JPH09258433A - マスク - Google Patents
マスクInfo
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- JPH09258433A JPH09258433A JP9006696A JP9006696A JPH09258433A JP H09258433 A JPH09258433 A JP H09258433A JP 9006696 A JP9006696 A JP 9006696A JP 9006696 A JP9006696 A JP 9006696A JP H09258433 A JPH09258433 A JP H09258433A
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- JP
- Japan
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- pellicle
- mask
- pattern
- circuit pattern
- attached
- Prior art date
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、露光する回路パターン面が大型化し
たマスクを用いた場合においても転写不良を出すことな
く確実に転写できるようにする。 【解決手段】本発明は、回路パターンを有するマスク上
の回路パターン配列に基づいて、マスク上に分割して配
設された複数のペリクルフレーム上にペリクルを貼り付
けることにより、マスクが大型化した場合においても、
回転パターンの配列に基づいてペリクルフレーム及びペ
リクルを小型化でき、かくしてペリクルフレーム及びペ
リクルの変形を防止して転写不良を出すことなく確実に
転写することができる。
たマスクを用いた場合においても転写不良を出すことな
く確実に転写できるようにする。 【解決手段】本発明は、回路パターンを有するマスク上
の回路パターン配列に基づいて、マスク上に分割して配
設された複数のペリクルフレーム上にペリクルを貼り付
けることにより、マスクが大型化した場合においても、
回転パターンの配列に基づいてペリクルフレーム及びペ
リクルを小型化でき、かくしてペリクルフレーム及びペ
リクルの変形を防止して転写不良を出すことなく確実に
転写することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はマスクに関し、例え
ば液晶デイスプレイ用パネルを作成する場合の回路パタ
ーンを転写する際に用いられるマスクに適用して好適な
ものである。
ば液晶デイスプレイ用パネルを作成する場合の回路パタ
ーンを転写する際に用いられるマスクに適用して好適な
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、マスクやレチクル（以下、これら
を総称してマスクと呼ぶ）においては、露光して焼付転
写すべき回路パターンとなる原画が、投影光学系を介し
て、感光剤が塗布されたガラス基板に描画されている。
この回路パターンが描画されているパターン面は勿論で
あるが、描画されているパターン面に対向する他面にも
ゴミ等の異物が付着すると、露光して焼付転写する際に
異物も一緒に転写され、本来意図していない回路パター
ンが形成されて不良となつてしまう。
を総称してマスクと呼ぶ）においては、露光して焼付転
写すべき回路パターンとなる原画が、投影光学系を介し
て、感光剤が塗布されたガラス基板に描画されている。
この回路パターンが描画されているパターン面は勿論で
あるが、描画されているパターン面に対向する他面にも
ゴミ等の異物が付着すると、露光して焼付転写する際に
異物も一緒に転写され、本来意図していない回路パター
ンが形成されて不良となつてしまう。
【０００３】このような異物による転写不良を防止する
ために、図５に示すようなマスク１が用いられている。
このマスク１は、石英などのガラス板でなるフオトマス
ク２、当該フオトマスク２の回路パターン部分を囲むよ
うに設けられた所定の高さを有するペリクルフレーム３
及び４、当該ペリクルフレーム３及び４上に弛みのない
張られた状態で貼り付けられているペリクル５及び６か
ら構成されている。
ために、図５に示すようなマスク１が用いられている。
このマスク１は、石英などのガラス板でなるフオトマス
ク２、当該フオトマスク２の回路パターン部分を囲むよ
うに設けられた所定の高さを有するペリクルフレーム３
及び４、当該ペリクルフレーム３及び４上に弛みのない
張られた状態で貼り付けられているペリクル５及び６か
ら構成されている。
【０００４】ここで、ペリクル５及び６は通常数 [μm]
以下の有機物質による膜状でなり、ペリクルフレーム３
及び４上に貼り付けられていることにより、フオトマス
ク２のパターン面及びその対向する他面から所定距離だ
け離されるようになされている。すなわち、前述の投影
光学系の焦点深度よりもペリクルフレーム３及び４の高
さを高く設定することにより、ペリクル５及び６上の異
物がガラス基板に転写されることはない。
以下の有機物質による膜状でなり、ペリクルフレーム３
