JPH092659A - 搬送装置 - Google Patents

搬送装置

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JPH092659A
JPH092659A JP8090780A JP9078096A JPH092659A JP H092659 A JPH092659 A JP H092659A JP 8090780 A JP8090780 A JP 8090780A JP 9078096 A JP9078096 A JP 9078096A JP H092659 A JPH092659 A JP H092659A
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JP
Japan
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station
substrate
rotary table
turntable
stations
Prior art date
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Pending
Application number
JP8090780A
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English (en)
Inventor
Jaroslav Zejda
ヤロスラフ、ツェイダ
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Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Original Assignee
Leybold AG
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH092659A publication Critical patent/JPH092659A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G29/00—Rotary conveyors, e.g. rotating discs, arms, star-wheels or cones
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/265—Apparatus for the mass production of optical record carriers, e.g. complete production stations, transport systems
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
    • H10P72/33—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H10P72/3304—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber characterised by movements or sequence of movements of transfer devices
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
    • G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00—Material or article handling
    • Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/139—Associated with semiconductor wafer handling including wafer charging or discharging means for vacuum chamber

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Specific Conveyance Elements (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 搬送装置および基板を受けるための個々のス
テーションを極めて小さな空間に納める。 【解決手段】 最長の加工時間の工程ステーションの加
工時間に合わされている一定のサイクル時間で駆動され
