JPH0925272A - イソオキサゾリン−３−オン誘導体の製造方法 - Google Patents

イソオキサゾリン−３−オン誘導体の製造方法

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JPH0925272A
JPH0925272A JP8112426A JP11242696A JPH0925272A JP H0925272 A JPH0925272 A JP H0925272A JP 8112426 A JP8112426 A JP 8112426A JP 11242696 A JP11242696 A JP 11242696A JP H0925272 A JPH0925272 A JP H0925272A
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JP
Japan
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group
solvent
formula
compound
general formula
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Application number
JP8112426A
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English (en)
Inventor
Takashi Kamiya
紙谷　　孝
Junji Katsuyama
準次 勝山
Hisayoshi Yoshihara
久喜 吉原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Chemical Industries Co Ltd
Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Fuji Chemical Industries Co Ltd
Sankyo Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Chemical Industries Co Ltd, Sankyo Co Ltd filed Critical Fuji Chemical Industries Co Ltd
Priority to JP8112426A priority Critical patent/JPH0925272A/ja
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    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】緩和な反応温度で、短い反応時間で、且つ副産
物の生成を抑えて、収率良く高純度の化合物（ＩＶ）を
製造できる、極めて工業的に有用な製造方法を提供す
る。 【解決手段】式（Ｉ）の化合物にスルフリルハライドを
作用されて４−ハロゲン誘導体としたのち、そのものに
ルイス酸の存在下に式（ＩＩＩ）の化合物を反応させる
ことより成る、式（ＩＶ）の化合物の製造方法。 （上記式中、Ｒは水素原子、アルキル基又は置換可アリ
ール基を示し、Ｘａ及びＸｂはハロゲン原子を示す。）

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、簡便な方法を用い
て、４−ハロゲノ−２−アルキルイソオキサゾリン−３
−オン誘導体を収率よく製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】イソオキサゾリン−３−オン類は、除草
剤又は植物生長調節剤として、或は抗炎症、鎮痛又は解
熱作用を有する化合物であることが知られている。本発
明に関わる４−ハロゲノ−２−アルキルイソオキサゾリ
ン−３−オン誘導体は、上記イソオキサゾリン−３−オ
ン類を合成するための重要な中間体化合物である。従
来、４−ハロゲノ−２−アルキルイソオキサゾリン−３
−オン誘導体の合成中間体である一般式（ＩＩ）を有す
る化合物は、例えば以下に示す方法、すなわち、（１）
３−ヒドロキシイソオキサゾール誘導体を四塩化炭素に
溶解させ、加熱還流下、塩素ガスを導入し、４−クロル
−３−ヒドロキシイソオキサゾール誘導体を製造する方
法［三共研究所年報、２２巻、２１５−２２０（１９７
０）］、又は、（２）５−（ｐ−クロルフェニル）−３
−ヒドロキシイソオキサゾールをテトラヒドロフランに
溶解させ、氷冷攪拌下でスルフリルクロリドを滴下した
後、加熱還流して、５−（ｐ−クロルフェニル）−４−
クロル−３−ヒドロキシイソオキサゾール誘導体を製造
する方法（特開昭５４−７３７７５号公報の参考例）が
知られている。又、４−ハロゲノ−２−アルキルイソオ
