JPH09249852A - 樹脂組成物の印刷法 - Google Patents

樹脂組成物の印刷法

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JPH09249852A
JPH09249852A JP6264896A JP6264896A JPH09249852A JP H09249852 A JPH09249852 A JP H09249852A JP 6264896 A JP6264896 A JP 6264896A JP 6264896 A JP6264896 A JP 6264896A JP H09249852 A JPH09249852 A JP H09249852A
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JP
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resin
resin composition
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soluble
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JP6264896A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Inoue
浩 井上
Seiichiro Takabayashi
誠一郎 高林
Kenji Sonoyama
研二 園山
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Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 電子部品などの用途に使用される樹脂組成物
を印刷する場合に問題となる固化、白化を改良した印刷
法を提供する。 【構成】 耐熱性でかつ柔軟な硬化膜を与える樹脂をN
−ビニル−2−ピロリドンに溶解してなり、樹脂組成物
中の固形分濃度が15〜70重量%であり、相対湿度5
5%の状態で長時間固化、白化しない印刷用樹脂組成物
を基材に印刷塗布する印刷法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、従来の印刷用溶
液組成物の印刷時における固化・白化といった問題点を
改良した印刷法に関するものである。また、この発明
は、印刷時における固化・白化といった問題点が改良さ
れ電子部品用の表面保護膜として好適な硬化膜に関する
ものである。さらに、この発明は、印刷時における固化
・白化といった問題点が改良され電子部品や他の耐熱部
品用の層間絶縁体として好適な積層体に関するものであ
る。
【0002】すなわち、この発明の印刷法は、スクリ−
ン印刷機や各種印刷機を適用したりディスペンサを使用
して、印刷用溶液組成物の印刷時の作業性が実用上問題
がなく、良好な塗膜、硬化膜および積層体を与える。特
に、樹脂としてポリイミドシロキサンあるいはポリイミ
ドシロキサンとエポキシ化合物(樹脂)とを使用するこ
とにより、印刷時の作業性に問題がないだけでなく、銅
箔などの各種金属や他の耐熱基材への膜(硬化膜)形
成、あるいはこれら基材と耐熱性支持材料(例えば耐熱
性フィルム、金属あるいはセラミック等の無機シ−トや
部品)との張り合わせを作業性良く行うことができると
共に、得られた膜あるいは積層体が充分な密着性を示
す。
【0003】
【従来の技術】ポリイミドシロキサンあるいはポリイミ
ドシロキサンを必須成分とする溶液組成物については、
数多くの文献、特許が報告されている。例えば、フレキ
シブル配線板などの電子部品用絶縁膜や銅箔と基材間の
接着剤などの用途に使用した例が種々知られている。例
えば、特開平4−23833号および特開平4−363
21号公報に記載されている可溶性のポリイミドシロキ
サンは、フレキシブル配線板などの絶縁膜や銅箔と耐熱
性支持材料間の接着剤組成などの用途に使用した例であ
る。しかし、絶縁膜や接着剤を得るため、溶液組成物を
スクリ−ン印刷や種々の印刷機械を使用し、通常の条件
で印刷すると、空気中の水蒸気によって固化あるいは白
化が生じるという問題点があり、また、作業性を犠牲に
して印刷しても、得られる絶縁膜に厚みなどの均一性に
問題点を有していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、前
述のような問題点の実質的にない印刷法、即ち、優れた
印刷性を有しパタ−ンを容易に形成し得、作業性の良好
な印刷法を提供することである。また、この発明の他の
目的は、作業性よく得られる硬化膜を提供することであ
る。さらに、この発明の他の目的は、作業性よく得られ
る積層体を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち、この発明は、
有機溶媒に可溶性であるが、その溶液の溶解性が吸湿に
