JPH09249628A - フェノール誘導体 - Google Patents
フェノール誘導体Info
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- JPH09249628A JPH09249628A JP8054498A JP5449896A JPH09249628A JP H09249628 A JPH09249628 A JP H09249628A JP 8054498 A JP8054498 A JP 8054498A JP 5449896 A JP5449896 A JP 5449896A JP H09249628 A JPH09249628 A JP H09249628A
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- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、優れた抗酸化作用及びACAT阻
害作用によりマクロファージの泡沫細胞形成を抑制する
ことによって、動脈硬化の進展を抑制し、また、優れた
抗酸化作用により心筋梗塞−再灌流時の細胞傷害及び不
整脈を抑制する新規なフェノール誘導体及びその塩を提
供するものである。 【解決手段】本発明は、一般式(1) 【化1】 (式中、R0は水素原子等、R1及びR3は、いずれか一
方が、水素原子を表わし、他方が、R2及びベンゼン環
とともにナフタレン環又は含酸素二環式複素環を形成
し、Wは酸素原子、硫黄原子等を表わし、R4は置換若
しくは非置換アミノ基又は置換若しくは非置換アルキル
基を表わし、OR5は保護されていてもよい水酸基を表
わす。)で示されるフェノール誘導体及びその薬理学的
に許容される塩に関する。
害作用によりマクロファージの泡沫細胞形成を抑制する
ことによって、動脈硬化の進展を抑制し、また、優れた
抗酸化作用により心筋梗塞−再灌流時の細胞傷害及び不
整脈を抑制する新規なフェノール誘導体及びその塩を提
供するものである。 【解決手段】本発明は、一般式(1) 【化1】 (式中、R0は水素原子等、R1及びR3は、いずれか一
方が、水素原子を表わし、他方が、R2及びベンゼン環
とともにナフタレン環又は含酸素二環式複素環を形成
し、Wは酸素原子、硫黄原子等を表わし、R4は置換若
しくは非置換アミノ基又は置換若しくは非置換アルキル
基を表わし、OR5は保護されていてもよい水酸基を表
わす。)で示されるフェノール誘導体及びその薬理学的
に許容される塩に関する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なフェノール
誘導体に関するものである。
誘導体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年の生活水準の向上及び食生活の西洋
化等に伴う、高カロリー・高コレステロールを多く含む
食生活への変化並びに全人口にしめる高齢層の割合の増
加等の原因によって、血管中のコレステロールの沈着量
に起因する動脈硬化、心筋梗塞等、虚血性心疾患の疾病
が増加し社会問題化している。
化等に伴う、高カロリー・高コレステロールを多く含む
食生活への変化並びに全人口にしめる高齢層の割合の増
加等の原因によって、血管中のコレステロールの沈着量
に起因する動脈硬化、心筋梗塞等、虚血性心疾患の疾病
が増加し社会問題化している。
【0003】これまでにも、血中のコレステロール量を
低下させる薬剤の開発が行われてきたが、消化管でのコ
レステロールの吸収及び血管壁でのコレステロールの沈
着を抑制するもの、あるいは動脈硬化病巣そのものを退
縮させる薬剤は未だ見いだされていない。
低下させる薬剤の開発が行われてきたが、消化管でのコ
レステロールの吸収及び血管壁でのコレステロールの沈
着を抑制するもの、あるいは動脈硬化病巣そのものを退
縮させる薬剤は未だ見いだされていない。
【0004】ところで、動脈硬化発症の初期病変とし
て、単球/マクロファージ由来泡沫細胞の血管内皮下へ
の集積が認められている。泡沫細胞への脂質の蓄積は、
1)血中の低密度リポ蛋白質(LDL)が血管内皮細胞
下で化学的修飾を受け、スカベンジャー受容体を介して
単球/マクロファージに取り込まれる、2)取り込まれ
た、酸化的変質を受けたLDL中のコレステロールエス
テルはライソゾーム内で加水分解され、生成された遊離
コレステロールは細胞質へ転送される、3)そこでアシ
ルコエンザイムAコレステロールアシルトランスフェラ
ーゼ(ACAT)によって再エステル化を受け、脂肪滴
として蓄積し、粥状動脈硬化病変である泡沫細胞を形成
する。従って、このACATの作用を阻害することによ
りコレステロールの生体内への取り込み抑制、さらには
コレステロールエステルの生成を抑制することが可能で
ある。
て、単球/マクロファージ由来泡沫細胞の血管内皮下へ
の集積が認められている。泡沫細胞への脂質の蓄積は、
1)血中の低密度リポ蛋白質(LDL)が血管内皮細胞
下で化学的修飾を受け、スカベンジャー受容体を介して
単球/マクロファージに取り込まれる、2)取り込まれ
た、酸化的変質を受けたLDL中のコレステロールエス
テルはライソゾーム内で加水分解され、生成された遊離
コレステロールは細胞質へ転送される、3)そこでアシ
ルコエンザイムAコレステロールアシルトランスフェラ
ーゼ(ACAT)によって再エステル化を受け、脂肪滴
として蓄積し、粥状動脈硬化病変である泡沫細胞を形成
する。従って、このACATの作用を阻害することによ
りコレステロールの生体内への取り込み抑制、さらには
コレステロールエステルの生成を抑制することが可能で
ある。
【0005】かかるACAT阻害活性を有する化合物と
しては、例えば特開平2−188568号公報、特開平
2−92950号公報に記載されているものの、これら
に示された化合物はACAT阻害作用は有するが、粥状
動脈硬化病変の形成に重要なマクロファージの泡沫化を
惹起するLDLの酸化的変質については特に効果は示さ
れていない。
しては、例えば特開平2−188568号公報、特開平
2−92950号公報に記載されているものの、これら
に示された化合物はACAT阻害作用は有するが、粥状
動脈硬化病変の形成に重要なマクロファージの泡沫化を
惹起するLDLの酸化的変質については特に効果は示さ
れていない。
【0006】ところで、粥状動脈硬化巣の形成に重要な
役割を演じている泡沫細胞は、酸化的変質を受けたLD
Lがマクロファージに取り込まれた結果、そのマクロフ
ァージが泡沫化したものである。このように酸化的変質
を受けたLDLがマクロファージの泡沫化の原因であり
粥状動脈硬化巣の形成に重要な役割を演じていることは
Diane W.Morel等によって報告されてい
る。(ARTERIOSCLEROSIS、4巻 35
7−364頁、1984)。さらには、上記LDLの酸
化的変質を防ぐことにより動脈硬化巣の退縮が起こるこ
とが、TORUKITA等の報告(Proc Nat
l.Acad.Sci.USA、84巻、5928−5
931頁、1987)で明らかにされている。従って、
上記したACAT阻害作用に加えてLDLの酸化的変質
を抑制することは粥状動脈硬化巣の形成、拡大の防止、
及びその退縮に極めて重要である。
役割を演じている泡沫細胞は、酸化的変質を受けたLD
Lがマクロファージに取り込まれた結果、そのマクロフ
ァージが泡沫化したものである。このように酸化的変質
を受けたLDLがマクロファージの泡沫化の原因であり
粥状動脈硬化巣の形成に重要な役割を演じていることは
Diane W.Morel等によって報告されてい
る。(ARTERIOSCLEROSIS、4巻 35
7−364頁、1984)。さらには、上記LDLの酸
化的変質を防ぐことにより動脈硬化巣の退縮が起こるこ
とが、TORUKITA等の報告(Proc Nat
l.Acad.Sci.USA、84巻、5928−5
931頁、1987)で明らかにされている。従って、
上記したACAT阻害作用に加えてLDLの酸化的変質
を抑制することは粥状動脈硬化巣の形成、拡大の防止、
及びその退縮に極めて重要である。
【0007】一方、脂質過酸化反応がいかなる機序で細
胞膜傷害、ひいては細胞死を導くかは完全には明らかに
されていないが、かかる細胞傷害過程に活性酸素の産生
亢進が重要な役割を担っている事は共通の認識として理
解されている。さらに、活性酸素は脂質の過酸化のみな
らず、酵素や蛋白質の変性及び核酸の障害などを引き起
こし、これらが様々な臓器障害の原因となることが知ら
れている。例えば心臓においては、冠動脈の閉塞によっ
て起こる心筋梗塞発作の初期では、心原性ショックや致
死性不整脈などの重篤な状態に陥るため、初期治療には
梗塞部位の血流再開のための再灌流療法(血栓溶解、経
皮的冠形成(PTCA)、冠動脈バイパス手術(CAB
G)等)が施行される。しかし最近、血行再開によって
心筋組織傷害の悪化が生じる虚血/再灌流障害と呼ばれ
る病態が注目されている。この発症機序の一つとして活
性酸素の関与が報告されており、再灌流時に発生した酸
素ラジカルは再灌流不整脈を惹起し、ATP産生障害に
伴う細胞傷害や酵素蛋白活性増加に伴う細胞膜破壊によ
って心筋障害を来すことが問題とされてきた。
胞膜傷害、ひいては細胞死を導くかは完全には明らかに
されていないが、かかる細胞傷害過程に活性酸素の産生
亢進が重要な役割を担っている事は共通の認識として理
解されている。さらに、活性酸素は脂質の過酸化のみな
らず、酵素や蛋白質の変性及び核酸の障害などを引き起
こし、これらが様々な臓器障害の原因となることが知ら
れている。例えば心臓においては、冠動脈の閉塞によっ
て起こる心筋梗塞発作の初期では、心原性ショックや致
死性不整脈などの重篤な状態に陥るため、初期治療には
梗塞部位の血流再開のための再灌流療法(血栓溶解、経
皮的冠形成(PTCA)、冠動脈バイパス手術(CAB
G)等)が施行される。しかし最近、血行再開によって
心筋組織傷害の悪化が生じる虚血/再灌流障害と呼ばれ
る病態が注目されている。この発症機序の一つとして活
性酸素の関与が報告されており、再灌流時に発生した酸
