JPH09266165A - Ｘ線取り出し窓 - Google Patents
Ｘ線取り出し窓Info
- Publication number
- JPH09266165A JPH09266165A JP8099137A JP9913796A JPH09266165A JP H09266165 A JPH09266165 A JP H09266165A JP 8099137 A JP8099137 A JP 8099137A JP 9913796 A JP9913796 A JP 9913796A JP H09266165 A JPH09266165 A JP H09266165A
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- JP
- Japan
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- ray
- alignment
- extraction window
- mask
- wafer
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｘ線取り出し窓とＸ線マスク、あるいはウエ
ハとの間でのアライメント光の多重反射光をアライメン
ト光学系から外れた方向に出射させ、高精度のアライメ
ントを行うこと。 【解決手段】 マスクとウエハを位置合わせするために
用いるアライメント光と露光に用いるＸ線を透過する材
質より構成された窓であって、ヘリウム容器の下部に設
けられたメンブレンがアライメント光に対して傾斜を設
けて固定された構造を有するＸ線取り出し窓。
ハとの間でのアライメント光の多重反射光をアライメン
ト光学系から外れた方向に出射させ、高精度のアライメ
ントを行うこと。 【解決手段】 マスクとウエハを位置合わせするために
用いるアライメント光と露光に用いるＸ線を透過する材
質より構成された窓であって、ヘリウム容器の下部に設
けられたメンブレンがアライメント光に対して傾斜を設
けて固定された構造を有するＸ線取り出し窓。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、マスクパタンをウ
エハ表面に転写して半導体素子を製造するＸ線露光装
置、およびシンクロトロン放射光（以下ＳＯＲ光とす
る）を利用するＳＯＲ露光用ビームラインのＸ線取り出
し窓に関するものである。
エハ表面に転写して半導体素子を製造するＸ線露光装
置、およびシンクロトロン放射光（以下ＳＯＲ光とす
る）を利用するＳＯＲ露光用ビームラインのＸ線取り出
し窓に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】微細パタン転写にＸ線露光が有効である
ことが報告されている。中でも、高出力Ｘ線発生装置と
してＳＯＲ光が注目され、集積回路の製造、材料等の分
析に幅広く利用されている。
ことが報告されている。中でも、高出力Ｘ線発生装置と
してＳＯＲ光が注目され、集積回路の製造、材料等の分
析に幅広く利用されている。
【０００３】図３はＳＯＲ光を使ったＳＯＲ露光用ビー
ムラインに使用されているＸ線取り出し窓構成の一例を
示した図で、１はＸ線透過率の高いヘリウム雰囲気を形
成するヘリウム容器、２はＸ線透過率の高いヘリウム雰
囲気、Ｌ２はＸ線束、３ａ〜３ｂはマスクとウエハを位
置合わせするアライメント光学系、４ａ〜４ｂはアライ
メント光、５ａはＸ線を透過し大気とヘリウムを隔てる
Ｘ線取り出し窓、６はＸ線マスク、７はウエハ、８はウ
エハステージである。Ｘ線マスク６は、３つの材質から
構成されており、１４はＬＳＩパタンが形成されている
Ｘ線吸収体、１３はＸ線を透過しＸ線吸収体を保持する
メンブレン、１２はメンブレンを保持するシリコン基板
である。また、Ｘ線取り出し窓５ａは、Ｘ線マスクと同
様の構成からなり、１１ａはメンブレン、１０ａはシリ
コン基板、９ａはシリコン基板を保持するＸ線取り出し
窓基板である。
ムラインに使用されているＸ線取り出し窓構成の一例を
示した図で、１はＸ線透過率の高いヘリウム雰囲気を形
成するヘリウム容器、２はＸ線透過率の高いヘリウム雰
囲気、Ｌ２はＸ線束、３ａ〜３ｂはマスクとウエハを位
置合わせするアライメント光学系、４ａ〜４ｂはアライ
メント光、５ａはＸ線を透過し大気とヘリウムを隔てる
Ｘ線取り出し窓、６はＸ線マスク、７はウエハ、８はウ
エハステージである。Ｘ線マスク６は、３つの材質から
構成されており、１４はＬＳＩパタンが形成されている
Ｘ線吸収体、１３はＸ線を透過しＸ線吸収体を保持する
メンブレン、１２はメンブレンを保持するシリコン基板
である。また、Ｘ線取り出し窓５ａは、Ｘ線マスクと同
