイバ型回折格子の
構成図である。
構成図である。
【図５】本発明の第２実施形態の光ファイバの構成図で
ある。
ある。
【図６】本発明の第２実施形態のファイバ型回折格子の
構成図である。
構成図である。
【図７】ファイバ型回折格子の反射率測定システムの構
成図である。
成図である。
【図８】本発明の実施例の光ファイバの構成図である。
【図９】本発明の実施例のファイバ型回折格子の構成図
である。
である。
【図１０】実施例におけるファイバ型回折格子の反射率
の波長依存性の測定結果を示すグラフである。
の波長依存性の測定結果を示すグラフである。
【図１１】比較例の光ファイバの構成図である。
【図１２】比較例のファイバ型回折格子の構成図であ
る。
る。
【図１３】比較例におけるファイバ型回折格子の反射率
の波長依存性の測定結果を示すグラフである。
の波長依存性の測定結果を示すグラフである。
１００、１０１…コア、２１０，２１３…クラッド、２
２０，２２２…内層クラッド、２３０，２３２…外層ク
ラッド、３００…回折格子。
２０，２２２…内層クラッド、２３０，２３２…外層ク
ラッド、３００…回折格子。
Claims (5)
- 【請求項１】 酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラ
スから成り、第１の屈折率と第１の外径を有するコア
と、 前記コアに密着して、前記コアの周囲に形成され、前記
第１の外径の３倍以上の径である第２の外径を有し、酸
化ゲルマニウムが添加された石英ガラスから成り、屈折
率が径方向で減少せず、少なくとも一部では増加する屈
折率分布を有する第１の領域を備えるクラッドと、 を備えることを特徴とする光ファイバ。 - 【請求項２】 前記クラッドは、前記第１の領域に密着
し、前記第１の領域の周囲に形成された第２の領域を更
に備え、 前記第１の領域の屈折率分布は径方向について単調増加
であるとともに、前記第２の領域の屈折率は、前記第１
の領域の最大屈折率以上の屈折率を有する、 ことを特徴とする請求項１記載の光ファイバ。 - 【請求項３】 前記第１の領域はフッ素が更に添加され
ている、ことを特徴とする請求項１記載の光ファイバ。 - 【請求項４】 前記第１の領域の各部位の酸化ゲルマニ
ウムの添加濃度は、いずれの部位においても前記コアの
酸化ゲルニウムの添加濃度以下である、ことを特徴とす
る請求項１記載の光ファイバ。 - 【請求項５】 酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラ
スから成り、第１の屈折率と第１の外径とを有し、所定
部部分に光の伝搬方向に沿って屈折率が所定の周期で変
化する回折格子を備えるコアと、 前記コアに密着して、前記コアの周囲に形成され、前記
第１の外径の３倍以上の径である第２の外径を有し、酸
化ゲルマニウムが添加された石英ガラスから成り、屈折
率が径方向で減少せず、少なくとも一部では増加する屈
折率分布を有し、前記コアの前記所定部分の周囲部に光
の伝搬方向に沿って屈折率が前記所定の周期で変化する
回折格子を備える第１の領域を備えるクラッドと、 を備えることを特徴とするファイバ型回折格子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8047513A JPH09243848A (ja) | 1996-03-05 | 1996-03-05 | 光ファイバおよびファイバ型回折格子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8047513A JPH09243848A (ja) | 1996-03-05 | 1996-03-05 | 光ファイバおよびファイバ型回折格子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09243848A true JPH09243848A (ja) | 1997-09-19 |
Family
ID=12777201
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8047513A Pending JPH09243848A (ja) | 1996-03-05 | 1996-03-05 | 光ファイバおよびファイバ型回折格子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09243848A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999012075A1 (en) * | 1997-09-03 | 1999-03-11 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method of producing phase mask for fabricating optical fiber and optical fiber with bragg's diffraction grating produced by using the phase mask |
| US6728458B2 (en) | 2001-02-28 | 2004-04-27 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber and fiber grating device |
| JP2010506218A (ja) * | 2006-10-05 | 2010-02-25 | ハリス コーポレイション | キャピラリ導波管の調整可能な光学装置 |
| JP2010506219A (ja) * | 2006-10-05 | 2010-02-25 | ハリス コーポレイション | キャピラリ導波管の調整可能な光学装置を用いて、光信号をフィルタ処理する方法 |
| EP2510387A4 (en) * | 2009-12-09 | 2014-08-27 | Baker Hughes Inc | BEND-SENSITIVE GLASS FIBER WITH INCREASED RESISTANCE TO HYDROGEN |
| KR20210053092A (ko) * | 2019-11-01 | 2021-05-11 | 레이저닉스 주식회사 | 계단형 넓은 모드 면적 광섬유를 이용한 광증폭기 및 이를 포함하는 극초단 펄스 광섬유 레이저 장치 |