素ラジカルは再灌流不整脈を惹起し、ATP産生障害に
伴う細胞傷害や酵素蛋白活性増加に伴う細胞膜破壊によ
って心筋障害を来すことが問題とされてきた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、活性酸素を
消去し抗酸化作用を有することより、動脈硬化、心筋梗
塞、虚血/再灌流時の細胞傷害及び不整脈の抑制等に有
効である新規なフェノール誘導体を提供するものであ
る。また、本発明はこのような新規フェノール誘導体の
製法をも提供するものである。
消去し抗酸化作用を有することより、動脈硬化、心筋梗
塞、虚血/再灌流時の細胞傷害及び不整脈の抑制等に有
効である新規なフェノール誘導体を提供するものであ
る。また、本発明はこのような新規フェノール誘導体の
製法をも提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ために本発明者等は、鋭意研究の結果、優れた抗酸化作
用及びACAT阻害作用によりマクロファージの泡沫細
胞形成を抑制することによって、動脈硬化の進展を抑制
し、また、優れた活性酸素消去作用と抗酸化作用により
心筋梗塞及び虚血/再灌流時の細胞傷害及び不整脈を抑
制する新規なフェノール誘導体を見出して本発明を完成
した。
ために本発明者等は、鋭意研究の結果、優れた抗酸化作
用及びACAT阻害作用によりマクロファージの泡沫細
胞形成を抑制することによって、動脈硬化の進展を抑制
し、また、優れた活性酸素消去作用と抗酸化作用により
心筋梗塞及び虚血/再灌流時の細胞傷害及び不整脈を抑
制する新規なフェノール誘導体を見出して本発明を完成
した。
【0010】すなわち、本発明は、一般式(1)
【0011】
【化2】
【0012】(式中、R0は水素原子、アルキル基又は
アルキルオキシ基、R1及びR3は、いずれか一方が、水
素原子を表わし、他方が、R2及びベンゼン環とともに
ナフタレン環又は含酸素二環式複素環を形成し、Wは酸
素原子、硫黄原子又はNR7を表わし、R7は水素原子、
アルキル基、アリール基、水酸基又はアルキルオキシ基
を表わし、R4は置換若しくは非置換アミノ基又は置換
若しくは非置換アルキル基を表わし、OR5は保護され
ていてもよい水酸基を表わす。)で示されるフェノール
誘導体及びその薬理学的に許容される塩に関する。
アルキルオキシ基、R1及びR3は、いずれか一方が、水
素原子を表わし、他方が、R2及びベンゼン環とともに
ナフタレン環又は含酸素二環式複素環を形成し、Wは酸
素原子、硫黄原子又はNR7を表わし、R7は水素原子、
アルキル基、アリール基、水酸基又はアルキルオキシ基
を表わし、R4は置換若しくは非置換アミノ基又は置換
若しくは非置換アルキル基を表わし、OR5は保護され
ていてもよい水酸基を表わす。)で示されるフェノール
誘導体及びその薬理学的に許容される塩に関する。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明の上記したフェノール誘導
体の一般式(1)中、R0で示されるアルキル基として
は、炭素数1〜20のアルキル基が挙げられ、メチル
基、エチル基、イソプロピル基、ヘキシル基、オクチル
基、ヘキサデシル基の如き直鎖又は分岐鎖アルキル基が
好ましく、アルキルオキシ基としては、炭素数1〜20
のアルキルオキシ基が挙げられ、メチルオキシ基の如き
低級アルキルオキシ基、オクチルオキシ基、テトラデシ
ルオキシ基が好ましく、とりわけメチルオキシ基が好ま
しいが、R0としては、とりわけ水素原子が好ましい。
体の一般式(1)中、R0で示されるアルキル基として
は、炭素数1〜20のアルキル基が挙げられ、メチル
基、エチル基、イソプロピル基、ヘキシル基、オクチル
基、ヘキサデシル基の如き直鎖又は分岐鎖アルキル基が
好ましく、アルキルオキシ基としては、炭素数1〜20
のアルキルオキシ基が挙げられ、メチルオキシ基の如き
低級アルキルオキシ基、オクチルオキシ基、テトラデシ
ルオキシ基が好ましく、とりわけメチルオキシ基が好ま
しいが、R0としては、とりわけ水素原子が好ましい。
【0014】R1、R2及びR3で示される置換基として
は、例えば、R1が水素原子の場合であって、R3がR2
及びベンゼン環とともにナフタレン環を形成しているも
の、R3が水素原子の場合であって、R1がR2及びベン
ゼン環とともにジヒドロベンゾフラン環又は1,3−ベ
ンゾ[d]ジオキソール環を形成しているものが挙げら
れる。
は、例えば、R1が水素原子の場合であって、R3がR2
及びベンゼン環とともにナフタレン環を形成しているも
の、R3が水素原子の場合であって、R1がR2及びベン
ゼン環とともにジヒドロベンゾフラン環又は1,3−ベ
ンゾ[d]ジオキソール環を形成しているものが挙げら
れる。
【0015】WがNR7で表わされる場合のR7における
アルキル基としては、メチル基、エチル基等の低級アル
キル基、アリール基としてはフェニル基、アルキルオキ
シ基としては、メチルオキシ基、エチルオキシ基等の低
級アルキルオキシ基等が挙げられるが、Wとしては、酸
素原子及び硫黄原子が好ましく、とりわけ、酸素原子が
好ましい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基等の低級アル
キル基、アリール基としてはフェニル基、アルキルオキ
シ基としては、メチルオキシ基、エチルオキシ基等の低
級アルキルオキシ基等が挙げられるが、Wとしては、酸
素原子及び硫黄原子が好ましく、とりわけ、酸素原子が
好ましい。
【0016】R4が置換アミノ基の場合の置換基として
は、置換若しくは非置換アルキル基、置換若しくは非置
換シクロアルキル基、置換若しくは非置換アリール基、
置換若しくは非置換複素環式基等が挙げられ、R4が置
換アルキル基の場合の置換基としては、置換若しくは非
置換アルキル基、置換若しくは非置換シクロアルキル基
等が挙げられる。
は、置換若しくは非置換アルキル基、置換若しくは非置
換シクロアルキル基、置換若しくは非置換アリール基、
置換若しくは非置換複素環式基等が挙げられ、R4が置
換アルキル基の場合の置換基としては、置換若しくは非
置換アルキル基、置換若しくは非置換シクロアルキル基
等が挙げられる。
【0017】ここで、置換若しくは非置換アルキル基の
好ましい例としては、ピリジル基置換低級アルキル基
(例えば、ピリジルメチル基)、アリール基置換低級ア
ルキル基(例えば、フェニルメチル基、フェニルエチル
基)、低級アルキルオキシカルボニル低級アルキル基
(例えば、エトキシカルボニルプロピル基)等が挙げら
れ、置換若しくは非置換シクロアルキル基の好ましい例
としては、非置換シクロアルキル基(例えば、シクロへ
キシル基)等が挙げられ、置換若しくは非置換アリール
基の好ましい例としては、非置換アリール基(例えば、
フェニル基、ナフチル基)、低級アルキル基でモノ若し
くはジ置換されていてもよいフェニル基(例えば、2,
6−ジイソプロピルフェニル基)、水酸基で置換されて
いてもよいナフチル基(例えば、2−ヒドロキシナフチ
ル基)等が挙げられ、置換若しくは非置換複素環式基の
好ましい例としては、水酸基置換2,3−ジヒドロベン
ゾフラニル基(例えば、5−ヒドロキシ−(2,3−ジ
ヒドロベンゾフラン)−6−イル基)、低級アルキレン
ジオキシフェノキシ基(例えば、4,5−メチレンジオ
キシフェノール−2−イル基)等が挙げられる。
好ましい例としては、ピリジル基置換低級アルキル基
(例えば、ピリジルメチル基)、アリール基置換低級ア
ルキル基(例えば、フェニルメチル基、フェニルエチル
基)、低級アルキルオキシカルボニル低級アルキル基
(例えば、エトキシカルボニルプロピル基)等が挙げら
れ、置換若しくは非置換シクロアルキル基の好ましい例
としては、非置換シクロアルキル基(例えば、シクロへ
キシル基)等が挙げられ、置換若しくは非置換アリール
基の好ましい例としては、非置換アリール基(例えば、
フェニル基、ナフチル基)、低級アルキル基でモノ若し
くはジ置換されていてもよいフェニル基(例えば、2,
6−ジイソプロピルフェニル基)、水酸基で置換されて
いてもよいナフチル基(例えば、2−ヒドロキシナフチ
ル基)等が挙げられ、置換若しくは非置換複素環式基の
好ましい例としては、水酸基置換2,3−ジヒドロベン
ゾフラニル基(例えば、5−ヒドロキシ−(2,3−ジ
ヒドロベンゾフラン)−6−イル基)、低級アルキレン
ジオキシフェノキシ基(例えば、4,5−メチレンジオ
キシフェノール−2−イル基)等が挙げられる。
【0018】OR5で示される保護されていてもよい水
酸基の保護基としては、水酸基の保護基となり得る慣用
の保護基を用いることができ、例えばアシル基、低級ア
ルキルオキシ低級アルキル基、低級アルキルオキシカル
ボニル基、低級アルキルカルボニルオキシ低級アルキル
基、アラルキル基等が挙げられる。
酸基の保護基としては、水酸基の保護基となり得る慣用
の保護基を用いることができ、例えばアシル基、低級ア
ルキルオキシ低級アルキル基、低級アルキルオキシカル
ボニル基、低級アルキルカルボニルオキシ低級アルキル
基、アラルキル基等が挙げられる。
【0019】また保護されていてもよい水酸基がアシル
基で保護されている場合、当該アシル基としては、脂肪
族アシル基又は芳香族アシル基が挙げられるが、とりわ
け、脂肪族アシル基として低級アルキルカルボニル基又
は低級シクロアルキルカルボニル基が好ましい。
基で保護されている場合、当該アシル基としては、脂肪
族アシル基又は芳香族アシル基が挙げられるが、とりわ
け、脂肪族アシル基として低級アルキルカルボニル基又
は低級シクロアルキルカルボニル基が好ましい。
【0020】ここで、当該アシル基は置換基を有してい
てもよく、例えば、アラニン、バリン、グリシン、アス
パラギン酸、グルタミン酸、リシン等のα−アミノ酸か
ら水酸基を除いた基等が挙げられる。なお、α−アミノ
酸から水酸基を除いた基のアミノ基は保護されていても
よく、アミノ基の保護基となりうるものが挙げられる
が、例えば、アセチル基、プロピオニル基等の低級アル
キルカルボニル基、低級アルキルオキシカルボニル基又
