JPS63138541A - 光学的記録媒体の製造方法 - Google Patents
光学的記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS63138541A JPS63138541A JP28358586A JP28358586A JPS63138541A JP S63138541 A JPS63138541 A JP S63138541A JP 28358586 A JP28358586 A JP 28358586A JP 28358586 A JP28358586 A JP 28358586A JP S63138541 A JPS63138541 A JP S63138541A
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- JP
- Japan
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- diffraction grating
- pattern
- layer
- optical recording
- recording medium
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は読み出し専用の光学的記録媒体の製造方法に関
するものである。
するものである。
（従来技？＃）
光学的記録は磁気的記録と比較して記録媒体と再生ヘッ
ドが非接触であり、且つ高密度の記録が可能であるなど
の利点がある。この光学的記録媒体としては読み出し専
用のものと追加書き込み可能なもの、消却再書き込み可
能なものが知られており１本発明にかかる読み出し専用
の光学的記録媒体としてはまず既に実用化されたコンパ
クトディスク（ＣＤ）や光学式のビデオディスク等が挙
げられる。これらの光学的記録媒体で採用されている方
式は媒体中に形成された凹凸構造に情報が記録され、情
報の記録密度を上げる為記録ビット（凹部又は凸部の最
小単位）は１μｍ前後の大きさにし、かつレーザ等の高
源を用いて再生光を該ビットと同程度の大きさに絞って
情報を読み出すことが行なわれているが、読み出し光の
ビームが微少なことは、再生の為シＣオートフォーカス
、オ−トトラッキングの為の技術、さらに高価なレーザ
光線を使わねばならないという問題が生じる。
ドが非接触であり、且つ高密度の記録が可能であるなど
の利点がある。この光学的記録媒体としては読み出し専
用のものと追加書き込み可能なもの、消却再書き込み可
能なものが知られており１本発明にかかる読み出し専用
の光学的記録媒体としてはまず既に実用化されたコンパ
クトディスク（ＣＤ）や光学式のビデオディスク等が挙
げられる。これらの光学的記録媒体で採用されている方
式は媒体中に形成された凹凸構造に情報が記録され、情
報の記録密度を上げる為記録ビット（凹部又は凸部の最
小単位）は１μｍ前後の大きさにし、かつレーザ等の高
源を用いて再生光を該ビットと同程度の大きさに絞って
情報を読み出すことが行なわれているが、読み出し光の
ビームが微少なことは、再生の為シＣオートフォーカス
、オ−トトラッキングの為の技術、さらに高価なレーザ
光線を使わねばならないという問題が生じる。
一方、他の方式の光学的記録媒体として光学的に高い反
射率を有する部分と低い反射率を有する部分とをそれぞ
れ別の材料によって構成し、このＭＬによりパターンを
形成しデジタル情報を記録する光学的記録媒体が知られ
ている。この方式による濃淡パターンの形成方法は例え
ば特開昭６０−６６３４６号公報に開示されているよう
に、基板上に光学的低反射層と光学的高反射層をこの順
に積層し１表面にフォトレジストを塗布し、そこへ微細
な濃淡パターンをもつマスクを介して露光し、その後フ
ォトレジストを現像してレジストパターンを形成させ、
しかる後レジストパターンを利用してパターン状にエツ
チングを行なって光学的高反射層を除去させ光学的低反
射層を露出せしめることにより行なっている。この方式
は高価なレーザ光線を使用しなくてもよいが、上述の様
に製造工程の数が多く、各工程も容易に行なえるもので
はない。
射率を有する部分と低い反射率を有する部分とをそれぞ
れ別の材料によって構成し、このＭＬによりパターンを
形成しデジタル情報を記録する光学的記録媒体が知られ
ている。この方式による濃淡パターンの形成方法は例え
ば特開昭６０−６６３４６号公報に開示されているよう
