JPH09262230A

JPH09262230A - Ｘ線ｃｔ装置

Info

Publication number: JPH09262230A
Application number: JP8077447A
Authority: JP
Inventors: Tatsuro Suzuki; 達郎鈴木; Yasuo Saito; 泰男齊藤
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1996-03-29
Filing date: 1996-03-29
Publication date: 1997-10-07

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、ヘリカルスキャンを効果的に行う
ことで、高画質の画像データを得ることが可能なＸ線Ｃ
Ｔ装置を提供することを目的とする。【解決手段】Ｘ線を寝台上の被検体に曝射する複数の
Ｘ線ビーム発生源９と、Ｘ線ビーム発生源９から曝射さ
れたＸ線を検出する検出器１５と、前記複数のＸ線ビー
ム発生源９を前記被検体の回りに回転させる回転手段
と、前記複数のＸ線ビーム発生源９の前記回転軸方向の
間隔を設定するＸ線ビーム発生源スライド部１１と、を
有して前記少なくとも２つのＸ線発生源９を回転させる
と共に寝台を回転軸方向に移動してヘリカルスキャンを
行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線ＣＴ装置に関
し、特に、ヘリカルスキャンを行うＸ線ＣＴ装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、Ｘ線ビームを曝射するＸ線ビーム
発生源（Ｘ線管）等を備える回転部を連続的に回転させ
る連続回転型ＣＴが種々提案されている。このような連
続回転型ＣＴは、架台（ガントリー）に固定された固定
部から前記回転部への高電圧の供給や信号の伝達を行う
スリップリングや、前記固定部と回転部との信号の伝達
を行う光を媒体にした信号伝達手段を用いることによっ
て実現されている。また、この連続回転型ＣＴには、連
続回転型の第三世代ＣＴと、連続回転型の第四世代ＣＴ
とがある。

【０００３】連続回転型の第三世代ＣＴは、Ｘ線ビーム
発生源毎にこのＸ線ビーム発生源と同期して回転する検
出器を有する。前記検出器としては、一列検出器と二次
元検出器があり、ぞれぞれ図３８（ａ），（ｂ）に示
す。図３８（ａ）に示すように一列検出器１００は、Ｘ
線ビーム発生源１０１から曝射されるＸ線ビームに対応
させて検出部１０３を円弧状（もしくは直線状）に一列
に配列したものである。また、二次元検出器１１０は、
図３８（ｂ）に示すようにＸ線ビーム発生源１１１の回
転軸方向（以下、単に回転軸方向と記す）に円弧状の検
出部列１１３を複数有している。尚、二次元検出器とし
ては、二列の検出部列を有する検出器、直線状の検出部
列を有する平面検出器、イメージインテンシファイア
（Ｉ．Ｉ．）も含むものである。

【０００４】連続回転型の第四世代ＣＴを図３９に示
す。図３９に示すように連続回転型の第四世代ＣＴは、
回転軸を中心に所定の円周上を回転するＸ線ビーム発生
源１２１と、台架に固定され、前記回転軸を中心とし、
内面を検出面とする円筒状に配列した検出器１２３とを
有している。

【０００５】また、複数のＸ線ビーム発生源をとそれに
対応する検出器を持ち、前記Ｘ線ビーム発生源をその回
転軸と平行な方向に移動させる移動手段を有するＸ線Ｃ
Ｔ装置において、スライス厚に応じて前記Ｘ線ビーム発
生源を移動可能としたものが提案されている。尚、Ｘ線
ビーム発生源と、このＸ線ビーム発生源と同期して回転
する検出器とを有する第三世代ＣＴの場合には、Ｘ線ビ
ーム発生源とともに検出器も回転軸と平行な方向に移動
させることを含んでいる。ここでスライス厚とは、入射
したＸ線に対する検出器列の回転軸方向感度分布の半値
幅を回転中心に投影した値として定義されるのが一般的
である。尚、その検出器列に入射するファン状のＸ線ビ
ームの回転中心における厚さと考えても良い。

【０００６】前記Ｘ線ビーム発生源をその回転軸と平行
な方向に移動させるのは、スライス厚を変更した場合、
撮影されない部分やオーバーラップして撮影される部分
が生じるのを防ぐためである。これにより、いずれのス
ライス厚を選択しても連続した複数スライスのコンベン
ショナルスキャンを行うことが可能となる。尚、コンベ
ンショナルスキャンとは、スキャン中に被検体を載置す
る天板の移動を行わないスキャンモードである。

【０００７】また、連続回転型の第三世代ＣＴ、連続回
転型の第四世代ＣＴでは、前記回転部の回転とともに連
続的に天板を移動させることで、被検体の画像データを
螺旋状に収集するヘリカルスキャンを行うことも可能で
ある。さらに、連続回転型の第三世代ＣＴ、連続回転型
の第四世代ＣＴにおいて、二次元検出器を有するもので
ヘリカルスキャンを行った場合は、ヘリカルスキャンの
速度向上、スライス方向分解能向上、パーシャルボリュ
ームアーチファクト（単位体積の一部を占める異なる物
質の割合によりＣＴ値が変化することによって生じるア
ーチファクト）の軽減といった効果がある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一列検
出器を有するＸ線ＣＴ装置（連続回転型の第三世代Ｃ
Ｔ、連続回転型の第四世代ＣＴを含む）におけるヘリカ
ルスキャンの軌跡は、横軸に被検体における回転軸方向
のスキャン位置、縦軸にＸ線ビーム発生源または検出器
の回転角度をとると、図４０のように表される。このヘ
リカルスキャンの軌跡は、三次元的に考えると、回転軸
を中心とした螺旋軌道となる。

【０００９】ここで回転軸方向のスキャン位置とは、Ｘ
線ビーム発生源の焦点と対象とする検出器列へ入射した
Ｘ線の回転軸方向の中央とで規定される平面と回転軸と
の交点の位置により表す。その検出器列に入射するファ
ン状Ｘ線ビームのビーム厚方向の中央が回転軸と交わる
点と考えても良い。

【００１０】近年、回転軸方向のスキャン速度（ヘリカ
ルスキャン速度）を高速化することが求められている
が、１回転当たりの点板送り速度を固定したとすると、
前記高速化のためには、回転部の速度を高速化しなけれ
ばならない。しかし、前記回転部の高速化は、機構的に
限界があり、ヘリカルスキャン速度は、回転機構の能力
により限定されてしまうという問題がある。

【００１１】高速でヘリカルスキャンを行う方法とし
て、ｎ列の検出器（二次元検出器）を使用する方法があ
る。このｎ列の検出器を有するＸ線ＣＴ装置の場合に
は、１回転当たりの天板送りをトータルのスライス厚と
一致させた場合、ヘリカルスキャン速度をｎ倍とするこ
とができる。

【００１２】二次元検出器として例えば三列検出器を有
するＸ線ＣＴ装置におけるヘリカルスキャンの軌跡は、
横軸に被検体における回転軸方向のスキャン位置、縦軸
にＸ線ビーム発生源または検出器の回転角度をとると、
図４１のように表される。このヘリカルスキャンの軌跡
は、三次元的に考えると、回転軸を中心とした複数の螺
旋軌道となる。

【００１３】しかし、Ｘ線ビーム発生源を含んで回転軸
に垂直な面（ミッドプレーン）から離れた検出器列とな
るにしたがって、核検出器列に入るＸ線ビームは、前記
ミッドプレーンに対する角度（コーン角度）が大きくな
るため画質劣化を招く。つまり、高速とはなるが、画質
は低下することになる。

【００１４】以上のように高画質かつ高速なヘリカルス
キャンを行うことは、従来の方法では限界がある。そこ
で、前記コーン角度の影響のない高速ヘリカルスキャン
の方法として、複数のＸ線ビーム発生源を有するＸ線Ｃ
Ｔ装置でのヘリカルスキャンが考えられる。

【００１５】しかし、前記コンベンショナルスキャンで
連続した複数スライスが撮れるようにＸ線ビーム発生源
の回転軸方向の位置を固定すると、複数のＸ線ビーム発
生源によるヘリカルスキャンの軌跡は等間隔にならない
という問題が生じる。これを２つのＸ線ビーム発生源を
有するＸ線ＣＴ装置を例にとって説明する。

【００１６】例えば、図４２に示すように、２つのＸ線
ビーム発生源Ａ，Ｂが、角度１２０度、回転軸方向の間
隔Ｉ_CONVに設定され、コンベンショナルスキャンが行わ
れるとする。このとき、連続した２つのスライス画像を
得るためには、スライス厚を間隔Ｉ_CONVとすることにな
る。

【００１７】しかしこの間隔Ｉ_CONVのまま天板スライド
量を１回転当たり、間隔Ｉ_CONVの２倍としたヘリカルス
キャンを行うと、図４３に示すように、Ｘ線ビーム発生
源Ａによる軌跡からＸ線ビーム発生源Ｂによる軌跡まで
の回転軸方向の間隔Ｉ_hel1と、Ｘ線ビーム発生源Ｂによ
る軌跡からＸ線ビーム発生源Ａによる軌跡までの回転軸
方向の間隔Ｉ_hel2とは異なる値となり、２つのヘリカル
スキャンの軌跡は等間隔にならない（Ｉ_hel1≠Ｉ_hel2，
２×Ｉ_CONV＝Ｉ_hel1＋Ｉ_hel2）。

【００１８】図４３において、各スライス厚を間隔Ｉ
_CONVとしたとき、スライス厚を考慮して図に示すと図４
４のようになる。このような等間隔でないヘリカルスキ
ャンではその軌跡に重なりやギャップができてしまうこ
とが分かる。このため、オーバーラップしてスキャンし
た部分とスキャンしてない欠落部分が生じ、画質の劣化
となる。

【００１９】また、図４５に示すように３つのＸ線ビー
ム発生源Ｃ，Ｄ，Ｅが角度１２０度、回転軸方向間隔Ｉ
_CONVに設定され、コンベンショナルスキャンが行われた
とする。しかしこの間隔Ｉ_CONVのまま天板スライド量を
１回転当たり、間隔Ｉ_CONVの３倍としたヘリカルスキャ
ンを行うと、図４６に示すように、３つのＸ線ビーム発
生源Ｃ，Ｄ，Ｅによるヘリカルスキャンの軌跡は互いに
重なってしまうことになる。このように、コンベンショ
ナルスキャンのＸ線ビーム発生源の間隔の設定ではヘリ
カルスキャンには適用できないことが分かる。

【００２０】従って、コンベンショナルスキャンのＸ線
ビーム発生源の間隔の設定をヘリカルスキャンに適用し
た場合、それぞれのＸ線ビーム発生源に対応したヘリカ
ルスキャンの軌跡が等間隔でなく、スライス厚を考慮す
ると、その軌跡にはオーバーラップや欠落部分が生じ、
画質の劣化を招くという問題がある。