はベンジルオキシカルボニル基等のフェニル低級アルキ
ルオキシカルボニル基等のアシル基が挙げられる。
てもよく、例えば、アラニン、バリン、グリシン、アス
パラギン酸、グルタミン酸、リシン等のα−アミノ酸か
ら水酸基を除いた基等が挙げられる。なお、α−アミノ
酸から水酸基を除いた基のアミノ基は保護されていても
よく、アミノ基の保護基となりうるものが挙げられる
が、例えば、アセチル基、プロピオニル基等の低級アル
キルカルボニル基、低級アルキルオキシカルボニル基又
はベンジルオキシカルボニル基等のフェニル低級アルキ
ルオキシカルボニル基等のアシル基が挙げられる。
【0021】OR5で示される保護されていてもよい水
酸基の好ましい例としては、水酸基、低級アルキルカル
ボニルオキシ低級アルキルオキシ基(例えば、tert
−ブチルカルボニルオキシメチルオキシ基)、アシルオ
キシ基(例えば、アセチルオキシ基、エトキシカルボニ
ルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、グリシニルオキシ
基、アラニルオキシ基、バリルオキシ基、アスパルチル
オキシ基、グルタミルオキシ基、リシルオキシ基)、低
級アルキルオキシ低級アルキル基(例えば、メトキシメ
チル基)等が挙げられるが、とりわけ水酸基が好まし
い。
酸基の好ましい例としては、水酸基、低級アルキルカル
ボニルオキシ低級アルキルオキシ基(例えば、tert
−ブチルカルボニルオキシメチルオキシ基)、アシルオ
キシ基(例えば、アセチルオキシ基、エトキシカルボニ
ルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、グリシニルオキシ
基、アラニルオキシ基、バリルオキシ基、アスパルチル
オキシ基、グルタミルオキシ基、リシルオキシ基)、低
級アルキルオキシ低級アルキル基(例えば、メトキシメ
チル基)等が挙げられるが、とりわけ水酸基が好まし
い。
【0022】本発明の目的化合物(1)のうち特に好ま
しい物としては、2−[3−(3−ピリジルメチル)ウ
レイド]−4,5−メチレンジオキシフェノール、2−
[3−(2,6−ジイソプルピルフェニル)ウレイド]
−4,5−メチレンジオキシフェノール、1−[3−
(3−エトキシカルボニルプロピル)−3−フェニルウ
レイド]−2−ナフトール、1−[3−(3−ピリジル
メチル)ウレイド]−2−ナフトール、6−[3−(5
−ヒドロキシ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−6−イ
ル)ウレイド]−5−ヒドロキシ−2,3−ジヒドロベ
ンゾフラン、2−[3−(4,5−メチレンジオキシフ
ェノール−2−イル)ウレイド]−4,5−メチレンジ
オキシフェノール、2−[3−(3−エトキシカルボニ
ルプロピル)−3−(1−ナフチル)ウレイド]−4,
5−メチレンジオキシフェノール、1−(3−フェニル
ウレイド)−2−ナフトール、1−[3−(2−ヒドロ
キシナフタレン−1−イル)ウレイド]−2−ナフトー
ル、2−(3−フェニルチオウレイド)−4,5−メチ
レンジオキシフェノール、2−(3−シクロヘキシル−
3−フェニルメチルウレイド)−4,5−メチレンジオ
キシフェノール及び2−(2−シクロへキシル−3−フ
ェニルプロピオニルアミノ)−4,5−メチレンジオキ
シフェノール等が挙げられる。
しい物としては、2−[3−(3−ピリジルメチル)ウ
レイド]−4,5−メチレンジオキシフェノール、2−
[3−(2,6−ジイソプルピルフェニル)ウレイド]
−4,5−メチレンジオキシフェノール、1−[3−
(3−エトキシカルボニルプロピル)−3−フェニルウ
レイド]−2−ナフトール、1−[3−(3−ピリジル
メチル)ウレイド]−2−ナフトール、6−[3−(5
−ヒドロキシ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−6−イ
ル)ウレイド]−5−ヒドロキシ−2,3−ジヒドロベ
ンゾフラン、2−[3−(4,5−メチレンジオキシフ
ェノール−2−イル)ウレイド]−4,5−メチレンジ
オキシフェノール、2−[3−(3−エトキシカルボニ
ルプロピル)−3−(1−ナフチル)ウレイド]−4,
5−メチレンジオキシフェノール、1−(3−フェニル
ウレイド)−2−ナフトール、1−[3−(2−ヒドロ
キシナフタレン−1−イル)ウレイド]−2−ナフトー
ル、2−(3−フェニルチオウレイド)−4,5−メチ
レンジオキシフェノール、2−(3−シクロヘキシル−
3−フェニルメチルウレイド)−4,5−メチレンジオ
キシフェノール及び2−(2−シクロへキシル−3−フ
ェニルプロピオニルアミノ)−4,5−メチレンジオキ
シフェノール等が挙げられる。
【0023】本発明の目的化合物(1)には、不斉炭素
に基づく光学活性体が存在しうるが、本発明は、これら
の光学異性体及びその混合物のいずれをも含むものであ
る。
に基づく光学活性体が存在しうるが、本発明は、これら
の光学異性体及びその混合物のいずれをも含むものであ
る。
【0024】本発明の目的化合物(1)は、遊離の形で
も、また薬理的に許容し得る塩の形でも医薬用途に使用
することができる。かかる薬理的に許容し得る塩として
は、例えば塩酸塩、硫酸塩、臭化水素酸塩の如き無機酸
塩、酢酸塩、フマル酸塩、シュウ酸塩、メタンスルホン
酸塩の如き有機酸塩などがあげられる。また、カルボキ
シル基等の置換基を有する場合には塩基性塩(例えばナ
トリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩又はカルシ
ウム塩の如きアルカリ土類金属塩)としても用いること
ができる。
も、また薬理的に許容し得る塩の形でも医薬用途に使用
することができる。かかる薬理的に許容し得る塩として
は、例えば塩酸塩、硫酸塩、臭化水素酸塩の如き無機酸
塩、酢酸塩、フマル酸塩、シュウ酸塩、メタンスルホン
酸塩の如き有機酸塩などがあげられる。また、カルボキ
シル基等の置換基を有する場合には塩基性塩(例えばナ
トリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩又はカルシ
ウム塩の如きアルカリ土類金属塩)としても用いること
ができる。
【0025】本発明の目的化合物(1)もしくはその塩
は経口的にも非経口的にも投与することができ、また常
法により例えば、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、散剤、注
射剤、吸入剤のような適宜の医薬製剤として用いること
ができる。
は経口的にも非経口的にも投与することができ、また常
法により例えば、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、散剤、注
射剤、吸入剤のような適宜の医薬製剤として用いること
ができる。
【0026】本発明の目的化合物(1)又はその薬理的
に許容し得る塩の投与量は、投与方法、患者の年令、体
重、状態によっても異なるが、通常1日当たりの投与量
は、経口投与の場合は、約5〜50mg/kg、非経口
投与の場合は、約0.1〜10mg/kg程度とするの
が好ましい。
に許容し得る塩の投与量は、投与方法、患者の年令、体
重、状態によっても異なるが、通常1日当たりの投与量
は、経口投与の場合は、約5〜50mg/kg、非経口
投与の場合は、約0.1〜10mg/kg程度とするの
が好ましい。
【0027】本発明の一般式(1)で示される化合物
は、種々の方法、例えば下記に示す方法で製することが
できる。
は、種々の方法、例えば下記に示す方法で製することが
できる。
【0028】〔A法〕Wが酸素原子又は硫黄原子、R4
が置換又は非置換アミノ基である本発明の目的化合物
(1)は、一般式(a)
が置換又は非置換アミノ基である本発明の目的化合物
(1)は、一般式(a)
【0029】
【化3】
【0030】(式中、OR51は保護されていてもよい水
酸基を表わし、他の記号は前記と同一意味を有する。)
で示されるアニリン誘導体又はその塩とホスゲン、トリ
ホスゲン又はチオホスゲンとを反応させ、次いで一般式
(b)
酸基を表わし、他の記号は前記と同一意味を有する。)
で示されるアニリン誘導体又はその塩とホスゲン、トリ
ホスゲン又はチオホスゲンとを反応させ、次いで一般式
(b)
【0031】
【化4】
【0032】(式中、R41は置換又は非置換アミノ基を
表わす。)で示されるアミン誘導体又はその塩とを反応
させ、OR51が保護された水酸基である場合は、所望に
より当該水酸基の保護基を除去することにより製するこ
とができる。
表わす。)で示されるアミン誘導体又はその塩とを反応
させ、OR51が保護された水酸基である場合は、所望に
より当該水酸基の保護基を除去することにより製するこ
とができる。
【0033】〔B法〕R4がモノ置換されていてもよい
アミノ基である本発明の目的物(1)はアニリン誘導体
(a)又はその塩と一般式(c)
アミノ基である本発明の目的物(1)はアニリン誘導体
(a)又はその塩と一般式(c)
【0034】
【化5】
【0035】(式中、R42は水素原子又はアミノ基の置
換基を表し、他の記号は前記と同一意味を有する。)で
示されるイソシアネート誘導体を反応させ、OR51が保
護された水酸基である場合は所望により当該水酸基の保
護基を除去することにより製することができる。
換基を表し、他の記号は前記と同一意味を有する。)で
示されるイソシアネート誘導体を反応させ、OR51が保
護された水酸基である場合は所望により当該水酸基の保
護基を除去することにより製することができる。
【0036】〔C法〕Wが酸素原子、R4が置換又は非
置換アミノ基である本発明の目的化合物(1)は、
(i)アニリン誘導体(a)又はその塩と一般式(d)
置換アミノ基である本発明の目的化合物(1)は、
(i)アニリン誘導体(a)又はその塩と一般式(d)
【0037】
【化6】
【0038】(式中、記号は前記と同一の意味を有す
る。)で示されるカルバミン酸エステル誘導体とを反応
させるか、(ii)一般式(e)
