JPH0927108A - Magnetic recording media - Google Patents
Magnetic recording mediaInfo
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- JPH0927108A JPH0927108A JP17119895A JP17119895A JPH0927108A JP H0927108 A JPH0927108 A JP H0927108A JP 17119895 A JP17119895 A JP 17119895A JP 17119895 A JP17119895 A JP 17119895A JP H0927108 A JPH0927108 A JP H0927108A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 より一層の低ノイズ化を達成し得る磁気記録
媒体の提供。
【構成】 表面に凸部が形成された非磁性基板上に、磁
性層が形成されてなる本発明の磁気記録媒体は、上記磁
性層の平均結晶粒径a、及び上記凸部の形状を円近似し
たときの平均直径bが下記の関係を満たすと共に、80
kfci以上の高記録密度を有し、且つ上記凸部は上記
非磁性基板の面方向において連続していることを特徴と
する。
2nm≦a≦30nm
30nm≦b≦400nm
b≧2a
(57) [Abstract] [Purpose] To provide a magnetic recording medium capable of achieving further noise reduction. A magnetic recording medium of the present invention in which a magnetic layer is formed on a non-magnetic substrate having a convex portion formed on the surface thereof has an average crystal grain size a of the magnetic layer and a circular shape of the convex portion. When the approximated average diameter b satisfies the following relationship,
It has a high recording density of kfci or more, and the projections are continuous in the surface direction of the non-magnetic substrate. 2 nm ≦ a ≦ 30 nm 30 nm ≦ b ≦ 400 nm b ≧ 2a
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体に関す
るものであり、更に詳しくは、高記録密度での記録時に
おけるノイズが低減された磁気記録媒体に関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium, and more particularly to a magnetic recording medium with reduced noise during recording at high recording density.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
磁気記録媒体の低ノイズ化の手法としては、主に下記の
手法(1)〜(5)が用いられてきた。 (1)磁性層の効果 CoCrを含む、磁性層を形成する合金中のCr濃度を
増加させたり、該合金にTa、B、酸化物等を添加す
る。 (2)下地層の効果 下地層における柱状構造を制御することにより磁性層の
平均結晶粒径を微細にしたり、下地層の結晶配向を制御
することによりc軸面内配向を制御する。 (3)加熱温度の効果 基板加熱、あるいは熱処理によりCr等の非磁性物質の
磁性結晶粒界への偏析を促進させ、磁性結晶粒間の磁気
的な結合を弱める。 (4)Arガス圧の効果 スパッタリングによって磁性層を形成するに際して、高
Arガス圧下で磁性層を形成することにより、磁性結晶
粒間に物理的な空隙を作り、磁性結晶粒間の磁気的な結
合を弱める。 (5)磁性多層膜の効果 磁性層の間に非磁性の中間層を介在せしめることによ
り、磁性結晶粒間の磁気的な結合を弱める。2. Description of the Related Art
The following methods (1) to (5) have been mainly used as a method for reducing the noise of the magnetic recording medium. (1) Effect of magnetic layer Increasing the Cr concentration in an alloy containing CoCr that forms the magnetic layer, or adding Ta, B, an oxide, or the like to the alloy. (2) Effect of Underlayer The average crystal grain size of the magnetic layer is made fine by controlling the columnar structure in the underlayer, and the c-axis in-plane orientation is controlled by controlling the crystal orientation of the underlayer. (3) Effect of Heating Temperature Substrate heating or heat treatment promotes segregation of nonmagnetic substances such as Cr to the magnetic crystal grain boundaries, and weakens magnetic coupling between the magnetic crystal grains. (4) Effect of Ar gas pressure When forming a magnetic layer by sputtering, by forming the magnetic layer under a high Ar gas pressure, physical voids are created between the magnetic crystal grains, and magnetic gaps between the magnetic crystal grains are formed. Weaken the bond. (5) Effect of Magnetic Multilayer Film By interposing a non-magnetic intermediate layer between magnetic layers, magnetic coupling between magnetic crystal grains is weakened.
【0003】上記(1)〜(5)の手法を組み合わせて
用いることにより、ノイズは低下する。しかしながら、
更なる高記録密度化に伴い、より一層の低ノイズ化が要
求されている。Noise is reduced by using the above methods (1) to (5) in combination. However,
As the recording density further increases, further noise reduction is required.
