JPH09265662A - デイスク状記録媒体及びその製造方法並びに情報供給方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】違法複製を効率良くかつ効果的に防御し得るデ
イスク状記録媒体及びその製造方法並びに情報供給方法
を実現し難かつた。 【解決手段】第１の記録信号を所定の一部がブランク状
態となるように変調してなる第２の記録信号に基づいて
デイスク基板の一面に凹凸パターンを形成するようにし
たことにより、違法複製を効率良くかつ効果的に防御し
得るデイスク状記録媒体及びその製造方法を実現でき
る。また第１の記録信号を所定の一部がブランク状態と
なるように変調してなる第２の記録信号が記録された光
デイスクを作製してユーザに供給すると共に、第１の記
録信号の所定の一部を所定の情報供給手段を介してユー
ザに供給するようにしたことにより、違法複製を効率良
くかつ効果的に防御し得る情報供給方法を実現できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【目次】以下の順序で本発明を説明する。 発明の属する技術分野 従来の技術（図８及び図９） 発明が解決しようとする課題（図８及び図９） 課題を解決するための手段（図１〜図７） 発明の実施の形態 （１）第１実施例（図１〜図４） （２）第２実施例（図２、図５〜図７） （３）他の実施例（図１〜図７） 発明の効果

【０００２】

【発明の属する技術分野】本発明はデイスク状記録媒体
及びその製造方法並びに情報供給方法に関し、特に光デ
イスク及び光デイスクを用いた情報供給に適用して好適
なものである。

【０００３】

【従来の技術】従来、例えば光デイスクにおいては、図
８（Ａ）〜図９（Ｃ）に示す以下の手順により製造され
ている。すなわち、まず一面１Ａが極めて平滑に形成さ
れたガラス又はニツケルからなる基板１の当該一面１Ａ
上にフオトレジストを塗布することによりレジスト層２
を形成する（図８（Ａ））。

【０００４】次いでこのレジスト層２を記録信号に応じ
て露光し（図８（Ｂ））、現像することにより、基板１
の一面１Ａ上に、残存するレジスト層２によつて記録信
号に応じた凹凸パターンを形成する（図８（Ｃ））。な
お以下においては、このように基板１の一面１Ａ上にレ
ジスト層２からなる記録信号に応じた凹凸パターンが形
成されたものをレジスト・マスタ３と呼ぶものとする。

【０００５】続いてこのレジスト・マスタ３の凹凸パタ
ーン上に無電解めつき法により導電化膜層４を形成し
（図８（Ｄ））、この後当該導電化膜層４上に電解めつ
き法により電鋳層５を形成する（図８（Ｅ））。さらに
この導電化膜層４及び電鋳層５を一体に基板１から剥離
し、洗浄した後、中心部に開口（センターホール）６Ａ
を形成することによりスタンパ６を作成する（図８
（Ｆ））。

【０００６】次いでこのスタンパ６を用いて射出成形法
により光透過性物質からなるデイスク基板７を成形し
（図９（Ａ））、この後このデイスク基板７の凹凸面７
Ａ上にスパツタリング等によりアルミニウムなどの高反
射物質からなる反射膜層８を積層形成する（図９
（Ｂ））。

【０００７】続いてこの反射膜層８上にスピンコート法
等により紫外線硬化樹脂材を所定厚で塗布すると共に、
この後これを硬化させることにより保護膜層９を形成す
る（図９（Ｃ））。これによりデイスク基板７の凹凸面
７Ａでなる信号記録面に記録信号に応じた凹凸パターン
を有する光デイスク１０を得ることができる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところでこのようにし
て製造される光デイスク１０においては、通常、違法複
製に対するプロテクト手段として、ＩＦＰＩ（Internat
ional Federation Of The Phonographic Industry ）で
推奨しているＳＩＤ（Source Identification ）コード
を予めマスタリング工程時にスタンパ６に記録しておく
方法が用いられている。