及び４上に貼り付けられていることにより、フオトマス
ク２のパターン面及びその対向する他面から所定距離だ
け離されるようになされている。すなわち、前述の投影
光学系の焦点深度よりもペリクルフレーム３及び４の高
さを高く設定することにより、ペリクル５及び６上の異
物がガラス基板に転写されることはない。
【０００５】一方、フオトマスク２がある一定以上の厚
みを有しているならば、この厚みがペリクル５及び６を
貼り付けたときと同様の効果をもたらす。これにより、
ある一定以上の厚みを有したマスクを用いる場合には、
他面側のペリクルフレーム４及びペリクル６を省略する
ことができる。
みを有しているならば、この厚みがペリクル５及び６を
貼り付けたときと同様の効果をもたらす。これにより、
ある一定以上の厚みを有したマスクを用いる場合には、
他面側のペリクルフレーム４及びペリクル６を省略する
ことができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところでかかる構成の
マスク１においては、ペリクル５及び６がフオトマスク
２の回路パターン部分全域を囲んだペリクルフレーム３
及び４上に貼り付けられている。このためマスク１が大
型化した場合に、マスク１の大型化に伴つてペリクルフ
レーム３及び４も大型化しなければならない。従つて、
大型化されたペリクルフレームには、同様に大型化され
たペリクルが弛みのない張力をもつた状態に貼り付けら
れる。これにより、大型化されたペリクルフレームがペ
リクルの張力によつて引つ張られ、内側にたわんで変形
してしまうという問題があつた。
マスク１においては、ペリクル５及び６がフオトマスク
２の回路パターン部分全域を囲んだペリクルフレーム３
及び４上に貼り付けられている。このためマスク１が大
型化した場合に、マスク１の大型化に伴つてペリクルフ
レーム３及び４も大型化しなければならない。従つて、
大型化されたペリクルフレームには、同様に大型化され
たペリクルが弛みのない張力をもつた状態に貼り付けら
れる。これにより、大型化されたペリクルフレームがペ
リクルの張力によつて引つ張られ、内側にたわんで変形
してしまうという問題があつた。
【０００７】またペリクル５及び６自体が大型化される
と、均一な厚みを持つ良質なペリクルを得ることが難し
く、大型化されたペリクルフレームに貼り付けた際に真
直ぐな状態にならずにたわんでしまつたり、大気圧の変
化により変形したりしていた。これにより、マスク１で
はペリクル交換等の操作時にペリクルを破いてしまつた
り、また変形したペリクルによつて転写時に転写不良が
出るという問題があつた。
と、均一な厚みを持つ良質なペリクルを得ることが難し
く、大型化されたペリクルフレームに貼り付けた際に真
直ぐな状態にならずにたわんでしまつたり、大気圧の変
化により変形したりしていた。これにより、マスク１で
はペリクル交換等の操作時にペリクルを破いてしまつた
り、また変形したペリクルによつて転写時に転写不良が
出るという問題があつた。
【０００８】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、露光する回路パターン面が大型化したマスクを用い
た場合においても転写不良を出すことなく確実に転写し
得るマスクを提案しようとするものである。
で、露光する回路パターン面が大型化したマスクを用い
た場合においても転写不良を出すことなく確実に転写し
得るマスクを提案しようとするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、回路パターンを有するマスク（１
０）であつて、回路パターンの配列に基づいてマスク
（１１）上に分割して配設された複数のペリクルフレー
ム（１３〜１６）上にペリクル（１７〜２０）を貼り付
けるようにする。これによりマスク（１０）ではマスク
（１１）が大型化した場合においても、回路パターンの
配列に基づいてペリクルフレーム（１３〜１６）及びペ
リクル（１７〜２０）を小型化でき、かくしてペリクル
フレーム（１３〜１６）、（１４）及びペリクル（１７
〜２０）の変形を防止することができる。
め本発明においては、回路パターンを有するマスク（１
０）であつて、回路パターンの配列に基づいてマスク
（１１）上に分割して配設された複数のペリクルフレー
ム（１３〜１６）上にペリクル（１７〜２０）を貼り付
けるようにする。これによりマスク（１０）ではマスク
（１１）が大型化した場合においても、回路パターンの
配列に基づいてペリクルフレーム（１３〜１６）及びペ
リクル（１７〜２０）を小型化でき、かくしてペリクル
フレーム（１３〜１６）、（１４）及びペリクル（１７
〜２０）の変形を防止することができる。
【００１０】また本発明のマスク（３０）においては、
回路パターンが複数のパターン領域（３２ａ〜３２ｄ）
と、該複数のパターン領域（３２ａ〜３２ｄ）を分割す
る分割部（３１Ａ）とから構成されており、複数のパタ
ーン領域（３２ａ〜３２ｄ）に応じてほぼ正方形状のペ
リクルフレーム（３３〜４０）を取り付け、該ペリクル
フレーム（３３〜４０）に応じた正方形状のペリクル
（４１〜４８）を貼り付けるようにする。これによりマ
