JPH09255781A - 新規なエピスルフィド化合物 - Google Patents

新規なエピスルフィド化合物

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JPH09255781A
JPH09255781A JP9006790A JP679097A JPH09255781A JP H09255781 A JPH09255781 A JP H09255781A JP 9006790 A JP9006790 A JP 9006790A JP 679097 A JP679097 A JP 679097A JP H09255781 A JPH09255781 A JP H09255781A
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acid
bis
episulfide compound
episulfide
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JP9006790A
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English (en)
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Shoichi Ametani
章一 雨谷
Masanori Shimuta
正則 紫牟田
Nobuyuki Uemura
伸幸 植村
Motoharu Takeuchi
基晴 竹内
Yutaka Horikoshi
裕 堀越
Kenichi Takahashi
健一 高橋
Minoru Ohashi
稔 大橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 新規なエピスルフィド化合物及びそれを硬化
重合した高い屈折率とアッベ数を有する光学材料を提供
する。 【解決手段】 (1)式で表される構造を2個以上有す
る化合物およびそれを重合して得られる光学材料。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明のエピスルフィド化合物
は、プラスチックレンズ、プリズム 、光ファイバー、
情報記録基盤、フィルター等の光学材料、中でも、眼鏡
用プラスチックレンズの原料として好適に使用される。
【0002】
【従来の技術】プラスチック材料は軽量かつ靱性に富
み、また染色が容易であることから、各種光学材料、特
に眼鏡レンズに近年多用されている。従来技術における
初期の代表的なプラスチック材料は、ジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート、該ビスアリルカーボネー
トとジアリルフタレート、各種メタクリレート類等の化
合物を重合して得られるものであった。これらは、屈折
率が1.5から1.55程度でありこのためレンズの肉
厚が厚くなり、結果として軽量性が失われていた。この
ため、高屈折率を有する材料が望まれ、屈折率を1.6
あるいはこれ以上とする種々の努力がこれまでになされ
てきた。既にクロル、ブロム原子を含むメタクリレート
化合物の重合体、ブロム原子を含むヒドロキシ化合物と
イソシアネート化合物との反応により得られるウレタン
構造を有する熱硬化型光学材料(特開昭58−1646
15号公報等)が提案されている。しかしながら、クロ
ル、ブロム原子を含む化合物を用いた場合は比重が大と
なり、この場合も軽量性が損なわれる結果となった。こ
のため、ポリチオール化合物とポリイソシアネート化合
物との反応により得られるチオウレタン構造を有する熱
硬化型光学材料が特公平4−58489号公報、特開平
5−148340号公報に提案されている。
【0003】またこれらのチオウレタンの原料となる新
規なポリチオール化合物も種々提案されている。すなわ
ち、特開平5−148340号公報には一分子中に硫黄
原子を4個有する分岐型ポリチオール化合物が、特開平
2−270859号公報には一分子中に硫黄原子を5個
有する分岐型ポリチオール化合物が、特開平6−192
250号公報には分子中にジチアン環構造有するポリチ
オール化合物が提案されている。さらには、公知のアミ
ン系エポキシ樹脂、フェノール系エポキシ樹脂、アルコ
ール系エポキシ樹脂、不飽和化合物系エポキシ樹脂、グ
リシジルエステル系エポキシ樹脂、ウレタン系エポキシ
樹脂、脂環式エポキシ樹脂等エポキシ化合物のエポキシ
基の一部または全部をエピスルフィド基に変換した化合
物を用いたレンズ材料の製造方法が特開平3−8132
0号公報に提案されている。ポリチオール化合物とポリ
イソシアネート化合物より得られる、チオウレタン樹脂
レンズは、最大1.66程度の屈折率が可能となった。
しかしながら、公知のエポキシ樹脂から誘導されるエピ
スルフィド化合物より得られるエピスルフィド樹脂レン
ズは屈折率1.6程度が限界であった。いずれにして
も、これら従来技術の含硫黄化合物により、より薄い肉
厚、軽量化の問題はある程度解決されたが、さらに高い
屈折率が望ましいことは言うまでもない。一方、光学材
料に要求されるもう一つの重要な性能として色収差が少
ないことが挙げられる。色収差はアッベ数が高い程良好
となるため高アッベ数材料が望まれる。すなわち、高屈
折率と高アッベ数の同時実現も望まれている。しかしな
がら、一般に、アッベ数は屈折率の上昇に伴い低下する
傾向を示し、従来のジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネートおよび、公知のエピスルフィド化合物さらに
はポリチオール化合物とポリイソシアネート化合物等の
従来技術の化合物を原料とするプラスチック材料では、
屈折率1.5から1.55の場合アッベ数は約50から
55が、屈折率1.60の場合40、屈折率1.66の
場合32程度が限界であった。一方、耐熱性の改良に関
しても、多官能化合物、架橋剤の使用による改良が種々
試みられてはいる。しかしながら、一般に、高屈折率発
現のためには、原料硫黄化合物の分子量が大となり、こ
のため架橋密度が低下する。また、さらに高アッベ数発
現のためには、アルキル基含有量が増加し、このため原
料化合物を構成する分子の剛直性が低下し、結果とし
て、十分な耐熱性改良が得られていないのが現状であ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、薄い肉厚および低い色収差さらには高い耐
熱性を同時に有する光学材料を見いだすことにある。従
来技術により得られるポリチオール化合物とイソシアネ
ート化合物により得られる硬化樹脂に代表される光学材
料では、高屈折率化には限界があり、さらに、高屈折率
化はアッベ数の低下をもたらし、以上の光学特性の改良
は耐熱性の低下をきたし、このため、十分に高い屈折率
とアッベ数のバランスが得られないことの三点にあっ
た。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、(1)
式で表される構造を2個以上有すると共に、環状骨格を
有するエピスルフィド化合物および分岐アルキルスルフ
ィド型エピスルフィド化合物により解決された。
【化3】 (1)式で表される構造を2個以上有すると共に、環状
骨格を有するエピスルフィド化合物は、具体的には、 (a)環状骨格が、脂環族骨格であるエピスルフィド化
合物。 (b)環状骨格が、芳香族骨格であるエピスルフィド化
合物。 (c)環状骨格が、硫黄原子を異種原子とする複素環骨
格であるエピスルフィド化合物。 であり、さらにこれらの化合物は、分子内に、スルフィ
ド、エーテル、スルフィン、ケトン、エステル等の結合
を含んでも良い。
【0006】また、分岐アルキルスルフィド型エピスル
フィド化合物は、具体的には(2)式で表される化合物
である。
【化4】
【0007】(a)の脂環族骨格を有するエピスルフィ
ド化合物の好ましい具体的例示としては、1,3および
1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオ)シクロヘキ
サン、1,3および1,4−ビス(β−エピチオプロピ
ルチオメチル)シクロヘキサン、ビス〔4−(β−エピ
チオプロピルチオ)シクロヘキシル〕メタン、2,2−
ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)シクロヘキシ
ル〕プロパン、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチ
オ)シクロヘキシル〕スルフィド、2,5−ビス(β−
エピチオプロピルチオ)−1,4−ジチアン、2,5−
ビス(β−エピチオプロピルチオエチルチオメチル)−
1,4−ジチアン等を挙げることが出来る。
【0008】(b)の芳香族骨格を有するエピスルフィ
ド化合物の好ましい具体例としては、1,3および1,
4−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ベンゼン 1,3および1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオ
メチル)ベンゼン ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕メ
タン、2,2−ビス〔4−(β−エピチオプロピルチ
オ)フェニル〕プロパン、ビス〔4−(β−エピチオプ
ロピルチオ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(β−
エピチオプロピルチオ)フェニル〕スルフィン、4,4
−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ビフェニル等を挙
げることが出来る。
【0009】(c)の硫黄原子を異種原子とする複素環
骨格を有するエピスルフィド化合物として、(3)式で
表される構造を有するエピスルフィド化合物が挙げられ
る。
【化5】 (ここで、Epsは(4)式で表されるエピチオプロピ
ル基を表し、Yは−(CH2CH2S)−を表し、Zは
水素原子、炭素数1から5のアルキル基あるいは、−
(CH2)mSYnEpsを表し、Uは水素原子、炭素
数1から5のアルキル基を表す。mは1から5の整数を
表し、nは0から4の整数を表す)
【化6】 (ここに、XはSまたはOを表し、このSの個数は三員
環を構成するSとOの合計に対して平均で50%以上で
ある。) (3)式において、nは0から4の整数を表すが、好ま
しくは、0から3であり、より好ましくは、0から2で
あり、最も好ましくは0である。mは1から5の整数を
表すが、好ましくは1から4、より好ましくは1から
3、最も好ましくは1である。(4)式において、Xは
SまたはOを表すが、このSの個数は三員環を構成する
SとOの合計に対して平均でが50%以上であり、好ま
しくは80〜100%、より好ましくは90〜100
%、、特に好ましくは95〜100%である。最も好ま