【００２１】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
で、ヘリカルスキャンを効果的に行うことで、高画質の
画像データを得ることが可能なＸ線ＣＴ装置を提供する
ことを目的とする。

【００２２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、Ｘ線を寝台上の被検体に曝射する複数のＸ線
ビーム発生源と、このＸ線ビーム発生源から曝射された
Ｘ線を検出する検出器と、前記複数のＸ線ビーム発生源
を前記被検体の回りに回転させる回転手段と、前記複数
のＸ線ビーム発生源の回転軸方向の間隔を設定する設定
手段とを有して前記少なくとも２つのＸ線発生源を回転
させると共に寝台を回転軸方向に移動してヘリカルスキ
ャンを行うことを要旨とする。

【００２３】本発明のＸ線ＣＴ装置にあっては、Ｘ線ビ
ーム発生源設定手段により、ヘリカルスキャンに使用さ
れる少なくとも２つのＸ線ビーム発生源の前記回転軸方
向の間隔が設定されるので、ヘリカルスキャンを効果的
に行うことができ、高画質の画像データを得ることがで
きる。

【００２４】また、前記設定手段は、ヘリカルスキャン
に使用する少なくとも２つの前記Ｘ線ビーム発生源のヘ
リカルスキャンによる螺旋軌道が互いに等間隔となるよ
うに前記複数のＸ線ビーム発生源の前記回転軸方向の間
隔を設定するようにしても良い。この場合、コーン角度
の影響の無いマルチスライスヘリカルスキャンが可能と
なる。さらに、前記設定手段は、ヘリカルスキャンをす
る回転軸方向の領域を複数の領域に分け、それぞれの領
域に対し１つのＸ線ビーム発生源とその対応した検出器
でヘリカルスキャンを行うように、ヘリカルスキャンに
使用する少なくとも２つの前記Ｘ線ビーム発生源の回転
軸方向の間隔を設定するようにしても良い。この場合、
回転軸方向の領域を複数の領域に分け、それぞれの領域
に対し、１つのＸ線びーむ発生源と対応した検出器でヘ
リカルスキャンをするように設定する。これにより、前
記ヘリカルスキャンの軌道が互いに等間隔となるように
設定する場合と比べ、高画質（同じスキャン速度の場
合）となる。さらに、前記設定手段は、前記領域の数を
前記Ｘ線ビーム発生源の数と同一数とし、それぞれの領
域に対して１つのＸ線ビーム発生源と対応した検出器で
ヘリカルスキャンを行うように前記複数のＸ線ビーム発
生源の回転軸方向の間隔を設定するようにしても良い。
この場合、１回でヘリカルスキャンが完了する。さら
に、前記設定手段は、前記領域の境界についてはオーバ
ーラップさせてヘリカルスキャンを行うように前記ヘリ
カルスキャンに使用する少なくとも２つの前記Ｘ線ビー
ム発生源の前記回転軸方向の間隔を設定するようにして
も良い。この場合、この場合、互いの領域のデータを使
用しないで再構成できるので、境界部の画質が向上す
る。また、前記検出器により収集されたデータの内、前
記オーバーラップさせた部分の少なくとも一部について
は、重み付けを線形とした加算平均を行うようにしても
良い。この場合、境界部でのアーチファクトや不連続性
を無くすことができる。また、前記設定手段は、ヘリカ
ルスキャンに使用する少なくとも２つのＸ線ビーム発生
源のヘリカルスキャンによる螺旋軌道の少なくとも一部
が同一螺旋軌道となるように前記少なくとも２つのＸ線
ビーム発生源の前記回転軸方向の間隔を設定するように
しても良い。この場合、ヘリカルスキャンによる螺旋軌
道の異なりが原因のアーチファクトを無くすことができ
る。また、前記Ｘ線ビーム発生源は、ヘリカルスキャン
を行う領域にのみＸ線を曝射するようにその曝射のタイ
ミングがそれぞれ制御されるようにしても良い。この場
合、被爆を最小限に抑えることができる。また、前記検
出器は、対応するＸ線ビーム発生源と共に同期して前記
回転手段により回転されるようにしても良い。さらに、
前記検出器は、内面を検出面とする円筒状のものとして
も良い。また、前記設定手段は、Ｘ線ビーム発生源と共
に対応する検出器も前記回転軸方向に前記Ｘ線ビーム発
生源と同一量だけ移動させるようにしても良い。この場
合、Ｘ線入射位置が一定となるので検出器感度を常に同
じに保つことができる。また、検出器の回転軸方向の幅
を小さくすることができる。さらに、前記設定手段は、
前記Ｘ線ビーム発生源と、それに対応する検出器を同一
の固定部材上に固定して前記固定部材ごと前記Ｘ線ビー
ム発生源と前記検出器を移動させるようにしても良い。
この場合、Ｘ線発生源と検出器の移動量が同じであるこ
とを保証できる。また、前記検出器は、検出セグメント
を二次元的に配列した二次元検出器としても良い。ま
た、前記ヘリカルスキャンを複数回、一連のシーケンス
として行う手段をさらに備えるようにしても良い。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る実施の形態を
図面を参照して説明する。図１は本発明に係るＸ線ＣＴ
装置の第１の実施形態を示したブロック図である。尚、
第１の実施携帯のＸ線ＣＴ装置１は、２つのＸ線ビーム
発生源を有する場合である。

【００２６】第１の実施形態のＸ線ＣＴ装置１は、ヘリ
カルスキャンにおいて２つのＸ線ビーム発生源による軌
跡が、互いに等間隔の螺旋軌道となるように前記２つの
Ｘ線ビーム発生源の間隔を設定するものである。尚ここ
では、連続回転型の第３世代ＣＴに適用した場合を例に
して説明する。

【００２７】図１に示すように、第１の実施形態のＸ線
ＣＴ装置１は、中央制御ユニット３と、高電圧発生器５
と、架台コントローラ７と、Ｘ線ビーム発生源９-1，９
-2と、Ｘ線ビーム発生源スライド部１１と、プリコリメ
ータコントローラ１３と、検出器１５-1，１５-2と、デ
ータ収集部１７-1，１７-2と、画像再構成ユニット１９
と、画像表示ユニット２１と、データ保存ユニット２３
と、寝台２５と、寝台コントローラ２７と、天板スライ
ドコントローラ２９とを有している。

【００２８】中央制御ユニット３は、操作者により図示
しない入力装置を用いて入力されたヘリカルスキャン条
件を基に、ヘリカルスキャンにおいて、Ｘ線ビーム発生
源９-1，９-2による軌跡が、互いに等間隔の螺旋軌道と
なるようにＸ線ビーム発生源９-2の設定位置を演算する
とともに、Ｘ線ビームの曝射タイミングを演算する。ま
た、中央制御ユニット３は、前記Ｘ線ビーム発生源９-2
の設定位置と、Ｘ線ビーム発生源スライド制御信号と、
前記入力されたヘリカルスキャン条件とを基にして、Ｘ
線ビーム発生源９-2の設定位置を示すＸ線ビーム発生源
スライド制御信号と、プリコリメータ幅を示すプリコリ
メータ幅制御信号とを架台コントローラ７に出力し、ま
た、前記Ｘ線ビームの曝射タイミングを示すＸ線ビーム
曝射タイミング制御信号を高電圧発生器５に出力し、さ
らに、データ収集のタイミングを示すデータ収集制御信
号をデータ収集部１７-1，１７-2に出力し、さらに、天
板２５ａの移動量を示す天板スライド制御信号を寝台コ
ントローラ２７に出力する。

【００２９】高電圧発生器５は、中央制御ユニット３か
ら出力されたＸ線ビーム曝射タイミング制御信号を基
に、Ｘ線管９ａ-1，９ａ-2に対し、電子加速用高電圧と
フィラメント加熱用電流を供給する。尚ここでは、２つ
のＸ線ビーム発生源９-1，９-2で１つの高電圧発生器５
を共用しているが、Ｘ線ビーム発生源９-1，９-2毎に高
電圧発生器５を備えるようにしても良い。

【００３０】架台コントローラ７は、中央制御ユニット
３から出力されたＸ線ビーム発生源スライド制御信号を
Ｘ線ビーム発生源スライド部１１に対して出力する。さ
らに架台コントローラ７は、中央制御ユニット３から出
力されたプリコリメータ幅制御信号をプリコリメータコ
ントローラ１３に対して出力する。さらに、架台コント
ローラ７は、中央制御ユニット３から出力された制御信
号を基に、図示しない回転部の回転制御を行う。

【００３１】Ｘ線ビーム発生源９-1，９-2は、Ｘ線を曝
射するＸ線管９ａ-1，９ａ-2と、Ｘ線管９ａ-1，９ａ-2
のＸ線曝射側に設けられたスリット状の開口部（図示せ
ず）を備えるプリコリメータ９ｂ-1，９ｂ-2を有し、高
電圧発生器５から供給される電子加速用高電圧とフィラ
メント加熱用電流によってＸ線管９ａから曝射したＸ線
を、プリコリメータ９ｂ-1，９ｂ-2を介してファンビー
ムとして曝射する。

【００３２】Ｘ線ビーム発生源スライド部１１は、架台
コントローラ７から出力されたＸ線ビーム発生源スライ
ド制御信号を基に、Ｘ線ビーム発生源９-2の位置をスラ
イドする。図２（ａ），（ｂ）にＸ線ビーム発生源スラ
イド部１１の一例を示す。尚、図２（ａ）はＸ線ビーム
発生源スライド部１１の正面図であり、図２（ｂ）はそ
の側面図である。

【００３３】図２に示すようにＸ線ビーム発生源スライ
ド部１１は、回転部のフレーム４１の上面に設けられた
アクチュエータ４３と、アクチュエータ４３に接続され
たボールネジ軸４５と、ボールネジ軸４５の回転角度に
応じてボールネジ軸４５上を移動するボールネジブロッ
ク４９とを有する。このボールネジブロック４９上にス
ライドフレーム４７を介してＸ線ビーム発生源９-2が設
置されている。また、ボールネジ軸４５の両端部に対応
するフレーム４１上にはガイド５１がそれぞれ設けられ
ている。尚、ボールネジ軸４５、ボールネジブロック４
９およびガイド５１は、プリコリメータを挟み、両側に
それぞれ設けられている。尚、アクチュエータ４３の回
転は図示しないベルトを介して他方のボールネジ軸４５
に伝達される。