る回転テーブル（１２）が設けられている。基板（コン
パクトディスク２）は、回転可能に支持され形成された
基板グリッパ（１３）によって、回転テーブル（１２）
の外に設けられた一つあるいは複数の工程ステーション
ないしサテライト・工程ステーション（４）におよび又
は出口ステーション（１０）ないし置き場ステーション
（１４、２９）に導かれる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、出発ステーション
および基板を受けるために列を成してあるいは円形に配
置された複数の工程ステーションを有し、基板がこれら
の各工程ステーションに回転テーブルとして形成された
搬送装置によって案内され、受容ステーションおよび又
は受渡しステーションに運ばれ、回転テーブルからの基
板の受取りおよび受渡しが駆動可能な基板グリッパによ
って行われるような基板を搬送するための搬送装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】ワークを注型成形、装填、ワニス塗り、
検査および選別を行う自動的に装置はドイツ特許第４１
２７３４１号明細書で知られており、この装置には複数
の加工ステーションが付属している。特にこの装置は直
線に沿って往復運動できる搬送スライドヘッドを持った
基板搬送装置を有し、その搬送スライドヘッドには搬送
支持アーム付きの別のスライドヘッドが付属されてい
る。その第１の搬送装置のそばに回転テーブルとして形
成された第２の搬送装置が設けられている。この第２の
搬送装置は基板がその上に置かれる多数のステーション
を有している。この回転テーブルとして形成された搬送
装置は直線的に作動する搬送スライドヘッドによって基
板が装填される。それぞれ一つおきあるいは二つおきの
ステーションに工程ステーションが付属され、その工程
ステーションで個々の基板がこれらが最終的に置き場ス
テーションにおいて突き出されるまで処理される。受容
ステーションと回転テーブルとの間ないし回転テーブル
と直線的に作動する搬送装置の工程ステーションとの間
における基板の受渡しはその高さが調整できる基板グリ
ッパによって行われる。各置き場ステーションには工程
ステーションが付属されていないので、かかる搬送装置
は少なくとも短時間にわたり空転運転する。更にかかる
設備は特に真っ直ぐに作動する搬送装置のために非常に
大きな場所を必要とする。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、搬送
装置および基板を受けるための個々のステーションを極
めて小さな空間に納めることにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によればこの目的
は、回転テーブルが一定のサイクル時間で駆動され、こ
のサイクル時間が最長の作業時間の工程ステーションの
作業時間に応じて決められ、基板が回転可能に支持され
形成された基板グリッパによって、回転テーブルの外に
設けられた複数のあるいは一つの工程ステーションない
しサテライト・工程ステーションおよび又は出発ステー
ションないし置き場ステーションに導かれることによっ
て達成される。
【０００５】円形に形成された回転テーブルを揺動可能
および高さ調整可能に形成された基板グリッパと関連し
て利用することによって、回転テーブルの周囲に多数の
工程ステーションを場所を節約して納めさせられる。従
って各置き場ステーションに工程ステーションないし工
程装置を付属することもできる。工程ステーションと置
き場ステーションとの間における基板の受渡しはこれが
必要である限りにおいて回転可能に支持された基板グリ
ッパによって行える。更に個々の工程ステーションない
し加工装置の下を回転テーブルが通過するように工程ス
テーションを回転テーブルの上に突き出すことができ
る。回転テーブルはほぼ一定したサイクル時間で駆動さ
れるので、基板は短時間にわたり精確に個々の工程ステ
ーションの下に配置させられ、詳しくは各加工過程が実
施されるまで配置させられる。その後で基板は次の工程
ステーションに移される。各置き場ステーション上に基
板が置かれ、同時に各置き場ステーションにも工程装置
が付属されているので、空転時間は全く生じない。
【０００６】更に、基板グリッパが単腕状あるいは多腕
状グリッパとして形成され、搬送装置の範囲に回転可能
および又は高さ調整可能に支持されていることが有利で
ある。揺動可能に形成されている基板グリッパによっ
て、円形に形成された回転テーブルの周囲に配置された