しくは100%である。nが4より大きい場合重合硬化
して得られる光学材料の耐熱性が低下し光学材料として
使用に耐えなくなる。また、nが4以下の場合であって
も耐熱性的には小さいほうが有利であり、材料の柔軟性
からは大きい方が有利となる。mは4および5の場合、
硫黄含有量が低下し高屈折率が達成されず、さらに材料
の耐熱性が低下する。mが1の場合、屈折率、耐熱性的
には最も有利となる。(4)式において、X中のSの個
数は三員環を構成するSとOの合計に対して平均で80
%以下、特に50%以下の場合、硫黄含有量が低下し高
屈折率が達成されず、化合物の反応性低下に伴い高温条
件下での重合が必要となるため、材料に着色が生じる。
本発明の化合物およびこれを重合硬化して得られる光学
材料の性能は以上のように整数nとmおよびX中のSの
割合により決定される、しかしながら、好ましい具体例
等は、整数nとmを独立に上述の範囲にあてはめ決定さ
れない。好ましい例としては、n=0〜3の範囲でかつ
m=1〜4の範囲である化合物が挙げられる。これらの
なかでより好ましい例としては、n=0〜2の範囲で、
かつm=1〜3の範囲の化合物が挙げられる。これらの
なかで最も好ましい例としては、n=0で、かつm=1
の化合物が挙げられる。また、UはUは水素原子、炭素
数1から5のアルキル基のいずれでもかまわないが、屈
折率を高く保つためには水素原子が好ましい、Zもは水
素原子、炭素数1から5のアルキル基あるいは、−(C
H2)mSYnEpsのいずれでもかまわないが、高耐
熱性の観点からは架橋密度の高くなる−(CH2)mS
YnEpsが望ましいが、材料の柔軟性とのバランスを
考慮した場合水素原子が最も好ましい。
【0010】これらの中で具体例のいくつかを例示的に
以下に実際に示す。すなわち以下の2,5−ビス(β−
エピチオプロピルチオメチル)−1,4−ジチアン、
2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオエチルチオメ
チル)−1,4−ジチアン 、2,5−ビス(β−エピ
チオプロピルチオエチル)−1,4−ジチアン、2,
3、5−トリ(β−エピチオプロピルチオエチル)−
1,4−ジチアン等を挙げることができる。
【化7】
【化8】
【化9】
【化10】
【0011】分岐アルキルスルフィド型エピスルフィド
化合物の好ましい具体例としては、2−(2−β−エピ
チオプロピルチオエチルチオ)−1,3−ビス(β−エ
ピチオプロピルチオ)プロパン、1,2−ビス〔(2−
β−エピチオプロピルチオエチル)チオ〕−3−(β−
エピチオプロピルチオ)プロパン、テトラキス(β−エ
ピチオプロピルチオメチル)メタン、1,1,1−トリ
ス(β−エピチオプロピルチオメチル)プロパン等が挙
げられる。
【0012】本発明の目的に叶うものであらば、本発明
の硬化樹脂光学材料は(a)、(b)、(c)、分岐ア
ルキルスルフィド型エピスルフィド化合物のいずれか単
独でも、またこれらを混合共重合硬化したものであって
もかまわない。
【0013】本発明に使用される、(1)式で表される
構造を2個以上有すると共に、環状骨格を有するエピス
ルフィド化合物および分岐アルキルスルフィド型エピス
ルフィド化合物は、(a)、(b)、(c)、分岐アル
キルスルフィド型エピスルフィド化合物に対応するメル
カプト基を2個以上有する(5)式の化合物と、エピク
ロロヒドリンに代表されるエピハロヒドリンをアルカリ
存在下で反応させて、(6)式で表されるエポキシ基を
有する化合物を得、ついで、該エポキシ化合物を、チオ
シアン酸塩、チオ尿素、トリフェニルホスフィンスルフ
ィド、3−メチルベンゾチアゾール−2−チオン等のチ
ア化剤と、好ましくはチオシアン酸塩、チオ尿素と反応
させ製造される。
【化11】 〔(5)、(6)式においては、nは2以上の整数を表
す。Rは炭素数1から20の環状構造を有する化合物、
分岐状のアルキル基を表し、これらは、スルフィド、エ
ーテル、スルフォン、エステル、ケトン等の結合を基内
に含んでも良い。〕
【0014】(6)式で表されるエポキシ化合物の製法
において、エピハロヒドリン化合物として好ましいもの
はエピクロロヒドリンである。また、エピハロヒドリン
化合物は量論的には(5)式のメルカプタン化合物のメ
ルカプト基数に対応するモル数を使用するが、生成物の
純度、反応速度、経済性等を重視するのであれば、これ
以下でもこれ以上の量を使用してもかまわない。好まし
くは量論〜量論の5倍モル使用し反応する。より好まし
くは量論〜量論の2.5倍モルを使用し反応する。反応
は、無溶媒あるいは溶媒中のいずれでもかまわないが、
溶媒を使用するときは、エピハロヒドリンあるいは
(5)式のメルカプタン化合物あるいはメルカプタン化
合物の金属塩のいずれかが可溶のものを使用することが
望ましい。具体例としては、水、アルコール類、エーテ
ル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等があ
げられる。反応は量論以上の塩基の存在下において容易
に進行する。塩基としては、ピリジン、トリエチルアミ
ン、ジアザビシクロウンデセン等の三級アミン、アルカ
リまたはアルカリ土類金属の水酸化物等があげられる
が、好ましいものは、アルカリまたはアルカリ土類金属
の水酸化物であり、より好ましいものは、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等である。反応温度は通常0〜1
00℃で実施されるが、好ましくは0〜60℃である。
反応時間は上記の各種条件下で反応が完結する時間であ
ればかまわないが通常10時間以下が適当である。
【0015】(6)式で表されるエポキシ化合物より本
発明の新規なエピスルフィド化合物を製造する方法にお
いて、チア化剤としてチオシアン酸塩を使用する場合、
好ましいチオシアン酸塩は、アルカリまたはアルカリ土
類金属の塩であり、より好ましいものは、チオシアン酸
カリウム、チオシアン酸ナトリウムである。また、チア
化剤であるチオシアン酸塩、チオ尿素は量論的にはエポ
キシ化合物のエポキシ基数に対応するモル数を使用する
が、生成物の純度、反応速度、経済性等を重視するので
あれば、これ以下でもこれ以上の量を使用してもかまわ
ない。好ましくは量論〜量論の5倍モル使用し反応す
る。より好ましくは量論〜量論の2.5倍モルを使用し
反応する。反応は、無溶媒あるいは溶媒中のいずれでも
かまわないが、溶媒を使用するときは、チオシアン酸塩
あるいはチオ尿素さらには(6)式のエポキシ化合物い
ずれかが可溶のものを使用することが望ましい。具体例
としては、水、メタノール、エタノール等のアルコール
類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等のエーテル類;メチルセルソルブ、エチルセルソル
ブ、ブチルセルソルブ等のヒドロキシエーテル類;ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジク
ロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素類等があげられ、これらの併用使用、例え
ば、アルコール類と水の組み合わせ、エーテル類、ヒド
ロキシエーテル類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化
水素類とアルコール類の組み合わせ等は効果的な場合が
ある。また、反応液中に酸および酸無水物等を重合抑制
剤として添加することは、反応成績を上げる面から有効
な手段である。酸および酸無水物等の具体例としては、
硝酸、塩酸、硫酸、発煙硫酸、ホウ酸、ヒ酸、燐酸、青
酸、酢酸、過酢酸、チオ酢酸、蓚酸、酒石酸、プロピオ
ン酸、酪酸、コハク酸、マレイン酸、安息香酸、無水硝
酸、無水硫酸、酸化ホウ素、五酸化ヒ酸、五酸化燐、無
水クロム酸、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、
無水コハク酸、無水マレイン酸、無水安息香酸、無水フ
タル酸、シリカゲル、シリカアルミナ、塩化アルミニウ
ム等があげられ、これらのいくつかを併用することも可
能である。添加量は通常反応液総量に対して0.001
〜10wt%の範囲で用いられるが、好ましくは0.0
1〜1wt%である。反応温度は通常0〜100℃で実
施されるが、好ましくは20〜70℃である。反応時間
は上記の各種条件下で反応が完結する時間であればかま
わないが通常20時間以下が適当である。反応生成物は
酸性水溶液を用いた洗浄によって、得られる化合物を安
定性を向上せしめることが可能である。酸性水溶液に用
いる酸の具体例としては、硝酸、塩酸、硫酸、ホウ酸、
ヒ酸、燐酸、青酸、酢酸、過酢酸、チオ酢酸、蓚酸、酒
石酸、コハク酸、マレイン酸等があげられる。また、こ
れらは単独でも2種類以上を混合して用いても良い。こ
れらの酸の水溶液は通常pH6以下で効果を現すが、よ
り効果的な範囲はpH3から0の範囲である。
【0016】以上とは別の製法として、式(6)のエポ
キシ化合物に対応する式(7)の不飽和化合物を有機過
酸、アルキルヒドロペルオキサイド、過酸化水素等によ
る酸化により製造し、これを上述の方法により式(1)
で表される構造を2個以上有するエピスルフィド化合物
を製造する方法も挙げられる。 R(−SCH2CH=CH2)n (7) 〔(7)式において、Xは、塩素あるいは臭素原子を表
し、R、nは式(5)と同一の意味を有する〕
【0017】さらに、別法としては式(8)に示される
ハロメルカプタン化合物より脱ハロゲン化水素反応によ
り製造することも有力な方法である。ハロメルカプタン
は、上述の不飽和化合物と塩化イオウ類から、容易に合
成できることが知られている(例えば、F.Laute
nschlaergerら,J.Org.Chem.,
34,396(1969))。 R(−SCH2CHSHCH2X)n (8) 〔(8)式において、Xは、塩素あるいは臭素原子を表
し、R、nは式(5)と同一の意味を有する〕
【0018】本発明の新規なエピスルフィド化合物は、
硬化触媒存在下あるいは不存在下に、加熱重合し光学材
料等に有利な硬化樹脂を製造することができる。硬化樹
脂製造に好ましい方法は硬化触媒を使用する方法であ
り、硬化触媒はアミン類、フォスフィン類、鉱酸類、ル
イス酸類、有機酸類、ケイ酸類、四フッ化ホウ酸等が使
用される。具体例としては、 (1)エチルアミン、n−プロピルチオアミン、sec
−プロピルアミン、n−ブチルアミン、sec−ブチル
アミン、i−ブチルアミン、t−ブチルアミン、ペンチ
ルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチル
アミン、デシルアミン、ラウリルアミン、ミスチリルア
ミン、1,2−ジメチルヘキシルアミン、3−ペンチル
アミン、2−エチルヘキシルアミン、アリルアミン、ア
ミノエタノール、1−アミノプロパノール、2−アミノ
プロパノール、アミノブタノール、アミノペンタノー
ル、アミノヘキサノール、3−エトキシプロピルアミ