スク（３０）では、正方形状のペリクル（４１〜４８）
の張力が均等に働くのでペリクルフレーム（３３〜４
０）を内側にたわませることがなく、変形を防止するこ
とができる。
回路パターンが複数のパターン領域（３２ａ〜３２ｄ）
と、該複数のパターン領域（３２ａ〜３２ｄ）を分割す
る分割部（３１Ａ）とから構成されており、複数のパタ
ーン領域（３２ａ〜３２ｄ）に応じてほぼ正方形状のペ
リクルフレーム（３３〜４０）を取り付け、該ペリクル
フレーム（３３〜４０）に応じた正方形状のペリクル
（４１〜４８）を貼り付けるようにする。これによりマ
スク（３０）では、正方形状のペリクル（４１〜４８）
の張力が均等に働くのでペリクルフレーム（３３〜４
０）を内側にたわませることがなく、変形を防止するこ
とができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。
施例を詳述する。
【００１２】（１）第１実施例 図１は、本発明の第１実施例に適用するマスク１０の全
体構成を示す。このマスク１０は、石英などのガラス板
でなるフオトマスク１１の一面が回路パターンの描画さ
れているパターン面となつており、この回路パターンを
中央で縦に分割し得る回路パターンの描かれていない分
割部１１Ａを境界として２つのパターン領域１２ａ及び
１２ｂに分割されている。
体構成を示す。このマスク１０は、石英などのガラス板
でなるフオトマスク１１の一面が回路パターンの描画さ
れているパターン面となつており、この回路パターンを
中央で縦に分割し得る回路パターンの描かれていない分
割部１１Ａを境界として２つのパターン領域１２ａ及び
１２ｂに分割されている。
【００１３】マスク１０は、所定の高さを有するペリク
ルフレーム１３が回路パターンと重ならずにパターン領
域１２ａを囲むように分割部１１Ａの右隣側に取り付け
られ、同様にペリクルフレーム１４が回路パターンと重
ならずにパターン領域１２ｂを囲むように分割部１１Ａ
の左隣側に取り付けられている。またパターン面と対向
する他面側においても、所定の高さを有するペリクルフ
レーム１５がペリクルフレーム１３と対向した位置に取
り付けられ、同様にペリクルフレーム１６がペリクルフ
レーム１４と対向した位置に取り付けられている。
ルフレーム１３が回路パターンと重ならずにパターン領
域１２ａを囲むように分割部１１Ａの右隣側に取り付け
られ、同様にペリクルフレーム１４が回路パターンと重
ならずにパターン領域１２ｂを囲むように分割部１１Ａ
の左隣側に取り付けられている。またパターン面と対向
する他面側においても、所定の高さを有するペリクルフ
レーム１５がペリクルフレーム１３と対向した位置に取
り付けられ、同様にペリクルフレーム１６がペリクルフ
レーム１４と対向した位置に取り付けられている。
【００１４】またパターン面側のペリクルフレーム１３
には、ペリクル１７が弛みのない張られた状態で貼り付
けられ、ペリクルフレーム１４にもペリクル１８が弛み
のない張られた状態で貼り付けられている。同様に、他
面側のペリクルフレーム１５及び１６にもペリクル１９
及び２０が弛みのない張られた状態で貼り付けられてい
る。ここでフオトマスク１１がある一定以上の厚み（例
えば、フオトマスク１１を感光基板に投影する投影光学
系のマスク側の焦点深度以上の厚み）を有しているなら
ば、この厚みがペリクル１９及び２０を貼り付けたとき
と同様の効果をもたらすので、この場合はペリクル１
９、２０及びペリクルフレーム１５、１６を省略して用
いるようにしても良い。
には、ペリクル１７が弛みのない張られた状態で貼り付
けられ、ペリクルフレーム１４にもペリクル１８が弛み
のない張られた状態で貼り付けられている。同様に、他
面側のペリクルフレーム１５及び１６にもペリクル１９
及び２０が弛みのない張られた状態で貼り付けられてい
る。ここでフオトマスク１１がある一定以上の厚み（例
えば、フオトマスク１１を感光基板に投影する投影光学
系のマスク側の焦点深度以上の厚み）を有しているなら
ば、この厚みがペリクル１９及び２０を貼り付けたとき
と同様の効果をもたらすので、この場合はペリクル１
９、２０及びペリクルフレーム１５、１６を省略して用
いるようにしても良い。
【００１５】以上の構成において、マスク１０では、フ
オトマスク１１を回路パターンに応じて分割部１１Ａに
より２つのパターン領域１２ａ及び１２ｂに分割し、回
路パターンと重ねずにパターン領域１２ａを囲むように
分割部１１Ａの右隣側にペリクルフレーム１３及び１５
を取り付け、同様に回路パターンと重ねずにパターン領
域１２ｂを囲むように分割部１１Ａの左隣側にペリクル
フレーム１４及び１６を取り付け、各ペリクルフレーム
１３〜１６にそれぞれペリクル１７〜２０を貼り付ける
ようにした。
オトマスク１１を回路パターンに応じて分割部１１Ａに
より２つのパターン領域１２ａ及び１２ｂに分割し、回
路パターンと重ねずにパターン領域１２ａを囲むように
分割部１１Ａの右隣側にペリクルフレーム１３及び１５
を取り付け、同様に回路パターンと重ねずにパターン領
域１２ｂを囲むように分割部１１Ａの左隣側にペリクル
フレーム１４及び１６を取り付け、各ペリクルフレーム