工程ステーションに簡単に装填させられる。このために
基板グリッパはただ二つ以上の支持アームを装備してい
ればよいので、この基板グリッパは工程ステーションと
置き場ステーションとの間で基板を受け渡すために短時
間にわたり持ち上げられ、１８０°回動され、そして再
び下げられる。
【０００７】本発明の有利な実施態様において、回転可
能に支持された基板グリッパは回転テーブルの周囲に配
置されていることが有利である。
【０００８】置き場ステーションにおける作業過程に非
常に時間がかかるとき、例えば基板が回転テーブルの外
で並行して共働する別個の二つのサテライト・作業ステ
ーションにおいて加工されることによって加工時間は半
分にされる。この過程後に基板は回転テーブルの外に設
けられた工程ステーションから円形に形成された回転テ
ーブルに再び導かれる。これによって駆動回転テーブル
のサイクル時間は著しく減少させられ、サイクル周波数
は増大する。このために、回転テーブルのサイクル時間
を短縮するために基板グリッパがその都度一つの基板を
回転テーブルの外に設けられ並行してあるいは順々に投
入される一つあるいは複数の工程ステーションに導き、
その工程ステーションで同じあるいは異なった作業過程
が実施されることが有利である。
【０００９】本発明において、回転テーブル上に少なく
とも、基板を完全に加工するために必要とされる全工程
ステーションが基板を受けるために必要とする数だけ受
容ステーションが設けられていることが有利である。回
転テーブルのすべての受容ステーションが基板を載せら
れ各受容ステーションに工程ステーションあるいは加工
装置が付属されているので、非常にコンパクトな設備が
得られる。
【００１０】本発明に基づく形成および配置に関連し
て、回転テーブルの個々の受容ステーションに回転テー
ブルの外で工程装置が配置されていることが有利であ
る。
【００１１】更に、回転テーブルのサイクル時間を短縮
するために同時に二つ以上の同じ作業過程が互いに並ん
で位置する二つ以上の工程ステーションで並行して実施
されることが有利である。これによって必要に応じて基
板を完成するための加工時間は、所定の場合において加
工過程が回転テーブル上で直接行われないようにすると
き全体として減少される。このような場合に基板は基板
グリッパによって回転テーブルから取り出され、上述し
たように回転テーブルの外に設けられた工程ステーショ
ンに導かれる。このために出発ステーション、被覆処理
ステーション、プリントステーションおよび又は受渡し
ステーションの範囲に、基板を回転テーブルからサテラ
イトステーションにあるいはその逆に運ぶ単腕状あるい
は多腕状のグリッパアームが設けられていることが有利
である。
【００１２】更に、第１の回転テーブルに一つあるいは
複数の回転テーブルが付属され、第１の回転テーブルか
らやって来る基板がこの第２の回転テーブルに一層の加
工を行うために短時間にわたって導かれて下ろされ、続
いて第１の回転テーブルに戻されるかあるいは他の回転
テーブルないし受渡しステーションに導かれることが有
利である。例えば基板に場所的な理由から回転テーブル
で実施できないような特別な加工を施そうとするとき、
基板は一つの回転テーブルから所定のサイクル時間で駆
動され相応した工程ステーションが装備されている別の
回転テーブルに継続搬送される。中央回転テーブルの外
に設けられた第２の回転テーブル上における作業過程後
に、基板はその中間処理後に再び最初の中央回転テーブ
ルに戻される。これによって中央回転テーブルのサイク
ル時間は、特に基板に非常に長い加工過程が実施されね
ばならないときに有効に影響される。
【００１３】また所定の場合において回転テーブルが基
板の加工を行わない一つあるいは複数の待機ステーショ
ンを装備することも考えられる。更に待機ステーション
を回転テーブルの外に設けることができる。
【００１４】個々の回転テーブル間の受渡しは基板グリ
ッパの有利な配置によって行われる。このために有利に
は、一つあるいは複数の基板グリッパが付属されている
待機ステーションが第１の回転テーブルの周囲の範囲に
設けられている第２の回転テーブル上に配置されてい
る。
【００１５】本発明の有利な実施態様において、回転テ
ーブル上における個々の受容ステーション間の間隔が同
じ大きさあるいは異なった大きさをしており、各基板グ
リッパが一つあるいは複数の基板を順々にあるいは同時
に受け取り、これによって基板が個々のステーション間
で動かされるか基板が一つのステーションで受けられ他