様の構成からなり、１１ａはメンブレン、１０ａはシリ
コン基板、９ａはシリコン基板を保持するＸ線取り出し
窓基板である。
【０００４】Ｘ線露光に使用されるＸ線波長は中心波長
が７から１０Å程度の軟Ｘ線であり、この領域のＸ線波
長は空気層による減衰が大きく、Ｘ線マスク６とウエハ
７をヘリウム中に置くか、あるいはヘリウム容器１を設
けてＸ線取り出し窓５ａをＸ線マスク６の近傍に位置さ
せる構造をとっている。
が７から１０Å程度の軟Ｘ線であり、この領域のＸ線波
長は空気層による減衰が大きく、Ｘ線マスク６とウエハ
７をヘリウム中に置くか、あるいはヘリウム容器１を設
けてＸ線取り出し窓５ａをＸ線マスク６の近傍に位置さ
せる構造をとっている。
【０００５】Ｘ線露光ステッパは構造が複雑なため、現
在では、大気中露光方式が多く使用され、Ｘ線取り出し
窓５ａをＸ線マスク６の近傍に位置させる方式を採用し
ている。また、Ｘ線マスク６上のマスクアライメントマ
ーク１５ａ〜１５ｂやウエハ７上のウエハアライメント
マーク１６ａ〜１６ｂはＬＳＩパタンの近接して配置さ
れており、これらを検出するために使用するアライメン
ト光学系３ａ〜３ｂは露光領域に近接して配置される。
そのため、アライメント光学系３ａ〜３ｂはヘリウム容
器１内に設置せざるを得ないのが現状である。従って、
Ｘ線取り出し窓５ａの要求条件として、Ｘ線の減衰が小
さく、ヘリウムとの隔壁としての密封性があると同時に
アライメント光を通すことが要求される。また、Ｘ線照
射により膜が劣化する問題から、Ｘ線取り出し窓５ａの
透過窓の材質としては、ＳｉＮ，ＳｉＣ等の無機膜を使
用し、（ＳｉＮ，ＳｉＣ等の無機膜では、シリコン基板
上にＳｉＮ，ＳｉＣ膜等を１〜２μｍ程度デポし、裏面
をエッチングすることにより薄膜化する）ヘリウム容器
１の先端部に直接Ｘ線取り出し窓５ａを接合する。
在では、大気中露光方式が多く使用され、Ｘ線取り出し
窓５ａをＸ線マスク６の近傍に位置させる方式を採用し
ている。また、Ｘ線マスク６上のマスクアライメントマ
ーク１５ａ〜１５ｂやウエハ７上のウエハアライメント
マーク１６ａ〜１６ｂはＬＳＩパタンの近接して配置さ
れており、これらを検出するために使用するアライメン
ト光学系３ａ〜３ｂは露光領域に近接して配置される。
そのため、アライメント光学系３ａ〜３ｂはヘリウム容
器１内に設置せざるを得ないのが現状である。従って、
Ｘ線取り出し窓５ａの要求条件として、Ｘ線の減衰が小
さく、ヘリウムとの隔壁としての密封性があると同時に
アライメント光を通すことが要求される。また、Ｘ線照
射により膜が劣化する問題から、Ｘ線取り出し窓５ａの
透過窓の材質としては、ＳｉＮ，ＳｉＣ等の無機膜を使
用し、（ＳｉＮ，ＳｉＣ等の無機膜では、シリコン基板
上にＳｉＮ，ＳｉＣ膜等を１〜２μｍ程度デポし、裏面
をエッチングすることにより薄膜化する）ヘリウム容器
１の先端部に直接Ｘ線取り出し窓５ａを接合する。
【０００６】ところが、ＳＯＲ光を利用したＸ線露光に
おいては、図４に示すように、Ｘ線取り出し窓５ａを透
過したアライメント光４ａ〜４ｂは、Ｘ線マスク６のメ
ンブレン１３とＸ線取り出し窓５ａのメンブレン１１ａ
との間のマスクからの多重反射光１７ａ〜１７ｂやウエ
ハ７の表面とＸ線取り出し窓５ａのメンブレン１１ａと
の間のウエハからの多重反射光１８ａ〜１８ｂなどを生
成し、これらの多重反射光１７ａ〜１７ｂ、１８ａ〜１
８ｂがアライメント光４ａ〜４ｂに混入してアライメン
ト光学系３ａ〜３ｂに入射し、アライメント精度を劣化
させるという問題が生じていた。
おいては、図４に示すように、Ｘ線取り出し窓５ａを透
過したアライメント光４ａ〜４ｂは、Ｘ線マスク６のメ
ンブレン１３とＸ線取り出し窓５ａのメンブレン１１ａ
との間のマスクからの多重反射光１７ａ〜１７ｂやウエ
ハ７の表面とＸ線取り出し窓５ａのメンブレン１１ａと
の間のウエハからの多重反射光１８ａ〜１８ｂなどを生
成し、これらの多重反射光１７ａ〜１７ｂ、１８ａ〜１
８ｂがアライメント光４ａ〜４ｂに混入してアライメン
ト光学系３ａ〜３ｂに入射し、アライメント精度を劣化
させるという問題が生じていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記従来の欠
点を解決するため、Ｘ線取り出し窓に傾斜を設けた構成
としたもので、その目的は、Ｘ線取り出し窓とＸ線マス
ク、あるいはウエハとの間でのアライメント光の多重反
射光をアライメント光学系から外れた方向に出射させ、
高精度のアライメントを行うことにある。
点を解決するため、Ｘ線取り出し窓に傾斜を設けた構成
としたもので、その目的は、Ｘ線取り出し窓とＸ線マス