１３〜１６にそれぞれペリクル１７〜２０を貼り付ける
ようにした。
【００１６】このようにマスク１０では、回路パターン
の描かれていない分割部１１Ａを境界にして回路パター
ンを左右２つのパターン領域１２ａ及び１２ｂに分割し
たことにより、ペリクルフレーム１３〜１６をパターン
領域１２ａ及び１２ｂに応じた大きさに小型化すること
ができる。従つてマスク１０では、このペリクルフレー
ム１３〜１６に応じて適度な大きさに小型化されたペリ
クル１７〜２０が弛みのない張られた状態で貼り付けら
れる。
の描かれていない分割部１１Ａを境界にして回路パター
ンを左右２つのパターン領域１２ａ及び１２ｂに分割し
たことにより、ペリクルフレーム１３〜１６をパターン
領域１２ａ及び１２ｂに応じた大きさに小型化すること
ができる。従つてマスク１０では、このペリクルフレー
ム１３〜１６に応じて適度な大きさに小型化されたペリ
クル１７〜２０が弛みのない張られた状態で貼り付けら
れる。
【００１７】以上の構成によれば、マスク１０では、回
路パターンの描かれていない分割部１１Ａを境界にして
回路パターンを左右２つのパターン領域１２ａ及び１２
ｂに分割し、パターン領域１２ａ及び１２ｂに応じた大
きさのペリクルフレーム１３〜１６を回路パターンに重
ならないように取り付け、ペリクルフレーム１３〜１６
に応じた適度な大きさのペリクル１７〜２０を貼り付け
ることにより、ペリクルフレーム１３〜１６がペリクル
１７〜２０の張力により引つ張られ、内側にたわんで変
形することを防止できる。
路パターンの描かれていない分割部１１Ａを境界にして
回路パターンを左右２つのパターン領域１２ａ及び１２
ｂに分割し、パターン領域１２ａ及び１２ｂに応じた大
きさのペリクルフレーム１３〜１６を回路パターンに重
ならないように取り付け、ペリクルフレーム１３〜１６
に応じた適度な大きさのペリクル１７〜２０を貼り付け
ることにより、ペリクルフレーム１３〜１６がペリクル
１７〜２０の張力により引つ張られ、内側にたわんで変
形することを防止できる。
【００１８】またマスク１０では、回路パターンの描か
れていない分割部１１Ａを境界にして回路パターンを左
右２つのパターン領域１２ａ及び１２ｂに分割したこと
により、ペリクルフレーム１３〜１６に適度な大きさの
ペリクル１７〜２０を貼り付けることができ、かくして
ペリクル１７〜２０自体のたわみや変形を未然に防止す
ることができる。これにより、ペリクル交換等の操作時
にペリクル１７〜２０を破いてしまつたり、転写時の転
写不良を防止することができる。かくして、露光するパ
ターン面が大型化したマスク１０を用いて露光した場合
においても、分割した複数のパターン領域に応じたペリ
クルフレーム１３〜１６に取り付けられた小型化された
ペリクルにより、転写不良を出すことなく確実に転写し
得るマスクを実現できる。
れていない分割部１１Ａを境界にして回路パターンを左
右２つのパターン領域１２ａ及び１２ｂに分割したこと
により、ペリクルフレーム１３〜１６に適度な大きさの
ペリクル１７〜２０を貼り付けることができ、かくして
ペリクル１７〜２０自体のたわみや変形を未然に防止す
ることができる。これにより、ペリクル交換等の操作時
にペリクル１７〜２０を破いてしまつたり、転写時の転
写不良を防止することができる。かくして、露光するパ
ターン面が大型化したマスク１０を用いて露光した場合
においても、分割した複数のパターン領域に応じたペリ
クルフレーム１３〜１６に取り付けられた小型化された
ペリクルにより、転写不良を出すことなく確実に転写し
得るマスクを実現できる。
【００１９】（２）第２実施例 図２は、本発明の第２実施例に適用するマスク３０の全
体構成を示す。このマスク３０は、第１実施例のマスク
１０よりも更に回路パターンが大型化しており、フオト
マスク３１の一面が回路パターンの描画されているパタ
ーン面となつている。
体構成を示す。このマスク３０は、第１実施例のマスク
１０よりも更に回路パターンが大型化しており、フオト
マスク３１の一面が回路パターンの描画されているパタ
ーン面となつている。
【００２０】このパターン面の回路パターンは、パター
ンの描かれていない十字状の分割部３１Ａを境界にして
４つの領域３２ａ、３２ｂ、３２ｃ及び３２ｄに分割さ
れている。マスク１０では、所定の高さを有するペリク
ルフレーム３３が回路パターンと重ならずに領域３２ａ
を囲むように取り付けられると共に、ペリクルフレーム
３４が回路パターンと重ならずに領域３２ｂを囲むよう
に取り付けられている。同様に、所定の高さを有する正
方形状のペリクルフレーム３５及び３６が、回路パター
ンと重ならずに領域３２ｃ、３２ｄをそれぞれ囲むよう
に取り付けられている。
ンの描かれていない十字状の分割部３１Ａを境界にして
４つの領域３２ａ、３２ｂ、３２ｃ及び３２ｄに分割さ
れている。マスク１０では、所定の高さを有するペリク
ルフレーム３３が回路パターンと重ならずに領域３２ａ
を囲むように取り付けられると共に、ペリクルフレーム
３４が回路パターンと重ならずに領域３２ｂを囲むよう
に取り付けられている。同様に、所定の高さを有する正
方形状のペリクルフレーム３５及び３６が、回路パター
ンと重ならずに領域３２ｃ、３２ｄをそれぞれ囲むよう