ン、3−プロポキシプロピルアミン、3−イソプロポキ
シプロピルアミン、3−ブトキシプロピルアミン、3−
イソブトキシプロピルアミン、3−(2−エチルヘキシ
ロキシ)プロピルアミン、アミノシクロペンタン、アミ
ノシクロヘキサン、アミノノルボルネン、アミノメチル
シクロヘキサン、アミノベンゼン、ベンジルアミン、フ
ェネチルアミン、α−フェニルエチルアミン、ナフチル
アミン、フルフリルアミン等の1級モノアミン;エチレ
ンジアミン、1,2−ジアミノプロパン、1,3−ジア
ミノプロパン、1,2−ジアミノブタン、1,3−ジア
ミノブタン、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミ
ノペンタン、1,6−ジアミノヘキサン、1,7−ジア
ミノヘプタン、1,8−ジアミノオクタン、ジメチルア
ミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、
ビス−(3−アミノプロピル)エーテル、1,2−ビス
−(3−アミノプロポキシ)エタン、1,3−ビス−
(3−アミノプロポキシ)−2,2’−ジメチルプロパ
ン、アミノエチルエタノールアミン、1,2−、1,3
−あるいは1,4−ビスアミノシクロヘキサン、1,3
−あるいは1,4−ビスアミノメチルシクロヘキサン、
1,3−あるいは1,4−ビスアミノエチルシクロヘキ
サン、1,3−あるいは1,4−ビスアミノプロピルシ
クロヘキサン、水添4,4’−ジアミノジフェニルメタ
ン、2−あるいは4−アミノピペリジン、2−あるいは
4−アミノメチルピペリジン、2−あるいは4−アミノ
エチルピペリジン、N−アミノエチルピペリジン、N−
アミノプロピルピペリジン、N−アミノエチルモルホリ
ン、N−アミノプロピルモルホリン、イソホロンジアミ
ン、メンタンジアミン、1,4−ビスアミノプロピルピ
ペラジン、o−、m−、あるいはp−フェニレンジアミ
ン、2,4−あるいは2,6−トリレンジアミン、2,
4−トルエンジアミン、m−アミノベンジルアミン、4
−クロロ−o−フェニレンジアミン、テトラクロロ−p
−キシリレンジアミン、4−メトキシ−6−メチル−m
−フェニレンジアミン、m−、あるいはp−キシリレン
ジアミン、1,5−あるいは、2,6−ナフタレンジア
ミン、ベンジジン、4,4’−ビス(o−トルイジ
ン)、ジアニシジン、4,4’−ジアミノジフェニルメ
タン、2,2−(4,4’−ジアミノジフェニル)プロ
パン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,
4’−チオジアニリン、4,4’−ジアミノジフェニル
スルホン、4,4’−ジアミノジトリルスルホン、メチ
レンビス(o−クロロアニリン)、3,9−ビス(3−
アミノプロピル)2,4,8,10−テトラオキサスピ
ロ[5,5]ウンデカン、ジエチレントリアミン、イミ
ノビスプロピルアミン、メチルイミノビスプロピルアミ
ン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエチレン
テトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレ
ンヘキサミン、N−アミノエチルピペラジン、N−アミ
ノプロピルピペラジン、1,4−ビス(アミノエチルピ
ペラジン)、1,4−ビス(アミノプロピルピペラジ
ン)、2,6−ジアミノピリジン、ビス(3,4−ジア
ミノフェニル)スルホン等の1級ポリアミン;ジエチル
アミン、ジプロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジ
−sec−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−n
−ペンチルアミン、ジ−3−ペンチルアミン、ジヘキシ
ルアミン、オクチルアミン、ジ(2−エチルヘキシル)
アミン、メチルヘキシルアミン、ジアリルアミン、ピロ
リジン、ピペリジン、2−、3−、4−ピコリン、2,
4−、2,6−、3,5−ルペチジン、ジフェニルアミ
ン、N−メチルアニリン、N−エチルアニリン、ジベン
ジルアミン、メチルベンジルアミン、ジナフチルアミ
ン、ピロール、インドリン、インドール、モルホリン等
の2級モノアミン;N,N’−ジメチルエチレンジアミ
ン、N,N’−ジメチル−1,2−ジアミノプロパン、
N,N’−ジメチル−1,3−ジアミノプロパン、N,
N’−ジメチル−1,2−ジアミノブタン、N,N’−
ジメチル−1,3−ジアミノブタン、N,N’−ジメチ
ル−1,4−ジアミノブタン、N,N’−ジメチル−
1,5−ジアミノペンタン、N,N’−ジメチル−1,
6−ジアミノヘキサン、N,N’−ジメチル−1,7−
ジアミノヘプタン、N,N’−ジエチルエチレンジアミ
ン、N,N’−ジエチル−1,2−ジアミノプロパン
、N,N’−ジエチル−1,3−ジアミノプロパン、
N,N’−ジエチル−1,2−ジアミノブタン、N,
N’−ジエチル−1,3−ジアミノブタン、N,N’−
ジエチル−1,4−ジアミノブタン、N,N’−ジエチ
ル−1,6−ジアミノヘキサン、ピペラジン、2−メチ
ルピペラジン、2,5−あるいは2,6−ジメチルピペ
ラジン、ホモピペラジン、1,1−ジ−(4−ピペリジ
ル)メタン、1,2−ジ−(4−ピペリジル)エタン、
1,3−ジ−(4−ピペリジル)プロパン、1,4−ジ
−(4−ピペリジル)ブタン、テトラメチルグアニジン
等の2級ポリアミン;トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−iso−プロ
ピルアミン、トリ−1,2−ジメチルプロピルアミン、
トリ−3−メトキシプロピルアミン、トリ−n−ブチル
アミン、トリ−iso−ブチルアミン、トリ−sec−
ブチルアミン、トリ−ペンチルアミン、トリ−3−ペン
チルアミン、トリ−n−ヘキシルアミン、トリ−n−オ
クチルアミン、トリ−2−エチルヘキシルアミン、トリ
ドデシルアミン、トリラウリルアミン、トリシクロヘキ
シルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、モノシク
ロヘキシルジエチルアミン、N,N−ジメチルヘキシル
アミン、N−メチルジヘキシルアミン、N,N−ジメチ
ルシクロヘキシルアミン、N−メチルジシクロヘキシル
アミン、トリエタノールアミン、N、N−ジエチルエタ
ノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、トリベ
ンジルアミン、N,N−ジメチルベンジルアミン、ジエ
チルベンジルアミン、トリフェニルアミン、N,N−ジ
メチルアミノ−p−クレゾール、N,N−ジメチルアミ
ノメチルフェノール、2−(N,N−ジメチルアミノメ
チル)フェノール、N,N−ジメチルアニリン、N,N
−ジエチルアニリン、ピリジン、キノリン、N−メチル
モルホリン、N−メチルピペリジン、2−(2−ジメチ
ルアミノエトキシ)−4−メチル−1,3,2−ジオキ
サボルナン等の3級モノアミン;テトラメチルエチレン
ジアミン、ピラジン、N,N’−ジメチルピペラジン、
N,N’−ビス((2−ヒドロキシ)プロピル)ピペラ
ジン、ヘキサメチレンテトラミン、N,N,N’,N’
−テトラメチル−1,3−ブタンアミン、2−ジメチル
アミノ−2−ヒドロキシプロパン、ジエチルアミノエタ
ノール、N,N,N−トリス(3−ジメチルアミノプロ
ピル)アミン、2,4,6−トリス(N,N−ジメチル
アミノメチル)フェノール、ヘプタメチルイソビグアニ
ド等の3級ポリアミン;イミダゾール、N−メチルイミ
ダゾール、2−メチルイミダゾール、4−メチルイミダ
ゾール、、N−エチルイミダゾール、2−エチルイミダ
ゾール、4−エチルイミダゾール、N−ブチルイミダゾ
ール、2−ブチルイミダゾール、N−ウンデシルイミダ
ゾール、2−ウンデシルイミダゾール、N−フェニルイ
ミダゾール、2−フェニルイミダゾール、N−ベンジル
イミダゾール、2−ベンジルイミダゾール、1−ベンジ
ル−2−メチルイミダゾール、N−(2’−シアノエチ
ル)−2−メチルイミダゾール、N−(2’−シアノエ
チル)−2−ウンデシルイミダゾール、N−(2’−シ
アノエチル)−2−フェニルイミダゾール、3,3−ビ
ス−(2−エチル−4−メチルイミダゾリル)メタン、
アルキルイミダゾールとイソシアヌール酸の付加物、ア
ルキルイミダゾールとホルムアルデヒドの縮合物等の各
種イミダゾール類;1,8−ジアザビシクロ(5,4,
0)ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ(4,
3,0)ノネン−5、6−ジブチルアミノ−1,8−ジ
アザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等のアミジ
ン類;以上に代表されるアミン系化合物。 (2)(1)のアミン類とハロゲン、鉱酸、ルイス酸、
有機酸、ケイ酸、四フッ化ホウ酸等との4級アンモニウ
ム塩。 (3)(1)のアミン類とボランおよび三フッ化ホウ素
とのコンプレックス。 (4)トリメチルフォスフィン、トリエチルフォスフィ
ン、トリ−iso−プロピルフォスフィン、トリ−n−
ブチルフォスフィン、トリ−n−ヘキシルフォスフィ
ン、トリ−n−オクチルフォスフィン、トリシクロヘキ
シルホスフィン、トリフェニルフォスフィン、トリベン
ジルホスフィン、トリス(2−メチルフェニル)ホスフ
ィン、トリス(3−メチルフェニル)ホスフィン、トリ
ス(4−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(ジエチ
ルアミノ)ホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)
ホスフィン、ジメチルフェニルフォスフィン、ジエチル
フェニルフォスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホス
フィン、エチルジフェニルフォスフィン、ジフェニルシ
クロヘキシルホスフィン、クロロジフェニルフォスフィ
ン等のフォスフィン類。 (5)塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、炭酸等の鉱酸類および
これらの半エステル類。 (6)3フッ化硼素、3フッ化硼素のエーテラート等に
代表されるルイス酸類。 (7)カルボン酸に代表される有機酸類およびこれらの
半エステル類。 等である。これらのなかで硬化物の着色が少なく好まし
いものは、1級モノアミン、2級モノアミン、3級モノ
アミン、3級ポリアミン、イミダゾール類、アミジン
類、4級アンモニウム塩、フォスフィン類である、より
好ましいものは、エピスルフィド基と反応し得る基を1
個以下有する、2級モノアミン、3級モノアミン、3級
ポリアミン、イミダゾール類、アミジン類、4級アンモ
ニウム塩、フォスフィン類である。また、これらは単独
でも2種類以上を混合して用いても良い。以上の硬化触
媒は、ジエピスルフィド化合物1モルに対して通常0.
