JPH03101642A - ベンゾイル酢酸誘導体、その合成中間体及びそれらの製造方法 - Google Patents
ベンゾイル酢酸誘導体、その合成中間体及びそれらの製造方法Info
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- JPH03101642A JPH03101642A JP1014209A JP1420989A JPH03101642A JP H03101642 A JPH03101642 A JP H03101642A JP 1014209 A JP1014209 A JP 1014209A JP 1420989 A JP1420989 A JP 1420989A JP H03101642 A JPH03101642 A JP H03101642A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、次の一般式（Ｉ）：
（式中、Ｒは低級アルキル基、アラルキル基又は水素原
子を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わす。） で示される新規なベンゾイル酢酸誘導体、その合成中間
体及びそれらの製造方法に関するものであり、これら誘
導体は細菌に対し、強力な抗菌作用を示すキノロン誘導
体の合成中間体として有用な化合物である。
子を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わす。） で示される新規なベンゾイル酢酸誘導体、その合成中間
体及びそれらの製造方法に関するものであり、これら誘
導体は細菌に対し、強力な抗菌作用を示すキノロン誘導
体の合成中間体として有用な化合物である。
（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）本発明
の前記式（Ｉ）で示されるベンゾイル酢酸誘導体は、抗
菌剤として有用なキノロン誘導体を製造するための出発
物質として用いられるものである（韓国特許出願第７３
４ １／ｌ ９８８号明細書及び同第７３４０／１９８
８号明細書参照）。
の前記式（Ｉ）で示されるベンゾイル酢酸誘導体は、抗
菌剤として有用なキノロン誘導体を製造するための出発
物質として用いられるものである（韓国特許出願第７３
４ １／ｌ ９８８号明細書及び同第７３４０／１９８
８号明細書参照）。
即ち、韓国特許出願第７３４１／１９８８号明細書には
、ベンゾイル酢酸誘導体（Ｉ）をオルトギ酸アルキルと
無水酢酸の存在下に加熱還流させ、一般式（ ＴＩ ）
で示されるニトロベンゾイル−３−アルコキシアクリル
酸誘導体を製造した後、これをシクロプロビルアミンと
反応させて一般式（■Ｉ）で示されるニトロベンゾイル
−３−シクロブロビルアミノアクリル酸誘導体を製造す
ることが記載されている。
、ベンゾイル酢酸誘導体（Ｉ）をオルトギ酸アルキルと
無水酢酸の存在下に加熱還流させ、一般式（ ＴＩ ）
で示されるニトロベンゾイル−３−アルコキシアクリル
酸誘導体を製造した後、これをシクロプロビルアミンと
反応させて一般式（■Ｉ）で示されるニトロベンゾイル
−３−シクロブロビルアミノアクリル酸誘導体を製造す
ることが記載されている。
誘導体を金属水素化物と有機溶媒の存在下に環化せしめ
て一般式（ＩＶ）で示されるキノロンカルボン酸誘導体
を製造し、これをビベラジン又はモルホリン等の化合物
と、極性溶媒、例えばスルホラン，Ｎ−メチルビロリド
ンの存在下に反応せしめて、一般式（Ｖ）で示されるキ
ノロン誘導体を製造することが記載されている。
て一般式（ＩＶ）で示されるキノロンカルボン酸誘導体
を製造し、これをビベラジン又はモルホリン等の化合物
と、極性溶媒、例えばスルホラン，Ｎ−メチルビロリド
ンの存在下に反応せしめて、一般式（Ｖ）で示されるキ
ノロン誘導体を製造することが記載されている。
（式中、Ｒ及びＸは前記と同義であり、Ｒ゛は低級アル
キル基を表わす。） 一方，韓国特許出願第７３４０／１９８８号明細書には
、前記一般式（ＩＩＩ）で示されるニトロベンゾイル−
３−シクロブロビルアミノアクリル酸（式中、Ｒ及びＸ
は前記と同義であり、Ｒ”はビペラジニル基、モルホリ
ニル基を表わす。）以上、説明したように本発明のベン
ゾイル酢酸誘導体ＣＩ）はキノロン誘導体の製造におい
て重要であり、新規な出発物質である。
キル基を表わす。） 一方，韓国特許出願第７３４０／１９８８号明細書には
、前記一般式（ＩＩＩ）で示されるニトロベンゾイル−
３−シクロブロビルアミノアクリル酸（式中、Ｒ及びＸ
は前記と同義であり、Ｒ”はビペラジニル基、モルホリ
ニル基を表わす。）以上、説明したように本発明のベン
ゾイル酢酸誘導体ＣＩ）はキノロン誘導体の製造におい
て重要であり、新規な出発物質である。
ベンゾイル酢酸誘導体（Ｉ）は新規な化合物であるため
、これと直接的に関連する文献はないが、類似の物質に
ついていくつかの報告がある。
、これと直接的に関連する文献はないが、類似の物質に
ついていくつかの報告がある。
例えば、特開昭６２−１２０３５７号公報には、除草剤
として有用な新規なアリールオキシ酢酸誘導体及びその
製造方法が開示されている。即ち、一般式（Ｖｌ）で示
される置換フェノールをモノクロロ酢酸と強塩基の存在
下に反応せしめてアリールオキシ酢酸を製造し、これを
ハロゲン化して、 Ｈ式（■）で示される塩化アリール
オキシアセチルを得、次いで、これを２−アミノビリジ
ン又は４−クロロベンジルメル力ブタン等と反応せしめ
て本発明のベンゾイル酢酸誘導体（Ｉ）と構造が類似す
るアリールオキシ酢酸誘導体（■）を製造している。
として有用な新規なアリールオキシ酢酸誘導体及びその