ク、あるいはウエハとの間でのアライメント光の多重反
射光をアライメント光学系から外れた方向に出射させ、
高精度のアライメントを行うことにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明は、マスクとウエハを位置合わせするために用
いるアライメント光と露光に用いるＸ線を透過する材質
より構成された窓であり、ヘリウム容器の下部に設けら
れたメンブレインがアライメント光に対して傾斜を設け
て固定された構造を有することを特徴とするＸ線取り出
し窓を発明の特徴とするものである。換言すれば本発明
は、Ｘ線取り出し窓とＸ線マスク、あるいはウエハとの
間で生じたアライメント光の多重反射光が、アライメン
ト光学系に戻らないように、Ｘ線取り出し窓の面をアラ
イメント光の入射方向に対して傾斜を設けてヘリウム容
器に接合させている。
め本発明は、マスクとウエハを位置合わせするために用
いるアライメント光と露光に用いるＸ線を透過する材質
より構成された窓であり、ヘリウム容器の下部に設けら
れたメンブレインがアライメント光に対して傾斜を設け
て固定された構造を有することを特徴とするＸ線取り出
し窓を発明の特徴とするものである。換言すれば本発明
は、Ｘ線取り出し窓とＸ線マスク、あるいはウエハとの
間で生じたアライメント光の多重反射光が、アライメン
ト光学系に戻らないように、Ｘ線取り出し窓の面をアラ
イメント光の入射方向に対して傾斜を設けてヘリウム容
器に接合させている。
【０００９】本発明は前記傾斜を設けたＸ線取り出し窓
を採用することによって、Ｘ線取り出し窓とＸ線マス
ク、あるいはウエハとの間でのアライメント光の多重反
射光をアライメント光学系から外れた方向に出射できる
ので、アライメント光学系に不要なレーザ光が混入せ
ず、アライメント信号が安定して、高精度のアライメン
トが可能になる。
を採用することによって、Ｘ線取り出し窓とＸ線マス
ク、あるいはウエハとの間でのアライメント光の多重反
射光をアライメント光学系から外れた方向に出射できる
ので、アライメント光学系に不要なレーザ光が混入せ
ず、アライメント信号が安定して、高精度のアライメン
トが可能になる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明はヘリウム容器の下部に設
けられたメンブレンを、ヘリウム容器の下面に対して傾
斜して設けられていることを特徴とするものである。
けられたメンブレンを、ヘリウム容器の下面に対して傾
斜して設けられていることを特徴とするものである。
【００１１】
【実施例】本発明の実施例を図面について詳細に説明す
る。図１及び図２は本発明をＸ線露光装置に適用した例
である。図１において、１はＸ線透過率の高いヘリウム
雰囲気を形成するヘリウム容器、２はＸ線透過率の高い
ヘリウム雰囲気、Ｌ２はＸ線束、３ａ〜３ｂはマスクと
ウエハを位置合わせするアライメント光学系、４ａ〜４
ｂはアライメント光、５はＸ線を透過し大気とヘリウム
を隔てるＸ線取り出し窓、６はＸ線マスク、７はウエ
ハ、８はウエハステージである。Ｘ線マスク６は、３つ
の材質から構成されており、１４はＬＳＩパタンが形成
されているＸ線吸収体、１３はＸ線を透過しＸ線吸収体
を保持するメンブレン、１２はメンブレンを保持するシ
リコン基板である。また、Ｘ線取り出し窓５は、Ｘ線マ
スクと同様の構成からなり、１１はメンブレン、１０は
シリコン基板、９はシリコン基板を保持するＸ線取り出
し窓基板である。
る。図１及び図２は本発明をＸ線露光装置に適用した例
である。図１において、１はＸ線透過率の高いヘリウム
雰囲気を形成するヘリウム容器、２はＸ線透過率の高い
ヘリウム雰囲気、Ｌ２はＸ線束、３ａ〜３ｂはマスクと
ウエハを位置合わせするアライメント光学系、４ａ〜４
ｂはアライメント光、５はＸ線を透過し大気とヘリウム
を隔てるＸ線取り出し窓、６はＸ線マスク、７はウエ
ハ、８はウエハステージである。Ｘ線マスク６は、３つ
の材質から構成されており、１４はＬＳＩパタンが形成
されているＸ線吸収体、１３はＸ線を透過しＸ線吸収体
を保持するメンブレン、１２はメンブレンを保持するシ
リコン基板である。また、Ｘ線取り出し窓５は、Ｘ線マ
スクと同様の構成からなり、１１はメンブレン、１０は
シリコン基板、９はシリコン基板を保持するＸ線取り出
し窓基板である。
【００１２】Ｘ線取り出し窓基板９は左右非対称の構造
を有しており、Ｘ線取り出し窓５の窓面であるメンブレ
ン１１の面は、アライメント光４ａ〜４ｂに対して傾い
て設定されている。したがって、図２に示すように、ア
ライメント光４ａ〜４ｂは、メンブレン１１に対して斜
めに入射することになり、Ｘ線取り出し窓５を透過した