0001モルから1.0モル使用する。
【0019】また、本発明の新規なエピスルフィド化合
物はエピスルフィド基と反応可能な官能基を2個以上有
する化合物あるいは、これらの官能基1個以上と他の単
独重合可能な官能基を1個以上有する化合物さらには、
エピスルフィド基と反応可能でかつ単独重合も可能な官
能基を1個有する化合物と硬化重合して光学材料を製造
することもできる。これらのエピスルフィド基と反応可
能な官能基を2個以上有する化合物としては、エポキシ
化合物、公知のエピスルフィド化合物、多価カルボン
酸、多価カルボン酸無水物、メルカプトカルボン酸、ポ
リメルカプタン、メルカプトアルコール、メルカプトフ
ェノール、ポリフェノール、アミン類、アミド類等があ
げられる。一方、エピスルフィド基と反応可能な官能基
1個以上と他の単独重合可能な官能基を1個以上有する
化合物としては、ビニル、芳香族ビニル、メタクリル、
アクリル、アリル等の不飽和基を有するエポキシ化合
物、エピスルフィド化合物、カルボン酸、カルボン酸無
水物、メルカプトカルボン酸、メルカプタン類、フェノ
ール類、アミン類、アミド類等があげられる。
【0020】以下にエピスルフィド基と反応可能な官能
基を2個以上有する化合物の具体例を示す。
【0021】エポキシ化合物の具体例としては、ヒドロ
キノン、カテコール、レゾルシン、ビスフェノールA、
ビスフェノールF、ビスフェノールスルフォン、ビスフ
ェノールエーテル、ビスフェノールスルフィド、ビスフ
ェノールスルフィド、ハロゲン化ビスフェノルA、ノボ
ラック樹脂等の多価フェノール化合物とエピハロヒドリ
ンの縮合により製造されるフェノール系エポキシ化合
物;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピ
レングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、1、3−プロパンジオール、1、4−
ブタンジオール、1、6−ヘキサンジオール、ネオペン
チルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、ペンタエリスリトール、1、3−
および1、4−シクロヘキサンジオール、1、3−およ
び1、4−シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェ
ノールA、ビスフェノールA・エチレンオキサイド付加
物、ビスフェノールA・プロピレンオキサイド付加物等
の多価アルコール化合物とエピハロヒドリンの縮合によ
り製造されるアルコール系エポキシ化合物;アジピン
酸、セバチン酸、ドデカンジカルボン酸、ダイマー酸、
フタル酸、イソ、テレフタル酸、テトラヒドロフタル
酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル
酸、ヘット酸、ナジック酸、マレイン酸、コハク酸、フ
マル酸、トリメリット酸、ベンゼンテトラカルボン酸、
ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ナフタリンジカルボ
ン酸、ジフェニルジカルボン酸等の多価カルボン酸化合
物とエピハロヒドリンの縮合により製造されるグリシジ
ルエステル系エポキシ化合物;エチレンジアミン、1,
2−ジアミノプロパン、1,3−ジアミノプロパン、
1,2−ジアミノブタン、1,3−ジアミノブタン、
1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、
1,6−ジアミノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタ
ン、1,8−ジアミノオクタン、ビス−(3−アミノプ
ロピル)エーテル、1,2−ビス−(3−アミノプロポ
キシ)エタン、1,3−ビス−(3−アミノプロポキ
シ)−2,2’−ジメチルプロパン、1,2−、1,3
−あるいは1,4−ビスアミノシクロヘキサン、1,3
−あるいは1,4−ビスアミノメチルシクロヘキサン、
1,3−あるいは1,4−ビスアミノエチルシクロヘキ
サン、1,3−あるいは1,4−ビスアミノプロピルシ
クロヘキサン、水添4,4’−ジアミノジフェニルメタ
ン、イソホロンジアミン、1,4−ビスアミノプロピル
ピペラジン、m−、あるいはp−フェニレンジアミン、
2,4−あるいは2,6−トリレンジアミン、m−、あ
るいはp−キシリレンジアミン、1,5−あるいは、
2,6−ナフタレンジアミン、4,4’−ジアミノジフ
ェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテ
ル、2,2−ビス(4,4’−ジアミノジフェニル)プ
ロパン等の一級ジアミン、N,N’−ジメチルエチレン
ジアミン、N,N’−ジメチル−1,2−ジアミノプロ
パン、N,N’−ジメチル−1,3−ジアミノプロパ
ン、N,N’−ジメチル−1,2 −ジアミノブタン、
N,N’−ジメチル−1,3−ジアミノブタン、N,
N’−ジメチル−1,4−ジアミノブタン、N,N’−
ジメチル−1,5−ジアミノペンタン、N,N’−ジメ
チル−1,6−ジアミノヘキサン、N,N’−ジメチル
−1,7−ジアミノヘプタン、N,N’−ジエチルエチ
レンジアミン、N,N’−ジエチル−1,2−ジアミノ
プロパン、N,N’−ジエチル−1,3−ジアミノプロ
パン、N,N’−ジエチル−1,2−ジアミノブタン、
N,N’−ジエチル−1,3−ジアミノブタン、N,
N’−ジエチル−1,4−ジアミノブタン、N,N’−
ジエチル−1,6−ジアミノヘキサン、ピペラジン、2
−メチルピペラジン、2,5−あるいは2,6−ジメチ
ルピペラジン、ホモピペラジン、1,1−ジ−(4−ピ
ペリジル)−メタン、1,2−ジ−(4−ピペリジル)
−エタン、1,3−ジ−(4−ピペリジル)−プロパ
ン、1,4−ジ−(4−ピペリジル)−ブタン等の二級
ジアミンとエピハロヒドリンの縮合により製造されるア
ミン系エポキシ化合物;3、4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル−3、4−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート、ビニルシクリヘキサンジオキサイド、2−
(3、4−エポキシシクロヘキシル)−5、5−スピロ
−3、4−エポキシシクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、ビス(3、4−エポキシシクロヘキシル)アジペー
ト等の脂環式エポキシ化合物;シクロペンタジエンエポ
キシド、エポキシ化大豆油、エポキシ化ポリブタジエ
ン、ビニルシクロヘキセンエポキシド等の不飽和化合物
のエポキシ化により製造されるエポキシ化合物;上述の
多価アルコール、フェノール化合物とジイソシアネート
およびグリシドール等から製造されるウレタン系エポキ
シ化合物等をあげることができる。
【0022】公知のエピスルフィド化合物の具体例とし
ては、以上のエポキシ化合物のエポキシ基の一部あるい
は全てをエピスルフィド化して得られるエピスルフィド
化合物をあげることができる。
【0023】多価カルボン酸、多価カルボン酸無水物、
ポリフェノール、アミン類、等の具体例としては上述の
エポキシ化合物のところで説明したエピハロヒドリンと
反応させる相手の原料として上述したものをあげること
ができる。
【0024】ポリメルカプタンとしては、具体的には、
1,2−ジメルカプトエタン、1,3−ジメルカプトプ
ロパン、1,4−ジメルカプトブタン、1,6−ジメル
カプトヘキサン、ビス(2−メルカプトエチル)スルフ
ィド、1,2−〔ビス(2−メルカプトエチルチオ)〕
エタン等の直鎖状ジメルカプタン化合物;2−メルカプ
トメチル−1,3−ジメルカプトプロパン、2−メルカ
プトメチル−1,4−ジメルカプトブタン、2−(2−
メルカプトエチルチオ)−1,3−ジメルカプトプロパ
ン、1,2−ビス〔(2−メルカプトエチルチオ)〕−
3−メルカプトプロパン、1,1,1−トリス(メルカ
プトメチル)プロパン、テトラキスメルカプトメチルメ
タン等の分岐状脂肪族ポリメルカプタン化合物;エチレ
ングリコールジチオグリコレート、エチレングリコール
ジチオプロピオネート、1,4−ブタンジオールジチオ
グリコレート、1,4−ブタンジオールジチオプロピオ
ネート、トリメチロールプロパントリス(β−チオグリ
コレート)、トリメチロールプロパントリス(β−チオ
プロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス
(β−チオグリコレート)、ペンタエリスリトールテト
ラキス、(β−チオプロピオネート)等の含エステル脂
肪族ポリメルカプタン化合物;1,4−ジメルカプトシ
クロヘキサン、1,3−ジメルカプトシクロヘキサン、
1,4−ジメルカプトメチルシクロヘキサン、1,3−
ジメルカプトメチルシクロヘキサン、2,5−ジメルカ
プトメチル−1,4−ジチアン、2,5−ジメルカプト
エチル−1,4−ジチアン、2,5−ジメルカプトメチ
ル−1−チアン、2,5−ジメルカプトエチル−1−チ
アン等脂肪族環状ジメルカプタン化合物等をあげること
ができる。メルカプトアルコールの具体例としては、2
−メルカプトエタノール、3−メルカプト−1−プロパ
ノール、1−メルカプト−2−プロパノール、4−メル
カプト−1−ブタノール、3−メルカプト−2−ブタノ
ール、3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、2
−メルカプト−1,3−プロパンジオール、1,3−ジ
メルカプト−2−プロパノール、2,3−ジメルカプト
−1−プロパノール、1−メルカプトメチル−1,1−
ジメチロールプロパン、1,1−ビス(メルカプトメチ
ル)−1−メチロールプロパン、メルカプトメチルトリ
ス(ヒドロキシメチル)メタン、ビス(メルカプトメチ
ル)ビス(ヒドロキシメチル)メタン、トリス(メルカ
プトメチル)ヒドロキシメチルメタン、2−(2−メル
カプトエチルチオ)エタノール等を挙げることができ
る。メルカプトフェノールの具体例としては、4−メル
カプトフェノール、2−メルカプトハイドロキノン、4
−ヒドロキシ−4, −メルカプトビフェニル等を挙げる
ことができる。メルカプトカルボン酸の具体例として
は、チオグリコール酸、2−チオプロピオン酸、3−チ
オプロピオン酸、チオ乳酸、メルカプトコハク酸、チオ
リンゴ酸、N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシ
ン、2−メルカプト安息香酸、2−メルカプトニコチン
酸、3,3−ジチオイソ楽酸等を挙げることができる。
【0025】また、以下にエピスルフィド基と反応可能
な官能基1個以上と他の単独重合可能な官能基を1個以
上有する化合物の代表的具体例を示す。不飽和基を有す
るエポキシ化合物としては、ビニルフェニルグリシジル
エーテル、ビニルベンジルグリシジルエーテル、グリシ
ジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、アリル
グリシジルエーテル等をあげることができる。不飽和基
を有するエピスルフィド化合物としては上記の不飽和基
を有するエポキシ化合物のエポキシ基をエピスルフィド
化した化合物、例えば、ビニルフェニルチオグリシジル
エーテル、ビニルベンジルチオグリシジルエーテル、チ
オグリシジルメタクリレート、チオグリシジルアクリレ
ート、アリルチオグリシジルエーテル等をあげることが
できる。
【0026】不飽和基を有するカルボン酸化合物として
は、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレ
イン酸、フマル酸等のα、β−不飽和カルボン酸類をあ
げることができる。また、不飽和基を有するアミド類と
しては、以上のα、β−不飽和カルボン酸類のアミドを
あげることができる。
【0027】また、エピスルフィド基と反応可能でかつ
単独重合も可能な官能基を1個有する化合物の好ましい
具体例としてはエポキシ基あるいはエピスルフィド基を
1個有する化合物をあげることができる。より具体的に
は、エチレンオキサイド、プロピレオキサイド等のモノ
エポキシ化合物類、酢酸、プロピオン酸、安息香酸等の
モノカルボン酸のグリシジルエステル類、メチルグリシ
ジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグ
リシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル等のグリ
シジルエーテル類あるいは、エチレンスルフィド、プロ
ピレンスルフィド等のモノエピスルフィド化合物、上述
のモノカルボン酸とチオグリシドール(1、2−エピチ
オ−3−ヒドロキシプロパン)から誘導される構造を有
するチオグリシジルエステル類、メチルチオグリシジル
エーテル(1、2−エピチオプロピルオキシメタン)、
エチルチオグリシジルエーテル、プロピルチオグリシジ
ルエーテル、ブチルチオグリシジルエーテル等のチオグ
リシジルエーテル類をあげることができる。これらの中