製造方法が開示されている。即ち、一般式（Ｖｌ）で示
される置換フェノールをモノクロロ酢酸と強塩基の存在
下に反応せしめてアリールオキシ酢酸を製造し、これを
ハロゲン化して、 Ｈ式（■）で示される塩化アリール
オキシアセチルを得、次いで、これを２−アミノビリジ
ン又は４−クロロベンジルメル力ブタン等と反応せしめ
て本発明のベンゾイル酢酸誘導体（Ｉ）と構造が類似す
るアリールオキシ酢酸誘導体（■）を製造している。
（式中、Ｒ，は水素原子、メチル基、ハロゲン原子又は
ニトロ基を表わし、Ｒ２は水素原子又は塩素原子を表わ
し、Ｒ，は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、塩素
原子、臭素原子又はニトロ基を表わし、Ｒ４は水素原子
又は塩素原子を表わし、Ｒ，は水素原子、メチル基又は
ハロゲン原子を表わし、Ｒ６は４−クロロベンジルヂオ
基、２−ビリジルアミノ基等を表わす。） また、Ｊ． Ａｍ． Ｃｈｅｗ． Ｓｏｃ．， ８８．
３４４０ （１９６６）には、アリールオキシ酢酸を
五塩化リン又は塩化チオニルと塩基の存在下で反応させ
、塩化アリールオキシアセチル（■）を製造することが
開示されている。
ニトロ基を表わし、Ｒ２は水素原子又は塩素原子を表わ
し、Ｒ，は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、塩素
原子、臭素原子又はニトロ基を表わし、Ｒ４は水素原子
又は塩素原子を表わし、Ｒ，は水素原子、メチル基又は
ハロゲン原子を表わし、Ｒ６は４−クロロベンジルヂオ
基、２−ビリジルアミノ基等を表わす。） また、Ｊ． Ａｍ． Ｃｈｅｗ． Ｓｏｃ．， ８８．
３４４０ （１９６６）には、アリールオキシ酢酸を
五塩化リン又は塩化チオニルと塩基の存在下で反応させ
、塩化アリールオキシアセチル（■）を製造することが
開示されている。
本発明者らは、上記の公知技術に基づいて強力な抗菌剤
の製造について鋭意研究を重ねた結果、キノロン系抗菌
剤製造の重要な中間体となる前記一般式（Ｉ）で示され
るベンゾイル酢酸誘導体を合成することに成功した。
の製造について鋭意研究を重ねた結果、キノロン系抗菌
剤製造の重要な中間体となる前記一般式（Ｉ）で示され
るベンゾイル酢酸誘導体を合成することに成功した。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段及び作用）本発明は、次の
一般式（工）： ソプロビル基、ブチル基、ベンチル基、ヘキシル基、ヘ
ブチル基等が挙げられ、アラルキル基としては、例えば
ベンジル基等が挙げられ；Ｘで表わされるハロゲン原子
としては、塩素原子、フッ素原子等が挙げられる。
一般式（工）： ソプロビル基、ブチル基、ベンチル基、ヘキシル基、ヘ
ブチル基等が挙げられ、アラルキル基としては、例えば
ベンジル基等が挙げられ；Ｘで表わされるハロゲン原子
としては、塩素原子、フッ素原子等が挙げられる。
本発明のベンゾイル酢酸誘導体（Ｉ）は、例えば、
次式（■）：
（式中、Ｒは低級アルキル基、アラルキル基又は水素原
子を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わす。） で示される新規なベンゾイル酢酸誘導体、その合成中間
体及びそれらの製造方法に関するものである。
子を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わす。） で示される新規なベンゾイル酢酸誘導体、その合成中間
体及びそれらの製造方法に関するものである。
前記式（Ｉ）において、Ｒで表わされる低級アルキル基
とは、炭素数１〜７のアルキル基であり、例えばメチル
基，エチル基、プロビル基、イ（式中、Ｘ及びＸ゜はハ
ロゲン原子を表わす。） で示される４．５−ジハロー２−ニトロベンゾイルハラ
イドを、金属アルコキシドの存在下に、次式： ＣＨ
ｚ （ＣＯＯＲ” ）ｚ（式中、Ｒ゜は低級アルキル
基又はアラルキル基を表わす。） で示されるマロン酸ジエステルと反応させることにより
製造することができる。
とは、炭素数１〜７のアルキル基であり、例えばメチル
基，エチル基、プロビル基、イ（式中、Ｘ及びＸ゜はハ
ロゲン原子を表わす。） で示される４．５−ジハロー２−ニトロベンゾイルハラ
イドを、金属アルコキシドの存在下に、次式： ＣＨ
ｚ （ＣＯＯＲ” ）ｚ（式中、Ｒ゜は低級アルキル
基又はアラルキル基を表わす。） で示されるマロン酸ジエステルと反応させることにより
製造することができる。
ここで用いる金属アルコキシドとしては、カリウム、ナ
トリウム等のアルカリ金属、マグネシウム等のアルカリ
上類金属のアルコキシド、例えばエトキシド、メトキシ
ド、プロボキシド等が挙げられる。
トリウム等のアルカリ金属、マグネシウム等のアルカリ
上類金属のアルコキシド、例えばエトキシド、メトキシ
ド、プロボキシド等が挙げられる。
次いで、ｐ一トルエンスルホン酸、ショウノウスルホン
酸等の水溶液で２〜６時間加熱還流することにより目的
とするベンゾイル酢酸誘導体（Ｉ）を得ることができる
。
酸等の水溶液で２〜６時間加熱還流することにより目的
とするベンゾイル酢酸誘導体（Ｉ）を得ることができる
。
更に、必要に応じて加水分解することにより遊離のベン
ゾイル酢酸誘導体を得ることができる。
ゾイル酢酸誘導体を得ることができる。
ここで用いる４．５−ジハロー２−ニトロベンゾイルハ
ライド（ＩＸ）は、例えば、 次式（ＩＸ’ ） ： （式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。）で示される４．
５−ジハロー２−ニトロ安息香酸をハロゲン化剤で処理