【００３４】このため、アクチュエータ４３を回転させ
ることにより、ガイド５１内をボールネジブロック４９
がボールネジ軸４５に沿って移動し、これにより、ボー
ルネジブロック４９の上面のスライドフレーム４７に設
置されたＸ線ビーム発生源９-2が移動する。尚、アクチ
ュエータ４１の回転量は、架台コントローラ７から出力
されるＸ線ビーム発生源スライド制御信号を基に、Ｘ線
ビーム発生源スライドコントローラ５３によって制御さ
れる。また、アクチュエータ４３としては、位置制御サ
ーボコントローラとモータを使用しても良いし、パルス
モータを使用しても良い。

【００３５】尚、Ｘ線ビーム発生源スライド部１１は、
Ｘ線ビーム発生源９-2から曝射されるＸ線ビームを回転
軸方向に移動できれば、いずれのものを用いても良い。
例えばＸ線ビーム発生源９-2内部でターゲットとカソー
ドを回転軸方向に移動させる。Ｘ線ビーム発生源９-2内
部で複数のターゲットとカソードを設け、使用するター
ゲットとカソードを切り換える。また、この切り換えと
前記ターゲットとカソードの移動を組み合わせる。ま
た、電子ビームを電磁界により振り、Ｘ線ビーム焦点位
置を移動させる。さらに、前記のものを組み合わせる。
等がある。

【００３６】プリコリメータコントローラ１３-1，１３
-2は、架台コントローラ７から出力されたプリコリメー
タ幅制御信号を基に、プリコリメータ９ｂ-1，９ｂ-2を
このプリコリメータ幅制御信号に対応するスリット幅
（プリコリメータ幅）にする。

【００３７】検出器１５-1，１５-2は、Ｘ線ビーム発生
源９-1，９-2から曝射され、被検体を通過したＸ線を電
気信号に変換する。また、検出器１５-2は、図３に示す
ようにＸ線ビーム発生源９-2を最大移動幅Ｌ移動させて
もＸ線ビームを検出可能な幅を有する。尚、図３では、
Ｘ線ビーム発生源９-2や検出器１５-2の回転方向の取り
付け角度差を説明の都合上０として示しているが、実際
にはこれらが互いに干渉しないように取り付け角度差が
設定されなければならない。

【００３８】また、検出器１５-1，１５-2としては、図
１（ａ）に示す一列検出器１００と同様、検出部を円弧
状（もしくは直線状）に一列に配列したものでも良い
し、図（１）（ｂ）に示す二次元検出器１１０同様、検
出部列を複数有したものでも良い。また、二次元検出器
としては、二列の検出部列を有する検出器、直線状の検
出部列を有する平面検出器、イメージインテンシファイ
ア（Ｉ．Ｉ．）も含むものである。

【００３９】データ収集部１７-1，１７-2は、検出器１
５-1，１５-2により変換された電気信号を、中央制御ユ
ニット３から出力されたデータ収集制御信号に対応させ
て収集し、画像再構成ユニット１９に供給する。

【００４０】画像再構成ユニット１９は、データ収集部
１７-1，１７-2から供給される電気信号を、中央制御ユ
ニット３から出力された制御信号を基に、画像データと
して再構成する。

【００４１】画像表示ユニット２１は、モニタ（図示せ
ず）を備え、画像再構成ユニット１９により再構成され
た画像データを、中央制御ユニット３から出力された制
御信号を基に、前記モニタ上に表示する。

【００４２】データ保存ユニット２３は、メモリや磁気
ディスク（図示せず）を備え、画像再構成ユニット１９
により再構成された画像データを、中央制御ユニット３
からデータ保存ユニット２３に出力された制御信号を基
に、前記メモリや磁気ディスクに保存する。

【００４３】寝台２５は、回転軸方向と、上下方向に移
動可能な天板２５ａから成る。この天板２５ａの上面に
は被検体が載置される。

【００４４】寝台コントローラ２７は、中央制御ユニッ
ト３から出力された制御信号を基に、天板２５ａの移動
量を指示する制御信号を天板スライド部２９に出力す
る。

【００４５】天板スライド部２９は、寝台コントローラ
２７から出力された制御信号を基に、天板２９ａを移動
させる。

【００４６】尚、中央制御ユニット３、画像再構成ユニ
ット１９、画像表示ユニット２１、データ保存ユニット
２３および図示しない入力装置によりコンソール３１を
構成している。この中央制御ユニット３、画像再構成ユ
ニット１９、画像表示ユニット２１、データ保存ユニッ
ト２３および図示しない入力装置は、システムバス３３
ａにそれぞれ接続され、相互に信号の送受信が可能であ
る。

【００４７】また、高電圧発生器５、架台コントローラ
７、Ｘ線ビーム発生源９、Ｘ線ビーム発生源スライド部
１１、プリコリメータコントローラ１３、検出器１５-
1，１５-2およびデータ収集部１７-1，１７-2は、架台
３３内に設けられている。

【００４８】次に、第１の実施形態のＸ線ＣＴ装置１の
動作を、図４に示す中央制御ユニット３の診断開始まで
の動作の流れを示すフローチャートを参照して説明す
る。

【００４９】まず、操作者は、ヘリカルスキャン条件を
コンソール３１の図示しない入力装置を用いて入力す
る。

【００５０】ヘリカルスキャン条件が入力されると中央
制御ユニット３は、ヘリカルスキャンにおいて、Ｘ線ビ
ーム発生源９-1，９-2による軌跡が、互いに等間隔の螺
旋軌道となるようにＸ線ビーム発生源９-2の設定位置を
演算するとともに、Ｘ線ビームの曝射タイミングを演算
する（ステップＳ１）。

【００５１】ここで、ヘリカルスキャンにおいて、Ｘ線
ビーム発生源９-1，９-2による軌跡が、互いに等間隔の
螺旋軌道となるようにＸ線ビーム発生源９-2の位置を設
定する例を説明する。

【００５２】２つのＸ線ビーム発生源９-1，９-2を有す
る場合、横軸に被検体における回転軸方向のスキャン位
置、縦軸にＸ線ビーム発生源または検出器の回転角度を
とると、ヘリカルスキャンにおいてＸ線ビーム発生源９
-1，９-2による軌跡は図５のように表される。

【００５３】このとき、Ｘ線ビーム発生源９-1の相対的
な位置は固定であるため、Ｘ線ビーム発生源９-2の位置
は、Ｘ線ビーム発生源９-2による軌跡が、図５に実線で
示すＸ線ビーム発生源９-1による軌跡の中間となるよう
に演算する。即ち、Ｘ線ビーム発生源９-1による軌跡か
らＸ線ビーム発生源９-2による軌跡までの回転軸方向の
間隔Ｉ_hel1と、Ｘ線ビーム発生源９-2による軌跡からＸ
線ビーム発生源９-1による軌跡までの回転軸方向の間隔
Ｉ_hel2が等しくなる位置を演算する。

【００５４】例えばＸ線ビーム発生源９-1に対してＸ線
ビーム発生源９-2が１２０度回転した位置に設けられ、
天板２５ａの回転軸方向の移動量が１回転当たりＳ（m
m）である場合、Ｘ線ビーム発生源９-1に対するＸ線ビ
ーム発生源９-2の位置ｘは、以下に示す式（１）から演
算される。ｘ＝Ｓ／６…（１）

【００５５】また、図５に示すようにＸ線ビーム発生源
９-1に対するＸ線ビーム発生源９-2の位置が設定され場
合のＸ線ビームの曝射タイミングの例を図６（ａ），
（ｂ）に示す。尚、図６（ａ），（ｂ）中、横軸は時間
（天板移動距離）を示している。

【００５６】図６（ａ）は、Ｘ線ビームの曝射を撮影領
域のみに限定する場合の例である。即ち、Ｘ線ビーム発
生源９-1とＸ線ビーム発生源９-2の回転軸方向の位置が
異なるので、Ｘ線ビーム発生源９-1のＸ線ビーム曝射開
始と終了のタイミングは、Ｘ線ビーム発生源９-2のＸ線
ビーム曝射開始と終了のタイミングよりそれぞれ遅くな
る。この場合、Ｘ線ビームの曝射を撮影領域のみに限定
するので、被検体の被爆量を最小限に抑えることができ
る。

【００５７】図６（ｂ）は、Ｘ線ビームの曝射をＸ線ビ
ーム発生源９-1とＸ線ビーム発生源９-2同時に行う場合
の例である。即ち、一方が撮影領域内に入りＸ線ビーム
の曝射が開始された時、他方も同時にＸ線ビームの曝射
を開始し、また、双方が撮影領域外に出るまで、双方と
もＸ線ビームの曝射を終了しない。この場合、図６
（ａ）に示す場合に比べ、Ｘ線ビームの曝射時間は変わ
らないが、双方とも同時に曝射開始、終了である分、被
爆量が増える。しかしながら、双方とも同時に曝射開
始、終了であるので、Ｘ線ビームの曝射タイミングの制
御は簡単になる。尚、一般に指定されたＸ線量を安定し
て曝射するまでには所定の時間が掛かるが、上記の説明
においては、Ｘ線ビーム曝射が安定するまでの時間は除
いている。

【００５８】中央制御ユニット３は、操作者により入力
されたヘリカルスキャン条件と、前記演算されたＸ線ビ
ーム発生源３設定位置とから、Ｘ線ビーム発生源９のス
ライド量を示すＸ線ビーム発生源スライド制御信号と、
プリコリメータ幅を示すプリコリメータ幅制御信号とを
架台コントローラ７に出力する（ステップＳ３）。ま
た、中央制御ユニット３は、前記演算されたＸ線ビーム
の曝射タイミングから、曝射タイミングを示すＸ線ビー
ム曝射タイミング制御信号を高電圧発生器５に出力する
（ステップＳ５）。さらに、中央制御ユニット３は、デ
ータ収集のタイミングを示すデータ収集制御信号をデー
タ収集部１７-1，１７-2に出力し、天板２５ａの移動量
を示す天板移動制御信号を寝台コントローラ２７に出力
する（ステップＳ７，Ｓ９）。

【００５９】Ｘ線ビーム発生源スライド制御信号とプリ
コリメータ幅制御信号が中央制御ユニット３から出力さ
れると架台コントローラ７は、Ｘ線ビーム発生源スライ
ド制御信号をＸ線ビーム発生源スライド部１１に出力す
るとともに、プリコリメータ幅制御信号をプリコリメー
タコントローラ１３-1，１３-2に出力する。また架台コ
ントローラ７は、中央制御ユニット３からの指示に従っ
て図示しない回転部の回転速度を決定する。

【００６０】次いで、Ｘ線ビーム発生源スライド部１１
では、Ｘ線ビーム発生源スライド制御信号が架台コント
ローラ７から出力されると、これを基にＸ線ビーム発生
源９-2の位置を、Ｘ線ビーム発生源スライドコントロー
ラ５３とアクチュエータ４１を介して移動する。尚、Ｘ
線ビーム発生源９-2移動の際、Ｘ線ビーム発生源９-2以
外に、回転軸方向の重量バランスを保つための錘（図示
せず）が取り付けられている場合は、この錘も同時に移
動させるようにする。

