JPH0925221A - 舌苔除去剤 - Google Patents
舌苔除去剤Info
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- JPH0925221A JPH0925221A JP7199197A JP19919795A JPH0925221A JP H0925221 A JPH0925221 A JP H0925221A JP 7199197 A JP7199197 A JP 7199197A JP 19919795 A JP19919795 A JP 19919795A JP H0925221 A JPH0925221 A JP H0925221A
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Abstract
除去でき、これにより長時間口臭を抑制することができ
る舌苔除去剤を得る。 【解決手段】 N−アセチルムラミダーゼ、ムタノリシ
ン、リゾチーム、レバナーゼ及びリパーゼから選ばれる
酵素とベタイン型、N−アシルタウリン型、メチルグル
コシルエステル型、ジアルキルスルホコハク酸型及びモ
ノアシルリン酸型の界面活性剤から選ばれる1種又は2
種以上とを併用する。
Description
部位である舌苔を化学的に除去して長時間口臭を抑制す
ることができ、口腔用組成物等として各種剤型に調製す
ることができる舌苔除去剤に関する。
口臭除去手段として殺菌剤、消臭剤、マスキング剤等を
有効成分として使用する技術開発が中心になされてお
り、例えば下記のような提案がなされているが、これら
有効成分を含んだ口腔製品の口臭除去及び予防効果は、
持続性に欠け、不十分なものが多かった。 (1)デキストラナーゼ+アニオン系活性剤+非イオン
系活性剤(歯磨:特開昭48−56836号公報) (2)デキストラナーゼ+アニオン系活性剤+カルボン
酸型両性活性剤(口腔用組成物:特開昭48−5683
6号公報) (3)デキストラナーゼ+溶菌酵素(口腔用組成物:特
開昭50−58243号公報) (4)デキストラナーゼ+香料+ノニオン系活性剤(口
腔洗浄剤:特開昭61−176518号公報) (5)デキストラナーゼ+高級脂肪族アルコール(口腔
用組成物:特開昭62−4221号公報) (6)デキストラナーゼ+C14〜C16サルコシネート
(口腔用組成物:特開昭62−195320号公報) (7)デキストラナーゼ+エーテル系非イオン活性剤
(透明液状口腔用組成物:特開昭63−8326号公
報) (8)デキストラナーゼ+非イオン活性剤(透明液状口
腔用組成物:特開昭63−10713号公報) (9)溶菌酵素+脂肪酸アルカロールアマイド又は蔗糖
脂肪酸エステル(口腔用組成物:特開昭50−1544
41号公報) (10)N−アセチルムラミダーゼ+アルカリ化剤+ノ
ニオン系活性剤(口腔用組成物:特開平2−25081
6号公報) (11)アミラーゼ+イミダゾリン系両性活性剤(歯
磨:特開昭58−69808号公報) (12)ムタナーゼ+サルコシネート+蔗糖脂肪酸エス
テル(口腔用組成物:特開昭59−152315号公
報) (13)リゾチーム+非イオン活性剤+多価アルコール
(リゾパスタ製法:特開昭44−40058号公報) (14)リゾチーム+アニオン系活性剤(リゾチーム配
合歯磨組成物:特開昭52−90638号公報) (15)リゾチーム+フッ化ナトリウム(歯磨組成物:
特開昭52−54037号公報)
ケット、唾液、舌苔等が原因と考えられていたが、近
年、とりわけ舌苔の重要性が指摘されている。
が着目され、この舌苔を減らすることにより、長時間十
分な口臭予防効果を持続させることが可能な製剤の開発
が望まれる。
で、口臭発生の主原因部位である舌苔を有効に除去して
長時間口臭を抑制することができる舌苔除去剤を提供す
ることを目的とする。
発明者は上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結
果、N−アセチルムラミダーゼ、ムタノリシン、リゾチ
ーム、レバナーゼ及びリパーゼから選ばれる酵素と、ベ
タイン型、N−アシルタウリン型、メチルグルコシルエ
ステル型、ジアルキルスルホコハク酸型及びモノアシル
リン酸型の界面活性剤から選ばれる1種又は2種以上と
を併用することにより、口臭発生の主原因部位である舌
苔を化学的に有効に除去し得、長時間にわたって口臭を
抑制することができる舌苔除去剤が得られることを知見
し、本発明をなすに至ったものである。
と、本発明の舌苔除去剤は、N−アセチルムラミダー
ゼ、ムタノリシン、リゾチーム、レバナーゼ及びリパー
ゼから選ばれる酵素とベタイン型、N−アシルタウリン