することにより得ることができる。
ライド（ＩＸ）は、例えば、 次式（ＩＸ’ ） ： （式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。）で示される４．
５−ジハロー２−ニトロ安息香酸をハロゲン化剤で処理
することにより得ることができる。
ここで用いるハロゲン化剤としては、塩化チオニル、三
塩化リン、五塩化リン等が挙げられ、通常、反応は２〜
６時間加熱還流することにより行い、得られたハロゲン
化物（ＩＸ）は、そのまま次の反応に供することができ
る。
塩化リン、五塩化リン等が挙げられ、通常、反応は２〜
６時間加熱還流することにより行い、得られたハロゲン
化物（ＩＸ）は、そのまま次の反応に供することができ
る。
前記式（■゛）で示される４，５−ジハロー２−ニトロ
安息香酸は、新規化合物であり、例えば、次のようにし
て製造することができる。
安息香酸は、新規化合物であり、例えば、次のようにし
て製造することができる。
即ち、前記式（■゛）において、Ｘがフッ素原子である
場合は、３．４−ジフルオロ安息香酸を硝酸と硫酸との
混酸（１：９Ｖ／Ｖ）又は濃硝酸（９５％）でニトロ化
することにより４．５−ジフルオロ−２−ニトロ安息香
酸を製造することができる。反応は、通常１０〜３０℃
で３０分〜１時間撹拌することにより行う。
場合は、３．４−ジフルオロ安息香酸を硝酸と硫酸との
混酸（１：９Ｖ／Ｖ）又は濃硝酸（９５％）でニトロ化
することにより４．５−ジフルオロ−２−ニトロ安息香
酸を製造することができる。反応は、通常１０〜３０℃
で３０分〜１時間撹拌することにより行う。
ここで用いる３，４−ジフルオロ安息香酸は、例えば、
次のようにして製造することができる。
次のようにして製造することができる。
即ち、１．２−ジフルオロベンゼン及び塩化アセチルを
公知の方法に従って塩化アルミニウム、塩化錫又は塩化
チタンのようなルイス酸の存在下で、有機溶媒、例えば
二硫化炭素、ジクロロエタン、ニトロベンゼン等により
４０〜１００℃でｌ〜５時間加熱撹拌すると３．４−ジ
フルオロアセトフエノンが得られる。この時のルイス酸
と１．２−ジフルオロベンゼンの当量比は１．５〜２が
好ましい。
公知の方法に従って塩化アルミニウム、塩化錫又は塩化
チタンのようなルイス酸の存在下で、有機溶媒、例えば
二硫化炭素、ジクロロエタン、ニトロベンゼン等により
４０〜１００℃でｌ〜５時間加熱撹拌すると３．４−ジ
フルオロアセトフエノンが得られる。この時のルイス酸
と１．２−ジフルオロベンゼンの当量比は１．５〜２が
好ましい。
次いで、公知の方法に従って、酢酸、硫酸、水（７：４
＋３）の混合液に３，４−ジフルオロアセトフェノン及
び重クロム酸ナトリウムを加え、５〜２４時間室温で反
応させるか、又は、水酸化ナトリウム水溶液と臭素の混
合液（４：ｌ）をジオキサンに溶解した３．４−ジフル
オロアセトフェノンに加えて、０〜１０℃で１時間撹拌
することにより３．４−ジフルオロ安息香酸を得ること
ができる。
＋３）の混合液に３，４−ジフルオロアセトフェノン及
び重クロム酸ナトリウムを加え、５〜２４時間室温で反
応させるか、又は、水酸化ナトリウム水溶液と臭素の混
合液（４：ｌ）をジオキサンに溶解した３．４−ジフル
オロアセトフェノンに加えて、０〜１０℃で１時間撹拌
することにより３．４−ジフルオロ安息香酸を得ること
ができる。
また、前記式（■゛）において、Ｘが塩素原子である場
合は、前述したように、４−クロロ−５一フルオロ−２
−ニトロアセトフェノンを酸化剤で処理、例えば、酢酸
、硫酸、水の混合液に４−クロロ−５−フルオロ−２−
ニトロアセトフェノン及び、重クロム酸ナトリウム又は
クロム酸ナトリウムを加え，５〜２４時間室温で反応さ
せるか、又は、水酸化ナトリウム水溶液と臭素の混合液
をジオキサンに溶解した４−クロロ−５−フルオロ−２
−ニトロアセトフェノンに加えて、０〜１０℃で１時間
撹拌することにより４−クロロ−５−フル才ロー２−ニ
トロ安息香酸を得ることができる。
合は、前述したように、４−クロロ−５一フルオロ−２
−ニトロアセトフェノンを酸化剤で処理、例えば、酢酸
、硫酸、水の混合液に４−クロロ−５−フルオロ−２−
ニトロアセトフェノン及び、重クロム酸ナトリウム又は
クロム酸ナトリウムを加え，５〜２４時間室温で反応さ
せるか、又は、水酸化ナトリウム水溶液と臭素の混合液
をジオキサンに溶解した４−クロロ−５−フルオロ−２
−ニトロアセトフェノンに加えて、０〜１０℃で１時間
撹拌することにより４−クロロ−５−フル才ロー２−ニ
トロ安息香酸を得ることができる。
ここで用いる４−クロロ−５−フルオロ−２−ニトロア
セトフェノンは、新規化合物であり、例えば、４．５−
ジクロロ−２−ニトロアセトフェノンを、必要に応じて
エチレングリコールでケタール化した後、極性溶媒の存
在下に乾燥した金属フッ化物と，好ましくは１００〜１
８０℃で２〜１０時間加熱撹拌することにより得ること
ができる。前記極性溶媒としては、例えばジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシドが挙げられる。前記金
属フツ化物の金属としては、例えばナトリウム、カリウ
ム、リチウムが挙げられる。原料として用いる４．５−
ジクロロ−２−ニトロアセトフェノンは、新規化合物で
あり、例えば、１．２−ジクロロベンゼンを塩化アセチ
ルと反応させて３．４−ジクロロアセトフエノンを製造
し、これを硝酸を用いてニトロ化することにより得るこ
とができる。
セトフェノンは、新規化合物であり、例えば、４．５−
ジクロロ−２−ニトロアセトフェノンを、必要に応じて
エチレングリコールでケタール化した後、極性溶媒の存