に、基板上に光学的低反射層と光学的高反射層をこの順
に積層し１表面にフォトレジストを塗布し、そこへ微細
な濃淡パターンをもつマスクを介して露光し、その後フ
ォトレジストを現像してレジストパターンを形成させ、
しかる後レジストパターンを利用してパターン状にエツ
チングを行なって光学的高反射層を除去させ光学的低反
射層を露出せしめることにより行なっている。この方式
は高価なレーザ光線を使用しなくてもよいが、上述の様
に製造工程の数が多く、各工程も容易に行なえるもので
はない。
レーザ光線を使用しなくてもよい別方式として情報の最
小単位である記録ピットを回折格子で構成する光学的記
録媒体が考えられるが、数十μｍオーダーの回折格子部
と平滑部とを選択し１回折格子部に回折格子を形成させ
るのは容易なことではない。
小単位である記録ピットを回折格子で構成する光学的記
録媒体が考えられるが、数十μｍオーダーの回折格子部
と平滑部とを選択し１回折格子部に回折格子を形成させ
るのは容易なことではない。
（発明の目的）
本発明は上記従来技術の問題点に鑑みなされたものであ
り、読み取り用の高価なレーザ光線を使用しなくてもよ
い。しかも簡便な方法により大量複製が行なわれる読み
出し専用の光学的記録媒体の製造方法をｊ提供すること
にある。
り、読み取り用の高価なレーザ光線を使用しなくてもよ
い。しかも簡便な方法により大量複製が行なわれる読み
出し専用の光学的記録媒体の製造方法をｊ提供すること
にある。
（発明の概要）
本発明は基材上にフォトレジストを塗布し、形成された
フォトレジスト層にレーザ光線を用いてホログラフィッ
クな露光をさせ回折格子の潜像を形成し１次いで微細な
濃淡パターンを有するマスクを用いて露光を行ない、そ
の後フォトレジストを現像させ記録パターンを得る。得
られた記録・ぐターンからスタンパを起こし、このスタ
ンパにより微細なパターン状に回折格子が設けられた光
学的記録媒体を複製させる光学的記録媒体の製造方法で
ある。
フォトレジスト層にレーザ光線を用いてホログラフィッ
クな露光をさせ回折格子の潜像を形成し１次いで微細な
濃淡パターンを有するマスクを用いて露光を行ない、そ
の後フォトレジストを現像させ記録パターンを得る。得
られた記録・ぐターンからスタンパを起こし、このスタ
ンパにより微細なパターン状に回折格子が設けられた光
学的記録媒体を複製させる光学的記録媒体の製造方法で
ある。
（発明の詳述）
以下本発明を図面に基づき詳細に説明する。
第１図から第５図までは記録パターンスタンパ母型製造
の段階を順に示したもので、第１図は光学的記録材料１
１１の構成を説明するもので、基材（２）上にフォトレ
ジスト層（３）が積層されている。フォトレジストはポ
ジ型、ネガ型とも使用可能であるが、塗布がむらな（容
易に行なえ、しかも高解像力で露光の際の微細な情報記
録パターンを充分に解像しうるものを選び使用する。
の段階を順に示したもので、第１図は光学的記録材料１
１１の構成を説明するもので、基材（２）上にフォトレ
ジスト層（３）が積層されている。フォトレジストはポ
ジ型、ネガ型とも使用可能であるが、塗布がむらな（容
易に行なえ、しかも高解像力で露光の際の微細な情報記
録パターンを充分に解像しうるものを選び使用する。
このようなフォトレジストとして、ポジ型ではシブレー
社製ＡＺ−１３５０．東京応化工業■製０ＦＰＲ−２−
８００，５０００，ＴＳＭＲ−８８００、ネガ型では東
京応化工業■社製ＯＭＲ−８３，８５，０ＮＮＲ−２０
，２２，東洋曹達工業■社製ＣＩＰ−２００，３００を
用いることができろ。基材（２）は用途に適した特性１
例えば表面の平滑性、耐性などを有し、後工程、フォト
レジストの現像やスタンパ成形工程において劣化や変形
などの影響を受けないものを選び使用する。
社製ＡＺ−１３５０．東京応化工業■製０ＦＰＲ−２−
８００，５０００，ＴＳＭＲ−８８００、ネガ型では東
京応化工業■社製ＯＭＲ−８３，８５，０ＮＮＲ−２０
，２２，東洋曹達工業■社製ＣＩＰ−２００，３００を
用いることができろ。基材（２）は用途に適した特性１
例えば表面の平滑性、耐性などを有し、後工程、フォト
レジストの現像やスタンパ成形工程において劣化や変形
などの影響を受けないものを選び使用する。
このような材料として、ガラス、樹＠（アクリル。
エポキシ、ナイロン等）、金属（鋼、ニッケル。
ＡＪ等）を使用することができる。