【0004】従って、本発明の目的は、より一層の低ノ
イズ化を達成しうる磁気記録媒体を提供することにあ
る。Therefore, an object of the present invention is to provide a magnetic recording medium which can achieve further noise reduction.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の低
ノイズ化の手法に加え、低ノイズ化を実現する新たな手
法を鋭意検討した結果、非磁性基板の表面上に凸部を形
成し、この上に磁性層を形成すると共に、該凸部及び該
磁性層を特定の構造とすることにより、高記録密度時
(特に80kfci以上)のノイズを、該凸部が形成さ
れていない磁気記録媒体に比べて極めて低下させ得るこ
とを知見した。The inventors of the present invention have earnestly studied a new method for realizing noise reduction in addition to the conventional method for reducing noise, and as a result, have formed a convex portion on the surface of a non-magnetic substrate. By forming the magnetic layer on top of this, and by forming the projection and the magnetic layer in a specific structure, noise at high recording density (especially 80 kfci or more) is not formed by the projection. It has been found that it can be extremely lowered as compared with the magnetic recording medium.
【0006】本発明は上記知見に基づきなされたもので
あり、表面に凸部が形成された非磁性基板上に、磁性層
が形成されてなる磁気記録媒体において、上記磁性層の
平均結晶粒径a、及び上記凸部の形状を円近似したとき
の平均直径bが下記の関係を満たすと共に、80kfc
i以上の高記録密度を有し、且つ上記凸部は上記非磁性
基板の面方向において連続していることを特徴とする磁
気記録媒体を提供することにより、上記目的を達成した
ものである。 2nm≦a≦30nm 30nm≦b≦400nm b≧2aThe present invention has been made based on the above findings, and in a magnetic recording medium in which a magnetic layer is formed on a non-magnetic substrate having convex portions formed on the surface, the average crystal grain size of the magnetic layer is a and the average diameter b when the shape of the above convex portion is approximated by a circle satisfy the following relation, and 80 kfc
The above object is achieved by providing a magnetic recording medium having a high recording density of i or more and the projections being continuous in the surface direction of the non-magnetic substrate. 2 nm ≦ a ≦ 30 nm 30 nm ≦ b ≦ 400 nm b ≧ 2a
【0007】本発明の磁気記録媒体は、例えば、磁気ド
ラムや磁気テープとしても有用であるが、特に固定ディ
スク等の磁気ディスクとして有用である。The magnetic recording medium of the present invention is useful as, for example, a magnetic drum or a magnetic tape, but is particularly useful as a magnetic disk such as a fixed disk.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体につ
いて、図面に基づき説明する。ここで、図1は、本発明
の磁気記録媒体の構造を示す模式図であり、図2は、本
発明の磁気記録媒体の好ましい実施例の構造を示す模式
図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The magnetic recording medium of the present invention will be described below with reference to the drawings. Here, FIG. 1 is a schematic diagram showing the structure of the magnetic recording medium of the present invention, and FIG. 2 is a schematic diagram showing the structure of a preferred embodiment of the magnetic recording medium of the present invention.
【0009】図1に示すように、本発明の磁気記録媒体
10は、表面に多数の凸部12が形成された非磁性基板
14上に、磁性層16が形成されてなるものである。そ
して、上記磁気記録媒体10においては、図1に示すよ
うに、上記磁性層16の平均結晶粒径a、及び上記凸部
12の形状を円近似したときの平均直径bが下記の関係
を満たすと共に、80kfci以上の高記録密度を有す
ることを特徴とする。 2nm≦a≦30nm 30nm≦b≦400nm b≧2a 更に、上記磁気記録媒体10においては、上記凸部12
は、図1に示すように、上記非磁性基板14の面方向に
おいて連続しているを特徴とする。As shown in FIG. 1, the magnetic recording medium 10 of the present invention comprises a magnetic layer 16 formed on a non-magnetic substrate 14 having a large number of protrusions 12 formed on the surface thereof. Then, in the magnetic recording medium 10, as shown in FIG. 1, the average crystal grain size a of the magnetic layer 16 and the average diameter b when the shape of the convex portion 12 is approximated by a circle satisfy the following relationship. In addition, it has a high recording density of 80 kfci or more. 2 nm ≦ a ≦ 30 nm 30 nm ≦ b ≦ 400 nm b ≧ 2a Further, in the magnetic recording medium 10, the convex portion 12 is used.