キサゾリン−３−オン誘導体の製造方法は、例えば、
（３）４−クロル−５−フェニル−３−ヒドロキシイソ
オキサゾールとエピクロルヒドリンとの混合物を加熱還
流し、４−クロル−２−（３−クロル−２−ヒドロキシ
−ｎ−プロピル）−５−フェニル−４−イソオキサゾリ
ン−３−オンを得る方法（特開昭５５−８３７６６号公
報）が知られている。しかしながら、上記（１）の製造
法は加熱還流下、塩素ガスを導入する反応であり、反応
時に激しく塩化水素の発生を認め、また加熱還流しても
反応に長時間を要し、また気−液反応であるがため反応
装置が煩雑となる等の欠点がある。一方、上記（２）の
製造法は、液−液反応であるため汎用の装置を利用し得
るが、反応の前半で冷却し、後半では加温するため、温
度制御を要し、操作が煩雑となるばかりでなく、反応に
長時間を要する等の欠点があり、エネルギー的にも工業
的に有利な方法であるとはいえなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、農薬又
は医薬の重要な中間体である、４−ハロゲノ−２−アル
キルイソオキサゾリン−３−オン誘導体を製造する方法
を長年にわたり鋭意検討した結果、溶媒中で、３−ヒド
ロキシイソオキサゾール誘導体とスルフリルハライドを
反応させることにより、加熱還流することなく、緩和な
反応温度で、且つ短い反応時間で、極めて収率良く、高
純度の４−ハロゲノ−３−ヒドロキシイソオキサゾール
誘導体を製造し、次いで溶媒中で、ルイス酸存在下（又
は非存在下（好ましくは存在下）、得られたイソオキサ
ゾール誘導体と一般式（ＩＩＩ）
【０００４】
【化１１】
【０００５】（式中、Ｘｂはハロゲン原子を示す。）を
有する化合物を反応させることにより、緩和な反応温度
で、且つ短い反応時間で、極めて収率良く、高純度の目
的とする４−ハロゲノ−２−アルキルイソオキサゾリン
−３−オン誘導体を製造し得ることを見いだし、本発明
を完成させた。 又、４−ハロゲノ−３−ヒドロキシイ
ソオキサゾール誘導体を、単離精製することなく次の反
応に用いても、目的とする４−ハロゲノ−２−アルキル
イソオキサゾリン−３−オン誘導体が得られることも見
いだした。本発明は、簡便な方法を用いて、４−ハロゲ
ノ−２−アルキルイソオキサゾリン−３−オン誘導体
を、極めて収率良く、純度良く且つ効率良く製造する方
法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（Ｉ）
【０００７】
【化１２】
【０００８】（式中、Ｒは水素原子、Ｃ1 −Ｃ6 アルキ
ル基或はハロゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル及びＣ1 −Ｃ4
アルコキシからなる群より同一又は異なって選択される
置換基を１乃至３個有してもよいＣ6 −Ｃ14アリール基
を示す。）を有する３−ヒドロキシイソオキサゾール誘
導体とスルフリルハライドを、溶媒中で反応させ（第１
ａ工程）、一般式（ＩＩ）
【０００９】
【化１３】
【００１０】（式中、Ｒは前記と同意義を示し、Ｘａは
ハロゲン原子を示す。）を有する４−ハロゲノ−３−ヒ
ドロキシイソオキサゾール誘導体へと導いた後、一般式
（ＩＩＩ）
【００１１】
【化１４】
【００１２】（式中、Ｘｂはハロゲン原子を示す。）を
有する化合物と一般式（ＩＩ）を有する化合物を、ルイ
ス酸存在下、溶媒中で反応させることを特徴とする（第
１ｂ工程）、一般式（ＩＶ）
【００１３】
【化１５】
【００１４】（式中、Ｒ、Ｘａ及びＸｂは前記と同意義
を示す。）で表されるイソオキサゾリン−３−オン誘導
体の製造方法である。
【００１５】上記化合物に於て、Ｘａ、Ｘｂ及びアリー
ル基上の置換基の定義における「ハロゲン原子」は、例
えば、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子であ
り得、Ｘａは、好適には塩素原子であり、Ｘｂは、好適
には塩素原子又は臭素原子であり、更に好適には塩素原
子である。又、アリール基上の置換基は、好適には弗素
原子又は塩素原子である。
【００１６】上記に於て、Ｒの定義における「Ｃ1 −Ｃ
6 アルキル基」は、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ
−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル
基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−メチル
プロピル基、ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−
メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチル
ペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメ
チルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジ
メチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−
ジメチルブチル基又は２−エチルブチル基のような炭素
数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり得、好
適には直鎖又は分枝鎖のＣ1 −Ｃ4 アルキル基であり、
更に好適にはメチル基又はエチル基である。
【００１７】上記に於て、アリール基上の置換基の定義
における「Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基」は、前述の「Ｃ1 −
Ｃ6 」アルキル基の定義に於ける「直鎖又は分枝鎖のＣ
1 −Ｃ4 アルキル基」と同意義を示し、好適にはメチル
基又はエチル基であり、特に好適にはメチル基である。
【００１８】上記に於て、アリール基上の置換基の定義
における「Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ基」は、例えば、メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基又は
ｔ−ブトキシ基のような炭素数１乃至４個の直鎖又は分
枝鎖アルコキシ基であり得、好適にはメトキシ基又はエ
トキシ基であり、更に好適にはメトキシ基である。
【００１９】上記に於て、Ｒの定義における「ハロゲ
ン、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル及びＣ1 −Ｃ4 アルコキシから
なる群より同一又は異なって選択される置換基を１乃至
３個有してもよいＣ6 −Ｃ14アリール基」は、該置換基
群より同一又は異なって選択される１乃至３個の置換基
を有してもよい炭素数６乃至１４個の芳香族炭化水素基
であり、例えば、フェニル基、フルオロフェニル基、ジ
フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェ
ニル基、ヨードフェニル基、トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クメニル基、ブチルフェニル基、メトキシフ
ェニル基、エトキシフェニル基、インデニル基、ブロモ
インデニル基、メチルインデニル基、ナフチル基、ジク
ロロナフチル基、ブトキシナフチル基、フェナンスレニ
ル基、ブチルフェナンスレニル基、アントラセニル基又
はジメチルアントラセニル基であり得、好適には、弗
素、塩素、メチル及びメトキシからなる群より同一又は
異なって選択される１乃至２個の置換基を有してもよ
い、フェニル基或はナフチル基であり、更に好適にはフ
ェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ト
リル基又はメトキシフェニル基であり、特に好適にはフ
ェニル基である。
【００２０】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法を以下の反応式
で示し、詳細に説明する。
【００２１】
【化１６】
【００２２】上記式中、Ｒ、Ｘａ及びＸｂは前述したも
のと同意義を示す。上記に於て一般式（Ｉ）で表される
化合物は、公知の方法［例えば、三共研究所年報、２２
巻、２１５頁（１９７０年）］に準拠して合成すること
ができる。第１ａ工程は、溶媒中で、一般式（Ｉ）を有
する化合物とスルフリルハライドを反応させ、一般式
（ＩＩ）を有する化合物を製造する工程である。
【００２３】使用される「スルフリルハライド」は、例
えば、スルフリルクロリド、スルフリルクロリドフルオ
リド、スルフリルブロマイドのような、前記と同意義で
ある「ハロゲン原子」から同一又は異なって選択される
ハロゲン原子を２個有するスルフリル基であり得、好適
にはスルフリルクロリドである。又、使用されるスルフ
リルハライドの量は、出発原料化合物（Ｉ）に対して１
モル当量乃至３モル当量であり、好適には１モル当量乃
至１．５モル当量であり、更に好適には１モル当量であ
る。
【００２４】使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発
物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、例えば、ベンゼン、トルエン又はキシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、１，２−ジクロロプロパ
ン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、テトラクロ
ロエチレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル又は酢酸エチル
のようなエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン又はジメトキシエタンのようなエー
テル類；アセトニトリル又はイソブチロニトリルのよう
なニトリル類；ジメチルホルムアミド、ジエチルホルム
アミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ヘ
キサメチルリン酸トリアミド、ジメチルアセトアミド又
はジエチルアセトアミドのようなアミド類；或は上記溶
媒の混合溶媒であり得、好適には芳香族炭化水素類又は
アミド類であり、更に好適には芳香族炭化水素類（特に
トルエン）である。
【００２５】反応温度は、原料化合物、試薬又は溶媒等
によって変化するが、通常０℃乃至１５０℃であり、好
適には３０℃乃至１００℃である。
【００２６】反応時間は、原料化合物、試薬、溶媒又は
反応温度によって変化するが、通常は３０分乃至１２時
間であり、好適には１時間乃至４時間である。
【００２７】反応終了後、本工程の目的化合物は常法に
従って後処理することができる。例えば、反応終了後、
反応混合物に水又はメタノール水溶液を加え、結晶を析
出させ、それを濾取することにより、又は、反応終了
後、反応混合物を適宜中和し、又、不容物が存在する場
合には濾去した後、水と酢酸エチルのような混和しない
有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、水
洗後、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶媒を留去す
ることにより、目的化合物を得ることができる。得られ
る目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
澱又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【００２８】一方、反応終了後、反応液中の過剰量のス
ルフリルハライド、ハロゲン化水素又は二酸化硫黄等
を、常圧又は減圧下（好適には減圧下）溶媒と共に留去
して、単離することなく次工程に使用しても好適な結果
を得ることができる。減圧下での溶媒の留去の条件とし
ては、通常１００ｍＨｇ乃至５ｍＨｇであり、好適には
３０ｍＨｇ乃至１０ｍＨｇである。留去する溶媒量は、
通常用いた反応溶媒液量の５％乃至９９％（Ｖ／Ｖ％）
であり、好適には１０％乃至４０％（Ｖ／Ｖ％）であ
る。
【００２９】第１ｂ工程は、溶媒中、ルイス酸存在下又
は非存在下（好適には存在下）、一般式（ＩＩ）を有す
る化合物と一般式（ＩＩＩ）を有する化合物を反応させ
ることにより、一般式（ＩＶ）を有する化合物を製造す
る工程である。
【００３０】使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発
物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイ
ン又は石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類；
メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ロエタン、１，２−ジクロロプロパン、１，１，２，２
−テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、クロロ
ベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；アセトニトリル又はイソブチロニトリルのよう
なニトリル類；或は蟻酸又は酢酸のような脂肪酸類であ
り得、好適には芳香族炭化水素類（特にトルエン）であ
る。又、第１ａ工程で製造される、一般式（ＩＩ）を有
する化合物を精製せずに使用する場合には、第１ａ工程
で使用した溶媒（好適にはトルエン）を新たに追加して
反応を行うこともできる。
【００３１】一般式（ＩＩＩ）を有する化合物は、好適
にはエピクロルヒドリン又はエピブロモヒドリンであ
り、特に好適にはエピクロルヒドリンである。又、一般
式（ＩＩＩ）を有する化合物の使用量は、出発原料化合
物（Ｉ）に対し、１乃至３モル当量であり、好適には１
乃至１．５モル当量である。
【００３２】使用されるルイス酸は、例えば、四塩化チ
タン、四塩化スズ、塩化亜鉛、フッ化ほう素、フッ化ほ
う素のエーテラート、塩化アルミニウム、塩化アンチモ
ン、塩化第二鉄、四臭化スズ、臭化亜鉛、四塩化ジルコ
ニウム、硝酸銀等であり得、好適には、四塩化チタン、
四塩化スズ、フッ化ほう素のエーテラート又は塩化アル