より低下し、樹脂が部分的に固化あるいは白化する、耐
熱性でかつ柔軟な硬化膜を与える樹脂をN−ビニル−2
−ピロリドンに溶解してなり、樹脂組成物中の固形分濃
度が15〜70重量%である印刷用樹脂組成物が、23
℃、相対湿度(RH)55%の状態下で保存した際、4
0分以上表面の固化あるいは白化が起こらない印刷用樹
脂組成物を基材に印刷塗布することを特徴とする印刷法
に関するものである。
【0006】また、この発明は、基材の片面あるいは両
面に、有機溶媒に可溶性であるが、その溶液の溶解性が
吸湿により低下し、樹脂が部分的に固化あるいは白化す
る、耐熱性でかつ柔軟な硬化膜を与える樹脂をN−ビニ
ル−2−ピロリドンに溶解してなり、樹脂組成物中の固
形分濃度が15〜70重量%であって、23℃、相対湿
度(RH)55%の状態下で保存した際、長時間表面の
固化あるいは白化が起こらない印刷用樹脂組成物を印刷
塗布後、塗膜を加熱乾燥してなる硬化膜に関するもので
ある。
【0007】さらに、この発明は、基材の片面あるいは
両面に、有機溶媒に可溶性であるが、その溶液の溶解性
が吸湿により低下し、樹脂が部分的に固化あるいは白化
する、耐熱性でかつ柔軟な硬化膜を与える樹脂をN−ビ
ニル−2−ピロリドンに溶解してなり、樹脂組成物中の
固形分濃度が15〜70重量%であって、23℃、相対
湿度(RH)55%の状態下で保存した際、長時間表面
の固化あるいは白化が起こらない印刷用樹脂組成物を印
刷塗布後、塗膜を加熱乾燥し、さらに同種あるいは異種
の基材を積層した後、加熱圧着してなる積層体に関する
ものである。
【0008】この発明においては、有機溶媒に可溶性で
はあるが、その溶液の溶解性が吸湿により低下して樹脂
が部分的に固化あるいは白化する、耐熱性でかつ柔軟な
硬化膜を与える樹脂とN−ビニル−2−ピロリドンとを
組み合わせて使用することが必要であり、これによっ
て、樹脂組成物中の固形分濃度が15〜70重量%であ
って、23℃、相対湿度(RH)55%の状態下で保存
した際、長時間表面の固化あるいは白化が起こらない樹
脂組成物とすることができる。
【0009】この発明における樹脂としては、例えばN
−メチル−2−ピロリドンのような含窒素化合物系有機
溶媒あるいはテトラヒドロフランのような含酸素化合物
系有機溶媒に溶解して電子部品用に使用される樹脂、例
えば熱可塑性あるいは熱硬化性の重合体、例えば、ポリ
イミドシロキサンが好ましく、例えば、(a) 芳香族
テトラカルボン酸成分と一般式(1)
【化2】 (但し、式中のRは2価の炭化水素残基を示し、R1
2 、R3 及びR4 は低級アルキル基又はフェニル基を
示し、nは3〜30であり、平均値を示す。)で示され
るジアミノポリシロキサン10〜80モル%及び芳香族
ジアミン20〜90モル%からなるジアミン成分とから
得られる可溶性ポリイミドシロキサンが好適に挙げられ
る。
【0010】また、前記(a)可溶性ポリイミドシロキ
サン100重量部に対して、さらに(b) エポキシ基
を複数個有するエポキシ化合物5〜250重量部、およ
び(c) エポキシ硬化剤を含ませた樹脂も好適に使用
される。
【0011】また、前記(a)可溶性ポリイミドシロキ
サン100重量部に対して、さらに(b) エポキシ基
を複数個有するエポキシ化合物5〜250重量部、
(c) エポキシ硬化剤、および前記(a)、(b)お
よび(c)からなる固形分100重量部に対して、
(d) 無機フィラ−1〜60重量部を含ませてもよ
い。
【0012】前記の芳香族テトラカルボン酸成分として
は、ピロメリット酸、2,3,3’,4’−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸、2,3,3’,4’−ビフェ
ニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビフェニ
ルテトラカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)プロパン、2,2−ビス(2,3−ジカ
ルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(2,3−
ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロプロパン、ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)エ−テル、ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)エ−テル、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
スルホン、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)スル
ホン、1、1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)