のステーションに運ばれることが有利である。多腕状基
板グリッパがそれぞれ個々の支持アームの先端に受取り
要素ないし吸引要素を有しているので、個々の基板グリ
ッパを介して二つ以上の基板が受けられ、短時間にわた
り他の工程ステーションあるいは置き場ステーションに
も導かれる。
【００１６】本発明に基づく搬送装置の追加的な有利な
方式は、基板グリッパが水平および又は垂直に揺動可能
におよび又は高さ調整可能に支持され、基板グリッパが
回転テーブルの回転運動ないしサイクル時間に関係して
制御されその作業運動を実施することにある。基板グリ
ッパの種々の調整方式によって、個々の工程ステーショ
ン、受容ステーションあるいは置き場ステーションを異
なった平面に設けることもできる。
【００１７】機器部品の個々の運動間の精確な同調が達
成されるようにするために、回転テーブルが多数のない
し４個〜１０個ないし７個〜９個ないし８個の受容ステ
ーションを有し、各受容ステーションに工程ステーショ
ンないし積み替えステーションが付属され、そこから基
板が回転テーブルの外に設けられたステーションに運ば
れるかないしはこのステーションから基板を受け取るこ
とが有利である。
【００１８】被覆処理ステーションおよびプリントステ
ーションに双腕状の基板グリッパが、置き場ステーショ
ンに双腕ないし三腕状の基板グリッパが付属されている
ことによって有利な実施形態が得られる。
【００１９】更に、回転テーブルが正圧を発生するため
にポンプ装置に接続されているハウジングに付属されて
いることが有利である。回転テーブルおよび個々の工程
ステーションがハウジングの内部に配置されているの
で、ハウジングはフィルタを通してしか導入されない圧
縮空気を供給されるので、基板表面は極めて高い純度に
され、そこに汚れ粒子は全く付着しない。
【００２０】本発明の他の特徴および詳細は特許請求の
範囲の各請求項および以下の説明に記載され、図面に示
されている。なおすべての個々の特徴および各特徴のす
べての組合せは本発明の要旨である。
【００２１】図において１は基板を搬送するための搬送
装置である。この搬送装置１には後述する数個の工程ス
テーション（場所）ないし加工ステーション４〜９が付
属されている。
【００２２】図１に示されている装置全体ないし搬送装
置１はコンパクトディスク（ＣＤ）２を全自動で製造す
るために使用する。ＣＤ製造の生産経過は数回の工程ス
テップで行われる。本発明に基づく全設備は二つの主要
部分１７、１８から成っている。主要部分１７は射出成
形機３０および受渡しステーションないし出発ステーシ
ョン３を含んでいる。出発ステーション３において設備
の第２の部分ないし主要部分１８への基板２の差出しが
行われる。このために主要部分１７と主要部分１８ない
し搬送装置１との間に基板２を搬送するために基板グリ
ッパ１３が設けられている。
【００２３】基板グリッパ１３並びに他のすべての工程
ステーションないし加工ステーション４〜９はハウジン
グ１６の内部に設けられている。ハウジング１６は全面
が閉鎖され、フィルタ装置（図示せず）を介して圧縮ガ
スないし圧縮空気が供給され、このようにして基板２の
表面を極めて高い純度にすることができる。
【００２４】図１における斜視図および図２における平
面図から明らかなように、ハウジング１６の内部に円形
の回転テーブル１２が設けられている。この回転テーブ
ル１２はハウジング１６内に回転軸１１によって支持さ
れ、制御ないし調節可能な駆動装置（図示せず）によっ
て回転運動させられる。駆動装置は回転テーブル１２が
衝動的にないし所定のサイクル時間（リズム周波数）で
駆動されるように制御され、そのサイクル時間は、最も
長時間にわたって基板ないしＣＤ２を加工する工程ステ
ーションの加工時間に応じて決められている。
【００２５】回転テーブル１２上に複数の受容ステーシ
ョン１５が等間隔を隔てて分布して円形の配置されて存
在している。これらの受容ステーション１５はＣＤの円
形直径にほぼ相応し、空気圧式装置によって固定でき
る。
【００２６】既に述べたように基板２は出発ステーショ
ンないし受渡しステーション３において主要部分１７か
ら双腕状に形成された基板グリッパ１３によって回転テ
ーブル１２上の受容ステーション１５に引き渡される。
基板グリッパ１３は二つの支持アーム１９、２０から成
り、これらの支持アーム１９、２０は回転軸２１によっ
てハウジング１６の壁で回転可能に受けられている。各
支持アーム１９、２０の一端にグリッパ要素あるいは吸
引要素２２、２３が存在しているので、基板グリッパ１
３によって同時に二枚のＣＤがつかめる。その一方のグ