【００６１】また、プリコリメータコントローラ１３-
1，１３-2は、プリコリメータ幅制御信号が架台コント
ローラ７から出力されると、これを基にプリコリメータ
９ｂ-1，９ｂ-2のプリコリメータ幅をそれぞれ設定す
る。

【００６２】そして、高電圧発生器５は、Ｘ線ビーム曝
射タイミング制御信号が中央制御ユニット３から出力さ
れると、これを基にＸ線ビームの曝射タイミングを決定
する。

【００６３】また、データ収集部１７-1，１７-2は、デ
ータ収集制御信号が中央制御ユニット３から出力される
と、これを基に検出器１５-1，１５-2から電気信号を収
集するタイミングを決定する。

【００６４】一方、寝台コントローラ２７では、天板移
動制御信号が中央制御ユニット３から出力されると、天
板スライド部２９に天板２５ａの上下方向の位置と、回
転部１回転当たりの天板２５ａの移動量を設定させる。

【００６５】そして、操作者によりコンソール３１の図
示しない入力装置を用いて診断介しキーが押されると
（ステップＳ１１）、中央制御ユニット３は、診断開始
命令を架台コントローラ７、高電圧発生器５、データ収
集部１７-1，１７-2および寝台コントローラ２７に出力
してヘリカルスキャンによる診断を開始する（ステップ
Ｓ１３，Ｓ１５）。

【００６６】診断が開始されると、寝台コントローラ２
７は、前記設定された移動量で天板２５ａを移動させ
る。一方、Ｘ線ビーム発生源９から所定のタイミングで
Ｘ線ビームが曝射され、被検体を通過したＸ線が検出器
１５-1，１５-2により電気信号に変換される。そして、
前記変換された電気信号がデータ収集部１７-1，１７-2
により所定のタイミングで収集され、画像再構成ユニッ
ト１９に供給される。画像再構成ユニット１９では、デ
ータ収集部１７-1，１７-2から供給される電気信号を画
像データとして再構成する。尚、画像再構成ユニット１
９は、データ収集部１７-1，１７-2から供給される電気
信号を処理せず、そのままシステムバス３３ａを介して
直接データ保存ユニット２３のメモリに保存することも
できる。また、データ収集部１７-1，１７-2により収集
された電気信号は常に画像再構成ユニット１９まで供給
されており、画像再構成ユニット１９で必要な電気信号
を中央制御ユニット３からの制御信号により取捨選択で
きるようにしても良いし、中央制御ユニット３からの信
号により、データ収集部１７-1，１７-2側でいずれの電
気信号を画像再構成ユニット１９に供給するかを判断す
るようにしても良い。

【００６７】そして、再構成された画像データは、画像
表示ユニット２１のモニタ上に表示される。また、操作
者からの命令に応じてデータ保存ユニット２３のメモリ
に前記画像データを保存する。

【００６８】こうして、２つのＸ線ビーム発生源９-1，
９-2の軌跡が、互いに等間隔の螺旋軌道となるようにＸ
線ビーム発生源９-1，９-2の間隔が設定されてヘリカル
スキャンが行われる。

【００６９】このように、第１の実施形態のＸ線ＣＴ装
置１では、２つのＸ線ビーム発生源９-1，９-2の軌跡
が、互いに等間隔の螺旋軌道となるので、ヘリカルスキ
ャンを効果的に行うことができ、高画質の画像データを
得ることができる。

【００７０】尚、第１の実施形態のＸ線ＣＴ装置１で
は、連続回転型第３世代ＣＴに適用した場合を例にして
説明したが、本発明はこれに限定されること無く、連続
回転型第４世代ＣＴにも適用することができる。この場
合、内面を検出面とする円筒状の検出器は、前記図３に
示した場合と同様に、Ｘ線ビーム発生源９を最大移動幅
Ｌ移動させてもＸ線ビームを検出可能な幅とする。尚、
連続回転型第４世代ＣＴに適用した場合のＸ線ビーム発
生源の移動は、前記Ｘ線ＣＴ装置１の場合と同様にして
行われる。

【００７１】また、第１の実施形態のＸ線ＣＴ装置１で
は、Ｘ線ビーム発生源９を２個有する場合を例にして説
明したが、本発明はこれに限定されること無く、Ｘ線ビ
ーム発生源９を２個以上（ｎ個）有する場合も適用する
ことができる。この場合、（ｎ−１）個のＸ線ビーム発
生源スライド部１１を設けるようにする。

【００７２】図７は本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第２の
実施形態を示したブロック図である。尚、図１で示した
ものと同一のものは同一の記号を付して詳細な説明を省
略した。また、この第２の実施形態は、連続回転型の第
３世代ＣＴに適用されるものである。

【００７３】第２の実施形態のＸ線ＣＴ装置６０は、ヘ
リカルスキャンにおいて２つのＸ線ビーム発生源９-1，
９-2による軌跡が、互いに等間隔の螺旋軌道となるよう
に前記２つのＸ線ビーム発生源９-1，９-2の間隔および
それに対応させて２つの検出器１５-1，１５-2の間隔を
設定するものである。このため、図７に示すように第２
の実施形態のＸ線ＣＴ装置６０では、図１に示す第１の
実施形態のＸ線ＣＴ装置１に加えて、検出器スライド部
６１を設けたものである。

【００７４】検出器スライド部６１は、架台コントロー
ラ７から出力される検出器スライド制御信号を基に、検
出器１５-2の位置をスライドする。この検出器スライド
部６１は、図２（ａ），（ｂ）に示すＸ線ビーム発生源
スライド部１１と同一の構成にしても良いし、Ｘ線ビー
ム発生源９-2と検出器１５-2とを同時にスライドさせる
ように構成しても良い。

【００７５】図８（ａ），（ｂ）に、Ｘ線ビーム発生源
スライド部１１と同一の構成の検出器スライド部６１の
一例を示す。尚、図８（ａ）は検出器スライド部６１の
正面図であり、図８（ｂ）はその側面図である。また、
図２（ａ），（ｂ）で示したものと同一のものは同一の
記号を付して詳細な説明を省略した。

【００７６】図８（ａ），（ｂ）に示すように検出器ス
ライド部６１は、Ｘ線ビーム発生源スライド部１１のＸ
線ビーム発生源スライドコントローラ５３に代えて、検
出器スライドコントローラ６３を設けたものである。ア
クチュエータ４１の回転量は、架台コントローラ７から
出力される検出器スライド制御信号を基に、検出器スラ
イドコントローラ６３によって制御される。尚、検出器
スライド部６１は、Ｘ線ビーム発生源スライド部１１と
同様に動作する。

【００７７】このように、第２の実施形態のＸ線ＣＴ装
置６０では、常にＸ線ビーム発生源９-2に対する検出器
１５-2の相対位置が一定であるため、同じＸ線ビーム厚
であれば、それを受ける検出器１５-2上の回転軸方向の
位置は常に同一となり、検出器１５-2の回転軸方向の感
度分布が一定でないことに起因する画質劣化が生じにく
くなる。

【００７８】図９（ａ），（ｂ）は、本発明に係るＸ線
ＣＴ装置の第３の実施形態を示した図である。第３実施
形態では、Ｘ線ビーム発生源９-2と検出器１５-2とを同
時にスライドさせる構成の検出器スライド部６１Ｂを有
するものである。このため、アクチュエータはＸ線ビー
ム発生源９-2と検出器１５-2用の２つを持つ必要はなく
１つですむ。尚、図９（ａ）は検出器スライド部６１Ｂ
の正面図であり、図９（ｂ）はその側面図である。

【００７９】図９（ａ），（ｂ）に示すように検出器ス
ライド部６１Ｂは、略円環状の回転部ベースフレーム６
５と、この回転部ベースフレーム６５の内面に摺動可能
に固定される略円環状のスライドフレーム６７と、この
スライドフレーム６７を回転部ベースフレーム６５の内
面に沿って摺動させる検出器スライドコントローラ（図
示せず）とから成る。

【００８０】検出器スライド部６１Ｂでは、回転部ベー
スフレーム６５に一方のＸ線ビーム発生源９-1とそれに
対応する検出器１５-1とが固定され、スライドフレーム
６７にもう一方のＸ線ビーム発生源９-2とそれに対応す
る検出器１５-2が固定される。そして、スライドフレー
ム６７ごとＸ線ビーム発生源９-2と検出器１５-2を前記
検出器スライドコントローラによって回転軸方向に移動
させる。尚、回転部ベースフレーム６５とスライドフレ
ーム６７とが摺動する面には、ボールベアリング等が設
けられる。また、前記検出器スライドコントローラは、
図示しないアクチュエータを用いてスライドフレーム６
７を回転部ベースフレーム６５の内面に沿って摺動させ
る。このアクチュエータは、前記アクチュエータ４１と
同様の構成となっている。

【００８１】この検出器スライド部６１Ｂを用いた場
合、Ｘ線ビーム発生源９-2と検出器１５-2を組にしてス
ライドフレーム６７ごと移動させるので、Ｘ線ビーム発
生源９-2に対する検出器１５-2の相対位置を高い制度で
保つことができる。

【００８２】また、第３の実施形態の検出器１５-2は、
図１０に示すようにＸ線ビーム発生源９-2を移動させた
とき、それと同じだけ移動される。このため、第３の実
施形態の検出器１５-2は、第１の実施形態の検出器１５
-2に比べて、回転軸方向の幅が狭いものを用いることが
できる。

【００８３】尚、図１０では、Ｘ線ビーム発生源９-2や
検出器１５-2の回転軸方向の取り付け角度差を説明の都
合上０として示しているが、実際にはこれらが互いに干
渉しないように取り付け角度差が設定されなければなら
ない。また、Ｘ線ビーム発生源９-2、検出器１５-2移動
の際、Ｘ線ビーム発生源９-2、検出器１５-2以外に、回
転軸方向の重量バランスを保つための錘（図示せず）が
取り付けられている場合は、この錘も同時に移動させる
ようにする。

【００８４】また、図１０に示した例では、２つのＸ線
ビーム発生源９-1，９-2（２つの検出器１５-1，１５-
2）の場合を説明したが、図１１に示すように３つのＸ
線ビーム発生源９-1，９-2，９-3（３つの検出器１５-
1，１５-2，１５-3）を用いても良い。この場合、螺旋
軌道を等間隔にするとＸ線ビーム発生源９-1，９-2，９
-3の設置位置は１２０度間隔となる。

【００８５】次に、本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第４の
実施形態を説明する。尚、第４の実施形態のＸ線ＣＴ装
置の構成は、図１に示した第１の実施形態のＸ線ＣＴ装
置１もしくは図７に示した第２の実施形態のＸ線ＣＴ装
置６０と同一となるので図示および詳細な説明は省略す
る。またここでは、図１、図７で示したものと同一部材
は、同一の記号を用いて説明する。