エタン、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)エタン、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)エタン、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)
メタン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタ
ン、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル
酸、4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル
酸、4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸
またはそれらの酸二無水物やエステル化物等を好適に挙
げることができる。これらは2種以上混合して使用して
もよい。この中でも、2,3,3’,4’−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、あるいは3,3’,4,
4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を30モル
%以上、特に60モル%以上、さらに70〜100モル
%の割合で含む芳香族テトラカルボン酸成分が好適に使
用される。これらの中でも特に、2,3,3’,4’−
ビフェニルテトラカルボン二無水物が、前記樹脂の溶解
性、良好な硬化物が得られるので好適である。
【0013】前記の一般式(1)で示されるジアミノポ
リシロキサンとしては、式中のRが炭素数2〜6個、特
に3〜5個の複数のメチレン基、またはフェニレン基か
らなる2価の炭化水素残基であり、R1 〜R4 がメチル
基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜5の低級アル
キル基またはフェニル基であることが好ましく、さら
に、n(平均値)が3〜30、特に5〜20、さらに好
ましくは5〜15程度であることが好ましい。R、R1
〜R4 の炭素数が多すぎたり、nの数が大きすぎると反
応性が低下したり耐熱性が悪くなったり、得られるポリ
イミドシロキサンの分子量が低くなったり溶解性が低下
したりするので前記程度のものが適当である。
【0014】前記一般式(1)で示されるジアミノポリ
シロキサンの具体例としては、ω,ω’−ビス(2−ア
ミノエチル)ポリジメチルシロキサン〔n(平均値)=
9〕、ω,ω’−ビス(3−アミノプロピル)ポリジメ
チルシロキサン〔n(平均値)=9〕、ω,ω’−ビス
(3−アミノブチル)ポリジメチルシロキサン〔n(平
均値)=9〕、ω,ω’−ビス(4−アミノフェニル)
ポリジメチルシロキサン〔n(平均値)=9〕、ω,
ω’−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)ポリジ
メチルシロキサン〔n(平均値)=9〕、ω,ω’−ビ
ス(3−アミノプロピル)ポリジフェニルシロキサン
〔n(平均値)=9〕などが挙げられる。
【0015】また、前記のジアミノポリシロキサンと共
に使用される芳香族ジアミンとしては、一般には、ベン
ゼン環等の芳香族環を1個以上、好ましくは2個以上、
特に2〜5個有する芳香族ジアミン、好適にはビフェニ
ル系ジアミン化合物、ジフェニルエ−テル系ジアミン化
合物、ベンゾフェノン系ジアミン化合物、ジフェニルス
ルホン系ジアミン化合物、ジフェニルメタン系ジアミン
化合物、ジフェニルプロパン系ジアミン化合物、ジフェ
ニルチオエ−テル系ジアミン化合物、ビス(フェノキ
シ)ベンゼン系ジアミン化合物、ビス(フェノキシフェ
ニル)スルホン系ジアミン化合物、ビス(フェノキシ)
ジフェニルスルホン系ジアミン化合物、ビス(フェノキ
シフェニル)ヘキサフルオロプロパン系ジアミン化合
物、ビス(フェノキシフェニル)プロパン系ジアミン化
合物等を挙げることができ、それらを単独、あるいは混
合物として使用することができる。
【0016】前記の芳香族ジアミンの好適な具体例とし
ては、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、3,
4’−ジアミノジフェニルエ−テル等のジフェニルエ−
テル系ジアミン化合物、1,3−ビス(3−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキ
シ)ベンゼン等のビス(フェノキシ)ベンゼン系ジアミ
ン化合物、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(3−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン等のビス(フェノ