アライメント光４ａ〜４ｂにより生成された、Ｘ線マス
ク６のメンブレン１３とＸ線取り出し窓のメンブレン１
１との間のマスクからの多重反射光１９ａ〜１９ｂやウ
エハ７の表面とＸ線取り出し窓５のメンブレン１１との
間のウエハからの多重反射光２０ａ〜２０ｂは、それぞ
れアライメント光４ａ〜４ｂとは異なった方向に出射さ
れ、アライメント光学系３ａ〜３ｂにはもどらない。
を有しており、Ｘ線取り出し窓５の窓面であるメンブレ
ン１１の面は、アライメント光４ａ〜４ｂに対して傾い
て設定されている。したがって、図２に示すように、ア
ライメント光４ａ〜４ｂは、メンブレン１１に対して斜
めに入射することになり、Ｘ線取り出し窓５を透過した
アライメント光４ａ〜４ｂにより生成された、Ｘ線マス
ク６のメンブレン１３とＸ線取り出し窓のメンブレン１
１との間のマスクからの多重反射光１９ａ〜１９ｂやウ
エハ７の表面とＸ線取り出し窓５のメンブレン１１との
間のウエハからの多重反射光２０ａ〜２０ｂは、それぞ
れアライメント光４ａ〜４ｂとは異なった方向に出射さ
れ、アライメント光学系３ａ〜３ｂにはもどらない。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、Ｘ線取り出し窓は、ア
ライメント光に対して傾斜を設けて設定してあるので、
Ｘ線取り出し窓とマスク、あるいはＸ線取り出し窓とウ
エハとの間で生じる多重反射によるアライメント光の戻
り光を除去することができ、アライメント信号が安定化
し、精度の良いアライメントができるという効果が得ら
れる。
ライメント光に対して傾斜を設けて設定してあるので、
Ｘ線取り出し窓とマスク、あるいはＸ線取り出し窓とウ
エハとの間で生じる多重反射によるアライメント光の戻
り光を除去することができ、アライメント信号が安定化
し、精度の良いアライメントができるという効果が得ら
れる。
【図１】本発明の実施例である。
【図２】本発明の実施例である。
【図３】従来技術の説明図である。
【図４】従来技術の説明図である。
１ ヘリウム容器 ２ ヘリアム雰囲気 ３ａ〜３ｂ アライメント光学系 ４ａ〜４ｂ アライメント光 ５ａ〜５ｂ Ｘ線取り出し窓 ６ Ｘ線マスク ７ ウエハ ８ ウエハステージ ９，９ａ Ｘ線取り出し窓基板 １０，１０ａ シリコン基板 １１，１１ａ メンブレン １２ シリコン基板 １３ メンブレン １４ Ｘ線吸収体 １５ａ〜１５ｂ マスクアライメントマーク １６ａ〜１６ｂ ウエハアライメントマーク １７ａ〜１７ｂ マスクからの多重反射光 １８ａ〜１８ｂ ウエハからの多重反射光 １９ａ〜１９ｂ マスクからの多重反射光 ２０ａ〜２０ｂ ウエハからの多重反射系 Ｌ２ Ｘ線束
Claims (1)
- 【請求項１】 マスクとウエハを位置合わせするために
用いるアライメント光と露光に用いるＸ線を透過する材
質より構成された窓であり、ヘリウム容器の下部に設け
られたメンブレンがアライメント光に対して傾斜を設け
て固定された構造を有することを特徴とするＸ線取り出
し窓。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8099137A JPH09266165A (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | Ｘ線取り出し窓 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8099137A JPH09266165A (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | Ｘ線取り出し窓 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09266165A true JPH09266165A (ja) | 1997-10-07 |
Family
ID=14239339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8099137A Pending JPH09266165A (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | Ｘ線取り出し窓 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09266165A (ja) |
-
1996
- 1996-03-27 JP JP8099137A patent/JPH09266165A/ja active Pending
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