在下に乾燥した金属フッ化物と，好ましくは１００〜１
８０℃で２〜１０時間加熱撹拌することにより得ること
ができる。前記極性溶媒としては、例えばジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシドが挙げられる。前記金
属フツ化物の金属としては、例えばナトリウム、カリウ
ム、リチウムが挙げられる。原料として用いる４．５−
ジクロロ−２−ニトロアセトフェノンは、新規化合物で
あり、例えば、１．２−ジクロロベンゼンを塩化アセチ
ルと反応させて３．４−ジクロロアセトフエノンを製造
し、これを硝酸を用いてニトロ化することにより得るこ
とができる。
以上の各工程で得られる生成物は、蒸発、濾過、抽出、
再結晶又はこれらの組合わせのような従来技術により分
離・精製することができる。反応混合物を冷却させるこ
とにより生成物が沈殿したときには、それをｉ戸液して
収集し得るし、ｉ尤殿物が生じない場合には反応物を減
圧下、乾燥するまで濃縮させて残留物を塩化メチレン、
酢酸エチルのような有機溶媒と水との混合物と共に振り
、有機溶媒を留去することにより生成物を得ることがで
きる。
再結晶又はこれらの組合わせのような従来技術により分
離・精製することができる。反応混合物を冷却させるこ
とにより生成物が沈殿したときには、それをｉ戸液して
収集し得るし、ｉ尤殿物が生じない場合には反応物を減
圧下、乾燥するまで濃縮させて残留物を塩化メチレン、
酢酸エチルのような有機溶媒と水との混合物と共に振り
、有機溶媒を留去することにより生成物を得ることがで
きる。
生成物に副生成物が含まれている場合には、減圧蒸留、
再結晶等により精製することができ本発明をより理解し
やすくするため、 の製造工程を化学式を用いて例示する。
再結晶等により精製することができ本発明をより理解し
やすくするため、 の製造工程を化学式を用いて例示する。
以下にそ
（発明の実施例）
以下、合成例及び実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、これらは本発明の範囲を何ら制限するものでは
ない。
するが、これらは本発明の範囲を何ら制限するものでは
ない。
なお、以下において特に別の表示がない限り、％、比率
等は重量によるものとする。
等は重量によるものとする。
合成例ｌ ３，４−ジフルオロアセトフエノン１．２−
ジフルオロベンゼン７６．９ｇ（０．６７モル）、塩化
アルミニウム１ ３０ｇ（０．９８モル）を二硫化炭素
５０一に入れて撹拌した後、廖化アセチル５２．４ｇ
（０．６７モル）を常温で１時間かけて徐々に加えた。
ジフルオロベンゼン７６．９ｇ（０．６７モル）、塩化
アルミニウム１ ３０ｇ（０．９８モル）を二硫化炭素
５０一に入れて撹拌した後、廖化アセチル５２．４ｇ
（０．６７モル）を常温で１時間かけて徐々に加えた。
反応物を５時間加熱還流した後、氷水２ｋｇに入れ、Ｉ
Ｎ塩酸溶液を加えると有機層と水層が分離した。有機層
を塩化メチレンで抽出して炭酸ナトリウムで乾燥した。
Ｎ塩酸溶液を加えると有機層と水層が分離した。有機層
を塩化メチレンで抽出して炭酸ナトリウムで乾燥した。
炭酸ナトリウムを枦過した後、有機溶媒を減圧下で留去
して残った残渣を減圧蒸留（４４−４８℃／ ０ ．
３ ５ ｎ＋ｍＨｇ）すると粘性の固体８１．３６ｇ
（収率７７．４％）が得られた。
して残った残渣を減圧蒸留（４４−４８℃／ ０ ．
３ ５ ｎ＋ｍＨｇ）すると粘性の固体８１．３６ｇ
（収率７７．４％）が得られた。
ＮＭＲ（ＣＤＣｊｊ）ｐｐｍ： ７．０７−８．００
（３Ｈ，ｍ）， ２．６０（３Ｈ，ｓ）合成例２ ３
．４−ジフルオロ安息香酸３，４−ジフルオロアセトフ
ェノン７２ｇ（０．４６モル）を酢酸７００Ｎｌ、硫酸
４０〇一及び水３００ｍｌの混合液に入れた後、重クロ
ム酸ナトリウム３００ｇを徐々に加えた。反応混合物を
室温で１２時間反応させた後、氷４ｋｇと塩８００ｇの
混合物に入れ、酢酸エチルで有機物質を抽出した。酢酸
エチル溶液を飽和食塩水で３回洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥した。硫酸マグネシウムを炉過した後，有機溶媒
を留去して６８．８ｇ （収率９４％）の白色固体生成
物を得た。
（３Ｈ，ｍ）， ２．６０（３Ｈ，ｓ）合成例２ ３
．４−ジフルオロ安息香酸３，４−ジフルオロアセトフ
ェノン７２ｇ（０．４６モル）を酢酸７００Ｎｌ、硫酸
４０〇一及び水３００ｍｌの混合液に入れた後、重クロ
ム酸ナトリウム３００ｇを徐々に加えた。反応混合物を
室温で１２時間反応させた後、氷４ｋｇと塩８００ｇの
混合物に入れ、酢酸エチルで有機物質を抽出した。酢酸
エチル溶液を飽和食塩水で３回洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥した。硫酸マグネシウムを炉過した後，有機溶媒
を留去して６８．８ｇ （収率９４％）の白色固体生成
物を得た。
ｍ．ｐ．： １１８−１２１ ℃
ＮＭＲ（ＣＤＣｊ３）ｐｐｍ： １２．８（ＩＨ，ｓ）
， ７．１０−８．１６（３Ｈ，ｍ）ＩＲ（ＫＢｒ）：
１６７０， １５９５， １５１０． １４３５ｃｍ
−’合成例３ ３．４−ジフルオロ安息香酸水４００−
に水酸化ナトリウム５０ｇを溶解した後、−５℃に冷却
し、これに臭素５０．９ｇ（０．３２モル）をＯ℃以下
で徐々に加えて次亜臭素酸ナトリウム水溶液を調製した
。３．４−ジフルオロアセトフエノン１５．６ｇ （０
．１モル）をジオキサン３００Ｎｌに溶解した後、０℃
に冷却した。次亜臭素酸ナトリウム水溶液を徐々に加え
た後、ｌＯ℃で２０分間撹拌した。反応物に塩化メチレ