このような光学的記録材料に対して、レーザ露光装置を
用いてフォトレジスト層］３）にホログラフィックな露
光を行い１回折格子の潜像を形成させる（第２図）。使
用するレーザ光源としてはアルゴンレーザ（４５８ｎｍ
）、ヘリウム−カドミニウムレーザ（４４２ｎｍ）など
が挙げられる。ここで、単位長さ当りの回折格子の溝数
はレーザの波長とレーザ露光装置の設定条件を定めろこ
とにより任意に制御することができる。さらに溝の形状
が鋸歯状化された回折格子（ブレーズド型回折格子）も
レーザ露光装置の設定条件により形成することができる
。またレーザ光により直接回折格子を形成するため精度
の高い回折格子が得られる。
用いてフォトレジスト層］３）にホログラフィックな露
光を行い１回折格子の潜像を形成させる（第２図）。使
用するレーザ光源としてはアルゴンレーザ（４５８ｎｍ
）、ヘリウム−カドミニウムレーザ（４４２ｎｍ）など
が挙げられる。ここで、単位長さ当りの回折格子の溝数
はレーザの波長とレーザ露光装置の設定条件を定めろこ
とにより任意に制御することができる。さらに溝の形状
が鋸歯状化された回折格子（ブレーズド型回折格子）も
レーザ露光装置の設定条件により形成することができる
。またレーザ光により直接回折格子を形成するため精度
の高い回折格子が得られる。
この次に微細な濃淡パターン状に情報が記録されている
マスク（４）を介してフォトレジス）ｉ＋３１ヲ露光さ
せた後（第３図）フォトレジストを現像し。
マスク（４）を介してフォトレジス）ｉ＋３１ヲ露光さ
せた後（第３図）フォトレジストを現像し。
回折格子が形成されたレジストのパターンヲ形成させる
（第４図）。その後、フォトレジスト層（３）及び基材
（２）の表面に金属層（５）を形成させる。金属１＊
（５１は後工程の第４図の形態（母型）のスタンパを起
こす技術方法（例えば電鋳法）を適用する際て不都合で
ない金属を選び、それを真空蒸着又はスパッタリンダを
行なうことで形成される。金属層（６）がさらに光学的
に高い反射率を有する金属の場合には、この状態に読み
出し光を照射すると再生も可能となり、記録状態の確認
を行なうことができる。
（第４図）。その後、フォトレジスト層（３）及び基材
（２）の表面に金属層（５）を形成させる。金属１＊
（５１は後工程の第４図の形態（母型）のスタンパを起
こす技術方法（例えば電鋳法）を適用する際て不都合で
ない金属を選び、それを真空蒸着又はスパッタリンダを
行なうことで形成される。金属層（６）がさらに光学的
に高い反射率を有する金属の場合には、この状態に読み
出し光を照射すると再生も可能となり、記録状態の確認
を行なうことができる。
電鋳法などの技術により得られた母型からスタンパを起
こしく第６図〕、そして得られたスタンパ（６）により
光学的記録媒体の大量複製を行なう。
こしく第６図〕、そして得られたスタンパ（６）により
光学的記録媒体の大量複製を行なう。
複製方法としては射出成形法、圧縮成形法、紫外線硬化
樹脂を使った方法などが挙げられるが、複製品が良質で
効率よく製造できる方法を選んでから行なう。複製され
た基材（７）の表面には光学的に高い反射率を有する金
属を選び、真空蒸着又はスパツタリングにより金属層（
８）を形成させ（第７図）その上部には光学的に透明な
材料（９）で保護層を形成させる（第８図）。この場合
読み取り光は材料（９）の側から照射するが、逆に基材
（７）を光学的に透明な性質をも備えた材料を使い基材
（７）の側から読み出し光を照射する方式も可能である
。
樹脂を使った方法などが挙げられるが、複製品が良質で
効率よく製造できる方法を選んでから行なう。複製され
た基材（７）の表面には光学的に高い反射率を有する金
属を選び、真空蒸着又はスパツタリングにより金属層（
８）を形成させ（第７図）その上部には光学的に透明な
材料（９）で保護層を形成させる（第８図）。この場合
読み取り光は材料（９）の側から照射するが、逆に基材
（７）を光学的に透明な性質をも備えた材料を使い基材
（７）の側から読み出し光を照射する方式も可能である
。
また、その表面に光学的に高い反射率を有する金属薄膜
を設けた熱可塑性樹脂にスタンパ（７）で圧縮成形させ
光学的記録情報を転写させる方法も可能である。このよ
うにして得られた光学的記録媒体において１回折格子の
形状が正弦波形でその深さが０．１６μｍの場合、Ｈｅ
−Ｎｅレーザー（６５２，８ｍｍ）を入射角０°で照射
した時の回折効率は３乙係であり１反射率は平滑部１０