ミニウムであり、更に好適には四塩化チタンである。
又、反応に用いられるルイス酸の量は、通常一般式（Ｉ
Ｉ）で表される化合物に対して、０．００１乃至１モル
当量であり、好適には０．０１乃至０．３０モル当量で
ある。反応温度は、原料化合物、試薬又は溶媒等によっ
て変化するが、通常０℃乃至１５０℃であり、好適には
３０℃乃至１００℃である。
【００３３】反応時間は、原料化合物、試薬、溶媒又は
反応温度によって変化するが、通常は１時間乃至２４時
間であり、好適には３時間乃至１２時間である。
【００３４】反応終了後、本工程の目的化合物は常法に
従って反応混合物から採取される。例えば、反応終了
後、減圧下溶媒を留去することにより目的化合物が析出
する場合には、濾取することにより、或は、反応終了
後、反応液に酸を加え、水と混和しにくい溶媒（例えば
ベンゼン、トルエン、メチレンクロリド、エーテル又は
酢酸エチル等）で目的化合物を抽出した後、抽出した有
機層を水洗し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥させた
後、減圧下溶媒を留去することによって、目的化合物が
得られる。得られる目的化合物は必要ならば、常法、例
えば再結晶、再沈澱又はクロマトグラフィーによって更
に精製できる。
【００３５】本発明において、好適な製造方法として
は、（１） ＲがＣ1 −Ｃ4 アルキル基或は弗素、塩
素、メチル及びメトキシからなる群より同一又は異なっ
て選択される１乃至２個の置換基を有してもよい、フェ
ニル基又はナフチル基である製造方法、（２） Ｒがメ
チル基、エチル基、フェニル基、フルオロフェニル基、
クロロフェニル基、トリル基又はメトキシフェニル基で
ある製造方法、（３） Ｒがフェニル基である製造方
法、（４） Ｘａが塩素原子である製造方法、（５）
Ｘｂが塩素原子又は臭素原子である製造方法、（６）
Ｘｂが塩素原子である製造方法、（７） 第１ａ工程に
於ける溶媒が芳香族炭化水素類である製造方法、（８）
第１ａ工程に於ける溶媒がトルエンである製造方法、
（９） 第１ａ工程に於ける反応温度が３０℃乃至１０
０℃である製造方法、（１０） 第１ａ工程に於ける反
応時間が１時間乃至４時間である製造方法、（１１）
ルイス酸が四塩化チタン、四塩化スズ、フッ化ほう素の
エーテラート又は塩化アルミニウムである製造方法、
（１２） ルイス酸が四塩化チタンである製造方法、
（１３） 第１ｂ工程に於ける溶媒が芳香族炭化水素類
である製造方法、（１４） 第１ｂ工程に於ける溶媒が
トルエンである製造方法、（１５） 第１ｂ工程に於け
る反応温度が３０℃乃至１００℃である製造方法、（１
６） 第１ｂ工程に於ける反応時間が３時間乃至１２時
間である製造方法、を挙げることができ、又、（１）−
（３）、（４）、（５）−（６）、（７）−（８）、
（９）、（１０）、（１１）−（１２）、（１３）−
（１４）、（１５）及び（１６）の群から２乃至１０を
選択し、それらを任意に組み合わせたものも好適であ
り、例えば、以下の組み合わせを挙げることができる。
（１７） （４）、（７）、（１１）及び（１３）、
（１８） （１）、（４）、（５）、（７）、（１１）
及び（１３）、（１９） （２）、（４）、（５）、
（７）、（１１）及び（１３）、（２０） （２）、
（４）、（６）、（８）、（９）、（１０）、（１
２）、（１４）、（１５）及び（１６）、（２１）
（３）、（４）、（５）、（７）、（１１）及び（１
３）、（２２） （３）、（４）、（６）、（８）、
（９）、（１０）、（１２）、（１４）、（１５）及び
（１６）。
【００３６】以下に実施例をあげて本発明を更に具体的
に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるもの
ではない。
【００３７】
【実施例】
実施例１ ４−クロル−２−（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピ
ル）−５−フェニル−４−イソオキサゾリン−３−オン
の製造方法 ５−フェニルイソオキサゾール（２０．０ｋｇ）をトル
エン（１４０Ｌ）に混合し、室温攪拌下、スルフリルク
ロリド（２３．４５ｋｇ）を４０分かけて滴下した。４
０℃で４０分、６０℃で１時間、更に７０℃で１時間攪
拌した。反応終了後減圧下溶媒を留去した［留去した溶
媒量は、用いた溶媒量の約４０％（Ｖ／Ｖ％）］。得ら
れた残渣にトルエン（３０Ｌ）を加えた後、室温攪拌
下、エピクロルヒドリン（２７．５６ｋｇ）及び四塩化
チタン（５８８．６ｇ）を加え、７０℃で８時間攪拌し
た。反応終了後、５℃以下で攪拌しながら１２Ｎ−硫酸
（４０Ｌ）を１時間かけて滴下し、一夜静置後分配し
た。有機層及び水層をトルエン（４０Ｌ）で抽出したも
のを１０％食塩水で洗浄した後、減圧下溶媒を留去（約