る。)で示されるカルバミン酸エステル誘導体とを反応
させるか、(ii)一般式(e)
【0039】
【化7】
【0040】(式中、記号は前記と同一意味を有す
る。)で示されるフェニルカルバミン酸エステル誘導体
とアミン誘導体(b)又はその塩とを反応させ、OR51
が保護された水酸基である場合は所望により当該水酸基
の保護基を除去することにより製することができる。
る。)で示されるフェニルカルバミン酸エステル誘導体
とアミン誘導体(b)又はその塩とを反応させ、OR51
が保護された水酸基である場合は所望により当該水酸基
の保護基を除去することにより製することができる。
【0041】〔D法〕Wが酸素原子又は硫黄原子、R4
が置換又は非置換アルキル基である本発明の目的化合物
(1)は、アニリン誘導体(a)又はその塩と一般式
(f)
が置換又は非置換アルキル基である本発明の目的化合物
(1)は、アニリン誘導体(a)又はその塩と一般式
(f)
【0042】
【化8】
【0043】(式中、R44は置換若しくは非置換アルキ
ル基を表わし、W1は酸素原子又は硫黄原子を表わ
す。)で示される(チオ)カルボン酸又はその反応性誘
導体とを反応させ、OR51が保護された水酸基である場
合は所望により当該水酸基の保護基を除去することによ
り製することができる。
ル基を表わし、W1は酸素原子又は硫黄原子を表わ
す。)で示される(チオ)カルボン酸又はその反応性誘
導体とを反応させ、OR51が保護された水酸基である場
合は所望により当該水酸基の保護基を除去することによ
り製することができる。
【0044】〔E法〕:WがNR7である目的物(1)
は、Wが硫黄原子の化合物(1)と一般式(g) R7−NH2 (g) (式中、R7は前記と同一意味を有する。)で示される
化合物を反応させ、OR51が保護された水酸基である場
合は所望により当該水酸基の保護基を除去することによ
り製することができる。
は、Wが硫黄原子の化合物(1)と一般式(g) R7−NH2 (g) (式中、R7は前記と同一意味を有する。)で示される
化合物を反応させ、OR51が保護された水酸基である場
合は所望により当該水酸基の保護基を除去することによ
り製することができる。
【0045】アニリン誘導体(a)又はアミン誘導体
(b)の塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩等の無機酸
との塩及びトシル酸等の有機酸との塩が使用できる。
(b)の塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩等の無機酸
との塩及びトシル酸等の有機酸との塩が使用できる。
【0046】以下、上記〔A法〕、〔B法〕、〔C
法〕、〔D法〕及び〔E法〕について詳述する。
法〕、〔D法〕及び〔E法〕について詳述する。
【0047】〔A法〕:アニリン誘導体(a)又はその
塩とホスゲン、トリホスゲン又はチオホスゲンとの反
応、及び引き続くアミン誘導体(b)又はその塩との反
応は、塩基の存在下、適当な溶媒中又は無溶媒下で実施
することができる。
塩とホスゲン、トリホスゲン又はチオホスゲンとの反
応、及び引き続くアミン誘導体(b)又はその塩との反
応は、塩基の存在下、適当な溶媒中又は無溶媒下で実施
することができる。
【0048】塩基としては、トリエチルアミン、ピリジ
ン、ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]−7−ウンデセン、ジイソプロピルエチ
ルアミン等を、また、溶媒としては、ジクロロメタン、
クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジメチルエーテル、ジオキ
サン、エチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、トルエン、ベンゼン等の溶媒を好
適に用いることができる。
ン、ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]−7−ウンデセン、ジイソプロピルエチ
ルアミン等を、また、溶媒としては、ジクロロメタン、
クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジメチルエーテル、ジオキ
サン、エチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、トルエン、ベンゼン等の溶媒を好
適に用いることができる。
【0049】本反応は−30〜100℃、とりわけ0〜
50℃で好適に進行する。
50℃で好適に進行する。
【0050】この反応はアニリン誘導体(a)又はその
塩1モルに対して、アミン誘導体(b)又はその塩0.
2〜3モル量、好ましくは、0.5〜1.5モル量を用
いて行なわれる。
塩1モルに対して、アミン誘導体(b)又はその塩0.
2〜3モル量、好ましくは、0.5〜1.5モル量を用
いて行なわれる。
【0051】〔B法〕:アニリン誘導体(a)又はその
塩とイソシアネート誘導体(c)との反応は、ジクロロ
メタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルエーテ
ル、ジオキサン、エチレングリコール、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、トルエン、ベンゼン、ヘキサメチルホスホルアミ
ド、スルホラン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジ
ノン等の適当な溶媒中又は無溶媒下で実施することがで
きる。
塩とイソシアネート誘導体(c)との反応は、ジクロロ
メタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルエーテ
ル、ジオキサン、エチレングリコール、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、トルエン、ベンゼン、ヘキサメチルホスホルアミ
ド、スルホラン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジ
ノン等の適当な溶媒中又は無溶媒下で実施することがで
きる。
【0052】本反応は、−30〜100℃、とりわけ0
〜50℃で好適に進行する。
〜50℃で好適に進行する。
【0053】この反応はアニリン誘導体(a)又はその
塩1モルに対して、イソシアネート誘導体(c)0.2
〜3モル量、好ましくは、0.5〜1.5モル量を用い
て行なわれる。
塩1モルに対して、イソシアネート誘導体(c)0.2
〜3モル量、好ましくは、0.5〜1.5モル量を用い
て行なわれる。
【0054】〔C法〕: (i)アニリン誘導体(a)又はその塩とカルバミン酸
エステル誘導体(d)との反応は、ベンゼン、シクロヘ
キサン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、エーテル、テトラヒドロフラン等
適当な溶媒中で実施することができる。
エステル誘導体(d)との反応は、ベンゼン、シクロヘ
キサン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、エーテル、テトラヒドロフラン等
適当な溶媒中で実施することができる。
【0055】また本反応は、50〜150℃、とりわけ
50〜100℃で好適に進行する。
50〜100℃で好適に進行する。
【0056】この反応はアニリン誘導体(a)又はその
塩1モルに対して、カルバミン酸エステル誘導体(d)
0.2〜2.0モル量を用いて行なわれる。
塩1モルに対して、カルバミン酸エステル誘導体(d)
0.2〜2.0モル量を用いて行なわれる。
【0057】(ii)フェニルカルバミン酸エステル誘
導体(e)とアミン誘導体(b)又はその塩との反応
は、適当な溶媒中で実施することができる。溶媒として
は、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロ
メタン、テトラヒドロフラン、クロロホルム等を適宜用
いることができる。
導体(e)とアミン誘導体(b)又はその塩との反応
は、適当な溶媒中で実施することができる。溶媒として
は、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロ
メタン、テトラヒドロフラン、クロロホルム等を適宜用
いることができる。
【0058】また本反応は、50〜150℃、とりわけ
50〜100℃で好適に進行する。
50〜100℃で好適に進行する。
【0059】この反応はフェニルカルバミン酸エステル
誘導体(e)1モルに対して、アミン誘導体(b)また
はその塩0.2〜2.0モル量を用いて行なわれる。
誘導体(e)1モルに対して、アミン誘導体(b)また
はその塩0.2〜2.0モル量を用いて行なわれる。
【0060】〔D法〕:アニリン誘導体(a)又はその
塩と(チオ)カルボン酸(f)の反応性誘導体との反応
は、塩基の存在下、適当な溶媒中で実施することができ
る。
塩と(チオ)カルボン酸(f)の反応性誘導体との反応
は、塩基の存在下、適当な溶媒中で実施することができ
る。
【0061】カルボン酸の反応性誘導体としては、例え
ば酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化酸アミド、活性化
エステル等が挙げられる。
ば酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化酸アミド、活性化
エステル等が挙げられる。
【0062】また、チオカルボン酸の反応性誘導体とし
ては、例えばチオ酸ハロゲン化物、チオ酸無水物、活性
化チオ酸アミド、活性化チオエステル等が挙げられる。
ては、例えばチオ酸ハロゲン化物、チオ酸無水物、活性
化チオ酸アミド、活性化チオエステル等が挙げられる。
【0063】塩基としては、ピリジン、トリ低級アルキ
ルアミン等の有機アミンを、溶媒としては、ジクロロメ
タン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルエーテル、