リッパ要素２２は図２の実施例において主要部分１７か
らの基板２の受渡しステーション３の範囲に存在し、他
方のグリッパ要素２３は回転テーブル１２の受容ステー
ション１５の上に存在している。このようにして基板グ
リッパ１３によって一方では基板２が受け取られ、他方
では基板２が回転テーブル２上に置かれる。主要部分１
７、１８間で基板を受け渡すための次の作業工程のため
に基板グリッパ１３が１８０°回動される。
【００２７】回転テーブル２がステップ的に駆動される
ことによって基板２は出発ステーション３から回転テー
ブル２を介して次の工程場所ないし加工場所の前に導か
れる。この実施例において加工ステーション４として真
空めっき装置ないしスパッタリング装置４が示されてお
り、これも双腕状の基板グリッパ２４を介して装填され
る。図２から分かるようにその一方のグリッパ要素２２
は回転テーブル１２の周囲の外に位置しているので、基
板グリッパ２４のグリッパ要素２３によってＣＤを受け
取ることによって基板２は回転テーブル１２から工程ス
テーションないし真空めっき装置４に引き渡される。基
板２はめっき工程後に真空めっき装置４から基板グリッ
パ２４のグリッパ要素２２によって取り出され、同時に
新しい基板２が回転テーブル１２からグリッパ要素２３
を介して真空めっき装置４に導かれる。このために基板
グリッパ２４も１８０°回動される。
【００２８】この工程ステーション４に基板２の表面に
ワニスを塗布する工程ステーション５が続いている。こ
の工程ステーション５におけるワニスの塗布作業は回転
・ワニス塗布法で行われる。
【００２９】工程ステーション５の直ぐ後ろに工程ステ
ーション６が後置接続されているので、基板２は工程ス
テーション５における一回目のワニス塗布の後で工程ス
テーション６において再処理される。ワニスならし装置
（図示せず）によってワニスは基板２ないしＣＤの表面
上に一様に分布される。図１および図２に概略的に示さ
れている両工程ステーション５、６は同様に回転テーブ
ル１２の上側ないしその範囲に存在しているので、工程
ステーション５、６の装填は基板グリッパと関連した回
転テーブル１２の回転によって行われる。
【００３０】工程ステーション６におけるワニス塗布が
終了した後、回転テーブル１２は多機能乾燥装置として
形成されている次の工程ステーション７まで基板を回転
する。
【００３１】基板表面の乾燥ないし硬化過程後に基板２
は回転テーブル１２によって次の工程ステーション８に
引き渡される。この工程ステーション８は基板２の表面
へのプリントを行うプリントステーションとして形成さ
れている。プリント装置８も同様に回転テーブル１２の
周囲の外に設けられる。プリント装置８の装填も基板グ
リッパ１３ないし２４と類似して形成され二つのステー
ション間に詳しくは受容ステーションと受渡しステーシ
ョンとの間に回転可能に配置されている基板グリッパ２
５によって行われる。即ち基板２は基板グリッパ２５に
よりプリントステーション８に導入され、そこでプリン
ト過程が実施される。
【００３２】この作業工程後に基板２は基板グリッパ２
５を介して回転テーブル１２の受容ステーション１５に
導かれ、もう一回の作業サイクル経過後に回転テーブル
１２によって検査ステーションとして形成されている最
後の工程ステーション９に導かれる。この検査ステーシ
ョン９によって基板２の品質が精確に検査される。品質
要件を満たしていない基板２ないしＣＤは三腕状の基板
グリッパ２６によってつかまれ、品分けされ、規格を満
たしている基板２から選別され、置き場ステーション２
９に下ろされる。置き場ステーション２９のそばに申し
分のない品質を有するＣＤが下ろされる置き場ステーシ
ョン１４が存在している。このために置き場ステーショ
ン１４は個々の基板２ないしＣＤを受けるために例えば
種々の４本のピン２８から成っている。
【００３３】図１および図２から分かるように、個々の
工程ステーション４〜９並びに出発ステーション３およ
び基板２を集合するための出口ステーション１０は円形
円周上に配置され、個々の受容ステーション１５に対応
した工程ステーションが付属されているので、全装置は
すべての工程ステーションと共にハウジング６の中に非
常に狭い空間に収納できる。
【００３４】回転テーブル１２のサイクル時間を短縮す
るために、基板グリッパはその都度一つの基板２を回転
テーブル１２の外に設けられ並列してあるいは順々に投
入される一部しか示されていない一つあるいは複数のサ
テライト（付随）・工程ステーションに導き、そのサテ