Is continuous in the plane direction of the non-magnetic substrate 14 as shown in FIG.
【0010】磁気記録媒体の基板上に凹凸を形成するこ
とは、例えば、特開平3−73419号公報等にも記載
されているが、該公報では凹凸を形成することにより磁
気記録媒体のCSS耐久性を向上させることを意図とし
ており、本発明のように、磁気記録媒体のノイズを低減
化することは意図されていない。The formation of concavities and convexities on the substrate of a magnetic recording medium is described in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 3-73419, but in that publication, the concavities and convexities form the CSS durability of the magnetic recording medium. It is intended to improve the magnetic property, and is not intended to reduce the noise of the magnetic recording medium like the present invention.
【0011】図1に示す本発明の磁気記録媒体10につ
いて更に説明すると、図1中、符号14で示される非磁
性基板としては、例えば、Al基板、NiPめっきAl
合金基板、強化ガラス基板、結晶化ガラス基板、セラミ
ックス基板、Si合金基板、Ti基板、Ti合金基板、
プラスチック基板、カーボン基板、及びこれらの複合材
料から成る基板等が使用できる。特に、カーボン基板、
就中ガラス状カーボン基板は、小径/薄板化に有利であ
り、耐熱性に優れ、しかも導電性も有しているので、本
発明において好ましく用いられる。The magnetic recording medium 10 of the present invention shown in FIG. 1 will be further described. In FIG. 1, the non-magnetic substrate indicated by reference numeral 14 is, for example, an Al substrate or NiP plated Al.
Alloy substrate, tempered glass substrate, crystallized glass substrate, ceramics substrate, Si alloy substrate, Ti substrate, Ti alloy substrate,
A plastic substrate, a carbon substrate, a substrate made of a composite material of these, or the like can be used. In particular, carbon substrate,
Above all, the glassy carbon substrate is advantageous in reducing the diameter / thin plate, has excellent heat resistance, and has electrical conductivity, and is therefore preferably used in the present invention.
【0012】上記非磁性基板14の表面に形成される上
記凸部12は、上記の関係を満たし、且つ上記非磁性基
板14の面方向において連続している形状のものであ
る。上記凸部12は、かかる条件を満たすものであれ
ば、その形成方法に特に制限は無い。例えば、上記凸部
12は、上記非磁性基板14と一体的に形成されていて
もよく、或いは上記非磁性基板14とは別個に形成され
ていてもよい。The projections 12 formed on the surface of the non-magnetic substrate 14 satisfy the above relationship and are continuous in the plane direction of the non-magnetic substrate 14. The convex portion 12 is not particularly limited in its forming method as long as it satisfies such conditions. For example, the convex portion 12 may be formed integrally with the non-magnetic substrate 14, or may be formed separately from the non-magnetic substrate 14.
【0013】上記凸部12の形成方法について更に説明
すると、該凸部12を上記非磁性基板14と一体的に形
成する方法としては、例えば、上記非磁性基板14の表
面を化学エッチングする方法が挙げられる。また、上記
非磁性基板14としてカーボン基板を用いる場合には、
該カーボン基板の表面を酸化させることにより、上記凸
部12を形成することができる。一方、上記凸部12を
上記非磁性基板14と別個に形成する方法としては、例
えば、所定の平均表面粗さRaを有する非磁性基板上
に、無電解めっき法等の湿式めっき手段;蒸着法、イオ
ンプレーティング法若しくはスパッタリング法等の物理
的気相成長法(PVD);又は化学的気相成長法(CV
D)等によって凸部12を形成する方法が挙げられる。
この場合、上記凸部12を構成する物質としては、例え
ば、Ag、Al、Au、Cu、Sn及びIn並びにこれ
らの合金等の低融点金属等を用いることができるが、特
に、Al−M(Mはカーバイド形成能を有する金属)系
合金を用いることが、上記凸部12の形成の容易性、及
び密着性の向上の点から好ましい。就中、上記非磁性基
板14としてカーボン基板を用い、且つ上記凸部12が
PVDによって形成されたAl−M(Mはカーバイド形
成能を有する金属)系合金からなる場合には、上記凸部
12の形成の容易性、及び密着性が一層向上するので好
ましい。なお、上記カーバイド形成能を有する金属とし
ては、例えば、Si、Cr、Ta、Ti、Zr、Y、M
o、W及びV等が挙げられる。なお、この場合、上記凸
部12の厚さは、5〜60nmであることが好ましい。The method of forming the convex portion 12 will be further described. As a method of integrally forming the convex portion 12 with the nonmagnetic substrate 14, for example, a method of chemically etching the surface of the nonmagnetic substrate 14 is used. Can be mentioned. When a carbon substrate is used as the non-magnetic substrate 14,
The convex portions 12 can be formed by oxidizing the surface of the carbon substrate. On the other hand, as a method of forming the convex portion 12 separately from the nonmagnetic substrate 14, for example, a wet plating means such as an electroless plating method on a nonmagnetic substrate having a predetermined average surface roughness Ra; a vapor deposition method. , Physical plating (PVD) such as ion plating or sputtering; or chemical vapor deposition (CV)
A method of forming the convex portion 12 by D) or the like can be given.