に取り付けられている。
【００２１】一方、パターン面と対向する他面側におい
ても、所定の高さを有する正方形状のペリクルフレーム
３７〜４０が、回路パターンと重ならずに領域３２ａ〜
３２ｄをそれぞれ囲むようにしてペリクルフレーム３３
〜３６と対向した位置にそれぞれ取り付けられている。
ても、所定の高さを有する正方形状のペリクルフレーム
３７〜４０が、回路パターンと重ならずに領域３２ａ〜
３２ｄをそれぞれ囲むようにしてペリクルフレーム３３
〜３６と対向した位置にそれぞれ取り付けられている。
【００２２】またパターン面側のペリクルフレーム３３
〜３６には、正方形状のペリクル４１〜４４が弛みのな
い張られた状態で貼り付けられ、他面側のペリクルフレ
ーム３７〜４０にも正方形状のペリクル４５〜４８が弛
みのない張られた状態で貼り付けられている。ここで、
フオトマスク３１がある一定以上の厚みを有しているな
らば、この厚みがペリクル４５〜４８を貼り付けたとき
と同様の効果をもたらすので、ペリクル４５〜４８及び
ペリクルフレーム３７〜４０を省略して用いることがで
きる。
〜３６には、正方形状のペリクル４１〜４４が弛みのな
い張られた状態で貼り付けられ、他面側のペリクルフレ
ーム３７〜４０にも正方形状のペリクル４５〜４８が弛
みのない張られた状態で貼り付けられている。ここで、
フオトマスク３１がある一定以上の厚みを有しているな
らば、この厚みがペリクル４５〜４８を貼り付けたとき
と同様の効果をもたらすので、ペリクル４５〜４８及び
ペリクルフレーム３７〜４０を省略して用いることがで
きる。
【００２３】以上の構成において、マスク３０は、フオ
トマスク３１をパターンの描かれていない十字状の分割
部３１Ａを境界にして４つの領域３２ａ〜３２ｄに分割
し、回路パターンと重ならずに各領域３２ａ〜３２ｄを
囲むようにして正方形状のペリクルフレーム３３〜４０
を貼り付けると共に、各ペリクルフレーム３３〜４０に
もそれぞれ正方形状のペリクル４１〜４８を貼り付ける
ようにした。この場合、マスク３０では、各ペリクル４
１〜４８の形状が正方形となつていることにより、ペリ
クルフレーム３３〜４０に貼り付けられたペリクル４１
〜４８の張力が均等になつてたわみや変形がより生じ難
くなつている。
トマスク３１をパターンの描かれていない十字状の分割
部３１Ａを境界にして４つの領域３２ａ〜３２ｄに分割
し、回路パターンと重ならずに各領域３２ａ〜３２ｄを
囲むようにして正方形状のペリクルフレーム３３〜４０
を貼り付けると共に、各ペリクルフレーム３３〜４０に
もそれぞれ正方形状のペリクル４１〜４８を貼り付ける
ようにした。この場合、マスク３０では、各ペリクル４
１〜４８の形状が正方形となつていることにより、ペリ
クルフレーム３３〜４０に貼り付けられたペリクル４１
〜４８の張力が均等になつてたわみや変形がより生じ難
くなつている。
【００２４】このようにマスク３０は、フオトマスク３
１を回路パターンに応じて十字状の分割部３１Ａを境界
にして正方形状の４つの領域３２ａ〜３２ｄに分割した
ことにより、ペリクルフレーム３３〜４０を領域３２ａ
〜３２ｄに応じた大きさに小型化することができる。従
つてマスク３０は、このペリクルフレーム３３〜４０に
応じて適度な大きさに小型化された正方形状でなるペリ
クル４１〜４８が弛みのない張られた状態で貼り付けら
れている。
１を回路パターンに応じて十字状の分割部３１Ａを境界
にして正方形状の４つの領域３２ａ〜３２ｄに分割した
ことにより、ペリクルフレーム３３〜４０を領域３２ａ
〜３２ｄに応じた大きさに小型化することができる。従
つてマスク３０は、このペリクルフレーム３３〜４０に
応じて適度な大きさに小型化された正方形状でなるペリ
クル４１〜４８が弛みのない張られた状態で貼り付けら
れている。
【００２５】以上の構成によれば、マスク３０は、回路
パターンの描かれていない十字状の分割部３１Ａを境界
にして回路パターンを４つの領域３２ａ〜３２ｄに分割
し、領域３２ａ〜３２ｄに応じた大きさの正方形状のペ
リクルフレーム３３〜４０を回路パターンに重ならない
ように取り付け、ペリクルフレーム３３〜４０に応じた
適度な大きさのペリクル４１〜４８を貼り付けることに
より、ペリクルフレーム３３〜４０がペリクル４１〜４
８の張力により引つ張られ、内側にたわんで変形するこ
とを防止できる。
パターンの描かれていない十字状の分割部３１Ａを境界
にして回路パターンを４つの領域３２ａ〜３２ｄに分割
し、領域３２ａ〜３２ｄに応じた大きさの正方形状のペ
リクルフレーム３３〜４０を回路パターンに重ならない
ように取り付け、ペリクルフレーム３３〜４０に応じた
適度な大きさのペリクル４１〜４８を貼り付けることに
より、ペリクルフレーム３３〜４０がペリクル４１〜４
８の張力により引つ張られ、内側にたわんで変形するこ
とを防止できる。
【００２６】またマスク３０は、回路パターンの描かれ
ていない十字状の分割部３１Ａを境界にして回路パター
ンを４つの領域３２ａ〜３２ｄに分割したことにより、
ペリクルフレーム３３〜４０に適度な大きさのペリクル
４１〜４８を貼り付けることができ、かくしてペリクル
４１〜４８自体のたわみや変形を未然に防止することが