ライト・工程ステーションにおいて同じあるいは異なっ
た作業工程が実施される。工程ステーション４はサテラ
イト・工程ステーションとも見なせる。しかし図示して
いない補助的なサテライト・工程ステーションを設ける
こともできる。このようにして回転テーブル１２の外で
加工が実施できるので、回転テーブルのサイクル時間は
減少できる。このような回転テーブルの補助的な配置は
ドイツ特許出願第４４０８５３７．０号明細書の第１図
に示されている。この配置構造に応じて双腕状の回転ア
ームを介して基板は回転テーブルから第１の回転テーブ
ルの周囲の外に設けられた第２の回転テーブル上に導か
れるかその逆にされる。
【００３５】図１および図２において回転テーブル１２
は有利には実施しようとする作業工程ステップ数と全く
同じ数の受容ステーション１５を有している。このよう
にして最小の空間で非常に多数の受容ステーション１５
が回転テーブル上に収納できる。実施例の場合には回転
テーブル１２上に８個の受容ステーションが存在し、各
受容ステーションにそれぞれ一つの工程ステーションな
いし受渡しステーションおよび受取りステーションが付
属されている。
【００３６】回転テーブル１２のサイクル時間を短縮す
るために、基板２に長時間継続する作業過程を並行して
実施することもできる。このために同時に二つの基板２
を回転テーブル２から取り出し、これらを並行して加工
が実施される複数の加工ステーションに導入する図示さ
れていない双腕状の基板グリッパが設けられている。そ
の都度二つの基板が同時に加工されるので、これによっ
てサイクル時間は５０％あるいはそれ以上減少される。
これは特に、作業過程が一個所で非常に長い時間継続さ
れるときに有利である。既に述べたようにこのような工
程ステーションはサテライト・工程ステーションと呼ば
れる。本発明に基づいて回転テーブル１２上に待機ステ
ーションを設けないことが有利であるけれど、加工経過
に応じて８個の工程ステーションの間に基板２が下ろさ
れる補助的な待機ステーションも設けることができる。
図示していない待機ステーションは回転テーブル上にあ
るいは回転テーブルの外に置かれる。
【００３７】個々の受容ステーション１５間の間隔は有
利には同じ大きさをしている。実施例においてサイクル
時間ないしリズム周波数は最も長い加工時間の工程ステ
ーションの加工時間に応じて決められている。これは実
施例において例えば４秒である。これは実施例において
詳しく示されていないけれど、個々のステーション間に
おける基板の搬送をできるだけ簡単にするために、基板
グリッパは水平に、垂直におよび高さを調整できるよう
に支持できる。回転テーブル１２のサイクル時間によっ
て個々の基板グリッパの回転速度も制御されるので、同
調した連続的な工程経過が保証される。
【００３８】回転テーブル１２が有利にコンパクトに配
置され、この回転テーブル１２に複数の受容ステーショ
ン１５が密に並べて配置され、これらの受容ステーショ
ン１５に既に述べたようにそれぞれ一つの工程ステーシ
ョンが対応されていることによって、基板２ないしＣＤ
を製造するためのサイクル時間を例えば４秒にできる。
これは特にすべてのステーションにおいて個々の作業過
程が並行して進行することによって達成される。回転テ
ーブル１２に新しいＣＤ２が加工すべく導入されると
き、同時に仕上がったＣＤが前述した４秒のサイクル時
間内に突き出される。即ち８個の工程ステーションが存
在する場合、基板２を或る加工場所からもう一つの加工
場所に搬送するための時間は最大０．５秒であるので、
一つの加工ステーションにおける最長の過程時間は３．
５秒以上になってはならない。上述の設備によって非常
に短いサイクル時間が達成される。一つのステーション
におけるサイクル時間は最長の作業過程の過程時間と回
転テーブル上における二つの工程ステーション間の搬送
時間との和である。この搬送時間は上述したように０．
５秒であり、ＣＤ２の突き出し速度はサイクル時間に相
応している。その結果、ＣＤは同じ速度で設備１７から
設備１８に導かれる。サイクル時間は過程時間の短縮に
よって一層減少される。
【００３９】回転テーブル１２は円板として形成され平
らな表面を有する。この装置のベースに関して回転テー
ブル１２は有利には水平に配置されている。
【図面の簡単な説明】
【図１】円形のターンテーブルおよび個々の工程ステー
ションないし加工ステーションを持った本発明に基づく
装置の斜視図。
【図２】図１における装置の平面図。
【符号の説明】
１ 基板を搬送するための搬送装置 ２ 基板＝コンパクトディスク（ＣＤ） ３ 出発ステーション＝受渡しステーション＝受取りス