ジオキサン、エチレングリコール、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、トルエン、ベンゼン等を好
適に使用することができる。
ルアミン等の有機アミンを、溶媒としては、ジクロロメ
タン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルエーテル、
ジオキサン、エチレングリコール、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、トルエン、ベンゼン等を好
適に使用することができる。
【0064】一方、アニリン誘導体(a)又はその塩と
遊離の(チオ)カルボン酸(f)との反応は、脱水剤の
存在下、適当な溶媒中で実施することができる。
遊離の(チオ)カルボン酸(f)との反応は、脱水剤の
存在下、適当な溶媒中で実施することができる。
【0065】脱水剤としては、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド等を、溶媒としては、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、1,2−ジクロロエタン、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジメチルエーテル、ジオキサン、
エチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、トルエン、ベンゼン等を好適に使用する
ことができる。
ジイミド等を、溶媒としては、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、1,2−ジクロロエタン、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジメチルエーテル、ジオキサン、
エチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、トルエン、ベンゼン等を好適に使用する
ことができる。
【0066】これら反応は、−30〜100℃、とりわ
け0〜50℃で好適に進行する。
け0〜50℃で好適に進行する。
【0067】この反応はアニリン誘導体(a)又はその
塩1モルに対して、(チオ)カルボン酸若しくはチオカ
ルボン酸(f)又はその反応性誘導体0.2〜3モル量
を用いて行なわれる。
塩1モルに対して、(チオ)カルボン酸若しくはチオカ
ルボン酸(f)又はその反応性誘導体0.2〜3モル量
を用いて行なわれる。
【0068】〔E法〕:Wが硫黄原子の化合物(1)と
化合物(g)との反応は、銅触媒の存在下、適当な溶媒
中で実施することができる。
化合物(g)との反応は、銅触媒の存在下、適当な溶媒
中で実施することができる。
【0069】銅触媒としては、硫酸銅等を好適に用いる
ことができる。一方、溶媒としては、反応に不活性な溶
媒であれば、特に限定されず、例えばジオキサン、エチ
レングリコール、ジメチルエーテル、ジメチルアセトア
ミド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホルア
ミド、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ト
ルエン、酢酸エチル、低級アルコール、ジクロロメタ
ン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、酢酸、
ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ジメチルスルホ
キシド、二硫化炭素、アセトン、水又はそれらの混合溶
媒を適宜用いることができる。
ことができる。一方、溶媒としては、反応に不活性な溶
媒であれば、特に限定されず、例えばジオキサン、エチ
レングリコール、ジメチルエーテル、ジメチルアセトア
ミド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホルア
ミド、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ト
ルエン、酢酸エチル、低級アルコール、ジクロロメタ
ン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、酢酸、
ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ジメチルスルホ
キシド、二硫化炭素、アセトン、水又はそれらの混合溶
媒を適宜用いることができる。
【0070】本反応は、0〜150℃、とりわけ50〜
100℃で好適に進行する。
100℃で好適に進行する。
【0071】この反応は化合物(1)1モルに対して、
化合物(g)0.2〜3モル量を用いて行なわれる。
化合物(g)0.2〜3モル量を用いて行なわれる。
【0072】〔A法〕、〔B法〕、〔C法〕、〔D法〕
及び〔E法〕において、OR51が保護された水酸基であ
る場合は所望により、公知の方法に従って、当該水酸基
の保護基を除去すればよい。当該保護基の除去は、保護
基の種類に応じて、常法に従って加水分解、酸処理、還
元等の通常の方法で実施することができる。
及び〔E法〕において、OR51が保護された水酸基であ
る場合は所望により、公知の方法に従って、当該水酸基
の保護基を除去すればよい。当該保護基の除去は、保護
基の種類に応じて、常法に従って加水分解、酸処理、還
元等の通常の方法で実施することができる。
【0073】なお、本発明の原料化合物(a)には新規
化合物が含まれ、例えば一般式(h)
化合物が含まれ、例えば一般式(h)
【0074】
【化9】
【0075】(但し、記号は前記と同一意味を有す
る。)で示される化合物をアゾ化又はアジド化後、還元
することにより製造することができる。
る。)で示される化合物をアゾ化又はアジド化後、還元
することにより製造することができる。
【0076】なお、本発明において、アルキル基及びア
ルキル基部分としては炭素数1〜20、とりわけ1〜1
0、なかでも1〜6のアルキル基及びアルキル基部分が
挙げられる。低級アルキル基及び低級アルキル基部分と
しては炭素数1〜6、とりわけ1〜4のものが挙げられ
る。シクロアルキル基としては炭素数3〜10、とりわ
け5〜8のものが挙げられる。ハロゲン原子としては、
塩素、臭素、フッ素又はヨウ素が挙げられる。アリール
基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
ルキル基部分としては炭素数1〜20、とりわけ1〜1
0、なかでも1〜6のアルキル基及びアルキル基部分が
挙げられる。低級アルキル基及び低級アルキル基部分と
しては炭素数1〜6、とりわけ1〜4のものが挙げられ
る。シクロアルキル基としては炭素数3〜10、とりわ
け5〜8のものが挙げられる。ハロゲン原子としては、
塩素、臭素、フッ素又はヨウ素が挙げられる。アリール
基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【0077】
【実施例】以下に本発明の化合物の具体的な合成法を実
施例として示す。
施例として示す。
【0078】実施例1 (1)(2−アミノ−4,5−メチレンジオキシフェノ
キシ)メトキシメタン1.85g及びフェニルチオイソ
シアネート1.27gをテトラヒドロフラン(THF)
50ml溶媒中室温で4時間撹拌後、水を加え、酢酸エ
チル抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
媒;クロロホルム:酢酸エチル=10:1)精製し、酢
酸エチル−イソプロピルエーテル混液から再結晶して、
(2−(3−フェニルチオウレイド)−4,5−メチレ
ンジオキシフェノキシ)メトキシメタン1.83g(収
率:59%、融点:137−139℃)を得る。
キシ)メトキシメタン1.85g及びフェニルチオイソ
シアネート1.27gをテトラヒドロフラン(THF)
50ml溶媒中室温で4時間撹拌後、水を加え、酢酸エ
チル抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
媒;クロロホルム:酢酸エチル=10:1)精製し、酢
酸エチル−イソプロピルエーテル混液から再結晶して、
(2−(3−フェニルチオウレイド)−4,5−メチレ
ンジオキシフェノキシ)メトキシメタン1.83g(収
率:59%、融点:137−139℃)を得る。
【0079】(2)(2−(3−フェニルチオウレイ
ド)−4,5−メチレンジオキシフェノキシ)メトキシ
メタン1.77gをメタノール20ml及びメチレンク
ロリド20mlの混合溶液に溶かし、濃塩酸2mlを加
え、室温で7時間撹拌する。溶媒を減圧留去し、残渣を
酢酸エチル抽出後、洗浄、乾燥し、溶媒を減圧留去す
る。得られる残渣にジエチルエーテルを加えてろ取し、
下表1記載の2−(3−フェニルチオウレイド)−4,
5−メチレンジオキシフェノール1.15g(収率:7
5%、性状:粉末、IR:3494、3312、159
6、1552、1500 cm-1)を得る。
ド)−4,5−メチレンジオキシフェノキシ)メトキシ
メタン1.77gをメタノール20ml及びメチレンク
ロリド20mlの混合溶液に溶かし、濃塩酸2mlを加
え、室温で7時間撹拌する。溶媒を減圧留去し、残渣を
酢酸エチル抽出後、洗浄、乾燥し、溶媒を減圧留去す
る。得られる残渣にジエチルエーテルを加えてろ取し、
下表1記載の2−(3−フェニルチオウレイド)−4,
5−メチレンジオキシフェノール1.15g(収率:7
5%、性状:粉末、IR:3494、3312、159
6、1552、1500 cm-1)を得る。
【0080】実施例2 対応原料化合物とフェニルイソシアネートとを実施例1
と同様に処理して下表1記載の化合物を得る。
と同様に処理して下表1記載の化合物を得る。
【0081】
【表1】
【0082】実施例3 (1)1.847Mホスゲン−ジクロロメタン溶液
(1.65ml)のジクロロメタン100ml溶液を−