【０００９】しかしながらこのような方法を用いたとし
ても、例えば光デイスク１０の反射膜層８及び保護膜層
９をデイスク基板７から剥離し、当該デイスク基板７の
凹凸面７Ａに形成された凹凸パターンに基づいて光デイ
スク１０を複製する方法に対しては防御できない問題が
あつた。

【００１０】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、違法複製を効率良くかつ効果的に防御し得るデイス
ク状記録媒体及びその製造方法並びに情報供給方法を提
案しようとするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め第１の発明においては、デイスク状記録媒体におい
て、第１の記録信号を所定の一部がブランク状態となる
ように変調してなる第２の記録信号に基づいて一面に凹
凸パターンが形成された、光透過性物質からなるデイス
ク基板を設けるようにした。

【００１２】また第２の発明においては、デイスク状記
録媒体の製造方法において、第１の記録信号を所定の一
部がブランク状態となるように変調してなる第２の記録
信号に基づいて一面に凹凸パターンが形成されたデイス
ク基板を形成する第１の工程を設けるようにした。

【００１３】さらに第３の発明においては、情報供給方
法において、第１の記録信号を所定の一部がブランク状
態となるように変調してなる第２の記録信号が記録され
た光デイスクを作製してユーザに供給すると共に、第１
の記録信号の所定の一部を所定の情報供給手段を介して
ユーザに供給するようにした。

【００１４】この結果第１及び第２の発明では、デイス
ク基板の複製だけでは第１の記録信号の全部を得ること
ができないようにすることができる。また第３の発明で
も、光デイスクの複製だけでは第１の記録信号の全部を
得ることができないようにすることができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。

【００１６】（１）第１実施例 図１は、第１実施例の概要を示すものであり、光デイス
クに記録しようとする第１の記録信号Ｓ１を所定の一部
（例えばＴＯＣ（Table Of Contents ））がブランク状
態となるように変調することにより第２の記録信号Ｓ２
を形成し、当該第２の記録信号Ｓ２を光デイスク２０に
記録してユーザ２１に供給する一方、これとは別に上述
の第１の記録信号Ｓ１の所定の一部（以下、これを第３
の記録信号Ｓ３と呼ぶ）を例えばフロツピイデイスク２
２等に記録してユーザ２１に供給するようにし、ユーザ
２１側においてこれら光デイスク２０から得られる第２
の記録信号Ｓ２と、フロツピイデイスク等２２から得ら
れる第３の記録信号Ｓ３とに基づいて第１の記録信号Ｓ
１を再生するようにする。

【００１７】ここで、実際上このような光デイスク２０
は、図２に示す光デイスク製造手順ＲＴ１に従つて図３
（Ａ）〜図４（Ｃ）のようにして作製することができ
る。すなわち、まず従来と同様にして、図３（Ａ）のよ
うに一面が極めて平滑に形成された基板３０の一面３０
Ａ上にフオトレジストを塗布することによりレジスト層
３１を形成する（ステツプＳＰ１）。

【００１８】続いて図３（Ｂ）に示すように、このレジ
スト層３１を記録信号に応じて露光する（ステツプＳＰ
２）。この際フオーマツタを改造しておくことにより、
記録すべき第１の記録信号Ｓ１（図１）を所定の一部が
ブランク状態となるように変調してなる第２の記録信号
Ｓ２がフオーマツタからカツテイングマシンに供給され
るようにし、かくして当該カツテイングマシンによりレ
ジスト層３１に無変調部分のある溝をカツテイングさせ
る。

【００１９】次いでこのレジスト層３１を現像すること
により、図３（Ｃ）に示すように、基板３０の一面３０
Ａ上に記録信号に応じた無変調部分を有する凹凸パター
ンを形成し、この後かくして形成されたレジストマスタ
３２の凹凸パターン上に無電解メツキ及び電解メツキを
順次施すことにより、図３（Ｄ）に示すように、ニツケ
ル等からなる導電化膜層３３及び電鋳層３４を順次積層
形成する（ステツプＳＰ３）。