テーション ４ 工程ステーション、加工装置＝真空めっき装置 ５ 工程ステーション、ワニス塗り装置 ６ 工程ステーション、ワニスならし装置 ７ 工程ステーション、ワニス乾燥装置 ８ 工程ステーション、プリント装置、サテライトステ
ーション ９ 工程ステーション、検査ステーション １０ 受渡しステーション、基板の集合、受取りステー
ション １１ 回転軸 １２ 回転テーブル １３ 基板グリッパ、単腕状あるいは多腕状グリッパ １４ 良質のＣＤの置き場ステーション １５ 受容ステーション １６ ハウジング １７ 主要部分 １８ 主要部分 １９ 支持アーム ２０ 支持アーム ２１ 軸 ２２ グリッパ要素、吸引要素 ２３ グリッパ要素 ２４ 基板グリッパ＝グリッパ要素 ２５ 基板グリッパ ２６ 基板グリッパ ２７ 回転テーブル ２８ ピン ２９ 不良品のＣＤの置き場ステーション ３０ 射出成形機

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】出発ステーション（３）および基板（２）
    を受けるために列を成してあるいは円形に配置された複
    数の工程ステーション（４〜９）を有し、基板（２）が
    これらの各工程ステーション（４〜９）に回転テーブル
    （１２）として形成された搬送装置（１）によって案内
    され、受容ステーションおよび又は受渡しステーション
    （１０）に運ばれ、回転テーブル（１２）からの基板の
    受取りおよび受渡しが駆動可能な基板グリッパ（１３）
    によって行われるような基板（２）を搬送するための搬
    送装置（１）において、 回転テーブル（１２）が一定のサイクル時間で駆動さ
    れ、このサイクル時間が最長の作業時間の工程ステーシ
    ョンの作業時間に応じて決められ、基板（２）が回転可
    能に支持され形成された基板グリッパ（１３）によっ
    て、回転テーブル（１２）の外に設けられた複数のある
    いは一つの工程ステーションないしサテライト・工程ス
    テーション（４）および又は出発ステーション（３）な
    いし置き場ステーション（１４）に導かれることを特徴
    とする搬送装置。
  2. 【請求項２】基板グリッパ（１３）が単腕状あるいは多
    腕状グリッパとして形成されていることを特徴とする請
    求項１記載の搬送装置。
  3. 【請求項３】基板グリッパ（１３）が搬送装置（１）の
    範囲に回転可能におよび又は高さ調整可能に支持されて
    いることを特徴とする請求項１又は２記載の搬送装置。
  4. 【請求項４】回転可能に支持された基板グリッパ（１
    ３）が回転テーブル（１２）の周囲に配置されているこ
    とを特徴とする請求項１記載の搬送装置。
  5. 【請求項５】回転テーブル（１２）のサイクル時間を短
    縮するために基板グリッパ（１３）がその都度一つの基
    板（２）を回転テーブル（１２）の外に設けられ並行し
    てあるいは順々に投入される一つあるいは複数の工程ス
    テーションに導き、その工程ステーションで同じあるい
    は異なった作業過程が実施されることを特徴とする請求
    項１ないし４のいずれか１つに記載の搬送装置。
  6. 【請求項６】回転テーブル（１２）上に少なくとも、基
    板（２）を完全に加工するために必要とされる全工程ス
    テーションが基板（２）を受け取るために必要とする数
    だけ受容ステーション（１５）が設けられていることを
    特徴とする請求項１記載の搬送装置。
  7. 【請求項７】回転テーブル（１２）の個々の受容ステー
    ション（１５）に回転テーブル（１２）の外で工程装置
    （４〜９）が配置されていることを特徴とする請求項１
    ないし６のいずれか１つに記載の搬送装置。
  8. 【請求項８】回転テーブル（１２）のサイクル時間を短
    縮するために同時に二つ以上の同じ作業過程が互いに並
    んで位置する二つ以上の工程ステーションで並行して実
    施されることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか
    １つに記載の搬送装置。
  9. 【請求項９】出発ステーション（３）、被覆処理ステー
    ション（４）、プリントステーション（９）および又は
    受渡しステーション（１０）の範囲に、基板（２）を回
    転テーブル（１２）からサテライトステーションにある