０に対し１回折格子部５４となり約６０係のコントラス
トが確認されろ。読み取り光は前記レーザー光に限定さ
れるものではなく１例えば発光ダイオード等、特別な光
源を選ばずとも読み取りを可能とするものを提供するも
のである。
を設けた熱可塑性樹脂にスタンパ（７）で圧縮成形させ
光学的記録情報を転写させる方法も可能である。このよ
うにして得られた光学的記録媒体において１回折格子の
形状が正弦波形でその深さが０．１６μｍの場合、Ｈｅ
−Ｎｅレーザー（６５２，８ｍｍ）を入射角０°で照射
した時の回折効率は３乙係であり１反射率は平滑部１０
０に対し１回折格子部５４となり約６０係のコントラス
トが確認されろ。読み取り光は前記レーザー光に限定さ
れるものではなく１例えば発光ダイオード等、特別な光
源を選ばずとも読み取りを可能とするものを提供するも
のである。
（実施例）
以下１本発明を実施例により説明するが１本発明は実施
例だけに限定されるものではない。縦６〜７４ｍ 、横
５〜６ｃｒＩＬの表面が平滑なガラス板上にフォトレジ
スト（シプレー社製−ＡＺ−１５５０）をスピナー塗布
し、乾燥後（９０’Ｃ）−Ａｒレーザー（４５８ｍｍ
）を用いてホログラフィックな露光をさせ１回折格子の
潜像を形成させ１次いで微細なパターンを有するマスク
を介して露光を行ない。
例だけに限定されるものではない。縦６〜７４ｍ 、横
５〜６ｃｒＩＬの表面が平滑なガラス板上にフォトレジ
スト（シプレー社製−ＡＺ−１５５０）をスピナー塗布
し、乾燥後（９０’Ｃ）−Ａｒレーザー（４５８ｍｍ
）を用いてホログラフィックな露光をさせ１回折格子の
潜像を形成させ１次いで微細なパターンを有するマスク
を介して露光を行ない。
その後フォトレジストを現像し、レジストパターンを形
成する。しかる後得られたレジストパターン上に金蒸着
を行ない導電性薄膜を形成した後。
成する。しかる後得られたレジストパターン上に金蒸着
を行ない導電性薄膜を形成した後。
これをスルファミン酸ニンケル浴を用いたニッケル電鋳
でニッケルスタンパを作成し、厚さ０．５順のポリ塩化
ビニルシート上にニッケルスタンパの形状を圧縮成形で
転写させ、得られた転写表面にアルミニウム蒸着を行な
い１回折格子の設けられている部分と設けられていない
部分、つまり平滑な部分とを顕微鏡で観察したところ両
者がはっきりと区別され、また発光ダイオードを読み取
り光としてＣＣＤラインセンサーで読み取ったところ実
用に充分なＳ／Ｎ比が得られた。
でニッケルスタンパを作成し、厚さ０．５順のポリ塩化
ビニルシート上にニッケルスタンパの形状を圧縮成形で
転写させ、得られた転写表面にアルミニウム蒸着を行な
い１回折格子の設けられている部分と設けられていない
部分、つまり平滑な部分とを顕微鏡で観察したところ両
者がはっきりと区別され、また発光ダイオードを読み取
り光としてＣＣＤラインセンサーで読み取ったところ実
用に充分なＳ／Ｎ比が得られた。
（本発明の効果）
本発明により回折格子部と平滑部を選択的に形成が行な
え、しかもレーザ光学装置の組み換え方により精度の高
い種々の回折格子の形成も可能となり、しかも効率よく
光学的記録媒体の大量複製も行なうことができろ。
え、しかもレーザ光学装置の組み換え方により精度の高
い種々の回折格子の形成も可能となり、しかも効率よく
光学的記録媒体の大量複製も行なうことができろ。
第１図乃至第５図は母型を製造する各工程を示す説明図
、第６図乃至第８図は大量複製の各工程を示す説明図で
ある。 （１）・・・光学的記録材料 （２）・・・基材 （３）・・・フォトレジスト （４）・・・マスク
、第６図乃至第８図は大量複製の各工程を示す説明図で
ある。 （１）・・・光学的記録材料 （２）・・・基材 （３）・・・フォトレジスト （４）・・・マスク
Claims (1)
- 光学的に高い反射率を有する材料で凹凸パターンが形成
され該凹凸パターンの凹部又は凸部の少なくとも一方に
回折格子が形成されている光学的記録媒体の製造方法に
於いて、基材上にフォトレジストを塗布し、形成された
フォトレジスト層にレーザ光線を用いてホログラフィッ
クな露光をさせ回折格子の潜像を形成し、次いで記録す
べき信号に対応する微細な濃淡パターンを有するマスク
を用いて露光を行ない、その後フォトレジストを現像し
て記録パターンを得、得られた記録パターンからスタン
パを起こし、このスタンパにより微細なパターン状に回
折格子が設けられた光学的記録媒体を複製することを特