In this case, as the substance forming the convex portion 12, for example, a low melting point metal such as Ag, Al, Au, Cu, Sn and In, and alloys thereof can be used. It is preferable to use a metal-based alloy having a carbide-forming ability as M, from the viewpoints of ease of forming the protrusions 12 and improvement of adhesion. In particular, when a carbon substrate is used as the non-magnetic substrate 14 and the protrusion 12 is made of an Al-M (M is a metal having a carbide forming ability) based alloy formed by PVD, the protrusion 12 is formed. It is preferable because the easiness of formation and the adhesion are further improved. Examples of the metal capable of forming a carbide include Si, Cr, Ta, Ti, Zr, Y and M.
o, W, V and the like. In this case, the thickness of the convex portion 12 is preferably 5 to 60 nm.
【0014】このようにして形成された上記凸部12
は、上述の通り、その形状を円近似したときの平均直径
bが、30nm≦b≦400nmである。該平均直径b
が30nmに満たないと上記磁性層において不連続な凸
部が形成し難く、該平均直径bが400nmを超えると
媒体と磁気ヘッドとの間のスペーシングロスが大きくな
り過ぎる。上記平均直径bの好ましい範囲は、50nm
≦b≦300nmであり、更に好ましい範囲は、50n
m≦b≦200nmである。なお、上記平均直径bは、
例えば、上記凸部12までが形成された非磁性基板14
を所定の形状に切り出した後、AFM(原子間顕微鏡)
像を観察することにより測定することができる。The convex portion 12 thus formed
As described above, the average diameter b when the shape is approximated to a circle is 30 nm ≦ b ≦ 400 nm. The average diameter b
Is less than 30 nm, it is difficult to form discontinuous protrusions in the magnetic layer, and when the average diameter b exceeds 400 nm, spacing loss between the medium and the magnetic head becomes too large. The preferable range of the average diameter b is 50 nm.
≦ b ≦ 300 nm, more preferably 50 n
m ≦ b ≦ 200 nm. The average diameter b is
For example, the non-magnetic substrate 14 on which the projections 12 are formed is formed.
AFM (atomic force microscope) after cutting into a predetermined shape
It can be measured by observing the image.
【0015】また、上記凸部12は、上述の通り、上記
非磁性基板14の面方向において連続している。即ち、
上記凸部12は、上記非磁性基板14の表面において互
いに隣接しており、個々の凸部間には実質的に不連続領
域が存在していない。従って、例えば、上記凸部12が
非磁性基板14の表面に形成されたAl−M系合金から
なる場合には、該非磁性基板14の表面は該Al−M系
合金によって被覆されており、該表面が実質的に露出し
ている部分は存在しない。The projections 12 are continuous in the plane direction of the nonmagnetic substrate 14 as described above. That is,
The convex portions 12 are adjacent to each other on the surface of the non-magnetic substrate 14, and there is substantially no discontinuous region between the individual convex portions. Therefore, for example, when the convex portion 12 is made of an Al-M type alloy formed on the surface of the non-magnetic substrate 14, the surface of the non-magnetic substrate 14 is covered with the Al-M type alloy. There is no portion where the surface is substantially exposed.
