JPH09266147A - 空調装置及びそれを備えた露光装置 - Google Patents
空調装置及びそれを備えた露光装置Info
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- JPH09266147A JPH09266147A JP8073776A JP7377696A JPH09266147A JP H09266147 A JPH09266147 A JP H09266147A JP 8073776 A JP8073776 A JP 8073776A JP 7377696 A JP7377696 A JP 7377696A JP H09266147 A JPH09266147 A JP H09266147A
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Prevention Of Fouling (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 不純物除去フィルターが占有する空間を低減
し、装置を小型化する。 【解決手段】 空調装置内のガス供給用ダクト１３の内
部に不純物除去フィルター２０を設置する。不純物除去
フィルターは中空の筒状あるいは蛇腹状とすることがで
き、ダクト１３の内壁に接触しないように支持部材によ
ってダクトの内壁から支持することができる。ダクト１
３は不純物除去フィルター２０を設置したまま折り曲げ
可能である。フィルターを筒状とすることで、フィルタ
ーの処理面積を増大し、同時にフィルターによる圧力損
失を低減することができる。
し、装置を小型化する。 【解決手段】 空調装置内のガス供給用ダクト１３の内
部に不純物除去フィルター２０を設置する。不純物除去
フィルターは中空の筒状あるいは蛇腹状とすることがで
き、ダクト１３の内壁に接触しないように支持部材によ
ってダクトの内壁から支持することができる。ダクト１
３は不純物除去フィルター２０を設置したまま折り曲げ
可能である。フィルターを筒状とすることで、フィルタ
ーの処理面積を増大し、同時にフィルターによる圧力損
失を低減することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工場の
空調あるいは露光装置の空調等に使用される空調装置に
関するものである。
空調あるいは露光装置の空調等に使用される空調装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造用クリーンルームでは、粒子
状汚染物質の除去のためにＨＥＰＡフィルターやＵＬＰ
Ａフィルターを用いた空気浄化システムが採用されてい
る。また、半導体製造工程で使用する装置、例えば紫外
域の光又は遠紫外域の光（以下、両者をまとめて紫外線
という）を使用する露光装置の場合、雰囲気中にＮＨ4 +
やＳＯｘのようなガス状不純物が存在すると、それが化
学変化又は物理変化を起こして、例えば（ＮＨ4）2ＳＯ
4の様な物質としてレンズやミラー等の硝材表面に付着
し、曇りを生じさせたり透過率を低下させることがあっ
た。
状汚染物質の除去のためにＨＥＰＡフィルターやＵＬＰ
Ａフィルターを用いた空気浄化システムが採用されてい
る。また、半導体製造工程で使用する装置、例えば紫外
域の光又は遠紫外域の光（以下、両者をまとめて紫外線
という）を使用する露光装置の場合、雰囲気中にＮＨ4 +
やＳＯｘのようなガス状不純物が存在すると、それが化
学変化又は物理変化を起こして、例えば（ＮＨ4）2ＳＯ
4の様な物質としてレンズやミラー等の硝材表面に付着
し、曇りを生じさせたり透過率を低下させることがあっ
た。
【０００３】したがって、このような紫外線を使用する
露光装置においては、光源からの照明光を継続的効果的
に使用するためにも、照射光の光路中を例えば窒素やヘ
リウム等の紫外線に不活性かつ不純物を含有しないガス
で置換する必要があった。このため、紫外線を使用する
従来の露光装置においては、光路部を密閉型とし、照明
光に対して不活性なガスを、例えばガスボンベの様なガ
ス供給部より供給するか、不純物除去フィルターを通し
て不純物の除去された大気ガスを光路部に供給するよう
にしていた。
露光装置においては、光源からの照明光を継続的効果的
に使用するためにも、照射光の光路中を例えば窒素やヘ
リウム等の紫外線に不活性かつ不純物を含有しないガス
で置換する必要があった。このため、紫外線を使用する