４０％量）し、析出した結晶を濾取し、４−クロル−２
−（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル）−５−フェ
ニル−４−イソオキサゾリン−３−オン（２９．３ｋ
ｇ、８２％）を結晶として得た。 融点 ： １１０−１１２℃。
【００３８】実施例２ ４−クロル−２−（３−クロル−２−ヒドロキシプロピ
ル）−５−メチル−４−イソオキサゾリン−３−オンの
製造方法 ５−メチルイソオキサゾールを実施例１と同様に反応さ
せ、後処理することにより、４−クロル−２−（３−ク
ロル−２−ヒドロキシプロピル）−５−メチル−４−イ
ソオキサゾリン−３−オン（８０％）を得た。 融点 ： ７３℃。
【００３９】実施例３ ４−クロロ−２−（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピ
ル）−５−フェニル−４−イソオキサゾリン−３−オン
の製造方法 ５−フェニルイソオキサゾール（２０．０ｋｇ）をトル
エン（１４０Ｌ）に混合し、室温攪拌下、スルフリルク
ロリド（２３．４５ｋｇ）を４０分かけて滴下した。４
０℃で４０分、６０℃で１時間、更に７０℃で１時間攪
拌した。反応終了後減圧下溶媒を留去した［留去した溶
媒量は、用いた溶媒量の約７０％（Ｖ／Ｖ％）］。得ら
れた残渣にトルエン（６０Ｌ）を加えた後、室温攪拌
下、エピクロルヒドリン（１６．０７ｋｇ）及び四塩化
チタン（５８８．６ｇ）を加え、６０℃で１時間、更に
８０℃で６時間攪拌した。反応終了後５０℃以下で攪拌
しながら６Ｎ−硫酸（２０Ｌ）を３０分間かけて滴下
し、６０℃で攪拌後、静置分配した。同温で有機層を１
２％食塩水で洗浄した後、徐々に冷却し、−１０℃にて
一夜熟成させた、析出した結晶を濾取し、４−クロル−
２−（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル）−５−フ
ェニル−４−イソオキサゾリン−３−オン（３１．５ｋ
ｇ，８８％）を結晶として得た。 融点 ： １００−１１２℃。
【００４０】
【発明の効果】本発明の製造方法は、溶媒中で、３−ヒ
ドロキシイソオキサゾール誘導体とスルフリルハライド
を反応させることにより、緩和な反応温度で、且つ短い
反応時間で、極めて収率良く、高純度の４−ハロゲノ−
３−ヒドロキシイソオキサゾール誘導体を製造し、次い
で特異な溶媒中で、ルイス酸存在下又は非存在下（好ま
しくは存在下）、得られたイソオキサゾール誘導体と一
般式（ＩＩＩ）を有する化合物を反応させることによ
り、緩和な反応温度で、且つ短い反応時間で、極めて収
率良く、高純度の目的とする４−ハロゲノ−２−アルキ
ルイソオキサゾリン−３−オン誘導体を製造することが
できる。又、４−ハロゲノ−３−ヒドロキシイソオキサ
ゾール誘導体を、単離精製することなく次の反応に用い
ても、目的とする４−ハロゲノ−２−アルキルイソオキ
サゾリン−３−オン誘導体を製造することができる。本
発明の製法は、従来法に較べて、（１）第１ａ工程で
は、反応が緩和な反応温度で進行し、従来の製法の様な
加熱還流のための反応装置が不要である、（２）第１ａ
工程の生成物の収率及び純度が良いため、単離精製しな
くても第１ｂ工程に用いることができる、（３）第１ｂ
工程のアルキル化が、ルイス酸を加えることにより、位
置選択的（イミノ基に選択的に）に起こり、副産物の生
成を抑えることができるため、純度良く、且つ高収率で
目的化合物が得られる、等の特徴を有し、作業効率、作
業者の安全衛生又はエネルギー節約という点からも、工
業的に極めて有利な製法である。
【００４１】尚、本発明により得られる４−ハロゲノ−
２−アルキルイソオキサゾリン−３−オン誘導体（Ｉ
Ｖ）は、農薬又は医薬として有用なイソオキサゾリン−
３−オン類の合成中間体である。

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素原子、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基或はハロ
    ゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル及びＣ1 −Ｃ4 アルコキシか
    らなる群より同一又は異なって選択される置換基を１乃
    至３個有してもよいＣ6 −Ｃ14アリール基を示す。）を
    有する３−ヒドロキシイソオキサゾール誘導体とスルフ
    リルハライドを、溶媒中で反応させ（第１ａ工程）、一
    般式（ＩＩ） 【化２】 （式中、Ｒは前記と同意義を示し、Ｘａはハロゲン原子
    を示す。）を有する４−ハロゲノ−３−ヒドロキシイソ
    オキサゾール誘導体へと導いた後、一般式（ＩＩＩ） 【化３】 （式中、Ｘｂはハロゲン原子を示す。）を有する化合物