【0016】また、上記凸部12の平均表面粗さRaに
特に制限は無いが、磁気ヘッドとのスペーシングを下
げ、高記録密度を達成する点から、1〜30nmである
ことが好ましく、1〜20nmであることが一層好まし
い。なお、上記平均表面粗さRaは、上記平均直径bと
同様に、上記凸部12までが形成された非磁性基板14
を所定の形状に切り出した後、AFM(原子間顕微鏡)
像を観察することにより測定することができる。The average surface roughness Ra of the protrusion 12 is not particularly limited, but is preferably 1 to 30 nm from the viewpoint of reducing the spacing with the magnetic head and achieving high recording density. More preferably, it is ˜20 nm. The average surface roughness Ra is similar to the average diameter b, and the non-magnetic substrate 14 on which the projections 12 are formed is formed.
AFM (atomic force microscope) after cutting into a predetermined shape
It can be measured by observing the image.
【0017】次に、上記凸部12が形成された非磁性基
板14上に形成される磁性層16について、引き続き図
1に基づき説明する。図1に示すように、上記磁性層1
6は、上記凸部12が形成された非磁性基板14上に形
成されるものであり、該凸部12の形状に対応する凹凸
形状を有する。また、上記磁性層16は、好ましくは、
図1に示すように、上記非磁性基板14の面方向におい
て、上記凸部12に対応する不連続な凸状部18の集合
体である。即ち、隣り合う該凸状部18間には、実質的
に不連続な領域が存在し、個々の凸状部18は物理的に
離れた状態にある。上記磁性層16が、かかる不連続な
凸状部18の集合体であることによって、隣り合う凸状
部18どうしが磁気的に非常に弱い結合状態となる結
果、媒体ノイズが一層低減化される。このとき、上記磁
性層16の平均結晶粒径aは、後述するように2nm≦
a≦30nmであることが必須であるが、かかる平均結
晶粒径を有する磁性層は、例えば、磁性層を形成する金
属(合金)の種類や磁性層成膜時の条件をコントロール
することで容易に形成することができる。Next, the magnetic layer 16 formed on the non-magnetic substrate 14 on which the convex portion 12 is formed will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the magnetic layer 1
6 is formed on the non-magnetic substrate 14 on which the convex portion 12 is formed, and has an uneven shape corresponding to the shape of the convex portion 12. The magnetic layer 16 is preferably made of
As shown in FIG. 1, it is an aggregate of discontinuous convex portions 18 corresponding to the convex portions 12 in the surface direction of the non-magnetic substrate 14. That is, there is a substantially discontinuous area between the adjacent convex portions 18, and the individual convex portions 18 are physically separated from each other. Since the magnetic layer 16 is an assembly of such discontinuous convex portions 18, the adjacent convex portions 18 are in a magnetically very weakly coupled state, so that the medium noise is further reduced. . At this time, the average crystal grain size a of the magnetic layer 16 is 2 nm ≦, as described later.
It is essential that a ≦ 30 nm, but the magnetic layer having such an average crystal grain size can be easily formed by controlling the type of metal (alloy) forming the magnetic layer and the conditions at the time of forming the magnetic layer. Can be formed.
【0018】この場合、隣り合う磁性層間の距離(つま
り、上記凸状部18間の距離)xは、0.2≦x≦30
nmであることが好ましい。該距離xが0.2nmに満
たないと、隣り合う凸状部どうしの磁気的な結合状態が
強まり、媒体ノイズの増加を招く可能性があり、該距離
xが30nmを超えると、単位面積当たりの磁束数が減
少するため、出力が低下する可能性があるので、上記範
囲内とすることが好ましい。上記距離xは、0.2≦x
≦10nmであることが一層好ましい。なお、上記距離
xは、例えば、上記磁性層16が形成された磁気記録媒
体の縦断面及び面内のTEM(透過型電子顕微鏡)像を
観察することにより測定することができる。また、上記
距離xの範囲は、上記凸部12の形状を制御することに
よりコントロールすることができる。In this case, the distance x between adjacent magnetic layers (that is, the distance between the convex portions 18) is 0.2 ≦ x ≦ 30.
It is preferably nm. If the distance x is less than 0.2 nm, the magnetic coupling state between adjacent convex portions may be strengthened, which may lead to an increase in medium noise. If the distance x exceeds 30 nm, the unit area per unit area is increased. Since the number of magnetic fluxes in 1 may decrease, the output may decrease, so it is preferable to set it within the above range. The distance x is 0.2 ≦ x
More preferably, ≦ 10 nm. The distance x can be measured, for example, by observing a TEM (transmission electron microscope) image of a longitudinal section and an in-plane of the magnetic recording medium on which the magnetic layer 16 is formed. Further, the range of the distance x can be controlled by controlling the shape of the convex portion 12.