従来の露光装置においては、光路部を密閉型とし、照明
光に対して不活性なガスを、例えばガスボンベの様なガ
ス供給部より供給するか、不純物除去フィルターを通し
て不純物の除去された大気ガスを光路部に供給するよう
にしていた。
【０００４】また、紫外線を用いるホトリソグラフィー
工程では化学増幅型レジストが多く使用される。化学増
幅型レジストは、一般に樹脂、感光性の酸発生剤、溶解
促進剤あるいは架橋剤からなる。そして、露光によって
酸発生剤から酸が発生し、露光後のベーク時にその酸が
ポジ型の場合は高分子鎖を切断する分解促進剤の触媒と
して、ネガ型の場合は高分子鎖を架橋させる架橋剤の触
媒として働き、現像によってパターンを形成するもので
ある。溶解促進剤を用いたものはポジタイプのパターン
を形成し、架橋剤を用いたものはネガタイプのパターン
を形成する。
工程では化学増幅型レジストが多く使用される。化学増
幅型レジストは、一般に樹脂、感光性の酸発生剤、溶解
促進剤あるいは架橋剤からなる。そして、露光によって
酸発生剤から酸が発生し、露光後のベーク時にその酸が
ポジ型の場合は高分子鎖を切断する分解促進剤の触媒と
して、ネガ型の場合は高分子鎖を架橋させる架橋剤の触
媒として働き、現像によってパターンを形成するもので
ある。溶解促進剤を用いたものはポジタイプのパターン
を形成し、架橋剤を用いたものはネガタイプのパターン
を形成する。
【０００５】この化学増幅型レジストを使用するとき、
基板雰囲気中にアンモニアやアミン類などの塩基性のガ
ス状不純物が存在すると、露光から露光後ベーク時まで
の間に、酸発生剤から発生した酸とこれらのガス状不純
物が中和反応を起こしてしまうために、感度低下を起こ
し、特にポジ型レジストの場合には表面難溶化層を形成
してパターン転写に悪影響を及ぼす等の問題を生じる。
従来は、このようなガス状不純物による影響を防止する
ため、化学増幅型レジストが塗布されたウエハの塗布も
しくは露光から露光後ベークまでの経路を不純物を含有
していない不活性ガスで置換するか、不純物ガスの除去
されたガスを供給するなどして対応していた。
基板雰囲気中にアンモニアやアミン類などの塩基性のガ
ス状不純物が存在すると、露光から露光後ベーク時まで
の間に、酸発生剤から発生した酸とこれらのガス状不純
物が中和反応を起こしてしまうために、感度低下を起こ
し、特にポジ型レジストの場合には表面難溶化層を形成
してパターン転写に悪影響を及ぼす等の問題を生じる。
従来は、このようなガス状不純物による影響を防止する
ため、化学増幅型レジストが塗布されたウエハの塗布も
しくは露光から露光後ベークまでの経路を不純物を含有
していない不活性ガスで置換するか、不純物ガスの除去
されたガスを供給するなどして対応していた。
【０００６】いずれの場合にも、大気中の不純物ガスの
除去にはケミカルフィルターが用いられる。ケミカルフ
ィルターは、ＨＥＰＡフィルターやＵＬＰＡフィルター
では除去できない雰囲気中のガス状不純物を除去できる
フィルターであり、繊維状又は粒状の活性炭を用いたも
の、イオン交換樹脂によるイオン交換反応を利用したも
の、活性炭繊維に薬品を添着したもの等がある。イオン
交換反応を利用したケミカルフィルターの例としては荏
原製作所製の「ＥＰＩＸ」があり、活性炭繊維に薬品を
添着したケミカルフィルターの例としては近藤工業製の
「ＣＬＥＡＮＳＯＲＢ」などがある。ケミカルフィルタ
ーはケースに収容され、このケースが入ったフィルター
ボックスを装置内、装置周辺又はガス供給経路に配置し
て使用される。
除去にはケミカルフィルターが用いられる。ケミカルフ
ィルターは、ＨＥＰＡフィルターやＵＬＰＡフィルター
では除去できない雰囲気中のガス状不純物を除去できる
フィルターであり、繊維状又は粒状の活性炭を用いたも
の、イオン交換樹脂によるイオン交換反応を利用したも
の、活性炭繊維に薬品を添着したもの等がある。イオン
交換反応を利用したケミカルフィルターの例としては荏
原製作所製の「ＥＰＩＸ」があり、活性炭繊維に薬品を
添着したケミカルフィルターの例としては近藤工業製の
「ＣＬＥＡＮＳＯＲＢ」などがある。ケミカルフィルタ
ーはケースに収容され、このケースが入ったフィルター
ボックスを装置内、装置周辺又はガス供給経路に配置し
て使用される。
【０００７】図１１は、従来の露光装置の概略図であ
る。露光部は、光源１、ミラー２、照明光学系３、投影
レンズ５、ＸＹステージ７等からなり、レチクル４のパ