徴とする光学的記録媒体の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28358586A JPS63138541A (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | 光学的記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28358586A JPS63138541A (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | 光学的記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63138541A true JPS63138541A (ja) | 1988-06-10 |
Family
ID=17667415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28358586A Pending JPS63138541A (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | 光学的記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63138541A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994010684A1 (en) * | 1992-10-27 | 1994-05-11 | Pmdc, Inc. | Optically readable information disc including visible ornamental hologram, and method of fabricating same |
| FR2705487A1 (fr) * | 1993-05-14 | 1994-11-25 | Hologram Ind Sarl | Procédé de fabrication d'une matrice destinée au pressage de disques à lecture optique. |
| US8053146B2 (en) * | 2005-02-10 | 2011-11-08 | Ovd Kinegram Ag | Multi-layer body including a diffractive relief structure and method for producing the same |
-
1986
- 1986-11-28 JP JP28358586A patent/JPS63138541A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994010684A1 (en) * | 1992-10-27 | 1994-05-11 | Pmdc, Inc. | Optically readable information disc including visible ornamental hologram, and method of fabricating same |
| FR2705487A1 (fr) * | 1993-05-14 | 1994-11-25 | Hologram Ind Sarl | Procédé de fabrication d'une matrice destinée au pressage de disques à lecture optique. |
| US8053146B2 (en) * | 2005-02-10 | 2011-11-08 | Ovd Kinegram Ag | Multi-layer body including a diffractive relief structure and method for producing the same |
| US8450029B2 (en) | 2005-02-10 | 2013-05-28 | Ovd Kinegram Ag | Multi-layer body and process for the production of a multi-layer body |
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