できる。これにより、ペリクル交換等の操作時にペリク
ル４１〜４８を破いてしまつたり、転写時の転写不良を
防止することができる。かくして、露光するパターン面
が大型化したマスク３０を用いて露光した場合において
も、分割した複数のパターン領域に応じたペリクルフレ
ーム３３〜４０に取り付けられた小型化されたペリクル
により、転写不良を出すことなく確実に転写し得るマス
クを実現できる。
ていない十字状の分割部３１Ａを境界にして回路パター
ンを４つの領域３２ａ〜３２ｄに分割したことにより、
ペリクルフレーム３３〜４０に適度な大きさのペリクル
４１〜４８を貼り付けることができ、かくしてペリクル
４１〜４８自体のたわみや変形を未然に防止することが
できる。これにより、ペリクル交換等の操作時にペリク
ル４１〜４８を破いてしまつたり、転写時の転写不良を
防止することができる。かくして、露光するパターン面
が大型化したマスク３０を用いて露光した場合において
も、分割した複数のパターン領域に応じたペリクルフレ
ーム３３〜４０に取り付けられた小型化されたペリクル
により、転写不良を出すことなく確実に転写し得るマス
クを実現できる。
【００２７】（３）他の実施例 なお上述の第１実施例においては、フオトマスク１１の
２つに分割した回路パターンのパターン領域１２ａ及び
１２ｂをパターン面側及び対向面側から４個のペリクル
フレーム１３〜１６で囲むように取り付けた場合につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、図３に示すマスク
５０のように、中央の分割部１１Ａを境界として中央部
で２分割された一体型のペリクルフレーム５１及び５２
によりパターン領域１２ａ及び１２ｂを囲むようにパタ
ーン面側及び他面側から取り付け、当該ペリクルフレー
ム５１及び５２にペリクル５３、５４及び５５、５６を
貼り付けるようにしても良い。この場合、ペリクルフレ
ーム５１及び５２は、２分割する中央の部材５１Ａが外
枠の部材５１Ｂと異なるものを組み合わせて用いても良
く、またフオトマスク１１がある一定の厚さを有してい
るならば、第１実施例と同様にペリクルフレーム５２及
びペリクル５５、５６を省略して用いても良い。
２つに分割した回路パターンのパターン領域１２ａ及び
１２ｂをパターン面側及び対向面側から４個のペリクル
フレーム１３〜１６で囲むように取り付けた場合につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、図３に示すマスク
５０のように、中央の分割部１１Ａを境界として中央部
で２分割された一体型のペリクルフレーム５１及び５２
によりパターン領域１２ａ及び１２ｂを囲むようにパタ
ーン面側及び他面側から取り付け、当該ペリクルフレー
ム５１及び５２にペリクル５３、５４及び５５、５６を
貼り付けるようにしても良い。この場合、ペリクルフレ
ーム５１及び５２は、２分割する中央の部材５１Ａが外
枠の部材５１Ｂと異なるものを組み合わせて用いても良
く、またフオトマスク１１がある一定の厚さを有してい
るならば、第１実施例と同様にペリクルフレーム５２及
びペリクル５５、５６を省略して用いても良い。
【００２８】また上述の第２実施例においては、フオト
マスク３１の４つに分割した回路パターンの領域３２ａ
〜３２ｄをパターン面側及び対向面側から８個のペリク
ルフレーム３３〜４０により囲むように取り付けた場合
について述べたが、本発明はこれに限らず、図４に示す
マスク６０のように、十字状の分割部３１Ａを境界とし
て均等に４分割された一体型のペリクルフレーム６１及
び６２により領域３２ａ〜３２ｄを囲むようにパターン
面側及び他面側から取り付け、当該ペリクルフレーム６
１及び６２にペリクル６３〜６６及び６７〜７０を貼り
付けるようにしても良い。この場合、ペリクルフレーム
６１及び６２は、４分割する中央の部材６１Ａが外枠の
部材６１Ｂと異なるものを組み合わせて用いても良く、
またフオトマスク３１がある一定の厚さを有しているな
らば、第２実施例と同様にペリクルフレーム６２及びペ
リクル６７〜７０を省略して用いても良い。
マスク３１の４つに分割した回路パターンの領域３２ａ
〜３２ｄをパターン面側及び対向面側から８個のペリク
ルフレーム３３〜４０により囲むように取り付けた場合
について述べたが、本発明はこれに限らず、図４に示す
マスク６０のように、十字状の分割部３１Ａを境界とし
て均等に４分割された一体型のペリクルフレーム６１及
び６２により領域３２ａ〜３２ｄを囲むようにパターン
面側及び他面側から取り付け、当該ペリクルフレーム６
１及び６２にペリクル６３〜６６及び６７〜７０を貼り
付けるようにしても良い。この場合、ペリクルフレーム
６１及び６２は、４分割する中央の部材６１Ａが外枠の
部材６１Ｂと異なるものを組み合わせて用いても良く、
またフオトマスク３１がある一定の厚さを有しているな
らば、第２実施例と同様にペリクルフレーム６２及びペ
リクル６７〜７０を省略して用いても良い。
【００２９】さらに上述の第１及び第２実施例において
は、フオトマスク１１及び３１の回路パターンを２分割