-
1996
- 1996-03-05 JP JP8047513A patent/JPH09243848A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999012075A1 (en) * | 1997-09-03 | 1999-03-11 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method of producing phase mask for fabricating optical fiber and optical fiber with bragg's diffraction grating produced by using the phase mask |
| US6466714B1 (en) | 1997-09-03 | 2002-10-15 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. And Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Method of producing phase mask for fabricating optical fiber and optical fiber with bragg's diffraction grating produced by using the phase mask |
| US6728458B2 (en) | 2001-02-28 | 2004-04-27 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber and fiber grating device |
| JP2010506218A (ja) * | 2006-10-05 | 2010-02-25 | ハリス コーポレイション | キャピラリ導波管の調整可能な光学装置 |
| JP2010506219A (ja) * | 2006-10-05 | 2010-02-25 | ハリス コーポレイション | キャピラリ導波管の調整可能な光学装置を用いて、光信号をフィルタ処理する方法 |
| EP2510387A4 (en) * | 2009-12-09 | 2014-08-27 | Baker Hughes Inc | BEND-SENSITIVE GLASS FIBER WITH INCREASED RESISTANCE TO HYDROGEN |
| KR20210053092A (ko) * | 2019-11-01 | 2021-05-11 | 레이저닉스 주식회사 | 계단형 넓은 모드 면적 광섬유를 이용한 광증폭기 및 이를 포함하는 극초단 펄스 광섬유 레이저 장치 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3727447B2 (ja) | クラッド層ポンプファイバレーザを有する装置 | |
| US5790726A (en) | Optical waveguide and process for producing it | |
| JP3497298B2 (ja) | 光ファイバフィルタ | |
| US6009222A (en) | Optical fibre and optical fibre grating | |
| US5309260A (en) | Method for forming distributed bragg reflectors in optical media | |
| Mizunami et al. | Bragg gratings in multimode and few-mode optical fibers | |
| US6321007B1 (en) | Optical fiber having a bragg grating formed in its cladding | |
| US5625472A (en) | Method for forming distributed Bragg reflectors in optical media | |
| US6221555B1 (en) | Photo-sensitive fiber | |
| JPH1184117A (ja) | 反射型光導波路グレーティング | |
| JP3431046B2 (ja) | 光導波路、その導波路部材、及びその製造方法 | |
| CN112840255B (zh) | 倾斜光纤光栅 | |
| JPH08286055A (ja) | 光導波路、その導波路部材、及びその製造方法 | |
| JP3431048B2 (ja) | 光導波路、その導波路部材、及びその製造方法 | |
| JP3596080B2 (ja) | 光ファイバ型回折格子作製用光ファイバ母材の製造方法 | |
| JP2000292629A (ja) | 光ファイバグレーティングおよび光通信システム | |
| JP3717307B2 (ja) | 光ファイバ型光部品 | |
| JP3458870B2 (ja) | 光ファイバ型回折格子の形成方法 | |
| JP4846770B2 (ja) | 光増幅器 | |
| JP3746745B2 (ja) | ファイバ型光部品 | |
| JP2003322735A (ja) | ファイバグレーティング型光部品 | |
| JPH09274115A (ja) | 光導波路グレーティング | |
| CA2461368A1 (en) | Bragg grating and method of producing a bragg grating using an ultrafast laser | |
| Munkueva et al. | Femtosecond laser inscription of artificial Rayleigh reflectors inside a fiber core using a spatial light modulator | |
| JPH1138264A (ja) | 光ファイバグレーティングおよびその製造方法 |