78℃に冷却し、(2−アミノ−(4,5−メチレンジ
オキシフェノキシ)メトキシメタン3.01g、トリエ
チルアミン6.4ml、ジクロロメタン20mlの混合
溶液を滴下した後、0℃まで昇温し、溶媒を減圧留去す
る。残渣にジクロロメタン60mlを加え溶液とし室温
下、3−アミノメチルピリジン1.65g、トリエチル
アミン3.2ml及びジクロロメタン40mlの溶液を
滴下し、更に、1時間撹拌する。反応液を洗浄、乾燥
後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー(溶媒;クロロホルム:エタノール=10:1)
精製する。更に、酢酸エチルから再結晶して{2−[3
−(3−ピリジルメチル)ウレイド]−4,5−メチレ
ンジオキシフェノキシ}メトキシメタン3.00g(収
率:59%、融点:134−135℃)を得る。
(1.65ml)のジクロロメタン100ml溶液を−
78℃に冷却し、(2−アミノ−(4,5−メチレンジ
オキシフェノキシ)メトキシメタン3.01g、トリエ
チルアミン6.4ml、ジクロロメタン20mlの混合
溶液を滴下した後、0℃まで昇温し、溶媒を減圧留去す
る。残渣にジクロロメタン60mlを加え溶液とし室温
下、3−アミノメチルピリジン1.65g、トリエチル
アミン3.2ml及びジクロロメタン40mlの溶液を
滴下し、更に、1時間撹拌する。反応液を洗浄、乾燥
後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー(溶媒;クロロホルム:エタノール=10:1)
精製する。更に、酢酸エチルから再結晶して{2−[3
−(3−ピリジルメチル)ウレイド]−4,5−メチレ
ンジオキシフェノキシ}メトキシメタン3.00g(収
率:59%、融点:134−135℃)を得る。
【0083】(2)本品3.00gとメタノール25m
lとの混合溶液に濃塩酸3mlを加え、室温で5時間撹
拌する。析出晶をろ取し、メタノールから再結晶して下
表2記載の2−[3−(3−ピリジルメチル)ウレイ
ド]−4,5−メチレンジオキシフェノール1.11g
(収率:38%、融点:167−170℃)を得る。
lとの混合溶液に濃塩酸3mlを加え、室温で5時間撹
拌する。析出晶をろ取し、メタノールから再結晶して下
表2記載の2−[3−(3−ピリジルメチル)ウレイ
ド]−4,5−メチレンジオキシフェノール1.11g
(収率:38%、融点:167−170℃)を得る。
【0084】実施例4〜11 対応原料化合物とホスゲン又はトリホスゲン等を実施例
3と同様に処理して下表2記載化合物を得る。
3と同様に処理して下表2記載化合物を得る。
【0085】
【表2】
【0086】
【表3】
【0087】実施例12 (1)2−シクロヘキシル−3−フェニルプロピオン酸
2.478g、チオニルクロリド1.6ml及びクロロ
ホルム25mlの混合物を2時間加熱還流する。減圧留
去し、残渣にクロロホルムを加え再び減圧留去する。残
渣のクロロホルム10ml溶液を、(2−アミノ−4,
5−メチレンジオキシフェノキシ)メトキシメタン2.
103g及びピリジン0.95gのクロロホルム25m
l溶液中に氷冷下滴下し、室温で30分撹拌する。反応
液を水洗、乾燥後、溶媒を留去し、結晶性残渣にイソプ
ロピルエーテルを加えてろ取し、酢酸エチルから再結晶
することにより{2−(2−シクロヘキシル−3−フェ
ニルプロピオニルアミノ)−4,5−メチレンジオキシ
フェノキシ}メトキシメタン2.191g(収率:50
%、融点:146−148℃)を得る。
2.478g、チオニルクロリド1.6ml及びクロロ
ホルム25mlの混合物を2時間加熱還流する。減圧留
去し、残渣にクロロホルムを加え再び減圧留去する。残
渣のクロロホルム10ml溶液を、(2−アミノ−4,
5−メチレンジオキシフェノキシ)メトキシメタン2.
103g及びピリジン0.95gのクロロホルム25m
l溶液中に氷冷下滴下し、室温で30分撹拌する。反応
液を水洗、乾燥後、溶媒を留去し、結晶性残渣にイソプ
ロピルエーテルを加えてろ取し、酢酸エチルから再結晶
することにより{2−(2−シクロヘキシル−3−フェ
ニルプロピオニルアミノ)−4,5−メチレンジオキシ
フェノキシ}メトキシメタン2.191g(収率:50
%、融点:146−148℃)を得る。
【0088】(2)本品2.13g、濃塩酸1.5m
l、メタノール30ml及びジクロロメタン30mlの
混合物を室温で2時間、更に40℃で2時間撹拌する。
反応液を減圧乾固し、結晶性残渣をメタノールから再結
晶して下表3記載の2−(2−シクロヘキシル−3−フ
ェニルプロピオニルアミノ)−4,5−メチレンジオキ
シフェノール1.344g(収率:71%、融点:17
1−174℃)を得る。
l、メタノール30ml及びジクロロメタン30mlの
混合物を室温で2時間、更に40℃で2時間撹拌する。
反応液を減圧乾固し、結晶性残渣をメタノールから再結
晶して下表3記載の2−(2−シクロヘキシル−3−フ
ェニルプロピオニルアミノ)−4,5−メチレンジオキ
シフェノール1.344g(収率:71%、融点:17
1−174℃)を得る。
【0089】
【表4】
【0090】参考例1 1−アミノ−2−ナフトール塩酸塩25.0gに飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液を加えて、酢酸エチル抽出し、
乾燥後、溶媒を留去する。残渣のジメチルホルムアミド
(DMF)200ml溶液に0℃で62%水素化ナトリ
ウム4.95gを加え室温で1時間撹拌する。0℃でメ
トキシメチルクロライド9.7mlとDMF50mlの
混合溶液を滴下し、室温で1.5時間撹拌する。DMF
を減圧留去し、残渣に水を加えて酢酸エチル抽出する。
抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶媒;ヘキサン:酢酸エ
チル=3:1)精製して(1−アミノナフタレン−2−
イルオキシ)メトキシメタン15.5g(収率:60
%、性状:褐色油状物)を得る。
酸水素ナトリウム水溶液を加えて、酢酸エチル抽出し、
乾燥後、溶媒を留去する。残渣のジメチルホルムアミド
(DMF)200ml溶液に0℃で62%水素化ナトリ
ウム4.95gを加え室温で1時間撹拌する。0℃でメ
トキシメチルクロライド9.7mlとDMF50mlの
混合溶液を滴下し、室温で1.5時間撹拌する。DMF
を減圧留去し、残渣に水を加えて酢酸エチル抽出する。
抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶媒;ヘキサン:酢酸エ
チル=3:1)精製して(1−アミノナフタレン−2−
イルオキシ)メトキシメタン15.5g(収率:60
%、性状:褐色油状物)を得る。
【0091】NMR(CDCl3):3.54(3H,
s)、4.23(2H,s)、5.26(2H,s)、
7.23−7.46(4H,m)、7.72−7.79
(2H,m) 参考例2 (1)アニリン3.54gを塩酸9.3ml及び水2
8.5mlに溶解し、氷冷下、亜硝酸ナトリウム2.8
8gの水10ml溶液を滴下する。この混合液を氷冷
下、セサモール(3,4−メチレンジオキシフェノー
ル)5.00gと5N水酸化ナトリウム水溶液37.8
mlの混合溶液に滴下し、同温で30分間撹拌する。濃
塩酸を滴下してpH=3に調整し、析出した結晶をろ
取、洗浄、乾燥後、エタノールから再結晶して2−フェ
ニルアゾ−4,5−メチレンジオキシフェノール8.3
7g(収率:95%、融点:118−120℃)を得
る。
s)、4.23(2H,s)、5.26(2H,s)、
7.23−7.46(4H,m)、7.72−7.79
(2H,m) 参考例2 (1)アニリン3.54gを塩酸9.3ml及び水2
8.5mlに溶解し、氷冷下、亜硝酸ナトリウム2.8
8gの水10ml溶液を滴下する。この混合液を氷冷
下、セサモール(3,4−メチレンジオキシフェノー
ル)5.00gと5N水酸化ナトリウム水溶液37.8
mlの混合溶液に滴下し、同温で30分間撹拌する。濃
塩酸を滴下してpH=3に調整し、析出した結晶をろ
取、洗浄、乾燥後、エタノールから再結晶して2−フェ
ニルアゾ−4,5−メチレンジオキシフェノール8.3
7g(収率:95%、融点:118−120℃)を得
る。
【0092】(2)本品7.00gとジメチルホルムア
ミド(DMF)70mlとの混合溶液に氷冷下、62%
水素化ナトリウム1.23gを加える。室温で20分間
撹拌後、再び氷冷し、メトキシメチルクロライド2.4
1mlを滴下する。室温で1時間撹拌後、DMFを減圧
留去し、残渣に水を加えて酢酸エチル抽出する。抽出液
を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=
4:1)精製後、ヘキサンから再結晶して(2−フェニ
ルアゾ−4,5−メチレンジオキシフェノキシ)メトキ
シメタン6.90g(収率:83%、融点:81−83
℃)を得る。
ミド(DMF)70mlとの混合溶液に氷冷下、62%
水素化ナトリウム1.23gを加える。室温で20分間
撹拌後、再び氷冷し、メトキシメチルクロライド2.4
1mlを滴下する。室温で1時間撹拌後、DMFを減圧
留去し、残渣に水を加えて酢酸エチル抽出する。抽出液
を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=
4:1)精製後、ヘキサンから再結晶して(2−フェニ
ルアゾ−4,5−メチレンジオキシフェノキシ)メトキ
シメタン6.90g(収率:83%、融点:81−83
℃)を得る。
【0093】(3)本品6.50gのエタノール100
ml溶液に10%パラジウム−カーボン(Pd−C)2
gを加え、常温常圧で2時間中圧接触還元する。触媒を
ろ去後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)精製して(2−アミノ−4,5−メチレンジオキシ
フェノキシ)メトキシメタン3.14g(収率:70
%、融点:44−46℃)を得る。
ml溶液に10%パラジウム−カーボン(Pd−C)2