ンを加えて有機層と水層を分離した後、水層に塩酸を加
えて水溶液のｐＨを１に合せた。酢酸エチルで有機物質
を抽出した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。
， ７．１０−８．１６（３Ｈ，ｍ）ＩＲ（ＫＢｒ）：
１６７０， １５９５， １５１０． １４３５ｃｍ
−’合成例３ ３．４−ジフルオロ安息香酸水４００−
に水酸化ナトリウム５０ｇを溶解した後、−５℃に冷却
し、これに臭素５０．９ｇ（０．３２モル）をＯ℃以下
で徐々に加えて次亜臭素酸ナトリウム水溶液を調製した
。３．４−ジフルオロアセトフエノン１５．６ｇ （０
．１モル）をジオキサン３００Ｎｌに溶解した後、０℃
に冷却した。次亜臭素酸ナトリウム水溶液を徐々に加え
た後、ｌＯ℃で２０分間撹拌した。反応物に塩化メチレ
ンを加えて有機層と水層を分離した後、水層に塩酸を加
えて水溶液のｐＨを１に合せた。酢酸エチルで有機物質
を抽出した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。
硫酸マグネシウムを枦過した後、有機溶媒を留去すると
１４．２ｇ（収率９０％）の白色固体が得られた。
１４．２ｇ（収率９０％）の白色固体が得られた。
実施例１ ４．５−ジフルオロ−２−ニトロ安息香酸
３．４−ジフルオロ安息香酸１４０ｇ
（０．８９モル）に９５％硫酸５００１ｄを加えた後、
Ｏ℃に冷却させた。次いで、これに７０％硝酸６５Ｒｌ
と９５％硫酸７０ｍｌとの混合液を反応物の温度を５℃
以下に維持しながら徐々に滴下した。常温で３０分間反
応物を撹拌した後、冷却水を加えると固体沈殿物が生成
した。固体沈殿物を？戸過した後、水で３回洗い、乾燥
して１６４ｇ（収率９２％）の固体を得た。
Ｏ℃に冷却させた。次いで、これに７０％硝酸６５Ｒｌ
と９５％硫酸７０ｍｌとの混合液を反応物の温度を５℃
以下に維持しながら徐々に滴下した。常温で３０分間反
応物を撹拌した後、冷却水を加えると固体沈殿物が生成
した。固体沈殿物を？戸過した後、水で３回洗い、乾燥
して１６４ｇ（収率９２％）の固体を得た。
ｍ．ｐ．： １６２−ｆ６４℃
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ）ｐｐｍ： １３．６（ＬＨ，
ｓ）， ７．８５−８．５（２Ｈ，ｍ）ＩＲ（ＫＢｒ）
： １６９０， １５１０． １４１０ｃｍ−’Ｃ，Ｈ
！Ｆ．ＮＯ．に対する分析 計算値： Ｃ ４１．３９， Ｈ １．４９， Ｎ ６
．９０実測値： Ｃ ４１．４２， Ｈ １．４７，
Ｎ ６．８６合成例４ ３．４−ジクロロアセトフエノ
ン１．２−ジクロロベンゼン３９１ｇ （２．６６モル
）と塩化アルミニウム４５０ｇ （３．３７モル）とを
二硫化炭素２００１Ｒｌに入れて撹拌した後、塩化アセ
チル１３２ｇ（１．６９モル）を常温で１時間かけて徐
々に滴下した。反応混合物をｌ５時間加熱還流させた後
、氷２ｋｇを加え、ＩＮ塩酸ｌＯ〇一を加えて有機層と
水層に分離した。
ｓ）， ７．８５−８．５（２Ｈ，ｍ）ＩＲ（ＫＢｒ）
： １６９０， １５１０． １４１０ｃｍ−’Ｃ，Ｈ
！Ｆ．ＮＯ．に対する分析 計算値： Ｃ ４１．３９， Ｈ １．４９， Ｎ ６
．９０実測値： Ｃ ４１．４２， Ｈ １．４７，
Ｎ ６．８６合成例４ ３．４−ジクロロアセトフエノ
ン１．２−ジクロロベンゼン３９１ｇ （２．６６モル
）と塩化アルミニウム４５０ｇ （３．３７モル）とを
二硫化炭素２００１Ｒｌに入れて撹拌した後、塩化アセ
チル１３２ｇ（１．６９モル）を常温で１時間かけて徐
々に滴下した。反応混合物をｌ５時間加熱還流させた後
、氷２ｋｇを加え、ＩＮ塩酸ｌＯ〇一を加えて有機層と
水層に分離した。
有機層を塩化メチレンで抽出し、炭酸ナトリウムで乾燥
した。炭酸ナトリウムを炉過した後、有機溶媒を減圧下
で留去した残渣に石油エーテル７００−を入れて０℃に
維持すると白色固体沈殿が生成した。白色固体を炉過し
、乾燥して３１５ｇ（収率９８％）の生成物を得た。
した。炭酸ナトリウムを炉過した後、有機溶媒を減圧下
で留去した残渣に石油エーテル７００−を入れて０℃に
維持すると白色固体沈殿が生成した。白色固体を炉過し
、乾燥して３１５ｇ（収率９８％）の生成物を得た。
ｎ＋．ｐ．： ７５−７６℃
ＮＭＲ（ＣＤ（Ｊ３）ｐｐｍ： ７．４−８．１（３Ｈ
，ｍ）， ２．６（３Ｈ，ｓ）合成例５ ４．５−ジク
ロロ−２−ニトロアセトフェノン ３．４−ジクロロアセトフェノン１ ２０ｇ（０．６３
モル）を無水硝酸５００１１ｌにＯ℃で加えた後、常温
で２分間反応させた。反応物に２ｋｇの氷を加えると結
晶が生成した。結晶を炉過した後、エタノールで再結晶
してｌｌ７ｇ（収率７９％）の固体生成物を得た。
，ｍ）， ２．６（３Ｈ，ｓ）合成例５ ４．５−ジク
ロロ−２−ニトロアセトフェノン ３．４−ジクロロアセトフェノン１ ２０ｇ（０．６３
モル）を無水硝酸５００１１ｌにＯ℃で加えた後、常温
で２分間反応させた。反応物に２ｋｇの氷を加えると結
晶が生成した。結晶を炉過した後、エタノールで再結晶
してｌｌ７ｇ（収率７９％）の固体生成物を得た。
ｍ．ｐ．： １００−１０１ ℃
ＮＭＲ（ＣＤＣｇｓ）ｐｌ）ｍ： ８．２（１８，ｓ）
， ７．５３（ＬＨ，ｓｌ．２． ５３ （３Ｈ， ｓ
） ＩＲ（ＫＢｒ）： １７００， １５１０． １３３５
ｃｍ−’合成例６ ４−クロロ−５−フルオロ−２−ニ
トロアセトフェノン ４．５−ジクロロ−２−ニトロアセトフェノン３２．８
ｇ （０．１４モル）をジメチルスルホキシド１５０−
に溶解し、充分乾燥したフッ化カリウム４０ｇ （０．
６９モル）を入れて窒素状態下で１時間加熱還流させた
。飽和食塩水５００−を入れ、有機物質を酢酸エチルで
抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネ
シウムをｉ戸過した後、枦液を減圧下で濃縮し、残渣を
イソブロビルエーテルで再結晶して９．８ｇ （収率４
５％）の固体生成物を得た。
， ７．５３（ＬＨ，ｓｌ．２． ５３ （３Ｈ， ｓ
） ＩＲ（ＫＢｒ）： １７００， １５１０． １３３５
ｃｍ−’合成例６ ４−クロロ−５−フルオロ−２−ニ
トロアセトフェノン ４．５−ジクロロ−２−ニトロアセトフェノン３２．８
ｇ （０．１４モル）をジメチルスルホキシド１５０−
に溶解し、充分乾燥したフッ化カリウム４０ｇ （０．
６９モル）を入れて窒素状態下で１時間加熱還流させた
。飽和食塩水５００−を入れ、有機物質を酢酸エチルで
抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネ
シウムをｉ戸過した後、枦液を減圧下で濃縮し、残渣を
イソブロビルエーテルで再結晶して９．８ｇ （収率４
５％）の固体生成物を得た。
ｍ，ｐ．： ７４−７６℃
ＮＭＲ（ＣＤ（Ｊ，）ｐｐｍ： ８．２３（１８，ｄｌ
， ７．２８（ＩＩ，ｄ），２．５７（３８，ｓ） ＩＲ（ＫＢｒ）： １６９５， １５２０． １３５０
ｃｍ−’合成例７ ４−クロロ−５−フルオロ−２−ニ
トロアセトフェノン ４．５−ジクロロー２−ニトロアセトフェノン２３．４
ｇ （０．１モル）にエチレングリコール９３ｇ （１
．５モル）、ベンゼン１００１ｄ及びｐ一トルエンスル
ホン酸１ｇを加え、ディンースタック装置下で４８時間
加熱還流させた後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５００
−を入れて酢酸エチルで有機層を抽出した。有機溶媒を
炭酸ナトリウムで乾燥した後、？戸過して炉液を減圧下
で濃縮し、２６．４ｇ （収率９５％）のケタール化合
物を生成した。
， ７．２８（ＩＩ，ｄ），２．５７（３８，ｓ） ＩＲ（ＫＢｒ）： １６９５， １５２０． １３５０
ｃｍ−’合成例７ ４−クロロ−５−フルオロ−２−ニ
トロアセトフェノン ４．５−ジクロロー２−ニトロアセトフェノン２３．４
ｇ （０．１モル）にエチレングリコール９３ｇ （１
．５モル）、ベンゼン１００１ｄ及びｐ一トルエンスル
ホン酸１ｇを加え、ディンースタック装置下で４８時間
加熱還流させた後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５００
−を入れて酢酸エチルで有機層を抽出した。有機溶媒を
炭酸ナトリウムで乾燥した後、？戸過して炉液を減圧下
で濃縮し、２６．４ｇ （収率９５％）のケタール化合
物を生成した。
ｍ．ｐ．： ６５−６８℃
ＮＭＲ（ＣＤＣｆｆｉ３）ｐｐｍ： ７．６５（ＬＨ，
ｓ）， ７．４５（ＬＨ，ｓ），３．８３−４．１７
（２Ｈ，ｍ） ，３．５０−３．８３（２Ｈ，ｍ），
１．８（３Ｈ，ｓ）ＩＲ（ＫＢｒ）： １５３０， １
３６５ｃｍ−’そのケタール化合物２６ｇ （０．０９
４モル）をジメチルスルホキシドｌ００１Ｒｌに入れ、
充分乾燥したフッ化カリウム２７ｇ （０．４７モル）
を入れて窒素状態下で１時間加熱還流させた。溶媒を減
圧下で留去した後、残渣に７０％燐酸水溶液ｆｏｏｄを
加えて２時間加熱還流させた。水２００ｄを注ぎ、有機
物質を酢酸エチルで抽出して減圧下で溶媒を留去し、残
渣をイソブロビルエーテルで再結晶して１２．７ｇ（収
率６２％）の固体生成物を得た。
ｓ）， ７．４５（ＬＨ，ｓ），３．８３−４．１７
（２Ｈ，ｍ） ，３．５０−３．８３（２Ｈ，ｍ），
１．８（３Ｈ，ｓ）ＩＲ（ＫＢｒ）： １５３０， １
３６５ｃｍ−’そのケタール化合物２６ｇ （０．０９
４モル）をジメチルスルホキシドｌ００１Ｒｌに入れ、
充分乾燥したフッ化カリウム２７ｇ （０．４７モル）
を入れて窒素状態下で１時間加熱還流させた。溶媒を減
圧下で留去した後、残渣に７０％燐酸水溶液ｆｏｏｄを
加えて２時間加熱還流させた。水２００ｄを注ぎ、有機
物質を酢酸エチルで抽出して減圧下で溶媒を留去し、残
渣をイソブロビルエーテルで再結晶して１２．７ｇ（収
率６２％）の固体生成物を得た。
実施例２ ４−クロロ−５−フル才ロー２−ニトロ安息
香酸 ４−クロロ−５−フル才ロー２−ニトロアセトフェノン
Ｌｏｇ （０．０４６モル）を酢酸８〇一，硫酸４〇一
及び水３０Ｎ１の混合液に入れた後、重クロム酸ナトリ
ウム３０ｇを徐々に加えて１５時間室温で撹拌した。冷
却水５００−を加え、酢酸エチルで有機物質を抽出した
後、有機層を水で二回、飽和食塩水で一回洗浄した。有
機溶媒を硫酸マグネシウムで乾燥し、炉液を濃縮し、残
渣をイソブロビルエーテルと石油エーテルの混合液（容
量比１：ｌ）で再結晶し、８．６８ｇ（収率８６％）の
固体生成物を得た。
香酸 ４−クロロ−５−フル才ロー２−ニトロアセトフェノン
Ｌｏｇ （０．０４６モル）を酢酸８〇一，硫酸４〇一
及び水３０Ｎ１の混合液に入れた後、重クロム酸ナトリ
ウム３０ｇを徐々に加えて１５時間室温で撹拌した。冷
却水５００−を加え、酢酸エチルで有機物質を抽出した
後、有機層を水で二回、飽和食塩水で一回洗浄した。有
機溶媒を硫酸マグネシウムで乾燥し、炉液を濃縮し、残
渣をイソブロビルエーテルと石油エーテルの混合液（容
量比１：ｌ）で再結晶し、８．６８ｇ（収率８６％）の
固体生成物を得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）！）Ｉ）ｍ： ８．３３−８
．４５（ＩＨ，ｄ），７．８３−８．００（ＩＨ，ｄ） ＣｔＨｓＦＣＩＮＯｓに対する分析 計算値： Ｃ ３ｇ．２８， Ｈ １．３８， Ｎ ６