でより好ましいものはエピスルフィド基を1個有する化
合物である。
【0028】本発明の新規な脂肪族環状エピスルフィド
化合物のエピスルフィド基と反応可能な官能基を2個以
上有する化合物あるいは、これらの官能基1個以上と他
の単独重合可能な官能基を1個以上有する化合物さらに
は、エピスルフィド基と反応可能でかつ単独重合も可能
な官能基を1個有する化合物とは、硬化重合触媒の存在
下、硬化重合し硬化樹脂を製造することができる。硬化
触媒は、前述のアミン類、ホスフィン類、酸類等が使用
される。具体例としては、前述のものがここでも使用さ
れる。
【0029】さらに、不飽和基を有する化合物を使用す
る際には、重合促進剤として、ラジカル重合開始剤を使
用する事は好ましい方法である。ラジカル重合開始剤と
は、加熱あるいは紫外線や電子線によってラジカルを生
成するものであれば良く、例えば、クミルパーオキシネ
オデカノエート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネ
ート、ジアリルパーオキシジカーボネート、ジ−n−プ
ロピルパーオキシジカーボネート、ジミリスチルパーオ
キシジカーボネート、クミルパーオキシネオヘキサノエ
ート、ter−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、
ter−ブチルパーオキシネオデカノエート、ter−
ヘキシルパーオキシネオヘキサノエート、ter−ブチ
ルパーオキシネオヘキサノエート、2,4−ジクロロベ
ンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、
ジクミルパーオキサイド、ジ−ter−ブチルパーオキ
サイド等のパーオキサイド類;クメンヒドロパーオキサ
イド、ter−ブチルヒドロパーオキサイド等のヒドロ
パーオキサイド類;2,2’−アゾビス(4−メトキシ
−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾ
ビス(2−シクロプロピルプロピオニトリル)、2,
2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、
2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−ア
ゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾ
ビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、1−
〔(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ〕ホルムアミ
ド、2−フェニルアゾ−4−トキシ−2,4−ジメチル
−バレロニトリル2、2’−アゾビス(2−メチルプロ
パン)、2、2’−アゾビス(2、4、4−トリメチル
ペンタン)等のアゾ系化合物等の公知の熱重合触媒、ベ
ンゾフェノン、ベンゾインベンゾインメチルエーテル等
の公知の光重合触媒が挙げられる。これらのなかで好ま
しいものは、パーオキサイド類、ヒドロパーオキサイド
類、アゾ系化合物であり、より好ましいものは、パーオ
キサイド類、アゾ系化合物であり、最も好ましいもの
は、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメ
チルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−シク
ロプロピルプロピオニトリル)、2,2’−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾ
ビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メ
チルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘ
キサン−1−カルボニトリル)、1−〔(1−シアノ−
1−メチルエチル)アゾ〕ホルムアミド、2−フェニル
アゾ−4−メトキシ−2,4−ジメチル−バレロニトリ
ル、2、2’−アゾビス(2−メチルプロパン)2、
2’−アゾビス、(2、4、4−トリメチルペンタン)
等のアゾ系化合物である。またこれらは、全て混合使用
することができる。ラジカル重合開始剤の配合量は、組
成物の成分や硬化方法によって変化するので一慨には決
められないが、通常は組成物総量に対して0.01wt
%〜5.0wt%、好ましくは0.1wt%〜2.0w
t%の範囲である。
【0030】また、本発明の新規な脂肪族環状エピスル
フィド化合物を重合硬化して硬化樹脂得るに際し、公知
の酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤を加えて、得ら
れる材料の実用性をより向上せしめることはもちろん可
能である。また公知の外部および/または内部離型剤を
使用または添加して、得られる硬化材料の型からの離型
性を向上せしめることも可能である。ここに言う内部離
型剤とは、フッ素系ノニオン界面活性剤、シリコン系ノ
ニオン界面活性剤、アルキル第4級アンモニウム塩、燐
酸エステル、酸性燐酸エステル、オキシアルキレン型酸
性燐酸エステル、酸性燐酸エステルのアルカリ金属塩、
オキシアルキレン型酸性燐酸エステルのアルカリ金属
塩、、高級脂肪酸の金属塩、高級脂肪酸エステル、パラ
フィン、ワックス、高級脂肪族アミド、高級脂肪族アル
コール、ポリシロキサン類、脂肪族アミンエチレンオキ
シド付加物等があげられる。
【0031】本発明の新規な脂肪族環状エピスルフィド
化合物を重合硬化して硬化樹脂を得るに際し、原料とな
る、エピスルフィド化合物さらには所望に応じて前述の
硬化触媒、不飽和基を有するエピスルフィド基と反応可
能な例えばグリシジルメタクリレート、チオグリシジル
メタクリレート(グリシジルメタクリレートのエポキシ
基をエピスルフィド化したもの)等を併用する場合、ラ
ジカル重合開始剤、ラジカル重合可能な単量体、さらに
は離型剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤混合
後、次の様にして重合硬化してレンズ等の光学材料とさ
れる。即ち、混合後の原料をガラスや金属製の型に注入
し、加熱によって重合硬化反応を進めた後、型から外し
製造される。硬化時間は0.1〜100時間、通常1〜
48時間であり、硬化温度は−10〜160℃、通常−
10〜140℃である。また、硬化終了後、材料を50
から150℃の温度で10分から5時間程度アニール処
理を行う事は、本発明の光学材料の歪を除くために好ま
しい処理である。さらに必要に応じてハードコート、反
射防止、防曇性付与等表面処理を行うことができる。本
発明の硬化樹脂光学材料の製造方法は、さらに詳しく述
べるならば以下の通りである。前述の様に、主原料およ
び副原料を混合後、型に注入硬化して製造されるが、主
原料であるジエピスルフィド化合物と所望により使用さ
れるエピスルフィド基と反応可能な官能基を2個以上有
する化合物あるいは、これらの官能基1個以上と他の単
独重合可能な官能基を1個以上有する化合物、エピスル
フィド基と反応可能でかつ単独重合も可能な官能基を1
個有する化合物さらには所望に応じて使用される、硬化
触媒、ラジカル重合開始剤、さらには離型剤、安定剤等
は、全て同一容器内で同時に攪拌下に混合しても、各原
料を段階的に添加混合しても、数成分を別々に混合後さ
らに同一容器内で再混合しても良い。混合にあたり、設
定温度、これに要する時間等は基本的には各成分が十分
に混合される条件であればよいが、過剰の温度、時間は
各原料、添加剤間の好ましくない反応が起こり、さらに
は粘度の上昇を来たし注型操作を困難にする等適当では
ない。混合温度は−10℃から100℃程度の範囲で行
われるべきであり、好ましい温度範囲は−10℃から5
0℃、さらにに好ましいのは、−5℃から30℃であ
る。混合時間は、1分から5時間、好ましくは5分から
2時間、さらに好ましくは5分から30分、最も好まし
いのは5分から15分程度である。各原料、添加剤の混
合前、混合時あるいは混合後に、減圧下に脱ガス操作を
行う事は、後の注型重合硬化中の気泡発生を防止する点
からは好ましい方法である。この時の減圧度は0.1m
mHgから700mmHg程度で行うが、好ましいのは
10mmHgから300mmHgである。さらに、型に
注入に際して、ミクロフィルター等で不純物等を濾過し
除去することは本発明の光学材料の品質をさらに高める
上からも好ましい。
【0032】
【発明の効果】本発明の新規なエピスルフィド化合物に
より、従来技術の化合物を原料とする限り困難であった
十分に高い屈折率と、良好な屈折率とアッベ数のバラン
スを有する樹脂光学材料が可能となった。すなわち本発
明の新規な化合物により樹脂光学材料の軽量化、薄肉化
および色収差の低減化が格段に進歩することとなった。
また、本発明の新規な硬化樹脂材料は、耐熱性、強度に
も優れ各種用途に使用できる。
【0033】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、得られた重合物の性能測定は以下の測定法で行っ
た。 屈折率、アッベ数:アッベ屈折計を用い、25℃で測定
した。 比重:電子比重計を用いて25℃で測定し、常法により
補正した。 耐熱性:ビカット軟化点が120℃以上のものを○、1
20℃未満80℃以上のものを△、80℃未満のものを
×とした。 強度:オートグラフを用いた3点曲げ試験測定におい
て、歪が0.1以上のものを○、0.1未満0.05以
上のものを△、0.05未満のものを×とした。
【0034】実施例1 1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン170.3
gとエピクロルヒドリン185.1gを液温を10℃ま
で冷却し、水酸化ナトリム水溶液0.4gを水4mlに
溶かした水溶液とメタノール40mlを加え、この温度
で1時間攪拌した。その後、水酸化ナトリウム80.0
gを水80mlに溶かした水溶液を、液温0〜10℃前
後に保ちながら滴下し、この温度で3時間攪拌した。反
応混合物に水200mlを加え、トルエン300mlで
抽出し、トルエン層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒
を留去し、無色透明液体の1,4−ビス(グリシジルチ
オメチル)ベンゼンを275.8g(理論量の97%)
得た。次いで、攪拌器、温度計、窒素導入管を装着した
フラスコに、1,4−ビス(グリシジルチオメチル)ベ
ンゼン142.2gとチオ尿素304.2gと無水酢酸
11.3gとさらに溶媒としてトルエン1Lおよびメタ
ノール1Lを仕込み、30℃で9時間反応した。反応後
トルエンで抽出し、1%硫酸水溶液で洗浄、水洗後過剰
の溶媒を留去したところ、141.5gの生成物を得
た。元素分析、質量分析、NMR分析、IR分析から、
生成物は1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオメチ
ル)ベンゼンと判明した(収率90%)。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 53.30% 53.46% H 5.91% 5.77% S 40.50% 40.78%マススペクトル (EI):M+ 314(理論分子量31
4)赤外吸収スペクトル :620cm-1(エピスルフィド環
の伸縮振動) 1H−NMR :7.2ppm(t,1H) 7.0ppm(m,3H) 3.6ppm(m,2H) 3.1ppm(m,2H) 3.0ppm(m,2H) 2.7ppm(m,2H) 2.6ppm(m,2H) 2.2ppm(m,2H) さらに、本化合物100重量部に、N,N−ジエチルエ
タノールアミンを0.5重量部配合し、これを厚さ2m
mに調節した2枚のガラス板からなるモールド中に注入
し、80℃で5時間重合硬化し、光学材料を得た。得ら
れた材料の屈折率、アッベ数および比重を測定し、結果
を表1に示した。
【0035】実施例2 実施例1において、1,4−ビス(メルカプトメチル)
ベンゼンの代わりに、1,4−ビス(メルカプトメチ
ル)シクロヘキサンを使用する以外は、実施例1を繰り
返し、2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオメチ
ル)シクロヘキサンを総収率80%で得た。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 52.34% 52.45% H 7.66% 7.55% S 39.90% 40.01%マススペクトル (EI):M+ ・ 320(理論分子量3
20)赤外吸収スペクトル :620cm-1(エピスルフィド環
の伸縮振動) 1H−NMR :3.2−2.9ppm(m,10H) 2.7ppm(m,2H) 2.6ppm(m,2H) 2.2ppm(m,2H) 3.0ppm(m,2H) 1.9〜0.9ppm(m,8H) 2.6ppm(m,2H) 2.2ppm(m,2H)