【００８６】第４の実施形態のＸ線ＣＴ装置の中央制御
ユニット３は、Ｘ線ビーム発生源９-1と、Ｘ線ビーム発
生源９-2によるスライス厚の合計が、回転部１回転当た
りの天板２５ａの移動量と等しくなるようにする。

【００８７】このとき、Ｘ線ビーム発生源９-1と、Ｘ線
ビーム発生源９-2によるスライス厚が操作者により指定
された場合、中央制御ユニット３は、そのスライス厚の
合計と、回転部１回転当たりの天板２５ａの移動量が同
一となるように、回転部１回転当たりの天板２５ａの移
動量を決定する。また、回転部１回転当たりの天板２５
ａの移動量が操作者により指定された場合、中央制御ユ
ニット３は、その天板２５ａの移動量と、Ｘ線ビーム発
生源９-1とＸ線ビーム発生源９-2によるスライス厚の合
計が同一となるように、Ｘ線ビーム発生源９-1によるス
ライス厚と、Ｘ線ビーム発生源９-2によるスライス厚を
決定する。

【００８８】例えば図１２に示すように、Ｘ線ビーム発
生源９-1によるスライス厚Ｗ1 と、Ｘ線ビーム発生源９
-2によるスライス厚Ｗ2 の合計（Ｗ1 ＋Ｗ2 ）と、回転
部１回転当たりの天板２５ａの移動量を等しくする。

【００８９】尚、図１２に示す例では、Ｘ線ビーム発生
源９-1によるスライス厚Ｗ1 と、Ｘ線ビーム発生源９-2
によるスライス厚Ｗ2 と、Ｘ線ビーム発生源９-1による
軌跡からＸ線ビーム発生源９-2による軌跡までの回転軸
方向の間隔Ｉ_hel1と、Ｘ線ビーム発生源９-2による軌跡
からＸ線ビーム発生源９-1による軌跡までの回転軸方向
の間隔Ｉ_hel2とが全て等しくなるように（Ｗ1 ＝Ｗ2 ＝
Ｉ_hel1＝Ｉ_hel2）、中央制御ユニット３は、Ｘ線ビーム
発生源９-1とＸ線ビーム発生源９-2との間隔と、各スラ
イス厚Ｗ1 ，Ｗ2 を決定している。

【００９０】このように、第４の実施形態のＸ線ＣＴ装
置では、Ｘ線ビーム発生源９-1と、Ｘ線ビーム発生源９
-2によるスライス厚の合計が、回転部１回転当たりの天
板２５ａの移動量と等しくなるようにしているので、最
小限の曝射で撮影領域を漏れなくスキャンすることがで
きる。

【００９１】次に、本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第５の
実施形態を説明する。尚、第５の実施形態のＸ線ＣＴ装
置の構成は、図１に示した第１の実施形態のＸ線ＣＴ装
置１もしくは図７に示した第２の実施形態のＸ線ＣＴ装
置６０とＸ線ビーム発生源９、検出器１７の数が異なる
のみであるので、図示および詳細な説明は省略する。ま
たここでは、図１、図７で示したものと同一部材は、同
一の記号を用いて説明する。

【００９２】第５の実施形態のＸ線ＣＴ装置は、３つの
Ｘ線ビーム発生源９-1，９-2，９-3を１２０度間隔で設
けるとともに、それに対応して３つの検出器を設けたも
のである。尚、Ｘ線ビーム発生源９-3は、前記回転部に
固定され、Ｘ線ビーム発生源９-1，９-2は、それぞれ対
応するＸ線ビーム発生源スライド部１１によって回転軸
方向に移動可能となっている。またここでは、検出器と
して一列検出器を用いている。

【００９３】図１２に示すように、第５の実施形態のＸ
線ＣＴ装置では、３つのＸ線ビーム発生源９-1，９-2，
９-3の設定位置が同一のミッドプレーン上、即ち、同一
面上に設定されることとなる。尚、図１２中、点線で示
すＸ線ビーム発生源は、コンベンショナルスキャン時の
設定位置を示している。

【００９４】この場合、Ｘ線ビーム発生源９-1による軌
跡からＸ線ビーム発生源９-2による軌跡までの回転軸方
向の間隔Ｉ_hel1と、Ｘ線ビーム発生源９-2による軌跡か
らＸ線ビーム発生源９-3による軌跡までの回転軸方向の
間隔Ｉ_hel2と、Ｘ線ビーム発生源９-3による軌跡からＸ
線ビーム発生源９-1による軌跡までの回転軸方向の間隔
Ｉ_hel3は等しくなる。

【００９５】また、図１４にＸ線ビーム発生源９-1，９
-2，９-3から曝射されるＸ線ビームの曝射タイミングを
示す。３つのＸ線ビーム発生源９-1，９-2，９-3の設定
位置が同一のミッドプレーン上となるので、Ｘ線ビーム
発生源９-1，９-2，９-3から曝射されるＸ線ビーム曝射
タイミングは、図１４に示すように、３つとも同時とな
る。

【００９６】このように、第５の実施形態のＸ線ＣＴ装
置では、３つのＸ線ビーム発生源９-1，９-2，９-3を１
２０度間隔で設けることにより、Ｘ線ビーム発生源９-
1，９-2，９-3の設定位置が同一のミッドプレーン上と
なるので、Ｘ線ビーム曝射タイミングを容易に制御する
ことができる。

【００９７】尚、第５の実施形態のＸ線ＣＴ装置では、
３つのＸ線ビーム発生源９-1，９-2，９-3を全て用いて
ヘリカルスキャンを行うが、３つのＸ線ビーム発生源９
-1，９-2，９-3の内２つ、または１つのみを使用してヘ
リカルスキャンを行うことも可能である。例えばＸ線ビ
ーム発生源９-1，９-2を使用してヘリカルスキャンを行
う場合には、２つのヘリカルスキャンの軌跡が互いに等
間隔となるように、Ｘ線ビーム発生源９-1とＸ線ビーム
発生源９-2との回転軸方向の間隔を設定することで実現
可能である。

【００９８】また、Ｘ線ビーム発生源９-1とＸ線ビーム
発生源９-2との組み合わせに限らず、Ｘ線ビーム発生源
９-2とＸ線ビーム発生源９-3、Ｘ線ビーム発生源９-1と
Ｘ線ビーム発生源９-3でも良い。尚、Ｘ線ビーム発生源
９-1とＸ線ビーム発生源９-2を使用する場合は、２つの
移動量を平均化して等しくするようにすれば、Ｘ線ビー
ム発生源９-1，９-2の移動時間を短縮することができ
る。

【００９９】尚、第５実施例のＸ線ＣＴ装置では、検出
器として一列検出器を用いているが、本発明はこれに限
定されること無く、図１５に示すように検出器として二
列検出器１５-1，１５-2，１５-3を用いても良い。この
場合も３つのＸ線ビーム発生源９-1，９-2，９-3の設定
位置が同一のミッドプレーン上、即ち、同一面上に設定
されることとなる。尚、図１５中、点線で示すＸ線ビー
ム発生源は、コンベンショナルスキャン時の設定位置を
示している。

【０１００】また、この場合、検出器１５-1の２つの検
出器列１５-1A ，１５-1B による軌跡の回転軸方向の間
隔Ｉ_hel11と、検出器１５-1の検出器列１５-1B による
軌跡から検出器１５-2の検出器列１５-2A による軌跡ま
での回転軸方向の間隔Ｉ_hel1 ₂と、検出器１５-2の２つ
の検出器列１５-2A ，１５-2B による軌跡の回転軸方向
の間隔Ｉ_hel21と、検出器１５-2の検出器列１５-2B に
よる軌跡から検出器１５-3の検出器列１５-3A による軌
跡までの回転軸方向の間隔Ｉ_hel22と、検出器１５-3の
２つの検出器列１５-3A ，１５-3B による軌跡の回転軸
方向の間隔Ｉ_he _l31と、検出器１５-3の検出器列１５-3
B による軌跡から検出器１５-1の検出器列１５-1A によ
る軌跡までの回転軸方向の間隔Ｉ_hel32とが等しくなる
ようにする。

【０１０１】また、この場合も３つのＸ線ビーム発生源
９-1，９-2，９-3の設定位置が同一のミッドプレーン上
となるので、Ｘ線ビーム発生源９-1，９-2，９-3から曝
射されるＸ線ビーム曝射タイミングは、図１４に示す場
合と同様に３つとも同時となる。

【０１０２】さらに、検出器１５-1，１５-2，１５-3と
して３列以上の検出器の場合に対しても適用することが
できるし、他の種類の二次元検出器の場合に対しても適
用することができる。この場合、存在する全ての検出器
列を使用する必要は無く、例えば１つの検出器列のみを
使用して、互いに等間隔のヘリカルスキャン軌跡を実現
するようにしても良い。また、３列以上の検出器列を有
する検出器の場合には、その内の一部の列のみを使用し
て互いに等間隔のヘリカルスキャン軌跡を実現するよう
にしても良い。さらに、一部の検出器を使用して互いに
等間隔のヘリカルスキャン軌跡を実現するようにしても
良い。さらに、一部の検出器を使用することと、一部の
検出器列を使用することを組み合わせて、互いに等間隔
のヘリカルスキャン軌跡を実現するようにしても良い。

【０１０３】次に、本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第６の
実施形態を説明する。尚、第６の実施形態のＸ線ＣＴ装
置の構成は、図１に示した第１の実施形態のＸ線ＣＴ装
置１もしくは図７に示した第２の実施形態のＸ線ＣＴ装
置６０とＸ線ビーム発生源９、検出器１７の数が異なる
のみであるので、図示および詳細な説明は省略する。ま
たここでは、図１、図７で示したものと同一部材は、同
一の記号を用いて説明する。

【０１０４】第６の実施形態のＸ線ＣＴ装置は、所定の
領域毎に１つのＸ線ビーム発生源およびそれに対応した
検出器でヘリカルスキャンを行うものである。ここで
は、図１６に示すように、３つのＸ線ビーム発生源９-
1，９-2，９-3を１２０度間隔で設けるとともに、それ
に対応して３つの検出器１５-1，１５-2，１５-3を設
け、撮影領域を３つに分けて領域毎にヘリカルスキャン
を行う場合を例にして説明する。

【０１０５】図１６に示す例では、Ｘ線ビーム発生源９
-1は領域ａ１、Ｘ線ビーム発生源９-2は領域ａ２、Ｘ線
ビーム発生源９-3は領域ａ３をヘリカルスキャンする。

【０１０６】またこの場合、必ずしも各領域（領域ａ
１、領域ａ２、領域ａ３）の大きさは同一とする必要は
ないが、同一とし、かつ、各領域の開始点の間隔をＸ線
ビーム発生源９-1，９-2，９-3の間隔と等しく設定した
場合には、Ｘ線ビーム曝射タイミングは、図１７に示す
ように同時となり、Ｘ線ビーム曝射タイミングを容易に
制御することができる。