キシフェニル)プロパン系ジアミン化合物、ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス
〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン等
のビス(フェノキシフェニル)スルホン系ジアミン化合
物等の芳香族環を2〜5個有する芳香族ジアミン化合物
を好適に挙げることができる。
【0017】前記のジアミノポリシロキサンと芳香族ジ
アミンとは、全ジアミン中ジアミノポリシロキサンが1
0〜80モル%、好ましくは15〜70モル%、さらに
好ましくは20〜65モル%、芳香族ジアミンが20〜
90モル%、好ましくは30〜85モル%、さらに好ま
しくは35〜80モル%の割合で使用される。どちらか
の成分が多すぎたり、少なすぎたりしてこれらの範囲を
はずれるとポリイミドシロキサンの溶解性が低下し、硬
化物の柔軟性が低下するので好適ではない。
【0018】前記のポリイミドシロキサンは、例えば次
の方法で製造される。 (A) 芳香族テトラカルボン酸成分とジアミノポリシ
ロキサンおよび芳香族ジアミンのジアミン成分とを、略
等モル使用して有機極性溶媒中で連続的に温度15〜2
50℃で重合、好適にはさらにイミド化させてポリイミ
ドシロキサンを得る方法。
【0019】(B) ジアミン成分を分けて、まず芳香
族テトラカルボン酸成分の過剰量とジアミノポリシロキ
サンとを有機極性溶媒中で温度15〜250℃で重合、
好適にはさらにイミド化させて、平均重合度1〜10程
度の末端に酸または酸無水物を有するシロキサンオリゴ
マ−を調製し、別に芳香族テトラカルボン酸成分と過剰
量の芳香族ジアミンとを有機極性溶媒中で温度15〜2
50℃で重合、好適にはさらにイミド化させて、平均重
合度1〜10程度の末端にアミノ基を有するオリゴマ−
を調製し、次いでこの両溶液を酸成分とジアミン成分と
が略等モルになるように混合して温度15〜60℃で反
応させて、さらに温度を130〜250℃に昇温してブ
ロックタイプのポリイミドシロキサンを得る方法。
【0020】(C) 芳香族テトラカルボン酸成分とジ
アミノポリシロキサンおよび芳香族ジアミンのジアミン
成分とを略等モル使用して、有機極性溶媒中でまず温度
20〜80℃で重合させて一度ポリアミック酸を得た後
に、イミド化してポリイミドシロキサンを得る方法等が
ある。
【0021】前記のポリイミドシロキサンの製造には、
例えば、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエ
チルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロ
リドン等のアミド系溶媒等の有機極性溶媒、さらに、こ
れら有機極性溶媒にベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素系溶媒を混合することも可能である。
【0022】前記のポリイミドシロキサンは前記
(A)、(B)または(C)等のいずれの方法で得られ
たものを使用してもよいが、できるだけ高分子量のも
の、しかもイミド化率が高く高濃度で溶解させることが
できるものが、印刷操作や性能のよい硬化物が得られる
ので好適である。それらの個々の設定値は使用条件や必
要な性能から選択される。
【0023】前記のポリイミドシロキサンのイミド化率
は、赤外線吸収スペクトル分析法で測定され、好適には
イミド化率が90%以上、特に95%以上が好ましい。
また、ポリイミドシロキサンは、対数粘度(0.5g/
100ml、N−メチル−2−ピロリドン、30℃)が
0.1〜4、さらに好ましくは0.1〜3程度であるの
が適当である。また、前記のポリイミドシロキサンは、
ガラス転移温度(Tg)が0℃〜250℃、熱分解温度
(Td)が350℃以上であることが好ましい。
【0024】さらに、前記のポリイミドシロキサンは、
フィルムに成形した場合に、その弾性率が250kg/
mm2 以下、特に0.5〜200kg/mm2 であっ
て、熱分解開始温度が250℃以上、特に300℃以上
であり、二次転位温度(Tg)が−10℃以上、特に1
0〜250℃程度であることが好ましく、このようなポ
リイミドシロキサンによって、柔軟でかつ耐熱性をあわ
せもつ硬化物である塗膜あるいは絶縁膜を得ることがで
きるのである。
【0025】この発明の印刷法は、前記のポリイミドシ
ロキサンに好適に適用できるが、他の樹脂、例えば含窒
素化合物系有機溶媒あるいは含酸素化合物系有機溶媒に
溶解して電子部品用に使用される樹脂、例えばポリイミ
ドシロキサン前駆体、ポリアミドイミド、可溶性ポリイ
ミドのような、その溶液の溶解性が吸湿により低下し
て、樹脂が部分的に固化あるいは白化する、耐熱性でか
つ柔軟な硬化膜を与える樹脂をN−ビニル−2−ピロリ
ドンに溶解すること、および、溶液組成物中の固形分濃
度が15〜70重量%であって、23℃、相対湿度(R
H)55%の状態下で保存した際、長時間表面の固化あ
るいは白化が起こらない溶液組成物を使用することが必