gを加え、常温常圧で2時間中圧接触還元する。触媒を
ろ去後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)精製して(2−アミノ−4,5−メチレンジオキシ
フェノキシ)メトキシメタン3.14g(収率:70
%、融点:44−46℃)を得る。
【0094】参考例3 (1)水素化アルミニウムリチウム(LiAlH4)
3.8gとテトラヒドロフラン(THF)100mlと
の懸濁液に氷冷下、(2,5−ジメトキシフェニル)酢
酸19.8gとTHF100mlとの混合溶液を滴下す
る。室温で45分間撹拌後、氷冷下、水3.8ml、1
0%水酸化ナトリウム水溶液5.7ml、水10mlを
順次滴下する。不溶物をろ別し、ろ液を濃縮して2−
(2−ヒドロキシエチル)−1,4−ジメトキシベンゼ
ン15.7g(収率:85%、性状:油状物、IR:3
351、2941、1590 cm-1)を得る。
3.8gとテトラヒドロフラン(THF)100mlと
の懸濁液に氷冷下、(2,5−ジメトキシフェニル)酢
酸19.8gとTHF100mlとの混合溶液を滴下す
る。室温で45分間撹拌後、氷冷下、水3.8ml、1
0%水酸化ナトリウム水溶液5.7ml、水10mlを
順次滴下する。不溶物をろ別し、ろ液を濃縮して2−
(2−ヒドロキシエチル)−1,4−ジメトキシベンゼ
ン15.7g(収率:85%、性状:油状物、IR:3
351、2941、1590 cm-1)を得る。
【0095】(2)本品14.06gに氷冷下、三臭化
りん(PBr3)11mlを滴下後、室温まで昇温す
る。2時間撹拌した後、反応液を氷水中に注ぎ込み、ジ
エチルエーテル抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)精製して2−
(2−ブロモエチル)−1,4−ジメトキシベンゼン
6.35g(収率:34%、性状:油状物、IR:29
51、2834、1501、1225cm-1)を得る。
りん(PBr3)11mlを滴下後、室温まで昇温す
る。2時間撹拌した後、反応液を氷水中に注ぎ込み、ジ
エチルエーテル抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)精製して2−
(2−ブロモエチル)−1,4−ジメトキシベンゼン
6.35g(収率:34%、性状:油状物、IR:29
51、2834、1501、1225cm-1)を得る。
【0096】(3)本品6.35gに三臭化ホウ素(B
Br3)1.66mlをゆっくりと滴下した後、70℃
で10分間加熱する。冷却後、炭酸ナトリウム8.2g
の水150ml溶液をゆっくりと加える。70℃に昇温
後、氷冷し、10%塩酸で酸性にしてジエチルエーテル
抽出する。抽出液を乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;クロロホル
ム:酢酸エチル=10:1)精製して5−ヒドロキシ−
2,3−ジヒドロベンゾフラン1.287g(収率:3
6%、融点:110−112℃)を得る。
Br3)1.66mlをゆっくりと滴下した後、70℃
で10分間加熱する。冷却後、炭酸ナトリウム8.2g
の水150ml溶液をゆっくりと加える。70℃に昇温
後、氷冷し、10%塩酸で酸性にしてジエチルエーテル
抽出する。抽出液を乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;クロロホル
ム:酢酸エチル=10:1)精製して5−ヒドロキシ−
2,3−ジヒドロベンゾフラン1.287g(収率:3
6%、融点:110−112℃)を得る。
【0097】(4)本品2.00g及びp−アニシジン
1.90gを参考例2(1)と同様に処理して6−(4
−メトキシフェニル)アゾ−5−ヒドロキシ−2,3−
ジヒドロベンゾフラン3.52g(収率:89%、融
点:113−116℃)を得る。
1.90gを参考例2(1)と同様に処理して6−(4
−メトキシフェニル)アゾ−5−ヒドロキシ−2,3−
ジヒドロベンゾフラン3.52g(収率:89%、融
点:113−116℃)を得る。
【0098】(5)本品3.05gを参考例2(2)と
同様に処理して6−(4−メトキシフェニル)アゾ−5
−メトキシメトキシ−2,3−ジヒドロベンゾフラン
3.13g(収率:88%、融点:89−91℃)を得
る。
同様に処理して6−(4−メトキシフェニル)アゾ−5
−メトキシメトキシ−2,3−ジヒドロベンゾフラン
3.13g(収率:88%、融点:89−91℃)を得
る。
【0099】(6)本品3.13gを参考例2(3)と
同様に処理して6−アミノ−5−メトキシメトキシ−
2,3−ジヒドロベンゾフラン1.33g(収率:68
%、性状:茶色油状物、IR:3450、3369、2
950、2896、1629、1503cm-1)を得
る。
同様に処理して6−アミノ−5−メトキシメトキシ−
2,3−ジヒドロベンゾフラン1.33g(収率:68
%、性状:茶色油状物、IR:3450、3369、2
950、2896、1629、1503cm-1)を得
る。
【0100】参考例4 ジシクロヘキシルアミン24.80g、ベンズアルデヒ
ド27.86g、p−トルエンスルホン酸0.1g及び
トルエン250mlの混合物を、Dean−Stark
装置を用い、3時間加熱還流する。溶媒を留去し、残渣
をメタノール250mlに溶解して、10%パラジウム
−カーボン(Pd−C)0.5gを加え、Parr還元
装置を用いて、室温で2時間中圧接触還元する。触媒を
ろ去後、ろ液を濃縮し、残渣を5%塩酸に溶解し、ヘキ
サンで洗浄する。水層を10%水酸化ナトリウム水溶液
でアルカリ性にし、酢酸エチル抽出する。抽出液を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去してN−シクロヘキシル−N−
ベンジルアミン46.93g(収率:99%、性状:油
状物)を得る。
ド27.86g、p−トルエンスルホン酸0.1g及び
トルエン250mlの混合物を、Dean−Stark
装置を用い、3時間加熱還流する。溶媒を留去し、残渣
をメタノール250mlに溶解して、10%パラジウム
−カーボン(Pd−C)0.5gを加え、Parr還元
装置を用いて、室温で2時間中圧接触還元する。触媒を
ろ去後、ろ液を濃縮し、残渣を5%塩酸に溶解し、ヘキ
サンで洗浄する。水層を10%水酸化ナトリウム水溶液
でアルカリ性にし、酢酸エチル抽出する。抽出液を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去してN−シクロヘキシル−N−
ベンジルアミン46.93g(収率:99%、性状:油
状物)を得る。
【0101】参考例5 N−ベンジルオキシカルボニルアニリン8.30gとジ
メチルホルムアミド(DMF)75mlとの混合溶液に
氷冷下、62%水素化ナトリウム1.56gを加え、室
温で1時間撹拌する。氷冷下、4−ブロモ酪酸エチル
7.48gとDMF25mlとの混合溶液を滴下し、室
温で終夜撹拌する。DMFを減圧留去し、残渣に水を加
えて酢酸エチル抽出し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;ヘ
キサン:酢酸エチル=4:1)精製する。溶出物をメタ
ノール60mlに溶かし、10%パラジウム−カーボン
(Pd−C)1gを加えて常温常圧で2時間接触還元す
る。触媒をろ去し、ろ液を濃縮後シリカゲルクロマトグ
ラフィー(溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=4:1)精製
してN−(3−エチルオキシカルボニルプロピル)−N
−フェニルアミン3.2g(収率:42%、性状:油状
物)を得る。
メチルホルムアミド(DMF)75mlとの混合溶液に
氷冷下、62%水素化ナトリウム1.56gを加え、室
温で1時間撹拌する。氷冷下、4−ブロモ酪酸エチル
7.48gとDMF25mlとの混合溶液を滴下し、室
温で終夜撹拌する。DMFを減圧留去し、残渣に水を加
えて酢酸エチル抽出し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;ヘ
キサン:酢酸エチル=4:1)精製する。溶出物をメタ
ノール60mlに溶かし、10%パラジウム−カーボン
(Pd−C)1gを加えて常温常圧で2時間接触還元す
る。触媒をろ去し、ろ液を濃縮後シリカゲルクロマトグ
ラフィー(溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=4:1)精製
してN−(3−エチルオキシカルボニルプロピル)−N
−フェニルアミン3.2g(収率:42%、性状:油状
物)を得る。
【0102】参考例6 1−(N−ベンジルオキシカルボニルアミノ)ナフタレ
ンを参考例5と同様に処理して、N−(3−エチルオキ
シカルボニルプロピル)−N−(1−ナフチル)アミン
を得る。
ンを参考例5と同様に処理して、N−(3−エチルオキ
シカルボニルプロピル)−N−(1−ナフチル)アミン
を得る。
【0103】参考例7 ジイソプロピルアミン13.23gのテトラヒドロフラ
ン(THF)250ml溶液に−50℃で1.6Mブチ
ルリチウム−ヘキサン溶液72mlを加え、−10℃ま
で昇温する。再び−50℃に冷却し、エチルシクロヘキ
シルアセテート17.81gとTHF75mlとの混合
溶液を滴下した後、−30℃まで昇温する。ヘキサメチ
ルホスホルアミド(HMPA)20mlを添加し、同温
でベンジルブロミド13.7mlを滴下した後、同温で
終夜撹拌する。THFを減圧濃縮後、残渣に飽和塩化ア
ンモニウム水溶液を加え、酢酸エチル抽出する。抽出液
を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムに付して無色油状物を得る。
ン(THF)250ml溶液に−50℃で1.6Mブチ
ルリチウム−ヘキサン溶液72mlを加え、−10℃ま
で昇温する。再び−50℃に冷却し、エチルシクロヘキ
シルアセテート17.81gとTHF75mlとの混合
溶液を滴下した後、−30℃まで昇温する。ヘキサメチ