【０１０７】第６の実施形態のＸ線ＣＴ装置では、設定
され得る最大の回転軸方向のＸ線ビーム発生源間隔をＩ
max とすると、ヘリカルスキャンの合計の撮影領域がＩ
max＊（Ｘ線ビーム発生源数）よりも小さい場合に適用
可能である。

【０１０８】このように、第６の実施形態のＸ線ＣＴ装
置では、領域毎に１つのＸ線ビーム発生源およびそれに
対応した検出器でヘリカルスキャンを行うようにしてい
るので、１つの領域内で複数の検出器を使用することが
無く、検出器間の感度差による生じる画質の劣化を防止
することができる。

【０１０９】尚、第６の実施形態のＸ線ＣＴ装置では、
Ｘ線ビーム発生源９-1，９-2，９-3から同時にＸ線ビー
ムを曝射するようにしているが、図１８に示すようにＸ
線ビーム曝射タイミングをずらすことで、より広い領域
をヘリカルスキャンすることができる。

【０１１０】この場合、図１９に示すように、まずＸ線
ビーム発生源９-1がＸ線ビームの曝射を開始する。次い
でＸ線ビーム発生源９-2に対応するスキャン位置が領域
ａ２に差し掛かった段階でＸ線ビーム発生源９-2もＸ線
ビームの曝射を開始する。同様にＸ線ビーム発生源９-3
も領域ａ３の開始点でＸ線ビームの曝射を開始する。そ
の後、Ｘ線ビーム発生源９-1は、そのスキャン位置が領
域ａ１の終了点を通過した時点でＸ線ビームの曝射を終
了する。同様にＸ線ビーム発生源９-2，９-3もそれぞれ
の領域ａ２，ａ３の終了点でＸ線ビームの曝射を終了す
る。

【０１１１】またこの場合では、設定され得る最大の回
転軸方向のＸ線ビーム発生源間隔をＩmax とすると、ヘ
リカルスキャンの合計の撮影領域がＩmax ＊（Ｘ線ビー
ム発生源数）よりも大きい場合に適用するのが一般的で
ある。

【０１１２】また、第６の実施形態のＸ線ＣＴ装置で
は、３つのＸ線ビーム発生源９-1，９-2，９-3を全て用
いてヘリカルスキャンを行うが、３つのＸ線ビーム発生
源９-1，９-2，９-3の内２つ、または１つのみを使用し
てヘリカルスキャンを行うことも可能である。例えばＸ
線ビーム発生源９-1，９-2を使用してヘリカルスキャン
を行う場合を図２０に示す。

【０１１３】図２０に示すように、撮影領域を２つに分
け、領域毎にヘリカルスキャンを行う。即ち、Ｘ線ビー
ム発生源９-1は領域ａ１、Ｘ線ビーム発生源９-2は領域
ａ２をヘリカルスキャンする。この時、必ずしも各領域
（領域ａ１、領域ａ２）の大きさは同一とする必要はな
いが、同一とし、かつ、各領域の開始点の間隔をＸ線ビ
ーム発生源９-1，９-2の間隔と等しく設定した場合に
は、Ｘ線ビーム曝射タイミングは、図２１に示すように
同時となり、Ｘ線ビーム曝射タイミングを容易に制御す
ることができる。また、Ｘ線ビーム発生源９-1とＸ線ビ
ーム発生源９-2を使用する場合は、２つの移動量を平均
化して等しくするようにすれば、Ｘ線ビーム発生源９-
1，９-2の移動時間を短縮することができる。

【０１１４】さらに、第６の実施形態のＸ線ＣＴ装置で
は、検出器として一列検出器を用いているが、本発明は
これに限定されること無く、図２２に示すように検出器
として二列検出器１５-1，１５-2，１５-3を用いても良
い。この場合、撮影領域を３つに分け、領域毎にヘリカ
ルスキャンを行う。即ち、Ｘ線ビーム発生源９-1は領域
ａ１、Ｘ線ビーム発生源９-2は領域ａ２、Ｘ線ビーム発
生源９-3は領域ａ３をヘリカルスキャンする。

【０１１５】またこの場合、必ずしも各領域（領域ａ
１、領域ａ２、領域ａ３）の大きさは同一とする必要は
ないが、同一とし、かつ、各領域の開始点の間隔をＸ線
ビーム発生源９-1，９-2，９-3の間隔と等しく設定した
場合には、Ｘ線ビーム曝射タイミングは、図２３に示す
ように同時となり、Ｘ線ビーム曝射タイミングを容易に
制御することができる。

【０１１６】さらに、第６の実施形態のＸ線ＣＴ装置で
は、検出器として３列以上の検出器を用いた場合にも適
用することができるし、他の種類の二次元検出器を用い
た場合にも適用することができる。

【０１１７】次に、第６の実施形態のＸ線ＣＴ装置を用
いた場合の撮影領域幅に対する領域数の設定方法および
Ｘ線ビーム曝射タイミングの例を図２４に示す。ここ
で、設定され得る最大の回転軸方向のＸ線ビーム発生源
の間隔をＩmax とし、操作者により指定された撮影領域
幅により４つのケースに分ける。

【０１１８】撮影領域≦Ｉmax の場合（Ｃ１YES ）、領
域数を１とし、１つのＸ線ビーム発生源（Ｘ線ビーム発
生源９-1、Ｘ線ビーム発生源９-2またはＸ線ビーム発生
源９-3）を使用したヘリカルスキャンを行う。

【０１１９】Ｉmax ≦撮影領域＜３＊Ｉmax の場合（Ｃ
１NO，Ｃ３YES ）、領域数を２とし、それぞれの領域の
大きさは撮影領域／２とする。２つのＸ線ビーム発生源
（Ｘ線ビーム発生源９-1とＸ線ビーム発生源９-2、Ｘ線
ビーム発生源９-2とＸ線ビーム発生源９-3またはＸ線ビ
ーム発生源９-3とＸ線ビーム発生源９-1）を使用したヘ
リカルスキャンを行う。２つのＸ線ビーム発生源のＸ線
ビーム曝射タイミングは同時とする。

【０１２０】２＊Ｉmax ≦撮影領域＜３＊Ｉmax の場合
（Ｃ３NO，Ｃ５YES ）、領域数を３とし、それぞれの領
域の大きさは撮影領域／３とする。３つのＸ線ビーム発
生源（Ｘ線ビーム発生源９-1とＸ線ビーム発生源９-2と
Ｘ線ビーム発生源９-3）を使用したヘリカルスキャンを
行う。３つのＸ線ビーム発生源のＸ線ビーム曝射タイミ
ングは同時とする。

【０１２１】３＊Ｉmax ＜撮影領域の場合（Ｃ５NO）、
領域数を３とし、それぞれの領域の大きさは撮影領域／
３とする。３つのＸ線ビーム発生源（Ｘ線ビーム発生源
９-1とＸ線ビーム発生源９-2とＸ線ビーム発生源９-3）
を使用したヘリカルスキャンを行う。各Ｘ線ビーム発生
源からのＸ線ビーム曝射タイミングをずらすことで、前
記２＊Ｉmax ≦撮影領域＜３＊Ｉmax の場合より広い領
域のヘリカルスキャンを行う。

【０１２２】こうして、操作者により指定された撮影領
域幅を基に、４つのケースに分けて領域数と、Ｘ線ビー
ム曝射タイミングが決定される。

【０１２３】次に、本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第７の
実施形態を説明する。尚、第７の実施形態のＸ線ＣＴ装
置の構成は、図１に示した第１の実施形態のＸ線ＣＴ装
置１もしくは図７に示した第２の実施形態のＸ線ＣＴ装
置６０とＸ線ビーム発生源９、検出器１７の数が異なる
のみであるので、図示および詳細な説明は省略する。ま
たここでは、図１、図７で示したものと同一部材は、同
一の記号を用いて説明する。

【０１２４】第７の実施形態のＸ線ＣＴ装置は、ヘリカ
ルスキャン条件の異なる複数の領域を一連の動作でヘリ
カルスキャンするようにしたものである。

【０１２５】例えば図２５に示すようなヘリカルスキャ
ン条件を撮影領域毎に設定する。この時、スキャノ像上
で撮影領域の回転を指定し、各撮影領域に対して、領域
幅、使用Ｘ線ビーム発生源数、スライス厚、１回転当た
りの天板送り、Ｘ線管電圧、Ｘ線管電流を入力する。
尚、使用使用Ｘ線ビーム発生源数が自動とされた場合に
は、前記図２４に示した例に基づいてスキャン方法が決
定される。

【０１２６】ここでは、図２６に示すように、３つのＸ
線ビーム発生源９-1，９-2，９-3を１２０度間隔で設け
るとともに、それに対応して３つの検出器１５-1，１５
-2，１５-3を設け、１回転当たりの天板送りの異なる複
数の領域をスキャンする場合を例にして説明する。

【０１２７】図２６に示す例では、撮影条件の異なる撮
影領域ａ１，ａ２をそれぞれ３つの領域に分け、この領
域毎にヘリカルスキャンを行う。即ち、Ｘ線ビーム発生
源９-1は領域ａ１１と領域ａ２１、Ｘ線ビーム発生源９
-2は領域ａ１２と領域ａ２２、Ｘ線ビーム発生源９-3は
領域ａ１３と領域ａ２３をヘリカルスキャンする。撮影
領域ａ１，ａ２での撮影条件の違いは、１回転当たりの
天板送りが異なる点である。また、Ｘ線ビーム発生源の
間隔を途中で変えるようにしている。尚、Ｘ線ビーム曝
射は、対応する領域に対してのみ行うようにする。

【０１２８】ここで、撮影領域ａ１、撮影領域ａ２と
も、各領域（領域１１、１２、１３および領域２１、２
２、２３）の開始点の間隔をＸ線ビーム発生源の間隔と
一致させ、かつ領域の大きさをそれぞれ等しくした場合
のＸ線ビーム曝射タイミングを図２７に示す。

【０１２９】撮影領域ａ１の撮影が終了した時点から撮
影領域ａ２の撮影が始まるまでの間で、天板速度の変更
がなされるようにする。尚、前記天板速度変更の間は、
Ｘ線ビーム曝射は停止させる。また、Ｘ線ビーム発生源
９-1，９-2，９-3の間隔の変更もこの間になされる。つ
まり、撮影領域ａ１が終了した後、撮影領域ａ２の領域
ａ２１，ａ２２，ａ２３の各開始点にＸ線ビーム発生源
９-1，９-2，９-3が位置するようにＸ線ビーム発生源９
-1，９-2，９-3の間隔を設定し、再び撮影領域ａ２のヘ
リカルスキャンを行う。