【0036】実施例3(式(2)においてZ=H、U=
H、m=1、n=0) 実施例1において、1,4−ビス(メルカプトメチル)
ベンゼンの代わりに、2,5−ビス(メルカプトメチ
ル)−1,4−ジチアンを使用する以外は、実施例1を
繰り返し、2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオメ
チル)−1,4−ジチアンを総収率82%で得た。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 40.33% 40.41% H 5.77% 5.65% S 53.79% 53.94%マススペクトル (EI):M+・356(理論分子量35
6)赤外吸収スペクトル :620cm-1(エピスルフィド環
の伸縮振動) 1H−NMR :3.2−2.9ppm(m,14H) 2.7ppm(m,2H) 2.6ppm(m,2H) 2.2ppm(m,2H) 重合硬化後、得られた材料の屈折率、アッベ数および比
重を測定し結果を、表1に示した。
【0037】実施例4(式(2)においてZ=H、U=
H、m=2、n=0) 実施例1において1,4−ビス(メルカプトメチル)ベ
ンゼンの代わりに2,5−ビス(メルカプトエチル)−
1,4−ジチアンを使用する以外は実施例1を繰り返
し、2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオエチル)
− 1,4−ジチアンを総収率85%で得た。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 43.55% 43.71% H 6.39% 6.29% S 49.81% 50.01%マススペクトル (EI):M+ ・ 384(理論分子量3
84)赤外吸収スペクトル :620cm- 1 (エピスルフィド
環の伸縮振動)1 H−NMR:3.2−2.9ppm(m,14H) 2.7ppm(m,2H) 2.6ppm(m,2H) 2.2ppm(m,2H) 2.0ppm(m,4H) 重合硬化後、得られた材料の屈折率、アッベ数および比
重を測定し結果を、表1に示した。
【0038】実施例5(式(2)においてZ=H、U=
H、m=1、n=1) 実施例1において1,4−ビス(メルカプトメチル)ベ
ンゼンの代わりに2,5−ビス(メルカプトエチルチオ
メチル)−1,4−ジチアンを使用する以外は実施例1
を繰り返し、2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ
エチルチオメチル)−1,4−ジチアンを総収率87%
で得た。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 40.19% 40.29% H 6.05% 5.92% S 43.70% 53.79%マススペクトル (EI):M+・476(理論分子量47
6)赤外吸収スペクトル :620cm-1(エピスルフィド環
の伸縮振動) 1H−NMR :3.2−2.8ppm(m,22H) 2.7ppm(m,2H) 2.6ppm(m,2H) 2.2ppm(m,2H) 重合硬化後、得られた材料の屈折率、アッベ数および比
重を測定し結果を、表1に示した。
【0039】実施例6(式(2)においてZ=CH2S
Eps、U=H、m=1、n=0) 実施例1において1,4−ビス(メルカプトメチル)ベ
ンゼンの代わりに2,3,5,6−テトラキス(メルカ
プトメチル)−1,4−ジチアンを使用する以外は実施
例1を繰り返し、2,3,5,6−テトラキス(β−エ
ピチオプロピルチオメチル)−1,4−ジチアンを総収
率82%で得た。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 40.39% 40.50% H 5.55% 5.44% S 53.99% 54.06%マススペクトル (EI):M+・592(理論分子量59
2)赤外吸収スペクトル :620cm-1(エピスルフィド環
の伸縮振動) 1H−NMR :3.3−2.9ppm(m,20H) 2.7ppm(m,4H) 2.6ppm(m,4H) 2.2ppm(m,4H) 重合硬化後、得られた材料の屈折率、アッベ数および比
重を測定し結果を、表1に示した。
【0040】実施例7 実施例1において1,4−ビス(メルカプトメチル)ベ
ンゼンの代わりに2−(2−メルカプトエチルチオ)−
1,3−ジメルカプトプロパンを使用する以外は実施例
1を繰り返し、2−(2−β−エピチオプロピルチオ)
プロパンを総収率85%で得た。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 45.15% 40.34% H 5.99% 5.80% S 53.69% 53.85%マススペクトル (EI):M+・416(理論分子量41
6)赤外吸収スペクトル :620cm-1(エピスルフィド環
の伸縮振動) 重合硬化後、得られた材料の屈折率、アッベ数および比
重を測定し結果を、表1に示した。
【0041】比較例1 実施例1において、1,4−ビス(メルカプトメチル)
ベンゼンの代わりに2,5−ビス(ヒドロキシメチル)
−1,4−ジオキサンを使用する以外は実施例1を繰り
返し、2,5−ビス(β−エピチオプロピルオキシメチ
ル)−1,4−ジオキサンを総収率52%で得た。重合
硬化後、得られた材料の屈折率、アッベ数および比重を
測定し結果を、表1に示した。
【0042】比較例2 実施例1において、1,4−ビス(メルカプトメチル)
ベンゼンの代わりに2,5−ビス(ヒドロキシエチルオ
キシメチル)−1,4−ジオキサンを使用する以外は実
施例1を繰り返し、2,5−ビス(β−エピチオプロピ
ルオキシエチルオキシメチル)−1,4−ジオキサンを
総収率55%で得た。重合硬化後、得られた材料の屈折
率、アッベ数および比重を測定し結果を、表1に示し
た。
【0043】比較例3 実施例1において、1,4−ビス(グリシジルチオメチ
ル)ベンゼン162.3グラムに対してチオ尿素を50
グラム使用する以外は実施例1を繰り返した。得られた
生成物は、NMRスペクトルより式(1)のZ=H、U
=H、m=1、n=0であり、式(2)のX中のSの個
数は三員環を構成するSとOの合計に対して平均で30
%であった。重合硬化後、得られた材料の屈折率、アッ
ベ数および比重を測定し結果を表1に示した。
【0044】比較例4 1,8−ジメルカプト−4−メルカプトメチル−3,6
−ジチアオクタン48重量部とメタキシリレンジイソシ
アネート52重量部の混合物に硬化触媒としてジブチル
スズクロライドを混合物100重量部に対して0.1重
量部配合後、均一液とし、さらに10mmHgの減圧下
十分に脱気を行った。ついでモールドに注入後、オーブ
ン中で80℃、20時間重合硬化した。得られた材料の
屈折率、アッベ数および比重を測定し結果を表1に示し
た。
【0045】
【表1】
【0046】
【表2】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹内 基晴 東京都葛飾区新宿6丁目1番1号 三菱瓦 斯化学株式会社東京研究所内 (72)発明者 堀越 裕 東京都葛飾区新宿6丁目1番1号 三菱瓦 斯化学株式会社東京研究所内 (72)発明者 高橋 健一 東京都葛飾区新宿6丁目1番1号 三菱瓦 斯化学株式会社東京研究所内 (72)発明者 大橋 稔 東京都葛飾区新宿6丁目1番1号 三菱瓦 斯化学株式会社東京研究所内

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (1)式で表される構造を2個以上有す
    ると共に、環状骨格を有するエピスルフィド化合物。 【化1】 (式中、XはSまたはOを表し、このSの個数は3員環
    を構成するSとOの合計に対して平均で50%以上であ
    る。)
  2. 【請求項2】 環状骨格が、脂環族骨格である請求項1
    記載のエピスルフィド化合物。
  3. 【請求項3】 環状骨格が、芳香族骨格である請求項1
    記載のエピスルフィド化合物。
  4. 【請求項4】 環状骨格が、硫黄原子を異種原子とする
    複素環骨格である請求項1記載のエピスルフィド化合
    物。
  5. 【請求項5】 請求項1記載のエピスルフィド化合物を
    重合硬化してなる硬化樹脂。
  6. 【請求項6】 請求項1記載のエピスルフィド化合物を
    重合硬化してなる光学材料。
  7. 【請求項7】 エピスルフィド化合物が、環状骨格とし
    て脂環族骨格を有するものである請求項6記載の光学材
    料。
  8. 【請求項8】 エピスルフィド化合物が、環状骨格とし
    て芳香族骨格を有するものである請求項6記載の光学材
    料。
  9. 【請求項9】 エピスルフィド化合物が、環状骨格とし
    て硫黄原子を異種原子とする複素環骨格を有するもので
    ある請求項6記載の光学材料。
  10. 【請求項10】請求項1記載のエピスルフィド化合物を
    重合硬化して光学材料を製造する方法。
  11. 【請求項11】 (2)式で表される分岐アルキルスル
    フィド型エピスルフィド化合物を重合硬化してなる硬化
    樹脂。 【化2】
  12. 【請求項12】 請求項11記載の(2)式で表される
    分岐アルキルスルフィド型エピスルフィド化合物を重合
    硬化してなる光学材料。
  13. 【請求項13】 請求項11記載の(2)式で表される
    分岐アルキルスルフィド型エピスルフィド化合物を重合
    硬化して光学材料を得る方法。
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Cited By (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11279957A (ja) * 1998-01-05 1999-10-12 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 高屈折率樹脂の染色方法および該方法により染色された樹脂
JP2000186086A (ja) * 1998-10-15 2000-07-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc エピスルフィド化合物の製造方法
JP2000186087A (ja) * 1998-10-15 2000-07-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc エピスルフィド化合物の製造方法
JP2000327677A (ja) * 1999-03-16 2000-11-28 Mitsubishi Gas Chem Co Inc エピスルフィド化合物の保存方法
JP2000336087A (ja) * 1999-03-19 2000-12-05 Mitsubishi Gas Chem Co Inc エピスルフィド化合物の精製方法
JP2000345480A (ja) * 1999-03-30 2000-12-12 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 光学材料用樹脂の染色方法
US6204311B1 (en) 1998-03-13 2001-03-20 Mitsui Chemicals, Inc. Polymerizable composition
JP2001163874A (ja) * 1999-12-08 2001-06-19 Mitsui Chemicals Inc エピスルフィド化合物の製造方法
EP1058133A3 (en) * 1999-06-03 2001-08-22 Mitsui Chemicals, Inc. Polymerizable composition and process for producing optical resin comprising the same
JP2002040201A (ja) * 2000-07-21 2002-02-06 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 光学材料用組成物
JP2002284247A (ja) * 2001-03-26 2002-10-03 Mitsubishi Gas Chem Co Inc ポリエステル容器
JP2003002889A (ja) * 2001-06-20 2003-01-08 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 光学材料用化合物
US6596841B2 (en) 2000-03-27 2003-07-22 Mitsui Chemicals, Inc. Polythiol, polymerizable composition, resin and lens, and process for preparing thiol compound