及び４分割するようにした場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、マスク１０及び３０の回路パターン
の大きさに応じて８分割等の他の種々の分割数で分割す
るようにしても良い。
は、フオトマスク１１及び３１の回路パターンを２分割
及び４分割するようにした場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、マスク１０及び３０の回路パターン
の大きさに応じて８分割等の他の種々の分割数で分割す
るようにしても良い。
【００３０】さらに上述の第１及び第２実施例において
は、本発明のマスク１０及び３０を液晶デイスプレイ用
パネルを作成する場合の回路パターンを転写するために
用いるようにした場合について述べたが、本発明はこれ
に限らず、転写する回路パターンが大型化した場合のプ
リント配線基板等の他の種々のものに用いても良い。
は、本発明のマスク１０及び３０を液晶デイスプレイ用
パネルを作成する場合の回路パターンを転写するために
用いるようにした場合について述べたが、本発明はこれ
に限らず、転写する回路パターンが大型化した場合のプ
リント配線基板等の他の種々のものに用いても良い。
【００３１】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、回路パタ
ーンの配列に基づいてマスク上に分割して配設された複
数のペリクルフレーム上にペリクルを貼り付けるように
する。これによりマスクが大型化した場合においても、
回路パターンの配列に基づいてペリクルフレーム及びペ
リクルを小型化でき、かくしてペリクルフレーム及びペ
リクルの変形を防止して転写不良を出すことなく確実に
転写し得るマスクを実現できる。
ーンの配列に基づいてマスク上に分割して配設された複
数のペリクルフレーム上にペリクルを貼り付けるように
する。これによりマスクが大型化した場合においても、
回路パターンの配列に基づいてペリクルフレーム及びペ
リクルを小型化でき、かくしてペリクルフレーム及びペ
リクルの変形を防止して転写不良を出すことなく確実に
転写し得るマスクを実現できる。
【００３２】また、マスク上に描かれた回路パターンが
複数のパターン領域と、該複数のパターン領域を分割す
る分割部とから構成され、複数のパターン領域に応じて
ほぼ正方形状のペリクルフレームを取り付け、該ペリク
ルフレームに応じた正方形状のペリクルを貼り付けるよ
うにする。これにより、正方形状のペリクルの張力が均
等に働くのでペリクルフレームを内側にたわませること
がなく、ペリクルフレーム及びペリクルの変形を防止し
得、転写不良を出すことなく確実に転写し得るマスクを
実現できる。
複数のパターン領域と、該複数のパターン領域を分割す
る分割部とから構成され、複数のパターン領域に応じて
ほぼ正方形状のペリクルフレームを取り付け、該ペリク
ルフレームに応じた正方形状のペリクルを貼り付けるよ
うにする。これにより、正方形状のペリクルの張力が均
等に働くのでペリクルフレームを内側にたわませること
がなく、ペリクルフレーム及びペリクルの変形を防止し
得、転写不良を出すことなく確実に転写し得るマスクを
実現できる。
【図１】本発明の第１実施例によるマスクの構成を示す
概略図である。
概略図である。
【図２】本発明の第２実施例によるマスクの構成を示す
概略図である。
概略図である。
【図３】第１実施例の変形例によるマスクの構成を示す
概略図である。
概略図である。
【図４】第２実施例の変形例によるマスクの構成を示す
概略図である。
概略図である。
【図５】従来のマスクの構成を示す概略図である。
１、１０、３０、５０、６０……マスク、２、１１、３
１……フオトマスク、３、４、１３〜１６、３３〜４
０、５１、５２、６１、６２……ペリクルフレーム、
５、６、１７〜２０、４１〜４８、５３〜５６、６３〜
７０……ペリクル。
１……フオトマスク、３、４、１３〜１６、３３〜４
０、５１、５２、６１、６２……ペリクルフレーム、
５、６、１７〜２０、４１〜４８、５３〜５６、６３〜
７０……ペリクル。
Claims (4)
- 【請求項１】回路パターンを有するマスクであつて、 前記回路パターンの配列に基づいて、前記マスク上に分
割して配設された複数のペリクルフレームと、 前記ペリクルフレームに貼り付けられたペリクルとを備
えたことを特徴とするマスク。 - 【請求項２】前記回路パターンは、複数のパターン領域
と、該複数のパターン領域を分割する分割部とから構成
されており、 前記ペリクルフレームは、前記複数のパターン領域のそ
れぞれに応じて配設されていることを特徴とする請求項
１に記載のマスク。 - 【請求項３】前記回路パターンは、複数のパターン領域
と、該複数のパターン領域を分割する分割部とから構成
されており、 前記ペリクルフレームは、前記複数のパターン領域に応
じて一体型に形成されていることを特徴とする請求項１
に記載のマスク。 - 【請求項４】前記ペリクルフレームは、ほぼ正方形状で
あることを特徴とする請求項１、請求項２及び請求項３