ターンをＸＹステージ７上に載置された感光性基板６上
に転写する。露光部は、チャンバー９内に配置されてい
る。
る。露光部は、光源１、ミラー２、照明光学系３、投影
レンズ５、ＸＹステージ７等からなり、レチクル４のパ
ターンをＸＹステージ７上に載置された感光性基板６上
に転写する。露光部は、チャンバー９内に配置されてい
る。
【０００８】チャンバー９内のエアーは、空調装置１０
によって温度調整され、フィルターボックスに収容され
たケミカルフィルター１４及びＨＥＰＡフィルター等の
除塵フィルター１５を直列配置してなる不純物除去部を
通して送風される。不純物除去部から露光部雰囲気に供
給されたエアーは、リターン部１６を通り、再び空調装
置１０によって温度調整されたのちチャンバー内を循環
する。空調装置１０内には、例えば温調機１１や圧送フ
ァン１２が配置され、各部はダクト１３ａ，１３ｂによ
って結合されている。空調装置１０の上流側のリターン
部１６は外気に対して負圧になっており、この負圧によ
って、露光部雰囲気で外部に漏洩した量のエアーが外気
取り入れ口１７から不純物除去フィルター１８を通して
チャンバー９内に取り込まれる。
によって温度調整され、フィルターボックスに収容され
たケミカルフィルター１４及びＨＥＰＡフィルター等の
除塵フィルター１５を直列配置してなる不純物除去部を
通して送風される。不純物除去部から露光部雰囲気に供
給されたエアーは、リターン部１６を通り、再び空調装
置１０によって温度調整されたのちチャンバー内を循環
する。空調装置１０内には、例えば温調機１１や圧送フ
ァン１２が配置され、各部はダクト１３ａ，１３ｂによ
って結合されている。空調装置１０の上流側のリターン
部１６は外気に対して負圧になっており、この負圧によ
って、露光部雰囲気で外部に漏洩した量のエアーが外気
取り入れ口１７から不純物除去フィルター１８を通して
チャンバー９内に取り込まれる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ケミカルフィルター等
のガス状不純物除去フィルターはフィルターボックスに
収容されているため、そのフィルターボックスを設置す
るための場所を確保する必要があった。例えば、露光装
置内にフィルターボックスを設置すると装置内で利用で
きる空間が減少し、またフィルターボックスの分だけ装
置が大型になってしまう。本発明は、このような従来技
術の問題点に鑑みてなされたものであり、不純物除去フ
ィルターが占有する空間を低減し、装置を小型化するこ
とを目的とする。
のガス状不純物除去フィルターはフィルターボックスに
収容されているため、そのフィルターボックスを設置す
るための場所を確保する必要があった。例えば、露光装
置内にフィルターボックスを設置すると装置内で利用で
きる空間が減少し、またフィルターボックスの分だけ装
置が大型になってしまう。本発明は、このような従来技
術の問題点に鑑みてなされたものであり、不純物除去フ
ィルターが占有する空間を低減し、装置を小型化するこ
とを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明では、空調装置内
のガス供給用ダクトの内部に不純物除去フィルターを設
置することで前記目的を達成する。不純物除去フィルタ
ーは中空の筒状あるいは蛇腹状とすることができ、ダク
トの内壁に接触しないように支持部材によってダクトの
内壁から支持することができる。ダクトは不純物除去フ
ィルターを設置したまま折り曲げ可能である。フィルタ
ーを筒状とすることで、フィルターの処理面積を増大
し、同時にフィルターによる圧力損失を低減することが
できる。
のガス供給用ダクトの内部に不純物除去フィルターを設
置することで前記目的を達成する。不純物除去フィルタ
ーは中空の筒状あるいは蛇腹状とすることができ、ダク
トの内壁に接触しないように支持部材によってダクトの
内壁から支持することができる。ダクトは不純物除去フ
ィルターを設置したまま折り曲げ可能である。フィルタ
ーを筒状とすることで、フィルターの処理面積を増大
し、同時にフィルターによる圧力損失を低減することが
できる。
【００１１】不純物除去フィルターは、ガス状不純物除
去フィルターであってもよいし、ガス状不純物除去フィ
ルターと除塵フィルターとの組み合わせであってもよ
い。ガス状不純物除去フィルターとしては、アンモニ
ア、アルカリアミン類、硫酸イオン、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、トリメチルシラノール等の不純物ガスを除