    と一般式（ＩＩ）を有する化合物を、ルイス酸存在下、
    溶媒中で反応させることを特徴とする（第１ｂ工程）、
    一般式（ＩＶ） 【化４】 （式中、Ｒ、Ｘａ及びＸｂは前記と同意義を示す。）で
    表されるイソオキサゾリン−３−オン誘導体の製造方
    法。
  2. 【請求項２】一般式（Ｉ） 【化５】 （式中、Ｒは水素原子、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基或はハロ
    ゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル及びＣ1 −Ｃ4 アルコキシか
    らなる群より同一又は異なって選択される置換基を１乃
    至３個有してもよいＣ6 −Ｃ14アリール基を示す。）を
    有する３−ヒドロキシイソオキサゾール誘導体とスルフ
    リルハライドを、溶媒中で反応させ（第１ａ工程）、反
    応生成物を単離することなく、一般式（ＩＩＩ） 【化６】 （式中、Ｘｂはハロゲン原子を示す。）を有する化合物
    と、ルイス酸存在下、溶媒中で反応させることを特徴と
    する（第１ｂ工程）、一般式（ＩＶ） 【化７】 （式中、Ｒ及びＸｂは前記と同意義を示し、Ｘａはハロ
    ゲン原子を示す。）で表されるイソオキサゾリン−３−
    オン誘導体の製造方法。
  3. 【請求項３】請求項１乃至２より選択される一の請求項
    に於て、ＲがＣ1 −Ｃ4 アルキル基或は弗素、塩素、メ
    チル及びメトキシからなる群より同一又は異なって選択
    される１乃至２個の置換基を有してもよい、フェニル基
    又はナフチル基である製造方法。
  4. 【請求項４】請求項１乃至２より選択される一の請求項
    に於て、Ｒがメチル基、エチル基、フェニル基、フルオ
    ロフェニル基、クロロフェニル基、トリル基又はメトキ
    シフェニル基である製造方法。
  5. 【請求項５】請求項１乃至２より選択される一の請求項
    に於て、Ｒがフェニル基である製造方法。
  6. 【請求項６】請求項１乃至５より選択される一の請求項
    に於て、Ｘａが塩素原子である製造方法。
  7. 【請求項７】請求項１乃至６より選択される一の請求項
    に於て、Ｘｂが塩素原子又は臭素原子である製造方法。
  8. 【請求項８】請求項１乃至６より選択される一の請求項
    に於て、Ｘｂが塩素原子である製造方法。
  9. 【請求項９】請求項１乃至８より選択される一の請求項
    に於て、第１ａ工程に於ける溶媒が芳香族炭化水素類で
    ある製造方法。
  10. 【請求項１０】請求項１乃至８より選択される一の請求
    項に於て、第１ａ工程に於ける溶媒がトルエンである製
    造方法。
  11. 【請求項１１】請求項１乃至１０より選択される一の請
    求項に於て、第１ａ工程に於ける反応温度が３０℃乃至
    １００℃である製造方法。
  12. 【請求項１２】請求項１乃至１１より選択される一の請
    求項に於て、第１ａ工程に於ける反応時間が１時間乃至
    ４時間である製造方法。
  13. 【請求項１３】請求項１乃至１２より選択される一の請
    求項に於て、ルイス酸が四塩化チタン、四塩化スズ、フ
    ッ化ほう素のエーテラート又は塩化アルミニウムである
    製造方法。
  14. 【請求項１４】請求項１乃至１２より選択される一の請
    求項に於て、ルイス酸が四塩化チタンである製造方法。
  15. 【請求項１５】請求項１乃至１４より選択される一の請
    求項に於て、第１ｂ工程に於ける溶媒が芳香族炭化水素
    類である製造方法。
  16. 【請求項１６】請求項１乃至１４より選択される一の請
    求項に於て、第１ｂ工程に於ける溶媒がトルエンである
    製造方法。
  17. 【請求項１７】請求項１乃至１６より選択される一の請
    求項に於て、第１ｂ工程に於ける反応温度が３０℃乃至
    １００℃である製造方法。
  18. 【請求項１８】請求項１乃至１７より選択される一の請
    求項に於て、第１ｂ工程に於ける反応時間が３時間乃至
    １２時間である製造方法。
  19. 【請求項１９】一般式（ＩＩ） 【化８】 （式中Ｒ及びＸａは請求項１と同意義を示す。）を有す
    る化合物と、一般式（ＩＩＩ） 【化９】 （式中、Ｘｂは請求項１と同意義を示す。）を有する化
    合物を、ルイス酸存在下溶媒中で反応させることを特徴
    とする、一般式（ＩＶ） 【化１０】 （式中、Ｒ、Ｘａ及びＸｂは請求項１と同意義を示
    す。）で表されるイソオキサゾリン−３−オン誘導体の
    製造方法。
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