【００２０】続いて図３（Ｅ）に示すように、この導電
化膜層３３及び電鋳層３４をレジストマスタ３２から一
体に剥離し、洗浄した後、図３（Ｆ）に示すように、セ
ンターホール４０Ａを形成することによりスタンパ４０
を作成する。さらにこの後図４（Ａ）に示すように、こ
のスタンパ４０を用いて射出成形法によりボリカーボネ
イト等の光透過性物質からなるデイスク基板４１を成形
し（ステツプＳＰ４）、この後このデイスク基板４１の
凹凸面４１Ａ上にスパツタリング等によりアルミニウム
などの高反射物質からなる反射膜層４２を積層形成する
（ステツプＳＰ５）。

【００２１】続いてこの反射膜層４２上にスピンコート
法等により紫外線硬化樹脂材を所定厚で塗布すると共
に、この後これを硬化させることにより保護膜層４３を
形成し（ステツプＳＰ６）、さらにこの後この保護膜層
４３の表面４３Ａ上にラベル等を印刷する（ステツプＳ
Ｐ７）。これにより第１の記録信号Ｓ１を所定の一部が
ブランク状態となるように変調してなる第２の記録信号
Ｓ２が記録された光デイスク２０を得ることができる
（ステツプＳＰ８）。

【００２２】以上の構成において、この第１実施例で
は、第１の記録信号Ｓ１を所定の一部がブランク状態と
なるように変調してなる第２の記録信号Ｓ２が記録され
た光デイスク２０を作製してこれをユーザ２１に供給す
る一方、これとは別に上述の第１の記録信号Ｓ１の所定
の一部でなる第３の記録信号Ｓ３を例えばフロツピイデ
イスク２２等に記録してユーザ２１に供給する。従つて
この方法によれば、例えば光デイスク２０から反射膜層
４２（図４（Ｃ））及び保護膜層４３（図４（Ｃ））を
剥離し、かくして得られたデイスク基板４１（図４
（Ｃ））に基づいて光デイスク２０が違法複製された場
合においても当該複製された光デイスク２０だけでは第
１の記録信号Ｓ１全部を得ることができず、その分光デ
イスク２０の違法複製を効果的かつ確実に防御すること
ができる。

【００２３】なおこの方法は、特にＣＤ−ＲＯＭ（Comp
act Disc Read Only Memory ）のように記録情報の一部
が欠落した場合に当該記録情報の再生が困難なフオーマ
ツトで情報が記録された光デイスクや、今後新規の形態
で発売される光デイスクに対して有効である。

【００２４】以上の構成によれば、第１の記録信号Ｓ１
を所定の一部がブランク状態となるように変調してなる
第２記録信号Ｓ２が記録された光デイスク２０を作製し
てこれをユーザ２１に供給する一方、これとは別に上述
の第１の記録信号Ｓ１の所定の一部でなる第３の記録信
号Ｓ３を例えばフロツピイデイスク２２等に記録してユ
ーザ２１に供給するようにしたことにより、光デイスク
２０が複製されても第１の記録信号Ｓ１の全部を得るこ
とができないようにすることができ、かくて違法複製を
効率良くかつ効果的に防御し得る光デイスク及びその製
造方法並びに情報供給方法を実現できる。

【００２５】（２）第２実施例 図５は第２実施例による光デイスク５０を示すものであ
り、ポリカーボネイト等の光透過性物質からなるデイス
ク基板５１の凹凸面５１Ａ上にアルミニウム等の高反射
物質からなる反射膜層５２が積層形成されると共に、当
該反射膜層５２上にＵＶ硬化樹脂等からなる保護膜層５
３が積層形成され、当該保護膜層５３上にラベルが印刷
されることにより形成されている。