去できるイオン交換樹脂あるいは薬品添着された活性炭
繊維によるケミカルフィルターを用いることができる。
除塵フィルターとしてはＨＥＰＡフィルターあるいはＵ
ＬＰＡフィルターを用いることができる。
去フィルターであってもよいし、ガス状不純物除去フィ
ルターと除塵フィルターとの組み合わせであってもよ
い。ガス状不純物除去フィルターとしては、アンモニ
ア、アルカリアミン類、硫酸イオン、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、トリメチルシラノール等の不純物ガスを除
去できるイオン交換樹脂あるいは薬品添着された活性炭
繊維によるケミカルフィルターを用いることができる。
除塵フィルターとしてはＨＥＰＡフィルターあるいはＵ
ＬＰＡフィルターを用いることができる。
【００１２】本発明によると、専用の設置場所を設ける
ことなく既存のダクト内空間を利用して空調装置内に不
純物除去フィルターを設置することができる。本発明の
空調装置は、露光装置の空調装置やクリーンルームの空
調装置に適用することができる。
ことなく既存のダクト内空間を利用して空調装置内に不
純物除去フィルターを設置することができる。本発明の
空調装置は、露光装置の空調装置やクリーンルームの空
調装置に適用することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は、露光装置用の空調装置に
本発明を適用した例を示す。露光装置の露光部はチャン
バー９内に配置され、チャンバー９には空調装置１０が
接続されている。遠紫外線を射出する例えばエキシマレ
ーザーやＨｇランプのような光源１からの照射光は、ミ
ラー２で反射され、フライアイレンズ等のオプチカルイ
ンテグレータやコンデンサーレンズ等の照度均一化手
段、各種レンズやミラー等からなる照明光学系３によっ
て均一な照明光に整形される。照明光学系３で均一化さ
れた照明光は、再びミラー２によって光路を折り曲げら
れ、パターンが形成されたレチクル４を均一に照明す
る。レチクル４のパターンは投影レンズ５によって、レ
ジストの塗布されたウエハ等の感光性基板（以下、ウエ
ハという）６上に像を結び、転写される。ウエハ６は、
２次元方向に移動可能なＸＹステージ７上に載置されて
いる。
施の形態を説明する。図１は、露光装置用の空調装置に
本発明を適用した例を示す。露光装置の露光部はチャン
バー９内に配置され、チャンバー９には空調装置１０が
接続されている。遠紫外線を射出する例えばエキシマレ
ーザーやＨｇランプのような光源１からの照射光は、ミ
ラー２で反射され、フライアイレンズ等のオプチカルイ
ンテグレータやコンデンサーレンズ等の照度均一化手
段、各種レンズやミラー等からなる照明光学系３によっ
て均一な照明光に整形される。照明光学系３で均一化さ
れた照明光は、再びミラー２によって光路を折り曲げら
れ、パターンが形成されたレチクル４を均一に照明す
る。レチクル４のパターンは投影レンズ５によって、レ
ジストの塗布されたウエハ等の感光性基板（以下、ウエ
ハという）６上に像を結び、転写される。ウエハ６は、
２次元方向に移動可能なＸＹステージ７上に載置されて
いる。
【００１４】チャンバー９内のエアーは、空調装置１０
によって温度調整される。空調装置１０内には、例えば
温調機１１や圧送ファン１２が配置され、各部はダクト
１３ａ，１３によって結合されている。露光部を通った
エアーは、リターン部１６を通り、再び空調装置１０に
よって温度調整されたのちチャンバー９内を循環する。
空調装置１０の上流側のリターン部１６は、外気に対し
て負圧になっており、この負圧によって、露光部雰囲気
で外部に漏洩した量のエアーが外気取り入れ口１７から
不純物除去フィルター１８を通してチャンバー９内に取
り込まれる。
によって温度調整される。空調装置１０内には、例えば
温調機１１や圧送ファン１２が配置され、各部はダクト
１３ａ，１３によって結合されている。露光部を通った
エアーは、リターン部１６を通り、再び空調装置１０に
よって温度調整されたのちチャンバー９内を循環する。
空調装置１０の上流側のリターン部１６は、外気に対し
て負圧になっており、この負圧によって、露光部雰囲気
で外部に漏洩した量のエアーが外気取り入れ口１７から
不純物除去フィルター１８を通してチャンバー９内に取
り込まれる。
【００１５】この例においては、チャンバー９内を循環