US6743886B2 (en) 2000-03-15 2004-06-01 Hoya Corporation Plastic lenses for spectacles
US7001974B2 (en) 2002-06-04 2006-02-21 Hoya Corporation Process for producing plastic lens and plastic lens
JP2007051301A (ja) * 2006-11-16 2007-03-01 Mitsui Chemicals Inc 離型性の改良されたレンズ
WO2007052568A1 (ja) 2005-10-31 2007-05-10 Ube Industries, Ltd. 重合性組成物およびポリチオカーボネートポリチオエーテル
US7261845B2 (en) 2003-09-30 2007-08-28 Hoya Corporation Plastic lens and process for preparing the lens
JP2008260913A (ja) * 2007-03-16 2008-10-30 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 光学材料
WO2009101867A1 (ja) 2008-02-13 2009-08-20 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 樹脂用組成物およびそれを含む光学レンズ
JP2010018592A (ja) * 2008-07-14 2010-01-28 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 新規なテトラチアスピロ化合物
US7691555B2 (en) 2003-08-06 2010-04-06 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Photocurable composition and coating composition
WO2010098366A1 (en) 2009-02-25 2010-09-02 Fujifilm Corporation Metal oxide fine particles, dispersion liquid of metal oxide fine particles, and molded product
JP2010242093A (ja) * 2010-06-18 2010-10-28 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 光学材料用組成物
US7909929B2 (en) 2002-11-13 2011-03-22 Nippon Soda Co., Ltd. Dispersoid having metal-oxygen bonds, metal oxide film, and monomolecular film
WO2011105014A1 (ja) 2010-02-24 2011-09-01 三菱瓦斯化学株式会社 硬化性樹脂組成物
WO2011105319A1 (ja) 2010-02-25 2011-09-01 三菱瓦斯化学株式会社 エピスルフィド化合物の製造方法
US8349995B2 (en) 2005-10-31 2013-01-08 Ube Industries, Ltd. Polythiocarbonatepoly(thio)epoxide
KR20130082456A (ko) 2012-01-11 2013-07-19 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 함황 에폭시 화합물 및 그 제조 방법
WO2013157490A1 (ja) 2012-04-16 2013-10-24 三菱瓦斯化学株式会社 含硫エポキシ化合物の製造方法
WO2015046540A1 (ja) 2013-09-30 2015-04-02 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 透明プラスチック基材及びプラスチックレンズ
US9920169B2 (en) 2013-06-27 2018-03-20 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Curable composition
WO2018150950A1 (ja) * 2017-02-17 2018-08-23 三菱瓦斯化学株式会社 光学材料用組成物
WO2019065985A1 (ja) 2017-09-29 2019-04-04 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
WO2019065991A1 (ja) 2017-09-29 2019-04-04 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
WO2019065989A1 (ja) 2017-09-29 2019-04-04 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
WO2019103105A1 (ja) 2017-11-24 2019-05-31 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
WO2020003999A1 (ja) 2018-06-29 2020-01-02 三菱瓦斯化学株式会社 多官能含硫エポキシ化合物の製造方法
WO2020021953A1 (ja) 2018-07-24 2020-01-30 三菱瓦斯化学株式会社 エピスルフィド化合物および光学材料用組成物
US10647819B2 (en) 2015-12-10 2020-05-12 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Photocurable composition and optical material
JPWO2022085329A1 (ja) * 2020-10-19 2022-04-28
JPWO2022085330A1 (ja) * 2020-10-19 2022-04-28
WO2022158324A1 (ja) 2021-01-22 2022-07-28 三菱瓦斯化学株式会社 光硬化性組成物及びその硬化物並びに該硬化物を含む光学材料
CN115135697A (zh) * 2020-02-19 2022-09-30 株式会社大赛璐 聚硫醚化合物的制造方法
JPWO2023054572A1 (ja) * 2021-09-30 2023-04-06
WO2023054577A1 (ja) * 2021-09-30 2023-04-06 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 光学部材用モノマー、光学部材用重合性組成物、硬化物、及び眼鏡レンズ

Cited By (81)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11279957A (ja) * 1998-01-05 1999-10-12 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 高屈折率樹脂の染色方法および該方法により染色された樹脂
US6458917B2 (en) 1998-03-13 2002-10-01 Mitsui Chemicals, Inc. Polymerizable composition
US6204311B1 (en) 1998-03-13 2001-03-20 Mitsui Chemicals, Inc. Polymerizable composition
US6300464B2 (en) 1998-03-13 2001-10-09 Mitsui Chemical, Inc. Polymerizable composition
JP2000186086A (ja) * 1998-10-15 2000-07-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc エピスルフィド化合物の製造方法
JP2000186087A (ja) * 1998-10-15 2000-07-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc エピスルフィド化合物の製造方法
JP2000327677A (ja) * 1999-03-16 2000-11-28 Mitsubishi Gas Chem Co Inc エピスルフィド化合物の保存方法
JP2000336087A (ja) * 1999-03-19 2000-12-05 Mitsubishi Gas Chem Co Inc エピスルフィド化合物の精製方法
JP2000345480A (ja) * 1999-03-30 2000-12-12 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 光学材料用樹脂の染色方法
EP1058133A3 (en) * 1999-06-03 2001-08-22 Mitsui Chemicals, Inc. Polymerizable composition and process for producing optical resin comprising the same
JP2001163874A (ja) * 1999-12-08 2001-06-19 Mitsui Chemicals Inc エピスルフィド化合物の製造方法
US6743886B2 (en) 2000-03-15 2004-06-01 Hoya Corporation Plastic lenses for spectacles
US7091301B2 (en) 2000-03-15 2006-08-15 Hoya Corporation Plastic lenses for spectacles
US6596841B2 (en) 2000-03-27 2003-07-22 Mitsui Chemicals, Inc. Polythiol, polymerizable composition, resin and lens, and process for preparing thiol compound
US6770735B2 (en) 2000-03-27 2004-08-03 Mitsui Chemicals, Inc. Process for preparing a thiol compound
JP2002040201A (ja) * 2000-07-21 2002-02-06 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 光学材料用組成物
JP2002284247A (ja) * 2001-03-26 2002-10-03 Mitsubishi Gas Chem Co Inc ポリエステル容器
JP2003002889A (ja) * 2001-06-20 2003-01-08 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 光学材料用化合物
US7001974B2 (en) 2002-06-04 2006-02-21 Hoya Corporation Process for producing plastic lens and plastic lens
US7909929B2 (en) 2002-11-13 2011-03-22 Nippon Soda Co., Ltd. Dispersoid having metal-oxygen bonds, metal oxide film, and monomolecular film
US7691555B2 (en) 2003-08-06 2010-04-06 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Photocurable composition and coating composition
US7261845B2 (en) 2003-09-30 2007-08-28 Hoya Corporation Plastic lens and process for preparing the lens
WO2007052568A1 (ja) 2005-10-31 2007-05-10 Ube Industries, Ltd. 重合性組成物およびポリチオカーボネートポリチオエーテル
US8349995B2 (en) 2005-10-31 2013-01-08 Ube Industries, Ltd. Polythiocarbonatepoly(thio)epoxide