要であり、これによってこの発明の目的を達成すること
ができる。
【0026】N−ビニル−2−ピロリドン以外の溶媒、
例えば、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサンや
N−メチル−2−ピロリドンを単独使用あるいはこれら
の併用では、これらの溶媒を使用した樹脂の溶液組成物
をスクリ−ン印刷等で印刷すると、樹脂がすぐに固化し
たり、吸湿による白化が生じたりしてスクリ−ン印刷等
の印刷が困難になる。この発明において、N−ビニル−
2−ピロリドンと共に他の溶媒を悪影響を与えない範囲
で、例えば全溶媒中40重量%以下、好ましくは20重
量%以下使用してもよい。
【0027】前記の他の溶媒としては、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムア
ミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド系溶媒、
アセトン、エチレングリコ−ル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン等の酸素原子を分子内に有する溶媒を挙げる
ことができる。さらに、必要に応じて、他の種類の有機
溶媒を使用することができる。
【0028】この発明において好適に使用される(c)
エポキシ基を複数有するエポキシ化合物の使用割合は、
好適にはポリイミドシロキサン100重量部に対して1
5〜250重量部、特に20〜150重量部であり、多
過ぎたり少な過ぎたりすると、硬化物の柔軟性に欠けた
り、未硬化状態のポリマ−成分の軟化点が高すぎたりし
て硬化後の密着・接着特性が悪くなる傾向がある。
【0029】この発明において好適に使用されるエポキ
シ基を複数有するエポキシ化合物としては、2個以上の
エポキシ基を有するエポキシ化合物、例えば、ビスフェ
ノ−ルA型またはビスフェノ−ルF型エポキシ樹脂(油
化シェル株式会社製、商品名:エピコ−ト807、82
8等)、フェノ−ルノボラック型エポキシ樹脂、アルキ
ル多価フェノ−ル型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社
製、RE701、RE550S等)、多官能型エポキシ
樹脂(住友化学工業株式会社、ELM−100等)、グ
リシジルエ−テル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル
型エポキシ樹脂(三菱瓦斯化学株式会社、商品名:テト
ラッドX等)等を単独でまたは複数併用することもでき
る。エポキシ化合物の融点が高すぎると未硬化状態の塗
膜(または接着剤)の軟化点が高くなるので、その融点
が90℃以下、特に0〜80℃程度であるもの、あるい
は30℃以下の温度で液状であるものが好ましい。
【0030】また、この発明において樹脂としてポリイ
ミドシロキサンとエポキシ樹脂とを使用する場合に、好
適に使用される(d)エポキシ硬化剤としては、それ自
体公知の硬化剤、例えばイミダゾ−ル類、第3級アミン
類、トリフェニルフォスフィン類等の硬化触媒、ジシア
ンジアミド類、ヒドラジン類、芳香族ジアミン類、水酸
基を有するフェノ−ルノボラック型硬化剤(明和化成株
式会社製、フェノ−ルノボラック:H−1、H−5等)
等の重付加型硬化剤、有機過酸化物等を挙げることがで
きる。硬化剤は適宜公知の硬化促進剤と共に使用され
る。可溶性ポリイミドシロキサン成分がポリイミドシロ
キサン前駆体である場合には、エポキシ硬化剤は比較的
高温硬化型のものが好ましい。前記のエポキシ硬化剤の
使用量は、一般にエポキシ化合物100重量部に対して
0.01〜110重量部、特に0.03〜100重量部
であることが好ましい。
【0031】前記の(d)無機フィラ−としては、二酸
化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、ダイヤモン
ド、カ−ボン、ウォラストナイト、タルクなどを挙げる
ことができる。無機フィラ−の使用量は、前記(a)、
(b)および(c)からなる有機固形分100重量部に
対して1〜60重量部であることが適当である。
【0032】この発明において、印刷用樹脂組成物は、
樹脂組成物中の全固形分濃度が15〜70重量%、好ま
しくは17〜60重量%であって、23℃、相対湿度
(RH)55%の状態下で保存した際、長時間、好まし
くは10分以上、特に30分以上、その中でも特に好ま
しくは60分以上、塗膜表面の固化あるいは白化が起こ
らないのである。
【0033】この発明の印刷法は、被覆すべき支持材料
である対象物の表面に樹脂組成物を各種印刷機、例えば
スクリ−ン印刷機などを使用してパタ−ン状に均一な厚
さに塗布したり、ディスペンサでパタ−ン状に塗布して
行うことができ、次いで、好適にはその塗布膜を約10
0℃以上、特に120〜250℃で加熱して乾燥するこ
とにより行うことによって、硬化膜である固化膜が得ら
れる。