するエアー内のガス状不純物を除去するケミカルフィル
ターを空調装置１０のダクト１３ｂ内に配置している。
従って、チャンバー９内には除塵フィルター１５を配置
するだけでよく、チャンバー内スペースを有効活用する
ことができる。
するエアー内のガス状不純物を除去するケミカルフィル
ターを空調装置１０のダクト１３ｂ内に配置している。
従って、チャンバー９内には除塵フィルター１５を配置
するだけでよく、チャンバー内スペースを有効活用する
ことができる。
【００１６】図２〜図１０により、ダクト内へのケミカ
ルフィルターの設置方法について説明する。図２は、内
部にフィルターを設置したダクトの一部を破断した斜視
図、図３はその断面図である。ガス供給ダクト１３内
に、底がない中空円筒形状のケミカルフィルター２０を
円環状の仕切板２１によって固定配置する。仕切板２１
はケミカルフィルター２０底部の縁とダクト内壁の間を
塞ぎ、ダクト１３を通るガスが全てケミカルフィルター
２０を通過するようにする。仕切板２１をケミカルフィ
ルター２０で構成することも可能である。ダクト１３内
を流れるガスは筒状のケミカルフィルター２０を外側か
ら内側に向かって通過し、そのときガス状不純物が除去
される。ケミカルフィルター２０の交換は、ケミカルフ
ィルター設置部分のダクトを取り外し可能とし、ダクト
ごと交換することで行われる。
ルフィルターの設置方法について説明する。図２は、内
部にフィルターを設置したダクトの一部を破断した斜視
図、図３はその断面図である。ガス供給ダクト１３内
に、底がない中空円筒形状のケミカルフィルター２０を
円環状の仕切板２１によって固定配置する。仕切板２１
はケミカルフィルター２０底部の縁とダクト内壁の間を
塞ぎ、ダクト１３を通るガスが全てケミカルフィルター
２０を通過するようにする。仕切板２１をケミカルフィ
ルター２０で構成することも可能である。ダクト１３内
を流れるガスは筒状のケミカルフィルター２０を外側か
ら内側に向かって通過し、そのときガス状不純物が除去
される。ケミカルフィルター２０の交換は、ケミカルフ
ィルター設置部分のダクトを取り外し可能とし、ダクト
ごと交換することで行われる。
【００１７】ケミカルフィルター２０の天板部分２２
は、矢印で示すガスの流れに対して垂直となるため、側
面部分と同じケミカルフィルターで構成すると通過風量
が側面部分と比較して多くなり、劣化が速く起こる。従
って、図３に示すように、天板部分２２は電解研磨され
たステンレス板やフッ素樹脂のような脱ガスがほとんど
ない部材で構成するのが好ましい。
は、矢印で示すガスの流れに対して垂直となるため、側
面部分と同じケミカルフィルターで構成すると通過風量
が側面部分と比較して多くなり、劣化が速く起こる。従
って、図３に示すように、天板部分２２は電解研磨され
たステンレス板やフッ素樹脂のような脱ガスがほとんど
ない部材で構成するのが好ましい。
【００１８】天板部分もケミカルフィルターで構成した
場合には、図４に示すように、天板の上流側に電解研磨
されたステンレス板やフッ素樹脂で作った邪魔板２４を
配置するのがよい。この場合には、邪魔板２４によって
ガスの流れが拡散されて天板部分を通過するガス量が減
少するため、天板部分のケミカルフィルターだけが急速
に劣化することを防ぐことができる。
場合には、図４に示すように、天板の上流側に電解研磨
されたステンレス板やフッ素樹脂で作った邪魔板２４を
配置するのがよい。この場合には、邪魔板２４によって
ガスの流れが拡散されて天板部分を通過するガス量が減
少するため、天板部分のケミカルフィルターだけが急速
に劣化することを防ぐことができる。
【００１９】中空筒状のケミカルフィルター２０の配置
としては、図２〜４に示す凸部を上流側に向けた配置の
他に、図５に示すように凸部を下流側に向けて配置する
こともできる。この場合、ガスは筒状ケミカルフィルタ
ー２０を内側から外側に向かって通過する。天板部分２
２を側面と同じケミカルフィルターで構成すると通過ガ
ス量が多くなって急速に劣化してしまうため、天板部分
２２はガスを透過しない板とするのがよい。
としては、図２〜４に示す凸部を上流側に向けた配置の
他に、図５に示すように凸部を下流側に向けて配置する
こともできる。この場合、ガスは筒状ケミカルフィルタ
ー２０を内側から外側に向かって通過する。天板部分２
２を側面と同じケミカルフィルターで構成すると通過ガ
ス量が多くなって急速に劣化してしまうため、天板部分