に記載のマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9006696A JPH09258433A (ja) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9006696A JPH09258433A (ja) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09258433A true JPH09258433A (ja) | 1997-10-03 |
Family
ID=13988176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9006696A Pending JPH09258433A (ja) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09258433A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009282298A (ja) * | 2008-05-22 | 2009-12-03 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルおよびペリクルの製造方法 |
| JP2013235087A (ja) * | 2012-05-08 | 2013-11-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルの製造方法 |
| CN105093806A (zh) * | 2015-08-19 | 2015-11-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种uv掩膜板及其曝光方法 |
| KR20150134919A (ko) * | 2014-05-23 | 2015-12-02 | 주식회사 에프에스티 | 대형 포토마스크용 펠리클 |
| KR20200066540A (ko) * | 2018-11-30 | 2020-06-10 | 한양대학교 산학협력단 | 펠리클 홀더, 펠리클 검사 장치, 및 펠리클 검사 방법 |
| US11137693B2 (en) * | 2018-11-30 | 2021-10-05 | Iucf-Hyu (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University) | Pellicle holder, pellicle inspection apparatus, and pellicle inspection method |
| CN114859650A (zh) * | 2021-02-05 | 2022-08-05 | 爱思开海力士有限公司 | Euv光刻用表膜及其制造方法 |
-
1996
- 1996-03-19 JP JP9006696A patent/JPH09258433A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009282298A (ja) * | 2008-05-22 | 2009-12-03 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルおよびペリクルの製造方法 |
| JP2013235087A (ja) * | 2012-05-08 | 2013-11-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルの製造方法 |
| KR20150134919A (ko) * | 2014-05-23 | 2015-12-02 | 주식회사 에프에스티 | 대형 포토마스크용 펠리클 |
| CN105093806A (zh) * | 2015-08-19 | 2015-11-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种uv掩膜板及其曝光方法 |
| CN105093806B (zh) * | 2015-08-19 | 2019-12-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种uv掩膜板及其曝光方法 |
| KR20200066540A (ko) * | 2018-11-30 | 2020-06-10 | 한양대학교 산학협력단 | 펠리클 홀더, 펠리클 검사 장치, 및 펠리클 검사 방법 |
| US11137693B2 (en) * | 2018-11-30 | 2021-10-05 | Iucf-Hyu (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University) | Pellicle holder, pellicle inspection apparatus, and pellicle inspection method |
| CN114859650A (zh) * | 2021-02-05 | 2022-08-05 | 爱思开海力士有限公司 | Euv光刻用表膜及其制造方法 |
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