型、メチルグルコシルエステル型、ジアルキルスルホコ
ハク酸型及びモノアシルリン酸型の界面活性剤から選ば
れる1種又は2種以上とを併用してなるものである。
001〜5%(重量%、以下同様)、特に0.01〜1
%の範囲が好ましい。なお、酵素は力価により配合量に
制約を受けるが、例えば塩化リゾチーム(0.1単位/
mg)であれば0.001〜1%の範囲で用いることが
好ましい。酵素の配合量が0.001%に満たないと満
足な舌苔除去効果が得られない場合があり、5%を越え
て配合してもこれ以上の効果が得られない場合がある。
タイン型としてトリメチルグリシン、ラウリルジメチル
アミノ酢酸ベタイン、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルジメ
チルアミノ酢酸ベタイン、2−アルキル−N−カルボキ
シメチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタ
イン、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒド
ロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、2−アルキル
−N−ソジウムカルボキシメチル−N−カルボキシメチ
ルオキシエチルイミダゾリニウムベタイン等、N−アシ
ルタウリン型としてN−ココイルメチルタウリンナトリ
ウム、N−ラウロイルメチルタウリンナトリウム、N−
ミリストイルメチルタウリンナトリウム、N−パルミト
イルメチルタウリンナトリウム等、メチルグルコシルエ
ステル型としてα−メチル−D−グルコピラノシド−6
−O−アシレート、α−メチル−D−グルコピラノシド
−6−O−ラウレート、α−メチル−D−グルコピラノ
シド−6−O−ミリステート、α−メチル−D−グルコ
ピラノシド−6−O−パルミテート等、ジアルキルスル
ホコハク酸型としてジ(2−エチルヘキシル)スルホコ
ハク酸ナトリウム、ジ(2−メチルヘキシル)スルホコ
ハク酸ナトリウム等、モノアシルリン酸型としてラウリ
ルリン酸、ラウリルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチ
レンラウリルエーテルリン酸、モノアシルリン酸−2−
トリエタノールアミン塩等が挙げられる。
で又は2種以上を組み合わせて使用することができる
が、その配合量は全体の0.01〜5%、特に0.1〜
2%の範囲が好ましい。配合量が0.01%に満たない
と満足な効果が得られない場合があり、5%を越えると
苦味を生じたり、酵素の安定性に悪影響を与える場合が
ある。
品等の各種製剤に調製し得るもので、具体的には練歯
磨、液状歯磨、潤製歯磨等の歯磨類、マウスウォッシ
ュ、トローチ、チューイングガム、うがい薬等が例示さ
れる。
た各種の任意成分を配合することができ、例えば歯磨類
では、研磨剤、粘結剤、粘稠剤、上記以外の界面活性
剤、甘味剤、防腐剤、着色剤、上記酵素以外の各種有効
成分などを配合し得、これら成分を水と混合して製造す
ることができる。ここで研磨剤としては、沈降性シリ
カ、シリカゲル、アルミノシリケート、ジルコノシリケ
ート等のシリカ系研磨剤、第2リン酸カルシウム2水和
物及び無水和物、ピロリン酸カルシウム、炭酸カルシウ
ム、水酸化アルミニウム、アルミナ、炭酸マグネシウ
ム、第3リン酸マグネシウム、ゼオライト、ケイ酸ジル
コニウム、合成樹脂系研磨剤等が好適に用いられる(通
常配合量10〜50%)。
ト、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、
キシリット、マルチット、ラクチット等、粘結剤として
は、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ヒドロキ
シエチルセルロース、カラギーナン、アルギン酸ナトリ
ウム、キサンタンガム、カーボポール、グアガム、モン
モリロナイト、ゼラチン等(通常配合量5〜70%)、
界面活性剤としては、アニオン界面活性剤、ノニオン界
面活性剤、両性イオン界面活性剤を用いることができ
る。アニオン界面活性剤としては、ラウリル硫酸ナトリ
ウム、ミリスチル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸ナト
リウム、N−ラウロイルザルコシン酸ナトリウム、N−
ミリストイルザルコシン酸ナトリウム等のN−アシルザ
ルコシン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム、水素添加ココナッツ脂肪酸モノグリセリドモ