．３８実測値： Ｃ ３８．２０， Ｈ １．４２，
Ｎ ６．２９実施例３ ４．５−ジフルオ口−２−ニ
トロベンゾイル酢酸エチル ４．５−ジフル才ロ−２−ニトロ安息香酸７１．６ｇ
（０．３８モル）を塩化チオニル１３０１Ｉ＃ｌに入れ
て５時間加熱還流させた。塩化チオニルを留去し、残渣
を減圧蒸留（９０−９２℃／ １ ． ７ ｍｍＨｇ）
シて７９．０３ｇ （収率９３％）の４．５−ジフル
オロ−２−二トロベンゾイルクロリドを得た。この化合
物をテトラヒドロフラン１５０−に溶解し、マグネシウ
ム８．６ｇ、エタノール６０１１ｌ、エーテル９〇一及
び四塩化炭素３Ｍ１の混合液にマロン酸ジエチル５５ｙ
ｄを加えて２時間加熱還流した混合液に０℃で徐々に滴
下した。常温で反応物を２時間撹拌した後、溶媒を留去
して塩化メチレン１℃を入れ、ＩＮ塩酸を入れて水溶液
のｐ｝Ｉを１とした後、有機層を分離した。
．４５（ＩＨ，ｄ），７．８３−８．００（ＩＨ，ｄ） ＣｔＨｓＦＣＩＮＯｓに対する分析 計算値： Ｃ ３ｇ．２８， Ｈ １．３８， Ｎ ６
．３８実測値： Ｃ ３８．２０， Ｈ １．４２，
Ｎ ６．２９実施例３ ４．５−ジフルオ口−２−ニ
トロベンゾイル酢酸エチル ４．５−ジフル才ロ−２−ニトロ安息香酸７１．６ｇ
（０．３８モル）を塩化チオニル１３０１Ｉ＃ｌに入れ
て５時間加熱還流させた。塩化チオニルを留去し、残渣
を減圧蒸留（９０−９２℃／ １ ． ７ ｍｍＨｇ）
シて７９．０３ｇ （収率９３％）の４．５−ジフル
オロ−２−二トロベンゾイルクロリドを得た。この化合
物をテトラヒドロフラン１５０−に溶解し、マグネシウ
ム８．６ｇ、エタノール６０１１ｌ、エーテル９〇一及
び四塩化炭素３Ｍ１の混合液にマロン酸ジエチル５５ｙ
ｄを加えて２時間加熱還流した混合液に０℃で徐々に滴
下した。常温で反応物を２時間撹拌した後、溶媒を留去
して塩化メチレン１℃を入れ、ＩＮ塩酸を入れて水溶液
のｐ｝Ｉを１とした後、有機層を分離した。
有＃！層を２％炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水
とで洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧して溶
媒を留去し、残渣を水２５０−に入れてｐ−トルエンス
ルホン酸０．５ｇを加えて２時間かけて加熱還流させた
。この反応物にＩＮ塩酸ｌ００−を加え、有機物を酢酸
エチルで抽出し、２％炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マ
グネシウムを炉過した後、炉液を減圧蒸留して残渣をイ
ソブロビルエーテルで再結晶すると９５．１ｇ（収率９
８％）の固体化合物が生成した。
とで洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧して溶
媒を留去し、残渣を水２５０−に入れてｐ−トルエンス
ルホン酸０．５ｇを加えて２時間かけて加熱還流させた
。この反応物にＩＮ塩酸ｌ００−を加え、有機物を酢酸
エチルで抽出し、２％炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マ
グネシウムを炉過した後、炉液を減圧蒸留して残渣をイ
ソブロビルエーテルで再結晶すると９５．１ｇ（収率９
８％）の固体化合物が生成した。
ＮＭＲ（ＣＤＣｆｆｉ３）ｐｐｍ： ８．０−８．３７
（ＩＨ，ｍｌ．７．３３−７．６７ （ＩＨ，ｍ）， ５．４３（２Ｈ １／７，ｓ）． ４． ０−４． ２９ （２Ｈ， ９） ，３．９４（
２Ｈ ６／７，ｓ）， １．１３−１．５０（３Ｈ，ｔ） ＩＲ（ＫＢｒ）： １７２０， １５３５， １４１０
． １３４５ｃｍ−’実施例４ ４．５−ジフルオロ−
２−ニトロベンゾイル酢酸エチル ４．５−ジフルオ口−２−ニトロ安息香酸３８．８ｇ
（０．１９モル）を三塩化リン２６ｇ（０．１９モル）
に入れて９０℃で２時間撹拌した。三塩化リンを留去し
、実施例３の方法に従ってマロン酸ジエチルと反応させ
て９５％の収率で生成物を得た。
（ＩＨ，ｍｌ．７．３３−７．６７ （ＩＨ，ｍ）， ５．４３（２Ｈ １／７，ｓ）． ４． ０−４． ２９ （２Ｈ， ９） ，３．９４（
２Ｈ ６／７，ｓ）， １．１３−１．５０（３Ｈ，ｔ） ＩＲ（ＫＢｒ）： １７２０， １５３５， １４１０
． １３４５ｃｍ−’実施例４ ４．５−ジフルオロ−
２−ニトロベンゾイル酢酸エチル ４．５−ジフルオ口−２−ニトロ安息香酸３８．８ｇ
（０．１９モル）を三塩化リン２６ｇ（０．１９モル）
に入れて９０℃で２時間撹拌した。三塩化リンを留去し
、実施例３の方法に従ってマロン酸ジエチルと反応させ
て９５％の収率で生成物を得た。
実施例５ ４．５−ジフルオ口−２−二トロベンゾイ
ル酢酸エチル ４．５−ジフルオロ−２−ニトロ安息香酸２０．４ｇ
（０．１モル）を五塩化リン２０，８ｇ（０．１モル）
に入れ、徐々に温度を上昇して６０℃で１時間撹拌した
。反応物を減圧蒸留（９０−９２℃／ １ ． ７ ｍ
ｍＨｇ） Ｌ、実施例３の方法に従ってマロン酸ジエチ
ルと反応させて９２％の収率で生成物を得た。
ル酢酸エチル ４．５−ジフルオロ−２−ニトロ安息香酸２０．４ｇ
（０．１モル）を五塩化リン２０，８ｇ（０．１モル）
に入れ、徐々に温度を上昇して６０℃で１時間撹拌した
。反応物を減圧蒸留（９０−９２℃／ １ ． ７ ｍ
ｍＨｇ） Ｌ、実施例３の方法に従ってマロン酸ジエチ
ルと反応させて９２％の収率で生成物を得た。
Ｃ．，Ｈ．Ｆ２ＮＯ８に対する分析
計算値： Ｃ ４８．３６， Ｈ ３．３２， Ｎ ５
．１３実測値： Ｃ ４８．２９， Ｈ ３．４０，
Ｎ ５．１０実施例６ ４．５−ジフルオロ−２−ニト