【００２６】この場合デイスク基板５１の凹凸面５１Ａ
には、第１実施例のデイスク基板４１と同様に、第１の
記録信号Ｓ１（図１）を所定の一部（例えばＴＯＣ）が
ブランク状態となるように変調してなる第２の記録信号
Ｓ２が凹凸パターンとして記録されている。また反射膜
層５２には、第２の記録信号Ｓ２に代えて第１の記録信
号Ｓ１に基づいてデイスク基板５１の凹凸面５１Ａに凹
凸パターンを形成したときに、当該第１の記録信号Ｓ１
の所定の一部でなる第３の記録信号Ｓ３に基づいてピツ
トが形成されるデイスク基板５１の凹凸面５１Ａの各部
位にそれぞれ対向させて、それぞれ対応するピツトと同
じ開口寸法で複数の貫通孔５２Ａが穿設されている。

【００２７】これは、通常、光デイスクプレイヤが光デ
イスクから記録信号を読み出す際、当該光デイスクに光
ビームを照射し、その反射戻り光の光量が少ない部分を
ピツトと認識することを利用したものであり、この光デ
イスク５０では、このように反射膜層５２のピツト相当
部に貫通孔５２Ａを設けることによつて反射戻り光の光
量を反射膜層５２の他の部分よりも少なくさせ、かくし
て光デイスクプレイヤが各貫通孔５２Ａをピツトと認識
して当該貫通孔５２Ａのかたちで反射膜層５２に記録さ
れた第３の記録信号Ｓ３を読み出し得るようになされて
いる。

【００２８】ここで実際上この光デイスク５０は、図６
に示す光デイスク製造手順ＲＴ２に従つて製造すること
ができる。すなわちまずステツプＳＰ１０からステツプ
ＳＰ１５までの各工程をそれぞれ第１実施例のステツプ
ＳＰ０〜ＳＰ５と同様にして行うことにより、図７
（Ａ）に示すような第２の記録信号Ｓ２が記録されたデ
イスク基板５１を形成し、当該デイスク基板５１の凹凸
面５１Ａ上に図７（Ｂ）のように反射膜層５２を積層形
成する。

【００２９】続いてこのデイスク基板５１の凹凸面５１
Ａに対し、反射膜層５２側からグルーブに沿つて光ビー
ムを走査させることにより信号が欠落した領域（すなわ
ち第２の記録信号Ｓ２に代えて第１の記録信号Ｓ１を記
録したときに、第３の記録信号Ｓ３が記録される領域）
を検出する。

【００３０】次いで検出したデイスク基板５１の凹凸面
５１Ａの信号欠領域分と対向する反射膜層５２に対し、
第３の記録信号Ｓ３に基づいてピツトが形成されるであ
ろうデイスク基板５１の凹凸面５１Ａの各部位とそれぞ
れ対向する位置に高エネルギーのＣＯ₂ ガスレーザやＵ
Ｖレーザ等を照射することにより、図７（Ｃ）のように
正規のピツトに相当する開口寸法で、反射膜層５２に第
３の記録信号Ｓ３を追加記録するようにして貫通孔５２
Ａを形成する（ステツプＳＰ１６）。

【００３１】さらに図７（Ｄ）に示すように、この反射
膜層５２上にスピンコート法等を用いて光硬化性樹脂材
等からなる保護膜層５３を形成し（ステツプＳＰ１
７）、この後この保護膜層５３の表面上にラベル等を印
刷する（ステツプＳＰ１８）。これにより第１の記録信
号Ｓ１を所定の一部がブランク状態となるように変調し
てなる第２の記録信号Ｓ２が凹凸パターンとしてデイス
ク基板５１の凹凸面５１Ａに記録され、かつ第１の記録
信号Ｓ１の所定の一部でなる第３の記録信号Ｓ３が貫通
孔５２Ａとして反射膜層５２に記録されてなる光デイス
ク５０を得ることができる（ステツプＳＰ１９）。