ノ硫酸ナトリウム、ラウリルスルホ酢酸ナトリウム、N
−パルミトイルグルタミン酸ナトリウム等のN−アシル
グルタミン酸塩、N−メチル−N−アシルアラニンナト
リウム、α−オレフィンスルホン酸ナトリウムなど、ノ
ニオン界面活性剤としては、ショ糖脂肪酸エステル、マ
ルトース脂肪酸エステル、ラクトース脂肪酸エステル等
の糖脂肪酸エステル、マルチトール脂肪酸エステル、ラ
クチトール脂肪酸エステル等の糖アルコール脂肪酸エス
テル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、
ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート等のポ
リオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレン硬化ヒマシ油等のポリオキシエチレン脂肪酸
エステル、ラウリン酸モノ又はジエタノールアミド、ミ
リスチン酸モノ又はジエタノールアミド等の脂肪酸ジエ
タノールアミド、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレ
ンポリオキシプロピレン共重合体、ポリオキシエチレン
ポリオキシプロピレン脂肪酸エステルなど、両性イオン
界面活性剤としては、N−ラウロイルジアミノエチルグ
リシン、N−ミリスチルジアミノエチルグリシン等のN
−アルキルジアミノエチルグリシンなど(通常配合量
0.1〜5%)、防腐剤としては、パラオキシ安息香酸
エステル、安息香酸ナトリウム等、各種有効成分として
は、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化アンモ
ニム、フッ化第1スズ、モノフルオロリン酸ナトリウム
などのフッ化物、正リン酸のカリウム塩、ナトリウム塩
等の水溶性リン酸化合物、アラントインクロルヒドロキ
シアルミニウム、ヒノキチオール、アスコルビン酸、塩
化リゾチーム、グリチルリチン酸及びその塩類、塩化ナ
トリウム、トラネキサム酸、イプシロンアミノカプロン
酸、酢酸dl−トコフェロール、α−ビサボロール、イ
ソプロピルメチルフェノール、クロロヘキシジン塩類、
塩化セチルピリジニウム、アズレン、グリチルレチン
酸、銅クロロフィリンナトリウム、グルコン酸銅等の銅
化合物、乳酸アルミニウム、塩化ストロンチウム、硝酸
カリウム、ベルベリン、ヒドロキサム酸及びその誘導
体、トリポリリン酸ナトリウム、ゼオライト、デキスト
ラナーゼ、ムタナーゼ、アミラーゼ、メトキシエチレ
ン、無水マレイン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、
エピジヒドロコレステリン、塩化ベンゼトニウム、ジヒ
ドロコレステロール、トリクロロカルバニリド、クエン
酸亜鉛、トウキ軟エキス、オウバクエキス、チョウジ、
ローズマリー、オウゴン、ベニバナなどの抽出物等、香
料としては、1−メントール、カルボン、アネトール、
リモネン等のテルペン類又はその誘導体等、着色剤とし
ては、青色1号、黄色4号、二酸化チタン、酸化アルミ
ナ等が例示される。なおこれら成分の配合量は、本発明
の効果を妨げない範囲で通常量とすることができる。
因部位である舌苔を化学的に除去でき、これにより長時
間口臭を抑制することができ、更に、口臭の減少は自覚
認知できなかったが、舌苔の減少は視覚的に自覚認知可
能であることから、舌苔を除去することで口臭の減少を
視覚的に認知することが可能であるもので、口腔用組成
物、食品類等に調製して使用することができる。
体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるも
のではない。なお、各例中の%はいずれも重量%であ
る。 〔実験例〕表1,2に示す薬剤を使用し、下記方法で舌
苔量の評価を行った。結果を表1,2に示す。インビトロ舌苔量評価システム :1%蔗糖配合THB培
地5mlにヒト舌苔より分離した舌苔マトリクス形成細
菌Streptococcus salivarius
の前培養液40μlを接種し、嫌気条件(80%N2:
10%H2:10%CO2、以下同様)下、37℃で18
時間本培養した。これを遠心分離(3500rpmで1
0分間)後、上清を除去し、沈渣に表1,2に示す薬剤
試料2.5ml(0.05Mリン酸緩衝液、pH7.
0)を添加した。これを攪拌後、37℃で30分間反応
させ、100℃で5分間処理後、再遠心させた。上清を
除去し、沈渣を5ml上記緩衝液で懸濁、攪拌後、再々
遠心した。上清を除去し、沈渣を5mlの0.5NNa
OHで懸濁後、OD550を測定した。なお、インビトロ