２２はガスを透過しない板とするのがよい。
【００２０】また、ダクト内壁とガス状不純物除去フィ
ルターが接触すると、接触部分のフィルターはガスが流
通しなくなってしまうか、通りうる流量が減少してしま
う。一部分でもフィルターにガスが通らなくなると、圧
力損失の増加及び、処理面積の低下によるフィルターの
短寿命化などが起きる可能性がある。圧力損失が増加す
ると圧送ファンに負荷がかかってしまうため、必要量の
ガス供給がされなくなってしまう可能性がある。そのた
め、フィルターがダクト内壁に接触するのを防ぐ必要が
ある。
ルターが接触すると、接触部分のフィルターはガスが流
通しなくなってしまうか、通りうる流量が減少してしま
う。一部分でもフィルターにガスが通らなくなると、圧
力損失の増加及び、処理面積の低下によるフィルターの
短寿命化などが起きる可能性がある。圧力損失が増加す
ると圧送ファンに負荷がかかってしまうため、必要量の
ガス供給がされなくなってしまう可能性がある。そのた
め、フィルターがダクト内壁に接触するのを防ぐ必要が
ある。
【００２１】図６及び図７は、ケミカルフィルターとダ
クトの接触を防ぐ手段の一例を示すものである。図６は
ダクト縦断面図、図７は横断面図である。この例では、
ガスを透過しない部材で天板３２を作製した筒状ケミカ
ルフィルター３０を円環状の仕切板３１でダクト１３内
に固定し、さらに筒状ケミカルフィルター３０をその長
手方向の複数箇所で針金等の支持部材３３によってダク
ト１３の内壁に固定する。支持部材３３はダクト内壁と
の間隔を規定する。従って、ダクト１３を湾曲させると
内部のケミカルフィルター３０もダクト内壁と一定の間
隔を保って同様に湾曲するため、ダクト１３を曲げたと
しても内部のケミカルフィルター３０がダクト内壁に接
触することが防止される。
クトの接触を防ぐ手段の一例を示すものである。図６は
ダクト縦断面図、図７は横断面図である。この例では、
ガスを透過しない部材で天板３２を作製した筒状ケミカ
ルフィルター３０を円環状の仕切板３１でダクト１３内
に固定し、さらに筒状ケミカルフィルター３０をその長
手方向の複数箇所で針金等の支持部材３３によってダク
ト１３の内壁に固定する。支持部材３３はダクト内壁と
の間隔を規定する。従って、ダクト１３を湾曲させると
内部のケミカルフィルター３０もダクト内壁と一定の間
隔を保って同様に湾曲するため、ダクト１３を曲げたと
しても内部のケミカルフィルター３０がダクト内壁に接
触することが防止される。
【００２２】図８は、ケミカルフィルターの他の例を示
す。この例では、ケミカルフィルター４０を蛇腹状にし
て長手方向に伸縮自在とし、針金等の支持部材４３によ
ってダクト１３の内壁に固定した。ケミカルフィルター
４０を蛇腹状にすることで、フィルターの表面積を大き
くすることができ、またフィルターの変形が容易にな
る。従って、フィルター４０の設置されたダクト１３の
折り曲げ自由度が増し、装置内の狭い空間で空き空間を
利用した自由な引き回しが可能となる。フィルターの表
面積を大きくできることで圧力損失の低下、長寿命化も
期待できる。
す。この例では、ケミカルフィルター４０を蛇腹状にし
て長手方向に伸縮自在とし、針金等の支持部材４３によ
ってダクト１３の内壁に固定した。ケミカルフィルター
４０を蛇腹状にすることで、フィルターの表面積を大き
くすることができ、またフィルターの変形が容易にな
る。従って、フィルター４０の設置されたダクト１３の
折り曲げ自由度が増し、装置内の狭い空間で空き空間を
利用した自由な引き回しが可能となる。フィルターの表
面積を大きくできることで圧力損失の低下、長寿命化も
期待できる。
【００２３】図９は、ケミカルフィルターのさらに他の
例を示す。この例のケミカルフィルター５０は、ひだ状
の側面部を有し、フィルターの処理面積を大きくして、
処理能力の向上、圧力損失の低下、長寿命化を図ったも
のである。天板部分５２は、電解研磨されたステンレス
板やフッ素樹脂のような部材で構成する。中空筒状ケミ
カルフィルターの形状は円筒形に限られない。例えば、
図１０に示すような箱型ケミカルフィルター６０であっ
てもよいし、多角形状とすることもできる。
例を示す。この例のケミカルフィルター５０は、ひだ状
の側面部を有し、フィルターの処理面積を大きくして、
処理能力の向上、圧力損失の低下、長寿命化を図ったも
のである。天板部分５２は、電解研磨されたステンレス
板やフッ素樹脂のような部材で構成する。中空筒状ケミ
カルフィルターの形状は円筒形に限られない。例えば、