US8362194B2 (en) 2005-10-31 2013-01-29 Ube Industries, Ltd. Polymerizable composition and polythiocarbonate polythioether
JP2007051301A (ja) * 2006-11-16 2007-03-01 Mitsui Chemicals Inc 離型性の改良されたレンズ
JP2008260913A (ja) * 2007-03-16 2008-10-30 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 光学材料
US8394920B2 (en) 2008-02-13 2013-03-12 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Composition for resin and optical lens obtained therefrom
WO2009101867A1 (ja) 2008-02-13 2009-08-20 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 樹脂用組成物およびそれを含む光学レンズ
JP2010018592A (ja) * 2008-07-14 2010-01-28 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 新規なテトラチアスピロ化合物
WO2010098366A1 (en) 2009-02-25 2010-09-02 Fujifilm Corporation Metal oxide fine particles, dispersion liquid of metal oxide fine particles, and molded product
WO2011105014A1 (ja) 2010-02-24 2011-09-01 三菱瓦斯化学株式会社 硬化性樹脂組成物
JP5177322B2 (ja) * 2010-02-24 2013-04-03 三菱瓦斯化学株式会社 硬化性樹脂組成物
US8853346B2 (en) 2010-02-24 2014-10-07 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Curable resin composition
WO2011105319A1 (ja) 2010-02-25 2011-09-01 三菱瓦斯化学株式会社 エピスルフィド化合物の製造方法
US8586766B2 (en) 2010-02-25 2013-11-19 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Method for producing episulfide compound
JP2010242093A (ja) * 2010-06-18 2010-10-28 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 光学材料用組成物
KR20130082456A (ko) 2012-01-11 2013-07-19 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 함황 에폭시 화합물 및 그 제조 방법
WO2013157490A1 (ja) 2012-04-16 2013-10-24 三菱瓦斯化学株式会社 含硫エポキシ化合物の製造方法
US9242947B2 (en) 2012-04-16 2016-01-26 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Method for producing sulfur-containing epoxy compound
US9920169B2 (en) 2013-06-27 2018-03-20 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Curable composition
EP3483219A1 (en) 2013-09-30 2019-05-15 Hoya Lens Thailand Ltd. Transparent plastic substrate and plastic lens
EP3936905A1 (en) 2013-09-30 2022-01-12 Hoya Lens Thailand Ltd. Transparent plastic substrate and plastic lens
EP3936904A1 (en) 2013-09-30 2022-01-12 Hoya Lens Thailand Ltd. Transparent plastic substrate and plastic lens
WO2015046540A1 (ja) 2013-09-30 2015-04-02 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 透明プラスチック基材及びプラスチックレンズ
EP3483220A1 (en) 2013-09-30 2019-05-15 Hoya Lens Thailand Ltd. Transparent plastic substrate and plastic lens
US10647819B2 (en) 2015-12-10 2020-05-12 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Photocurable composition and optical material
EP3584270A4 (en) * 2017-02-17 2020-01-01 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. OPTICAL MATERIAL COMPOSITION
US11078363B2 (en) 2017-02-17 2021-08-03 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Optical material composition
CN110198969A (zh) * 2017-02-17 2019-09-03 三菱瓦斯化学株式会社 光学材料用组合物
WO2018150950A1 (ja) * 2017-02-17 2018-08-23 三菱瓦斯化学株式会社 光学材料用組成物
EP3584269A4 (en) * 2017-02-17 2020-03-04 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. OPTICAL MATERIAL COMPOSITION
WO2018150951A1 (ja) * 2017-02-17 2018-08-23 三菱瓦斯化学株式会社 光学材料用組成物
CN110198969B (zh) * 2017-02-17 2021-09-17 三菱瓦斯化学株式会社 光学材料用组合物
US10982094B2 (en) 2017-02-17 2021-04-20 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Optical material composition
WO2019065991A1 (ja) 2017-09-29 2019-04-04 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
WO2019065989A1 (ja) 2017-09-29 2019-04-04 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
WO2019065985A1 (ja) 2017-09-29 2019-04-04 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
WO2019103105A1 (ja) 2017-11-24 2019-05-31 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
WO2020003999A1 (ja) 2018-06-29 2020-01-02 三菱瓦斯化学株式会社 多官能含硫エポキシ化合物の製造方法
KR20200143419A (ko) 2018-06-29 2020-12-23 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 다관능함황에폭시 화합물의 제조방법
US11377433B2 (en) 2018-06-29 2022-07-05 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Method for producing polyfunctional sulfur-containing epoxy compound
KR20210035168A (ko) 2018-07-24 2021-03-31 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 에피설파이드 화합물 및 광학재료용 조성물
WO2020021953A1 (ja) 2018-07-24 2020-01-30 三菱瓦斯化学株式会社 エピスルフィド化合物および光学材料用組成物
US11858920B2 (en) 2018-07-24 2024-01-02 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Episulfide compound and composition for optical material
CN115135697A (zh) * 2020-02-19 2022-09-30 株式会社大赛璐 聚硫醚化合物的制造方法
JPWO2022085330A1 (ja) * 2020-10-19 2022-04-28
EP4206187A4 (en) * 2020-10-19 2023-12-27 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. COMPOSITION, AND OPTICAL MATERIAL AS WELL AS LENS USING THIS COMPOSITION
WO2022085329A1 (ja) * 2020-10-19 2022-04-28 三菱瓦斯化学株式会社 組成物並びにこれを用いた光学材料およびレンズ
WO2022085330A1 (ja) * 2020-10-19 2022-04-28 三菱瓦斯化学株式会社 組成物並びにこれを用いた光学材料およびレンズ
CN116323555B (zh) * 2020-10-19 2026-03-13 三菱瓦斯化学株式会社 组合物以及使用其的光学材料及透镜
US12486352B2 (en) 2020-10-19 2025-12-02 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Composition, and optical material and lens using same
JPWO2022085329A1 (ja) * 2020-10-19 2022-04-28
CN115989217A (zh) * 2020-10-19 2023-04-18 三菱瓦斯化学株式会社 组合物以及使用它的光学材料和透镜
CN116323555A (zh) * 2020-10-19 2023-06-23 三菱瓦斯化学株式会社 组合物以及使用其的光学材料及透镜
WO2022158324A1 (ja) 2021-01-22 2022-07-28 三菱瓦斯化学株式会社 光硬化性組成物及びその硬化物並びに該硬化物を含む光学材料
KR20230130621A (ko) 2021-01-22 2023-09-12 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 광경화성 조성물 및 그 경화물 그리고 그 경화물을 포함하는 광학 재료
JPWO2023054572A1 (ja) * 2021-09-30 2023-04-06
JPWO2023054577A1 (ja) * 2021-09-30 2023-04-06
WO2023054572A1 (ja) * 2021-09-30 2023-04-06 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 光学部材用モノマー、光学部材用重合性組成物、硬化物、眼鏡レンズ及び光学部材用モノマーの製造方法
WO2023054577A1 (ja) * 2021-09-30 2023-04-06 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 光学部材用モノマー、光学部材用重合性組成物、硬化物、及び眼鏡レンズ

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