【0034】また、前記の樹脂組成物を有機あるいは無
機の支持基材の所定面に該組成物を印刷によって塗布
し、前記温度で加熱乾燥して固化膜とし、この上にさら
に被着体である基材を、好適には100〜160℃の温
度で固化膜と被着体を加熱することができる。上記のい
ずれの場合も、支持基材としては厚み10〜250μ、
揮発物含有量が0.4重量%以下、吸水率が1.8%以
下の芳香族ポリイミドフィルムを使用することが被覆体
の物性、密着性の点から好ましい。
【0035】
【実施例】以下にこの発明の実施例を示す。以下の各例
における各試験法は、以下の通りである。
【0036】対数粘度ηinh :ポリイミドシロキサンの
濃度が0.5g/100ml溶媒となるようにN−メチ
ル−2−ピロリドンに均一に溶解して溶液を調製し、キ
ャノンフェンスケ型粘度計を用いてその溶液の溶液粘度
と溶媒の粘度を30℃で測定し、下記の計算式で算出し
た。 対数粘度=ln(溶液粘度/溶媒粘度)/溶液の濃度
【0037】ポリイミドシロキサンフィルムおよび硬化
物の弾性率:インテスコ社製の引張試験機を用いて、A
STM D882に従って引張速度5mm/分の条件で
測定した値である。
【0038】ポリイミドシロキサンフィルムの軟化温
度:粘弾性試験における粘弾性ピ−クのTanδ(高温
側)をレオメトリック社製のメカニカルスペクトロメ−
タRDS−2を用いて求めた値である。
【0039】接着強度は、インテスコ社製の引張試験機
を用いて、剥離速度50mm/分にて、測定温度25℃
では90°剥離試験、そして測定温度180℃では18
0°剥離試験を行って測定した値である。密着性は、被
膜についてJISD−0202碁盤目テ−プ剥離試験に
より測定した値である。
【0040】基材として使用したポリイミドフィルムの
物性は以下のようにして求めたものである。 吸水率:ASTM D570−63(23℃×24時
間) 揮発物含有量:下記式より求めた。 揮発物含有量=〔(A−B)/A〕×100 A:加熱前のフィルム重量 B:420℃、20分加熱後の重量
【0041】〔イミドシロキサンオリゴマ−の製造〕 参考例1 温度計、仕込・留出口および攪拌機を備えた容量500
ミリリットルのガラス製フラスコに、2,3,3’,
4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(a−BP
DA)0.045モル、ω,ω’−ビス(3−アミノプ
ロピル)ポリジメチルシロキサン(信越シリコン株式会
社、X−22−161AS、n=9)0.030モル、
およびN−メチル−2−ピロリドン(NMP)160g
を仕込み、窒素気流中で50℃の温度に高め、この温度
で2時間攪拌して、アミック酸オリゴマ−を生成させ、
次いで、その反応液を200℃に昇温して、その温度で
3時間攪拌して末端に無水基を有するイミドシロキサン
オリゴマ−(A−1成分、平均重合度:2)を製造し
た。
【0042】参考例2 表1に示す量のa−BPDA、2,2−ビス〔4−(4
−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(BAPP)
およびNMPをそれぞれ使用した他は、参考例1と同様
にして末端にアミノ基を有するイミドシロキサンオリゴ
マ−(B−1成分、平均重合度:2)を製造した。
【0043】参考例3 表1に示す量のa−BPDA、BAPPおよびNMPを
それぞれ使用した他は、参考例1と同様にして末端にア
ミノ基を有するイミドシロキサンオリゴマ−(B−2成
分、平均重合度:5)を製造した。
【0044】
【表1】
【0045】〔樹脂:ポリイミドシロキサンの製造〕 参考例4 参考例1で製造したイミドシロキサンオリゴマ−(A−
1成分)14.14g(0.0055モル)の20重量
%NMP溶液、および参考例3で製造したイミドシロキ
サンオリゴマ−(B−2成分)24.33g(0.00
55モル)の20重量%のNMP溶液を容量500ミリ
リットルのガラス製フラスコに仕込み、参考例1と同様
にして窒素気流中、昇温して50℃で1時間攪拌してポ
リアミック酸ブロックポリマ−を生成させ、次いで、昇
温して200℃で3時間攪拌してポリイミドシロキサン
(ブロックポリマ−)を生成させた。このポリイミドシ
ロキサンの溶液を冷却、水中に投じ、ポリイミドシロキ
サンを析出させ、濾過後、水で洗浄し、乾燥してポリイ
ミドシロキサンを得た。このポリイミドシロキサンは、
イミド化率が95%以上、対数粘度が0.49であり、
軟化温度が235℃であった。
【0046】参考例5 前記の参考例1、2で製造された各オリゴマ−を表2に
示すような量および反応条件で使用したほかは参考例4
と同様にして、ポリイミドシロキサン(ブロックポリマ
−)を製造した。製造されたポリイミドシロキサンの対
数粘度、フィルムの弾性率および軟化温度を表2に示
す。
【0047】参考例6 温度計、仕込・留出口および攪拌機を備えた容量500
ミリリットルのガラス製フラスコに、a−BPDA0.