図１０に示すような箱型ケミカルフィルター６０であっ
てもよいし、多角形状とすることもできる。
【００２４】なお、ダクト１３内に設置するのはケミカ
ルフィルターに限られず、除塵フィルター１５もケミカ
ルフィルターと一緒にダクト内に設置してもよい。その
場合、露光装置のチャンバー内空間をより有効に活用す
ることができる。また、本発明による空調装置は露光装
置用の空調装置だけでなく、例えばクリーンルーム建て
屋の空調装置に適用することもできる。
ルフィルターに限られず、除塵フィルター１５もケミカ
ルフィルターと一緒にダクト内に設置してもよい。その
場合、露光装置のチャンバー内空間をより有効に活用す
ることができる。また、本発明による空調装置は露光装
置用の空調装置だけでなく、例えばクリーンルーム建て
屋の空調装置に適用することもできる。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、専用の設置空間を必要
とせずに不純物除去フィルターを設置することができる
ため、露光装置やクリーンルーム内部の空間を有効に利
用することができる。
とせずに不純物除去フィルターを設置することができる
ため、露光装置やクリーンルーム内部の空間を有効に利
用することができる。
【図１】本発明による露光装置の概略説明図。
【図２】ダクト内に配置したフィルターの一例の概略
図。
図。
【図３】図２の断面模式図。
【図４】拡散板を使用した配置の概略説明図。
【図５】ダクト内に配置したフィルターの他の例の概略
図。
図。
【図６】ダクト内に配置したフィルターの他の例の概略
図。
図。
【図７】図６の断面模式図。
【図８】ダクト内に配置したフィルターの他の例の概略
図。
図。
【図９】ダクト内に配置したフィルターの他の例の概略
図。
図。
【図１０】ダクト内に配置したフィルターの他の例の概
略図。
略図。
【図１１】従来の露光装置の概略説明図。
１…光源、２…ミラー、３…照明光学系、４…レチク
ル、５…投影レンズ、６…感光性基板、７…ＸＹステー
ジ、９…チャンバー、１０…空調装置、１１…温調機、
１２…圧送ファン、１３，１３，１３ｂ…ダクト、１４
…ケミカルフィルター、１５…除塵フィルター、１６…
リターン部、１７…外気取り入れ口、１８…不純物除去
フィルター、２０…ケミカルフィルター、２１…仕切
板、２２…天板部分、２４…邪魔板、３０…筒状ケミカ
ルフィルター、３１…仕切板、３２…天板、３３…支持
部材、４０…ケミカルフィルター、４３…支持部材、５
０…ケミカルフィルター、６０…ケミカルフィルター
ル、５…投影レンズ、６…感光性基板、７…ＸＹステー
ジ、９…チャンバー、１０…空調装置、１１…温調機、
１２…圧送ファン、１３，１３，１３ｂ…ダクト、１４
…ケミカルフィルター、１５…除塵フィルター、１６…
リターン部、１７…外気取り入れ口、１８…不純物除去
フィルター、２０…ケミカルフィルター、２１…仕切
板、２２…天板部分、２４…邪魔板、３０…筒状ケミカ
ルフィルター、３１…仕切板、３２…天板、３３…支持
部材、４０…ケミカルフィルター、４３…支持部材、５
０…ケミカルフィルター、６０…ケミカルフィルター
Claims (5)
- 【請求項１】 内部に配置されたガス供給用ダクト内に
不純物除去フィルターを設置したことを特徴とする空調
装置。 - 【請求項２】 前記不純物除去フィルターは中空の筒状
であることを特徴とする請求項１記載の空調装置。 - 【請求項３】 前記不純物除去フィルターは蛇腹状であ
ることを特徴とする請求項１記載の空調装置。 - 【請求項４】 前記不純物除去フィルターは、前記ガス
供給用ダクトの内壁に接触しないように支持部材によっ
て前記ガス供給用ダクトの内壁から支持されていること
を特徴とする請求項１、２又は３記載の空調装置。 - 【請求項５】 光源と、前記光源から射出された光をレ
チクルに入射させる照明系部と、前記レチクルの像を感
光性基板上に形成する露光部と、装置の一部又は全部を
収容するチャンバーと、前記チャンバー内のガスを空調
する空調装置とを含む露光装置において、前記空調装置
として請求項１〜４のいずれか１項に記載された空調装
置を用いることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07377696A JP3633086B2 (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | 空調装置及びそれを備えた露光装置 |