ルホスホルアミド(HMPA)20mlを添加し、同温
でベンジルブロミド13.7mlを滴下した後、同温で
終夜撹拌する。THFを減圧濃縮後、残渣に飽和塩化ア
ンモニウム水溶液を加え、酢酸エチル抽出する。抽出液
を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムに付して無色油状物を得る。
【0104】本品を、エタノール150mlに溶解し、
10%水酸化ナトリウム水溶液70mlを加えて、12
時間加熱還流する。エタノールを留去後、水を加え10
%塩酸にてpH=1に調整する。酢酸エチル抽出し、洗
浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)精製して2−シクロヘキシル−3−フェニルプロピ
オン酸9.57g(収率:39%、融点:70−73
℃)を得る。
10%水酸化ナトリウム水溶液70mlを加えて、12
時間加熱還流する。エタノールを留去後、水を加え10
%塩酸にてpH=1に調整する。酢酸エチル抽出し、洗
浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)精製して2−シクロヘキシル−3−フェニルプロピ
オン酸9.57g(収率:39%、融点:70−73
℃)を得る。
【0105】
【発明の効果】本発明のフェノール誘導体(1)または
その薬理的に許容する塩は、優れた脂質過酸化抑制作
用、マクロファージ泡沫化抑制作用、酸化LDL生成抑
制作用、ACAT阻害作用、マウス抗酸化作用、再灌流
誘発不整脈抑制作用、脳浮腫抑制作用、四塩化炭素誘発
肝障害抑制作用等を有することから、虚血性疾患(心筋
梗塞、脳梗塞、再灌流障害等)、動脈硬化、炎症、肝障
害等の予防または治療薬として有用である。また本発明
の目的物は、毒性も低く、医薬品化合物として使用する
場合、高い安全性を有する。
その薬理的に許容する塩は、優れた脂質過酸化抑制作
用、マクロファージ泡沫化抑制作用、酸化LDL生成抑
制作用、ACAT阻害作用、マウス抗酸化作用、再灌流
誘発不整脈抑制作用、脳浮腫抑制作用、四塩化炭素誘発
肝障害抑制作用等を有することから、虚血性疾患(心筋
梗塞、脳梗塞、再灌流障害等)、動脈硬化、炎症、肝障
害等の予防または治療薬として有用である。また本発明
の目的物は、毒性も低く、医薬品化合物として使用する
場合、高い安全性を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/34 A61K 31/34 31/36 31/36 31/44 31/44 31/66 31/66 C07C 257/14 9451−4H C07C 257/14 275/32 9451−4H 275/32 279/18 9451−4H 279/18 327/40 7106−4H 327/40 335/18 7106−4H 335/18 C07D 213/40 C07D 213/40 307/79 307/79 317/66 317/66 405/12 213 405/12 213 (72)発明者 窪田 均 兵庫県川辺郡猪名川町白金3−39−6 (72)発明者 齋藤 敬子 埼玉県浦和市円正寺166番地2
Claims (6)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、R0は水素原子、アルキル基又はアルキルオキ
シ基、R1及びR3は、いずれか一方が、水素原子を表わ
し、他方が、R2及びベンゼン環とともにナフタレン環
又は含酸素二環式複素環を形成し、Wは酸素原子、硫黄
原子又はNR7を表わし、R7は水素原子、アルキル基、
アリール基、水酸基又はアルキルオキシ基を表わし、R
4は置換若しくは非置換アミノ基又は置換若しくは非置
換アルキル基を表わし、OR5は保護されていてもよい
水酸基を表わす。)で示されるフェノール誘導体及びそ
の薬理学的に許容される塩。 - 【請求項2】 R0が水素原子、R1が水素原子であり、
R2とR3がベンゼン環とともにナフタレン環を形成し、
Wが酸素原子であり、R4が置換若しくは非置換アルキ
ル基、置換若しくは非置換シクロアルキル基、置換若し
くは非置換アリール基及び置換若しくは非置換複素環式
基から選ばれる置換基でモノ又はジ置換されたアミノ基
である請求項1記載の化合物。 - 【請求項3】 R0が水素原子、R3が水素原子であり、
R1とR2がベンゼン環とともにジヒドロベンゾフラン環
又は1,3−ベンゾ[d]ジオキソール環を形成し、R
4が(1)置換若しくは非置換アルキル基、置換若しく
は非置換シクロアルキル基、置換若しくは非置換アリー
ル基及び置換若しくは非置換複素環式基から選ばれる置
換基を有するモノ若しくはジ置換アミノ基又は(2)置
換若しくは非置換アルキル基及び置換若しくは非置換シ
クロアルキル基から選ばれる置換基を有する置換アルキ
ル基である請求項1記載の化合物。 - 【請求項4】 R4がピリジル基置換低級アルキル基、
低級アルキルオキシカルボニル低級アルキル基、フェニ
ル基置換低級アルキル基、シクロアルキル基、低級アル
キル基でモノ若しくはジ置換されていてもよいフェニル
基、水酸基で置換されていてもよいナフチル基、水酸基
置換2,3−ジヒドロベンゾフラニル基及び低級アルキ
レンジオキシフェノキシ基から選ばれる置換基を有する
モノ若しくはジ置換アミノ基又はフェニル基及び非置換
シクロアルキル基から選ばれる置換基を有するモノ若し
くはジ置換低級アルキル基である請求項1、2又は3記
載の化合物。 - 【請求項5】 R4がピリジルメチル基、エトキシカル
ボニルプロピル基、フェニルメチル基、シクロへキシル
基、フェニル基、2,6−ジイソプルピルフェニル基、
ナフチル基、2−ヒドロキシナフチル基、5−ヒドロキ
シ−(2,3−ジヒドロベンゾフラン)−6−イル基及
び4,5−メチレンジオキシフェノール−2−イル基か
ら選ばれる置換基を有するモノ若しくはジ置換アミノ基
又は1−シクロへキシル−2−フェニルエチル基、OR
5が水酸基である請求項1、2又は3記載の化合物。 - 【請求項6】 2−[3−(3−ピリジルメチル)ウレ
イド]−4,5−メチレンジオキシフェノール、2−
[3−(2,6−ジイソプルピルフェニル)ウレイド]
−4,5−メチレンジオキシフェノール、1−[3−
(3−エトキシカルボニルプロピル)−3−フェニルウ
レイド]−2−ナフトール、1−[3−(3−ピリジル
メチル)ウレイド]−2−ナフトール、6−[3−(5
−ヒドロキシ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−6−イ
ル)ウレイド]−5−ヒドロキシ−2,3−ジヒドロベ
ンゾフラン、2−[3−(4,5−メチレンジオキシフ
ェノール−2−イル)ウレイド]−4,5−メチレンジ
オキシフェノール、2−[3−(3−エトキシカルボニ
ルプロピル)−3−(1−ナフチル)ウレイド]−4,
5−メチレンジオキシフェノール、1−(3−フェニル
ウレイド)−2−ナフトール、1−[3−(2−ヒドロ
キシナフタレン−1−イル)ウレイド]−2−ナフトー
ル、2−(3−フェニルチオウレイド)−4,5−メチ
レンジオキシフェノール、2−(3−シクロヘキシル−
3−フェニルメチルウレイド)−4,5−メチレンジオ
キシフェノール、2−(2−シクロへキシル−3−フェ
ニルプロピオニルアミノ)−4,5−メチレンジオキシ
フェノールから選ばれる請求項1記載の化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8054498A JPH09249628A (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | フェノール誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8054498A JPH09249628A (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | フェノール誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09249628A true JPH09249628A (ja) | 1997-09-22 |
Family
ID=12972311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8054498A Pending JPH09249628A (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | フェノール誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09249628A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999009002A1 (en) * | 1997-08-18 | 1999-02-25 | Sankyo Company, Limited | Phenol derivatives |
| JP2008504283A (ja) * | 2004-06-25 | 2008-02-14 | イコス・コーポレイション | Chk1の阻害に有用なビスアリール尿素誘導体 |
-
1996
- 1996-03-12 JP JP8054498A patent/JPH09249628A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999009002A1 (en) * | 1997-08-18 | 1999-02-25 | Sankyo Company, Limited | Phenol derivatives |
| JP2008504283A (ja) * | 2004-06-25 | 2008-02-14 | イコス・コーポレイション | Chk1の阻害に有用なビスアリール尿素誘導体 |
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