【０１３０】この場合、１回転当たりの天板送りが異な
る２つの撮影領域ａ１，ａ２を一連の動作でヘリカルス
キャンし、また、Ｘ線ビーム発生源の間隔を途中で変え
るようにしているので、診断効率が向上する。

【０１３１】次に、撮影領域ａ１の幅がＸ線ビーム発生
源最大間隔Ｉmax ＊（Ｘ線ビーム発生源数）より大きい
場合を含む例を図２８に示す。この例は、撮影領域ａ１
では図２９に示すように各Ｘ線ビーム曝射タイミングを
ずらすことで、より広い領域のヘリカルスキャンを可能
にしている。

【０１３２】この場合、図２６に示す例に加え、Ｘ線ビ
ーム発生源最大間隔Ｉmax ＊（Ｘ線ビーム発生源数）よ
り大きくなる場合でも適用することができる。

【０１３３】次に、１回転当たりの天板送りは同じで、
他の条件が異なる場合を図２９に示す。この例では、撮
影領域ａ２に関しては３つのＸ線ビーム発生源９-1，９
-2，９-3の内の一部（Ｘ線ビーム発生源９-1とＸ線ビー
ム発生源９-2）を使用してヘリカルスキャンするという
ものである。尚、この図３０に示す例では、Ｘ線ビーム
発生源９-1，９-2，９-3の間隔を途中で変えることがな
いので、図３１に示すようにＸ線ビーム曝射タイミング
を調節することで、診断を行う領域の幅を変更してい
る。

【０１３４】この場合、Ｘ線ビーム発生源９-1，９-2，
９-3の間隔を途中で変えることがないので、その分、Ｘ
線ビーム発生源９-1，９-2，９-3の移動制御が簡単にな
る。

【０１３５】このように、第７の実施形態のＸ線ＣＴ装
置では、ヘリカルスキャン条件の異なる複数の領域を一
連の動作でヘリカルスキャンするようにしているので、
診断効率が向上する。

【０１３６】尚、第７の実施形態のＸ線ＣＴ装置では、
撮影領域が互いに隣接している場合を例にして説明した
が、隣接していない場合でも適用できる。また、検出器
として二次元検出器を用いた場合にも適用することがで
きる。

【０１３７】次に、本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第８の
実施形態を説明する。尚、第８の実施形態のＸ線ＣＴ装
置の構成は、図１に示した第１の実施形態のＸ線ＣＴ装
置１もしくは図７に示した第２の実施形態のＸ線ＣＴ装
置６０と同一構成であるので、図示および詳細な説明は
省略する。またここでは、図１、図７で示したものと同
一部材は、同一の記号を用いて説明する。

【０１３８】所定位置の画像データを再構成するために
は、画像データの補間が必要であり、３６０度補間であ
れば、再構成する位置を中心に３６０度、対向ビーム補
間であれば、再構成する位置を中心に（１８０度＋Ｘ線
ビームのファン角度／２）分の画像データが必要とな
る。

【０１３９】隣接した所定の領域毎に１つのＸ線ビーム
発生源およびそれに対応した検出器でヘリカルスキャン
を行った場合、境界部付近では、前述したように１つの
Ｘ線ビーム発生源に対応した画像データのみでは再構成
できない部分が生じるので双方の領域の画像データを使
用した再構成が必要となる。しかし、前記領域毎に１つ
のＸ線ビーム発生源およびそれに対応した検出器でヘリ
カルスキャンを行った場合、領域が異なるとＸ線ビーム
発生源に対応する螺旋軌道も異なるので、アーチファク
ト等の画質劣化を起こしやすいという問題がある。この
領域境界部での画質劣化を防止するため、第８の実施形
態では、領域と領域の境界部よりそれぞれ所定量分オー
バーラップさせるというものである。

【０１４０】領域の境界部をオーバーラップしてヘリカ
ルスキャンを行った場合のヘリカルスキャン軌跡を図３
２に示す。この例は、１回転当たりの天板送りが領域ａ
１、領域ａ２ともに等しい場合であり、前記オーバーラ
ップさせる領域（以下、オーバーラップ領域と記す）Ｏ
１，Ｏ２は、それぞれ境界より１回転分である。尚、オ
ーバーラップ領域Ｏ１，Ｏ２は、それぞれ（１８０度＋
Ｘ線ビームのファン角度／２）分としても良い。また、
１回転当たりの天板送りが領域ａ１と領域ａ２で等しく
ない場合もオーバーラップ領域Ｏ１，Ｏ２は、それぞれ
１回転分、または、（１８０度＋Ｘ線ビームのファン角
度／２）分とする。

【０１４１】このように、第８の実施形態のＸ線ＣＴ装
置では、領域の境界部よりそれぞれ所定量オーバーラッ
プさせているので、いずれの位置の画像データを再構成
する場合も一方のＸ線ビーム発生源に対応した画像デー
タのみで画像データを再構成することができる。

【０１４２】尚、第８の実施形態のＸ線ＣＴ装置では、
検出器として一列検出器を用いた場合を例にして説明し
たが、本発明はこれに限定されること無く、例えば二次
元検出器を用いた場合にも適用することができる。

【０１４３】検出器として二列検出器を用い、領域の境
界部をオーバーラップさせてヘリカルスキャンさせた場
合のヘリカルスキャン軌跡を図３３に示す。図３３に示
すように二次元検出器１５-1，１５-2を用いた場合で
は、隣の領域に最も近い検出器列のスキャン位置が境界
上にある状態から、隣の領域の方向に更に１回転分また
は１８０度プラスファン角度分をオーバーラップさせる
ようにする。図３３に示した例では、１回転当たりの天
板送りが領域ａ１，ａ２ともに等しい場合の例であり、
オーバーラップ領域Ｏ１，Ｏ２は、それぞれ境界より１
回転分である。尚、オーバーラップ領域Ｏ１，Ｏ２は、
それぞれ１８０度プラスＸ線ビームのファン角度分とし
ても良い。また、１回転当たりの天板送りが領域ａ１と
領域ａ２で等しくない場合もオーバーラップ領域Ｏ１，
Ｏ２は、それぞれ１回転分、または、１８０度プラスＸ
線ビームのファン角度分とする。

【０１４４】次に、本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第９の
実施形態を説明する。尚、第９の実施形態のＸ線ＣＴ装
置の構成は、図１に示した第１の実施形態のＸ線ＣＴ装
置１もしくは図７に示した第２の実施形態のＸ線ＣＴ装
置６０とＸ線ビーム発生源９、検出器１７の数が異なる
のみであるので、図示および詳細な説明は省略する。ま
たここでは、図１、図７で示したものと同一部材は、同
一の記号を用いて説明する。

【０１４５】第９の実施形態では、前記領域境界部での
画質劣化を防止するため、撮影に使用する各Ｘ線ビーム
発生源に対応したヘリカルスキャン軌跡が同一の螺旋軌
道上にのるようにＸ線ビーム発生源の回転軸方向の間隔
を設定するものである。

【０１４６】角度１２０度毎に３つのＸ線ビーム発生源
を有する場合において、Ｘ線ビーム発生源の描く螺旋軌
道が同一の螺旋軌道にのるようにＸ線ビーム発生源の回
転軸方向の間隔を設定してヘリカルスキャンを行ったと
きのヘリカルスキャン軌跡を図３４に示す。尚、前期同
一の螺旋軌道上にのせるためには、１回転当たりの天板
送りが等しく、かつ、隣接した領域である必要がある。

【０１４７】Ｘ線ビーム発生源が角度１２０度毎に設け
られている場合、領域幅は、領域幅＝（整数＋１／３）回転に相当する天板送り距離とすることで、図３４に示すように各Ｘ線ビーム発生源
に対応したヘリカルスキャン軌跡を同一の螺旋軌道上に
乗せることができる。尚、使用するＸ線ビーム発生源の
数やその取り付け角度により、領域幅は異なる。図３４
に示す例では、各領域幅は、５と１／３回転相当の天板
送り距離である。

【０１４８】このように、第９の実施形態のＸ線ＣＴ装
置は、連続した１つの螺旋軌道の画像データが得られ、
螺旋軌道が異なることによるアーチファクトや画像の不
連続性を無くすことができる。この場合、第８の実施形
態のようにオーバーラップさせなくても互いの領域のデ
ータを補間して再構成することもできる。

【０１４９】尚、第９の実施形態のＸ線ＣＴ装置では、
検出器として一列検出器を用いた場合を例にして説明し
たが、本発明はこれに限定されること無く、例えば二次
元検出器を用いた場合にも適用することができる。

【０１５０】角度１２０度毎に３つのＸ線ビーム発生源
と、それぞれのＸ線ビーム発生源に対応する二列検出器
とを有する場合において、Ｘ線ビーム発生源の描く螺旋
軌道が同一の螺旋軌道にのるようにＸ線ビーム発生源の
回転軸方向の間隔を設定してヘリカルスキャンを行った
ときのヘリカルスキャン軌跡を図３５に示す。

【０１５１】図３５に示すように、二列検出器１５-1，
１５-2，１５-3を有する場合、２つの連続した螺旋軌道
上の画像データが得られる。また、３列以上の検出器列
を有する場合には、検出器列の数と同数の螺旋軌道上の
画像データが得られる。さらに、二次元検出器の一部を
検出器列を使用したヘリカルスキャンの場合には、その
使用した列数と同数の螺旋軌道上の画像データが得られ
ることになる。

【０１５２】次に、本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第１０
の実施形態を説明する。尚、第１０の実施形態のＸ線Ｃ
Ｔ装置の構成は、図１に示した第１の実施形態のＸ線Ｃ
Ｔ装置１もしくは図７に示した第２の実施形態のＸ線Ｃ
Ｔ装置６０と同一構成であるので、図示および詳細な説
明は省略する。またここでは、図１、図７で示したもの
と同一部材は、同一の記号を用いて説明する。

【０１５３】第１０の実施形態では、前記領域境界部で
の画質劣化を防止するため、図３６に示すように、撮影
に使用する各Ｘ線ビーム発生源に対応したヘリカルスキ
ャン軌跡が同一の螺旋軌道上にのるようにＸ線ビーム発
生源の回転軸方向の間隔を設定し、かつ、領域の境界部
をオーバーラップさせてヘリカルスキャンを行い、前記
オーバーラップ領域の画像データの一部または全部に図
３７に示すような重み付けを行うというものである。