| KR1019970012127A KR100542414B1 (ko) | 1996-03-27 | 1997-03-27 | 노광장치및공조장치 |
| US09/266,873 US6535270B1 (en) | 1996-03-27 | 1999-03-12 | Exposure apparatus and air-conditioning apparatus for use with exposure apparatus |
| US10/237,133 US20030035087A1 (en) | 1996-03-27 | 2002-09-09 | Exposure apparatus and air-conditioning apparatus for use with exposure apparatus |
| US11/071,106 US20050185156A1 (en) | 1996-03-27 | 2005-03-04 | Exposure apparatus and air-conditioning apparatus for use with exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07377696A JP3633086B2 (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | 空調装置及びそれを備えた露光装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09266147A true JPH09266147A (ja) | 1997-10-07 |
| JPH09266147A5 JPH09266147A5 (ja) | 2004-07-29 |
| JP3633086B2 JP3633086B2 (ja) | 2005-03-30 |
Family
ID=13527954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07377696A Expired - Lifetime JP3633086B2 (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-28 | 空調装置及びそれを備えた露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3633086B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002535703A (ja) * | 1999-01-15 | 2002-10-22 | ドナルドソン カンパニー，インコーポレイティド | 気体の光透過率を最適化するための化学的フィルタリング |
| KR100462672B1 (ko) * | 2002-01-23 | 2004-12-20 | 주식회사 케이피씨 | 반도체 제조용 공정가스의 정제장치 |
| KR100710227B1 (ko) * | 2005-05-20 | 2007-04-20 | 엘지전자 주식회사 | 조명겸용 환기 시스템 및 그 제어방법과 조명겸용 환기덕트 |
-
1996
- 1996-03-28 JP JP07377696A patent/JP3633086B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002535703A (ja) * | 1999-01-15 | 2002-10-22 | ドナルドソン カンパニー，インコーポレイティド | 気体の光透過率を最適化するための化学的フィルタリング |
| KR100462672B1 (ko) * | 2002-01-23 | 2004-12-20 | 주식회사 케이피씨 | 반도체 제조용 공정가스의 정제장치 |
| KR100710227B1 (ko) * | 2005-05-20 | 2007-04-20 | 엘지전자 주식회사 | 조명겸용 환기 시스템 및 그 제어방법과 조명겸용 환기덕트 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3633086B2 (ja) | 2005-03-30 |
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