045モル、ジアミノポリシロキサン(X−22−16
1AS)0.012モル、BAPP0.042モルおよ
びNMP175gを仕込み、窒素気流中で50℃の温度
に高め、この温度で3時間攪拌して、アミック酸オリゴ
マ−を生成させ、次いで、その反応液を200℃に昇温
して、その温度で3時間攪拌してポリイミドシロキサン
(ランダムポリマ−、対数粘度:0.59、シロキサン
単位の含有率:22.2モル%)を製造した。このポリ
イミドシロキサンの物性を表2に示す。
【0048】
【表2】
【0049】実施例1 〔印刷用樹脂組成物の製造〕容量500ミリリットルの
ガラス製のフラスコに、前記の参考例4で製造されたポ
リイミドシロキサン(A−1/B−2)55g、エポキ
シ樹脂としてビスフェノ−ルF型エポキシ樹脂(油化シ
ェルエポキシ社製、エピコ−ト807)30gとグリシ
ジルアミン型エポキシ樹脂(三菱瓦斯化学製、テトラッ
ドX)10g、硬化剤としてフェノ−ルノボラック型硬
化剤(明和化成社製、H−1)18gと、N−ビニル−
2−ピロリドン(NVP)130gおよびアエロジル
(日本アエロジル製、アエロジル−300、平均粒径:
7mμ)5gを仕込み、約25℃で約2時間攪拌して均
一な組成物(25℃の粘度:20ポイズ)を調製した。
この組成物は、室温に1週間放置しても均一な溶液(粘
度一定)の状態を保持していた。
【0050】この組成物の溶液を、250メッシュのス
テンレススクリ−ンを用い、ポリイミドフィルム(厚み
75μm、揮発物含有量:約0.3重量%、吸水率:
1.4%)の上に5mmのライン/スペ−スのストライ
プ状に印刷した。スクリ−ンを変えないで印刷を5回繰
り返したが、メッシュが目詰まることもなかった。さら
に、組成物をストライプ状に印刷したポリイミドフィル
ムを23℃、相対湿度(RH)55%の状態下に保持し
て、固化や白化が起こるまでの時間を測定した。また、
この組成物を使用した場合の接着強度を測定するため、
前記と同様にしてポリイミドフィルムに組成物を塗布
後、150℃で5分間乾燥した。この組成物を約20μ
m厚さで有するポリイミドフィルムの上に、銅箔(35
μm)の処理面とを重ね合わせて、150℃に加熱した
ラミネ−トロ−ル間で圧力を加えながら通過させること
により圧着し、積層物を100℃で2時間、120℃で
2時間、180℃で4時間加熱して硬化させた。この硬
化物を含む積層物の銅箔との剥離強度(25℃、90
°)は1.8Kg/cm、剥離強度(180℃、180
°)は0.8Kg/cmであった。さらにこの樹脂組成
物を前記ポリイミドフィルム上にバ−コ−タ−でコ−ト
し上記と同様に加熱硬化させた。得られた被膜について
JISD−0202碁盤目テ−プ剥離試験により測定し
た。結果は100/100であった。また、被膜の物性
を測定した。結果を表3に示す。
【0051】実施例2〜5、比較例1〜2 表3に示すような各組成にした他は実施例1と同様にし
て樹脂組成物を調製した。この組成物にさらに表3に示
すタルク(浅田製粉社製、平均粒径:5〜8μm)を加
え、3本ロ−ルを用いて組成物を調製した。得られた組
成物を250メッシュのステンレススクリ−ンを用い、
ポリイミドフィルム(前記と同じ)の上に5mmのライ
ン/スペ−スのストライプ状に印刷した。印刷を5回繰
り返して、メッシュの目詰まりなどの発生によって印刷
が問題なくできるかどうかで印刷性の判断をした。実施
例1と同様にして固化や白化が起こるまでの時間、被膜
の物性、密着性、剥離強度を測定した。結果を表3に示
す。
【0052】実施例6 実施例2において、ポリイミドフィルムに代えて、ステ
ンレス板(厚み100μm)に印刷した。結果を表3に
示す。
【0053】実施例6 実施例2において、ポリイミドフィルムに代えて、アル
ミ板(厚み1mm)に印刷した。結果を表3に示す。
【0054】
【表3】
【0055】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
ているので、以下に記載のような効果を奏する。
【0056】この発明の印刷法は、優れた作業性を有し
ており、電気または電子部材や耐熱性部品などの表面
に、絶縁膜および/または耐熱性膜として機能するパタ
−ンを容易に形成することができる。
【0057】またこの発明の硬化膜および積層体は、作
業性良く得ることができ、電気または電子部材や耐熱性
部品として、良好な物性を有している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 11/10 PTV C09D 11/10 PTV 163/00 PKG 163/00 PKG