    いはその逆に運ぶ単腕状あるいは多腕状のグリッパアー
    ム（１３）が設けられていることを特徴とする請求項１
    ないし８のいずれか１つに記載の搬送装置。
  10. 【請求項１０】第１の回転テーブル（１２）に一つある
    いは複数の回転テーブルが付属され、第１の回転テーブ
    ル（１２）からやって来る基板（２）がこの第２の回転
    テーブルに一層の加工を行うために短時間にわたって導
    かれて下ろされ、続いて第１の回転テーブル（１２）に
    戻されるかあるいは他の回転テーブルないし受渡しステ
    ーション（１０）に導かれることを特徴とする請求項１
    ないし９のいずれか１つに記載の搬送装置。
  11. 【請求項１１】回転テーブル（１２）が基板の加工を行
    わない一つあるいは複数の待機ステーションを有してい
    ることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１つ
    に記載の搬送装置。
  12. 【請求項１２】待機ステーションが回転テーブル（１
    ２）の外に設けられていることを特徴とする請求項１な
    いし１１のいずれか１つに記載の搬送装置。
  13. 【請求項１３】一つあるいは複数の基板グリッパが付属
    されている待機ステーションが第１の回転テーブルの周
    囲の範囲に設けられている第２の回転テーブルに配置さ
    れていることを特徴とする請求項１ないし１２のいずれ
    か１つに記載の搬送装置。
  14. 【請求項１４】回転テーブル（１２）上における個々の
    受容ステーション（１５）間の間隔が同じ大きさあるい
    は異なった大きさをしていることを特徴とする請求項１
    ないし１３のいずれか１つに記載の搬送装置。
  15. 【請求項１５】各基板グリッパ（１３）が一つあるいは
    複数の基板（２）を順々にあるいは同時に受け取り、こ
    れによって基板が個々のステーション間で動かされるか
    基板が一つのステーションで受け取られ他のステーショ
    ンに運ばれることを特徴とする請求項１ないし１４のい
    ずれか１つに記載の搬送装置。
  16. 【請求項１６】基板グリッパ（１３）が水平および又は
    垂直に揺動可能におよび又は高さ調整可能に支持されて
    いることを特徴とする請求項１ないし１５のいずれか１
    つに記載の搬送装置。
  17. 【請求項１７】基板グリッパ（１３）が回転テーブル
    （１２）の回転運動ないしサイクル時間に関係して制御
    されその作業運動を実施することを特徴とする請求項１
    ないし１６のいずれか１つに記載の搬送装置。
  18. 【請求項１８】回転テーブル（１２）が多数のないし４
    個〜１０個ないし７個〜９個ないし８個の受容ステーシ
    ョン（１５）を有し、各受容ステーション（１５）に工
    程ステーションないし積み替えステーションが付属さ
    れ、そこから基板が回転テーブル（１２）の外に設けら
    れたステーションに運ばれるかないしはこのステーショ
    ンから基板（２）を受け取ることを特徴とする請求項１
    ないし１７のいずれか１つに記載の搬送装置。
  19. 【請求項１９】被覆処理ステーション（４）およびプリ
    ントステーション（８）に双腕状の基板グリッパ（１
    ３）が、置き場ステーションに双腕ないし三腕状の基板
    グリッパ（１３）が付属されていることを特徴とする請
    求項１ないし１８のいずれか１つに記載の搬送装置。
  20. 【請求項２０】回転テーブル（１２）が正圧を発生する
    ためにポンプ装置に接続されているハウジング（１６）
    に付属されていることを特徴とする請求項１ないし１９
    のいずれか１つに記載の搬送装置。
  21. 【請求項２１】回転テーブル（１２）が円板として形成
    されていることを特徴とする請求項１ないし２０のいず
    れか１つに記載の搬送装置。
  22. 【請求項２２】回転テーブル（１２）が平らな表面を有
    していることを特徴とする請求項１ないし２１のいずれ
    か１つに記載の搬送装置。
  23. 【請求項２３】回転テーブル（１２）が装置のベースに
    関して水平に配置されていることを特徴とする請求項１
    ないし２２のいずれか１つに記載の搬送装置。
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