舌苔量はコントロールのOD550を100とした相対値
で表示した。
Claims (1)
- 【請求項1】 N−アセチルムラミダーゼ、ムタノリシ
ン、リゾチーム、レバナーゼ及びリパーゼから選ばれる
酵素と、ベタイン型、N−アシルタウリン型、メチルグ
ルコシルエステル型、ジアルキルスルホコハク酸型及び
モノアシルリン酸型の界面活性剤から選ばれる1種又は
2種以上とを併用してなることを特徴とする舌苔除去
剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7199197A JPH0925221A (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | 舌苔除去剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7199197A JPH0925221A (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | 舌苔除去剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0925221A true JPH0925221A (ja) | 1997-01-28 |
Family
ID=16403762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7199197A Pending JPH0925221A (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | 舌苔除去剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0925221A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2003092644A3 (de) * | 2002-04-29 | 2004-04-22 | Symrise Gmbh & Co Kg | Mundhygieneprodukte enthaltend zuckerester und/oder zuckerether als antimikrobieller wirkstoff |
| JP2006117598A (ja) * | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Lion Corp | 歯磨組成物 |
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| WO2018123829A1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | ライオン株式会社 | 口腔用組成物 |
| WO2019230707A1 (ja) * | 2018-05-29 | 2019-12-05 | ライオン株式会社 | 口腔用組成物 |
-
1995
- 1995-07-12 JP JP7199197A patent/JPH0925221A/ja active Pending
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| WO2018123829A1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | ライオン株式会社 | 口腔用組成物 |
| JP2018108944A (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-12 | ライオン株式会社 | 口腔用組成物 |
| CN110049756A (zh) * | 2016-12-28 | 2019-07-23 | 狮王株式会社 | 口腔用组合物 |
| KR20190101355A (ko) * | 2016-12-28 | 2019-08-30 | 라이온 가부시키가이샤 | 구강용 조성물 |
| WO2019230707A1 (ja) * | 2018-05-29 | 2019-12-05 | ライオン株式会社 | 口腔用組成物 |
| CN111867550A (zh) * | 2018-05-29 | 2020-10-30 | 狮王株式会社 | 口腔用组合物 |
| CN111867550B (zh) * | 2018-05-29 | 2023-04-14 | 狮王株式会社 | 口腔用组合物 |
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