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 有機溶媒に可溶性であるが、その溶液が
    吸湿により溶解性が低下し、樹脂が部分的に固化あるい
    は白化する、耐熱性でかつ柔軟な硬化膜を与える樹脂を
    N−ビニル−2−ピロリドンに溶解してなり、樹脂組成
    物中の固形分濃度が15〜70重量%である印刷用樹脂
    組成物が、23℃、相対湿度(RH)55%の状態下で
    保存した際、長時間表面の固化あるいは白化が起こらな
    い印刷用樹脂組成物を基材に印刷塗布することを特徴と
    する印刷法。
  2. 【請求項2】 基材が揮発物含有量が0.4重量%以
    下、吸水率が1.8%以下、厚みが10〜250μmの
    芳香族ポリイミドフィルムである請求項1記載の印刷
    法。
  3. 【請求項3】 樹脂が(a)芳香族テトラカルボン酸成
    分と一般式(1) 【化1】 (但し、式中のRは2価の炭化水素残基を示し、R1
    2 、R3 及びR4 は低級アルキル基又はフェニル基を
    示し、nは3〜30であり、平均値を示す。)で示され
    るジアミノポリシロキサン10〜80モル%及び芳香族
    ジアミン20〜90モル%からなるジアミン成分とから
    得られる可溶性ポリイミドシロキサンである請求項1記
    載の印刷法。
  4. 【請求項4】 樹脂組成物が(a)可溶性ポリイミドシ
    ロキサン100重量部に対して、さらに(b) エポキ
    シ基を複数個有するエポキシ化合物5〜250重量部、
    および(c) エポキシ硬化剤を含ませてなる請求項1
    記載の印刷法。
  5. 【請求項5】 樹脂組成物が(a)可溶性ポリイミドシ
    ロキサン100重量部に対して、さらに(b) エポキ
    シ基を複数個有するエポキシ化合物5〜250重量部、
    (c) エポキシ硬化剤、および前記(a)、(b)お
    よび(c)からなる固形分100重量部に対して、
    (d) 無機フィラ−1〜60重量部を含ませてなる請
    求項1記載の印刷法。
  6. 【請求項6】 樹脂の芳香族テトラカルボン酸成分が3
    0モル%以上のビフェニルテトラカルボン酸成分からな
    り、芳香族ジアミン成分が2,2−ビス〔4−(4−ア
    ミノフェノキシ)フェニル〕プロパンである請求項3記
    載の印刷法。
  7. 【請求項7】 基材の片面あるいは両面に、有機溶媒に
    可溶性であるが、その溶液の溶解性が吸湿により低下
    し、樹脂が部分的に固化あるいは白化する、耐熱性でか
    つ柔軟な硬化膜を与える樹脂をN−ビニル−2−ピロリ
    ドンに溶解してなり、樹脂組成物中の固形分濃度が15
    〜70重量%であって、23℃、相対湿度(RH)55
    %の状態下で保存した際、長時間表面の固化あるいは白
    化が起こらない印刷用樹脂組成物を印刷塗布後、塗膜を
    加熱乾燥してなる硬化膜。
  8. 【請求項8】 基材の片面あるいは両面に、有機溶媒に
    可溶性であるが、その溶液の溶解性が吸湿により低下
    し、樹脂が部分的に固化あるいは白化する、耐熱性でか
    つ柔軟な硬化膜を与える樹脂をN−ビニル−2−ピロリ
    ドンに溶解してなり、樹脂組成物中の固形分濃度が15
    〜70重量%であって、23℃、相対湿度(RH)55
    %の状態下で保存した際、長時間表面の固化あるいは白
    化が起こらない印刷用樹脂組成物を印刷塗布後、塗膜を
    加熱乾燥し、さらに同種あるいは異種の基材を積層した
    後、加熱圧着してなる積層体。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004149783A (ja) * 2002-10-09 2004-05-27 Ube Ind Ltd 微細なパターンが印刷可能なインキおよび印刷物
WO2018062405A1 (ja) * 2016-09-29 2018-04-05 積水化学工業株式会社 硬化体及び多層基板
JP2025517002A (ja) * 2022-05-27 2025-05-30 シェンチェン シニア テクノロジー マテリアル カンパニー リミテッド 塗布スラリー、セパレータ、セパレータの製造方法及び電池

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