【００３２】以上の構成において、この光デイスク５０
では、上述のように第１の記録信号Ｓ１を所定の一部が
ブランク状態となるように変調してなる第２の記録信号
Ｓ２が凹凸パターンとしてデイスク基板５１の凹凸面５
１Ａに記録され、かつ第１の記録信号Ｓ１の所定の一部
でなる第３の記録信号Ｓ３が貫通孔５２Ａとして反射膜
層５２に記録されている。

【００３３】従つて例えば光デイスク５０から反射膜層
５２及び保護膜層５３を剥離し、かくして得られたデイ
スク基板５１に基づいて光デイスクが違法複製された場
合においても当該複製された光デイスクだけでは第１の
記録信号Ｓ１の全部又は一部を得ることができず、光デ
イスクの違法複製を効果的かつ確実に防御することがで
きる。なおこの第２実施例は、光デイスク５０を既存の
プレイヤで再生することができるため、ＣＤ等に適用し
て好適である。

【００３４】以上の構成によれば、第１の記録信号Ｓ１
を所定の一部がブランク状態となるように変調してなる
第２の記録信号Ｓ２が凹凸パターンとしてデイスク基板
５１の凹凸面５１Ａに記録され、かつ第１の記録信号Ｓ
１の所定の一部でなる第３の記録信号Ｓ３が貫通孔５２
Ａとして反射膜層５２に記録するようにしたことによ
り、デイスク基板５１に基づいてだけでは第１の記録信
号Ｓ１の全部を得られないようにすることができ、かく
て違法複製を効率良くかつ効果的に防御し得る光デイス
ク及びその製造方法を実現できる。

【００３５】（３）他の実施例 なお上述の第１実施例においては、光デイスク２０に記
録されない第３の記録信号Ｓ３をフロツピイデイスク２
２に記録してユーザ２１に供給するようにした場合につ
いて述べたが、本発明はこれに限らず、第３の記録信号
Ｓ３をフロツピイデイスク２２以外の記録媒体や、電話
回線の信号伝送路等この他種々の情報供給手段を用いて
ユーザ２１に供給するようにしても良い。

【００３６】また上述の第２実施例においては、反射膜
層５２に貫通孔５２Ａを形成する貫通孔形成手段として
高エネルギーのＣＯ₂ ガスレーザやＵＶレーザを適用す
るようにした場合について述べたが、本発明はこれに限
らず、例えばニードル（針）等を用いて形成するように
しても良く、反射膜層５２に貫通孔５２Ａを形成する貫
通孔形成手段としては、この他種々の手段を適用でき
る。

【００３７】さらに上述の第１及び第２実施例において
は、第１の記録信号Ｓ１の所定の一部としてＴＯＣを第
１の記録信号Ｓ１から欠落させるようにした場合につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、ＴＯＣ以外の部分
を第１の記録信号Ｓ１から欠落させて第２の記録信号Ｓ
２を形成するようにしても良い。

【００３８】

【発明の効果】上述のように第１の発明によれば、光デ
イスクに、第１の記録信号を所定の一部がブランク状態
となるように変調してなる第２の記録信号に基づいて一
面に凹凸パターンが形成された、光透過性物質からなる
デイスク基板と、デイスク基板の上記一面上に積層形成
された、高反射物質からなる反射膜層と、反射膜層上に
積層形成された所定材料からなる保護膜層とを設けるよ
うにしたことにより、デイスク基板の複製だけでは第１
の記録信号の全部を得ることができないようにすること
ができ、かくして違法複製を効率良くかつ効果的に防御
し得るデイスク状記録媒体及びその製造方法を実現でき
る。

【００３９】また第２の発明によれば、デイスク状記録
媒体の製造方法において、第１の記録信号を所定の一部
がブランク状態となるように変調してなる第２の記録信
号に基づいて一面に凹凸パターンが形成されたデイスク
基板を形成する第１の工程と、デイスク基板の上記一面
上に高反射物質からなる反射膜層を形成する第２の工程
とを設けるようにしたことにより、デイスク基板の複製
だけでは第１の記録信号の全部を得ることができないよ
うにすることができ、かくして違法複製を効率良くかつ
効果的に防御し得るデイスク状記録媒体及びその製造方
法を実現できる。