【０１５４】図３７に示すように、領域ａ１側の重み付
けは、領域ａ１とオーバーラップ領域との境界を重み
「１」、オーバーラップ領域と領域ａ２の境界を重み
「０」とした線形とし、領域ａ２側の重み付けは、領域
ａ２とオーバーラップ領域との境界を重み「１」、オー
バーラップ領域と領域ａ１の境界を重み「０」とした線
形とする。そして、オーバーラップ領域では、この重み
付けされた画像データの加算平均をその位置の画像デー
タとする。尚、この重み付けは必ずしもリニアでなくて
も良い。この場合、データの加算平均は補正および対数
変換後のデータであることは言うまでもない。

【０１５５】このように、第１０の実施形態のＸ線ＣＴ
装置では、撮影に使用する各Ｘ線ビーム発生源に対応し
たヘリカルスキャン軌跡が同一の螺旋軌道上にのるよう
にＸ線ビーム発生源の回転軸方向の間隔を設定し、か
つ、領域の境界部をオーバーラップさせてヘリカルスキ
ャンを行い、前記オーバーラップ領域の画像データの一
部または全部に図３７に示すような重み付けを行ってい
るので、オーバーラップ領域では、この重み付けされた
画像データの加算平均をその位置の画像データとするこ
とで、領域境界部での画質劣化を防止することができ
る。

【０１５６】

【発明の効果】以上説明したよう本発明によれば、Ｘ線
ビーム発生源の回転軸方向の間隔を設定する設定手段に
より設定するようにしているので、ヘリカルスキャンを
効果的に行うことができ、高画質の画像データを得るこ
とが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第１の実施形態を
示すブロック図である。

【図２】図１に示したＸ線ビーム発生源スライド部の一
例を示す図である。

【図３】図１に示した検出器を示す図である。

【図４】図１に示した中央制御ユニットの診断開始まで
の動作の流れを示すフローチャートである。

【図５】第１の実施形態における２つのＸ線ビーム発生
源を有する場合のヘリカルスキャン軌跡を示す図であ
る。

【図６】Ｘ線ビームの曝射を撮影領域のみにする場合と
（ａ）、Ｘ線ビームの曝射を２つのＸ線ビーム発生源で
同時にする場合のＸ線ビーム曝射タイミングを示す図で
ある。

【図７】本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第２の実施形態を
示すブロック図である。

【図８】図７に示したＸ線ビーム発生源スライド部の一
例を示す図である。

【図９】本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第３の実施形態で
あり、Ｘ線ビーム発生源と検出器とを同時にスライドさ
せる構成の検出器を示す図である。

【図１０】図７に示した検出器を示す図である。

【図１１】Ｘ線ビーム発生源が３つの場合の例を示す図
である。

【図１２】本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第４の実施形態
を説明するための図である。

【図１３】本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第５の実施形態
を説明するための図である。

【図１４】図１３に示した場合のＸ線ビーム放射タイミ
ングを示す図である。

【図１５】図１３に示した例を二列検出器に適用した場
合を示す図である。

【図１６】本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第６の実施形態
を説明するための図である。

【図１７】図１６に示した場合のＸ線ビーム放射タイミ
ングを示す図である。

【図１８】３つのＸ線ビーム発生源のＸ線ビーム曝射タ
イミングずらした場合を示す図である。

【図１９】３つのＸ線ビーム発生源を有する場合のヘリ
カルスキャン軌跡を示す図である。

【図２０】３つのＸ線ビーム発生源の内の２つのみを使
用した場合のヘリカルスキャン軌跡を示した図である。

【図２１】図２０に示した場合のＸ線ビーム放射タイミ
ングを示す図である。

【図２２】図１６に示した場合の検出器を二列検出器に
代えたときのヘリカルスキャンによる軌跡を示した図で
ある。

【図２３】図２２に示した場合のＸ線ビーム放射タイミ
ングを示す図である。

【図２４】第６の実施形態のＸ線ＣＴ装置を用いた場合
の撮影領域幅に対する領域数の設定方法およびＸ線ビー
ム曝射タイミングの例を示す図である。

【図２５】撮影領域毎のヘリカルスキャン条件の例を示
した図である。

【図２６】本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第７の実施形態
を説明するための図である。

【図２７】図２６に示した場合のＸ線ビーム放射タイミ
ングを示す図である。

【図２８】第７の実施形態において撮影領域の幅がＸ線
ビーム発生源最大間隔Ｉmax ＊（Ｘ線ビーム発生源数）
より大きい場合を含む時を説明するための図である。

【図２９】図２８に示した場合のＸ線ビーム放射タイミ
ングを示す図である。

【図３０】第７の実施形態において１回転当たりの天板
送りは同じで、他の条件が異なる場合を説明するための
図である。

【図３１】図３０に示した場合のＸ線ビーム放射タイミ
ングを示す図である。

【図３２】本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第８の実施形態
を説明するための図である。

【図３３】図３２に示した場合の検出器を二列検出器に
代えたときの図である。

【図３４】本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第９の実施形態
を説明するための図である。

【図３５】図３４に示した場合の検出器を二列検出器に
代えたときの図である。

【図３６】本発明に係るＸ線ＣＴ装置の第１０の実施形
態を説明するための図である。

【図３７】図３６に示した場合の重み付けの例を示す図
である。

【図３８】一列検出器と二次元検出器の例を示す図であ
る。

【図３９】連続回転型の第四世代ＣＴの例を示す図であ
る。

【図４０】一列検出器を有するＸ線ＣＴ装置におけるヘ
リカルスキャン軌跡を示す図である。

【図４１】三列検出器を有するＸ線ＣＴ装置におけるヘ
リカルスキャン軌跡を示す図である。

【図４２】２つのＸ線ビーム発生源を有する場合のコン
ベンショナルスキャンを説明するための図である。

【図４３】Ｘ線ビーム発生源をコンベンショナルスキャ
ンの設定のままヘリカルスキャンを行った場合のヘリカ
ルスキャン軌跡を示した図である。

【図４４】Ｘ線ビーム発生源をコンベンショナルスキャ
ンの設定のままヘリカルスキャンを行った場合でかつス
ライス厚を考慮したときのヘリカルスキャン軌跡を示し
た図である。

【図４５】３つのＸ線ビーム発生源を有する場合のコン
ベンショナルスキャンを説明するための図である。

【図４６】３つのＸ線ビーム発生源を有する場合のＸ線
ビーム発生源をコンベンショナルスキャンの設定のまま
ヘリカルスキャンを行った場合のヘリカルスキャン軌跡
を示した図である。

【符号の説明】

１Ｘ線ＣＴ装置３中央制御ユニット５高電圧発生器７架台コントローラ９Ｘ線ビーム発生源１１Ｘ線ビーム発生源スライド部１３プリコリメータコントローラ１５検出器１７データ収集部１９画像再構成ユニット２１画像表示ユニット２３データ保存ユニット２５寝台２７寝台コントローラ２９天板スライドコントローラ３１コンソール３３架台

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】Ｘ線を寝台上の被検体に曝射する複数の
Ｘ線ビーム発生源と、このＸ線ビーム発生源から曝射されたＸ線を検出する検
出器と、前記複数のＸ線ビーム発生源を前記被検体の回りに回転
させる回転手段と、前記複数のＸ線ビーム発生源の回転軸方向の間隔を設定
する設定手段と、を有して前記少なくとも２つのＸ線発生源を回転させる
と共に寝台を回転軸方向に移動してヘリカルスキャンを
行うことを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【請求項２】前記設定手段は、ヘリカルスキャンに使
用する少なくとも２つの前記Ｘ線ビーム発生源のヘリカ
ルスキャンによる螺旋軌道が互いに等間隔となるように
前記複数のＸ線ビーム発生源の前記回転軸方向の間隔を
設定することを特徴とする請求項１記載のＸ線ＣＴ装
置。
【請求項３】前記設定手段は、ヘリカルスキャンをす
る回転軸方向の領域を複数の領域に分け、それぞれの領
域に対し１つのＸ線ビーム発生源とその対応した検出器
でヘリカルスキャンを行うように、ヘリカルスキャンに
使用する少なくとも２つの前記Ｘ線ビーム発生源の回転
軸方向の間隔を設定することを特徴とする請求項１記載
のＸ線ＣＴ装置。
【請求項４】前記設定手段は、前記領域の数を前記Ｘ
線ビーム発生源の数と同一数とし、それぞれの領域に対
して１つのＸ線ビーム発生源と対応した検出器でヘリカ
ルスキャンを行うように前記複数のＸ線ビーム発生源の
回転軸方向の間隔を設定することを特徴とする請求項３
記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項５】前記設定手段は、前記領域の境界につい
てはオーバーラップさせてヘリカルスキャンを行うよう
に前記ヘリカルスキャンに使用する少なくとも２つの前
記Ｘ線ビーム発生源の前記回転軸方向の間隔を設定する
ことを特徴とする請求項３記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項６】前記検出器により収集されたデータの
内、前記オーバーラップさせた部分の少なくとも一部に
ついては、重み付けを線形とした加算平均を行うことを
特徴とする請求項５記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項７】前記設定手段は、ヘリカルスキャンに使
用する少なくとも２つのＸ線ビーム発生源のヘリカルス
キャンによる螺旋軌道の少なくとも一部が同一螺旋軌道
となるように前記少なくとも２つのＸ線ビーム発生源の
前記回転軸方向の間隔を設定することを特徴とする請求
項３または請求項５のいずれか記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項８】前記Ｘ線ビーム発生源は、ヘリカルスキ
ャンを行う領域にのみＸ線を曝射するようにその曝射の
タイミングがそれぞれ制御されることを特徴とする請求
項３記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項９】前記検出器は、対応するＸ線ビーム発生
源と共に同期して前記回転手段により回転されることを
特徴とする請求項１〜請求項８のいずれか一項記載のＸ
線ＣＴ装置。
【請求項１０】前記検出器は、内面を検出面とする円
筒状のものであることを特徴とする請求項１〜請求項８
のいずれか一項記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項１１】前記設定手段は、Ｘ線ビーム発生源と
共に対応する検出器も前記回転軸方向に前記Ｘ線ビーム
発生源と同一量だけ移動させることを特徴とする請求項
９または請求項１０のいずれか記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項１２】前記設定手段は、前記Ｘ線ビーム発生
源と、それに対応する検出器を同一の固定部材上に固定
して前記固定部材ごと前記Ｘ線ビーム発生源と前記検出
器を移動させることを特徴とする請求項１１記載のＸ線
ＣＴ装置。
【請求項１３】前記検出器は、検出セグメントを二次
元的に配列した二次元検出器であることを特徴とする請
求項９または請求項１０のいずれか記載のＸ線ＣＴ装
置。
【請求項１４】前記ヘリカルスキャンを複数回、一連
のシーケンスとして行う手段をさらに備えたことを特徴
とする請求項１〜請求項８のいずれか一項記載のＸ線Ｃ
Ｔ装置。