ロベンゾイル酢酸メチル ４．５−ジフルオロ−２−ニトロ安息香酸を実施例３の
方法に従ってマロン酸ジメチルと反応させて９５％の収
率で生成物を得た。
．１３実測値： Ｃ ４８．２９， Ｈ ３．４０，
Ｎ ５．１０実施例６ ４．５−ジフルオロ−２−ニト
ロベンゾイル酢酸メチル ４．５−ジフルオロ−２−ニトロ安息香酸を実施例３の
方法に従ってマロン酸ジメチルと反応させて９５％の収
率で生成物を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｊｓ）ｐｐｍ： ８．２３（Ｉ｝Ｉ．ｍ
）， ７、５０｛Ｉ｝Ｉ，ｍ）．５．４０（２Ｈ ｌ／
７，ｓ）， ４．１５（３Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ
６／７，ｓｌ 実施例７ ４．５−ジフルオロ−２−ニトロベンゾイル
酢酸イソプロビル ４．５−ジフルオロ−２−ニトロ安息香酸を実施例３の
方法に従ってマロン酸ジイソプロビルと反応させて９０
％の収率で固体生成物を得た。
）， ７、５０｛Ｉ｝Ｉ，ｍ）．５．４０（２Ｈ ｌ／
７，ｓ）， ４．１５（３Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ
６／７，ｓｌ 実施例７ ４．５−ジフルオロ−２−ニトロベンゾイル
酢酸イソプロビル ４．５−ジフルオロ−２−ニトロ安息香酸を実施例３の
方法に従ってマロン酸ジイソプロビルと反応させて９０
％の収率で固体生成物を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｊｓ）ｐｐｍ： ８．１９（ＬＨ，ｍ）
， ７．４９（ＩＨ，ｍ），５．４０（２Ｈ １／７，
ｓ）． ４．２２（ＩＨ，ｍｌ，３．９３（２８ ６／
７，ｓ）， １．３６（６Ｈ，ｄ）実施例８ ４−クロ
ロ−５−フル才ロー２−二トロベンゾイル酢酸エチル ４−クロロ−５−フル才ロー２−ニトロ安息香酸を実施
例３の方法に従ってマロン酸ジエチルと反応させて９２
％収率の固体生成物を得た。
， ７．４９（ＩＨ，ｍ），５．４０（２Ｈ １／７，
ｓ）． ４．２２（ＩＨ，ｍｌ，３．９３（２８ ６／
７，ｓ）， １．３６（６Ｈ，ｄ）実施例８ ４−クロ
ロ−５−フル才ロー２−二トロベンゾイル酢酸エチル ４−クロロ−５−フル才ロー２−ニトロ安息香酸を実施
例３の方法に従ってマロン酸ジエチルと反応させて９２
％収率の固体生成物を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｊｓ）ｐＩ）ｍ： ８．１９−８．３６
（ＬＨ，ｄ）．７． ２３−７．４９ （ＬＨ， ｄ）
．３．９０−４．４０（２＋ｆ，ｑ）． ３．８６（
２Ｈ．ｓｌ，１．０６−１．４８（３Ｈ，ｔ） ［発明の効果］ 本発明によれば、強力な抗菌作用を示すキノロン誘導体
の合成中間体として有用な新規なベンゾイル酢酸誘導体
を提供することができる。
（ＬＨ，ｄ）．７． ２３−７．４９ （ＬＨ， ｄ）
．３．９０−４．４０（２＋ｆ，ｑ）． ３．８６（
２Ｈ．ｓｌ，１．０６−１．４８（３Ｈ，ｔ） ［発明の効果］ 本発明によれば、強力な抗菌作用を示すキノロン誘導体
の合成中間体として有用な新規なベンゾイル酢酸誘導体
を提供することができる。
Claims (7)
- （１）次式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒは低級アルキル基、アラルキル基又は水素原
子を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わす。） で示されるベンゾイル酢酸誘導体。 - （２）次式（IX）： ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） （式中、Ｘ及びＸ′はハロゲン原子を表わ す。） で示される４，５−ジハロ−２−ニトロベンゾイルハラ
イドを、金属アルコキシドの存在下に、次式：ＣＨ＿２
（ＣＯＯＲ′）＿２ （式中、Ｒ′は低級アルキル基又はアラルキル基を表わ
す。） で示されるマロン酸ジエステルと反応させ、必要に応じ
て加水分解することを特徴とする請求項１記載のベンゾ
イル酢酸誘導体の製造方法。 - （３）次式（IX′）： ▲数式、化学式、表等があります▼（IX′） （式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。） で示される４，５−ジハロ−２−ニトロ安息香酸をハロ
ゲン化剤で処理することにより得た前記式（IX）で示さ
れる４，５−ジハロ−２−ニトロベンゾイルロライドを
用いる請求項２記載の製造方法。 - （４）前記式（IX′）で示される４，５−ジハロ−２−
ニトロ安息香酸。 - （５）３，４−ジフルオロ安息香酸を硝酸と硫酸との混
酸又は濃硝酸でニトロ化することを特徴とする４，５−
ジフルオロ−２−ニトロ安息香酸の製造方法。 - （６）４−クロロ−５−フルオロ−２−ニトロアセトフ
ェノンを酸化剤で処理することを特徴とする４−クロロ
−５−フルオロ−２−ニトロ安息香酸の製造方法。 - （７）４，５−ジクロロ−２−ニトロアセトフェノンを
、必要に応じてエチレングリコールでケタール化した後
、極性溶媒の存在下に金属フッ化物で処理して得た４−
クロロ−５−フルオロ−２−ニトロアセトフェノンを用
いる請求項６記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03101642A true JPH03101642A (ja) | 1991-04-26 |
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