【００４０】さらに第３の発明によれば、第１の記録信
号を所定の一部がブランク状態となるように変調してな
る第２の記録信号が記録された光デイスクを作製してユ
ーザに供給すると共に、第１の記録信号の所定の一部を
所定の情報供給手段を介してユーザに供給するようにし
たことにより、光デイスクの複製だけでは第１の記録信
号の全部を得ることができないようにすることができ、
かくして違法複製を効率良くかつ効果的に防御し得る情
報供給方法を実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例による情報供給方法のようすを示す
概念図である。

【図２】第１実施例による光デイスク製造手順を示すフ
ローチヤートである。

【図３】第１実施例による光デイスク製造手順の説明に
供する断面図である。

【図４】第１実施例による光デイスク製造手順の説明に
供する断面図である。

【図５】第２実施例による光デイスクの構成を示す断面
図である。

【図６】第２実施例による光デイスク製造手順を示すフ
ローチヤートである。

【図７】第２実施例による光デイスク製造手順の説明に
供する断面図である。

【図８】従来の光デイスク製造手順の説明に供する断面
図である。

【図９】従来の光デイスク製造手順の説明に供する断面
図である。

【符号の説明】

２０、５０……光デイスク、２１……ユーザ、２２……
フロツピイデイスク、４１、５１……デイスク基板、４
１Ａ、５１Ａ……凹凸面、４２、５２……反射膜層、４
３、５３……保護膜層、５２Ａ……貫通孔、Ｓ１……第
１の記録信号、Ｓ２……第２の記録信号、Ｓ３……第３
の記録信号、ＲＴ１、ＲＴ２……光デイスク製造手順。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】第１の記録信号を所定の一部がブランク状
   態となるように変調してなる第２の記録信号に基づいて
   一面に凹凸パターンが形成された、光透過性物質からな
   るデイスク基板と、 上記デイスク基板の上記一面上に積層形成された、高反
   射物質からなる反射膜層と、 上記反射膜層上に積層形成された所定材料からなる保護
   膜層とを具えることを特徴とするデイスク状記録媒体。
2. 【請求項２】上記反射膜層は、 上記第２の記録信号に代えて上記第１の記録信号に基づ
   いて上記デイスク基板の上記一面に凹凸パターンを形成
   したときに、当該第１の記録信号の上記所定の一部に基
   づいてピツトが形成される上記デイスク基板の上記一面
   の各部位にそれぞれ対向させて、それぞれ対応する上記
   ピツトと同じ開口寸法で形成された複数の貫通孔を具え
   ることを特徴とする請求項１に記載のデイスク状記録媒
   体。
3. 【請求項３】第１の記録信号を所定の一部がブランク状
   態となるように変調してなる第２の記録信号に基づいて
   一面に凹凸パターンが形成されたデイスク基板を形成す
   る第１の工程と、 上記デイスク基板の上記一面上に高反射物質からなる反
   射膜層を形成する第２の工程とを具えることを特徴とす
   るデイスク状記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】上記第２の記録信号に代えて上記第１の記
   録信号に基づいて上記デイスク基板の上記一面に凹凸パ
   ターンを形成したときに、当該第１の記録信号の上記所
   定の一部に基づいてピツトが形成される上記デイスク基
   板の上記一面の各部位にそれぞれ対向させて、それぞれ
   対応する上記ピツトと同じ開口寸法で上記反射膜層に貫
   通孔を形成する第３の工程を具えることを特徴とする請
   求項３に記載のデイスク状記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】第１の記録信号を所定の一部がブランク状
   態となるように変調してなる第２の記録信号が記録され
   た光デイスクを作製してユーザに供給すると共に、上記
   第１の記録信号の上記所定の一部を所定の情報供給手段
   を介して上記ユーザに供給することを特徴とする情報供
   給方法。