【0019】上記磁性層16について更に説明すると、
上述の通り、上記磁性層の平均結晶粒径aは、2nm≦
a≦30nmである。該平均結晶粒径aが2nmに満た
ないと磁性結晶粒の磁性が不安定となる可能性があり、
該平均結晶粒径aが30nmを超えると高記録密度時に
不利となる。ここで、上記平均結晶粒径aとは、上記磁
性層16の個々の凸状部18中における磁性結晶粒の平
均粒径のことである(従って、該凸状部18は、該磁性
結晶粒の集合体である)。なお、図1に示す磁気記録媒
体10における磁性層16では、上記磁性結晶粒20
は、PVD等の薄膜形成手段によって形成された一般的
な磁性層における磁性結晶粒と同様に、柱状構造を有し
ており、その平均粒径は、該柱状構造における横断面の
径に相当する。上記平均結晶粒径aは、例えば、AFM
像やHR−SEM(高分解能走査型電子顕微鏡)像を観
察することにより測定することができる。The magnetic layer 16 will be further described below.
As described above, the average crystal grain size a of the magnetic layer is 2 nm ≦
a ≦ 30 nm. If the average crystal grain size a is less than 2 nm, the magnetism of the magnetic crystal grains may become unstable,
If the average crystal grain size a exceeds 30 nm, it is disadvantageous at high recording density. Here, the average crystal grain size a is the average grain size of the magnetic crystal grains in each convex portion 18 of the magnetic layer 16 (therefore, the convex portion 18 is the magnetic crystal grain). Is a collection of). In the magnetic layer 16 of the magnetic recording medium 10 shown in FIG.
Has a columnar structure similarly to the magnetic crystal grains in a general magnetic layer formed by a thin film forming means such as PVD, and the average grain size corresponds to the diameter of the cross section in the columnar structure. . The average crystal grain size a is, for example, AFM
It can be measured by observing an image or an HR-SEM (high resolution scanning electron microscope) image.
【0020】また、上記磁性層16における上記平均結
晶粒径aは、上述した、上記凸部12の平均直径bとの
間に、b≧2aなる関係を有する。即ち、上述した通
り、該平均結晶粒径a及び該平均直径bは、それぞれ特
定の数値範囲内にあるが、これに加えて、両者の間に相
対的な関係を有する。そして、両者の間に、かかる関係
があることによって、上記凸部12が形成されていない
媒体に比べ高記録密度時のノイズが低くなるという効果
が奏される。The average crystal grain size a of the magnetic layer 16 has a relationship of b ≧ 2a with the average diameter b of the protrusions 12 described above. That is, as described above, the average crystal grain size a and the average diameter b are within the respective specific numerical ranges, but in addition to this, there is a relative relationship between them. The presence of such a relationship between the two has an effect of reducing noise at high recording density as compared with a medium in which the convex portion 12 is not formed.
【0021】本発明の磁気記録媒体は、80kfci以
上の高記録密度媒体において特にその効果を発現する。
特に90kfci以上、就中100kfci以上の高記
録密度媒体では、連続した磁性層を形成している媒体と
比べたときのノイズが格段に低くなる。The magnetic recording medium of the present invention exerts its effect particularly in a high recording density medium of 80 kfci or more.
In particular, in a high recording density medium of 90 kfci or more, especially 100 kfci or more, noise is significantly lower than that of a medium having a continuous magnetic layer.
【0022】上記磁性層16は、公知の薄膜形成手段、
例えば、蒸着法、スパッタリング法及びイオンプレーテ
ィング法のようなPVDや、CVDにより形成すること
ができる。また、上記磁性層16を構成する材料として
は、例えばCoCr、CoNi、CoCrX、CoCr
PtX、CoSm、CoSmX、CoNiX及びCoW
X(ここで、Xは、Ta、Pt、Au、Ti、V、C
r、Ni、W、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、
Eu、Li、Si、B、Ca、As、Y、Zr、Nb、
Mo、Ru、Rh、Ag、Sb及びHf等からなる群よ
り選ばれる1種又は2種以上の金属を示し、組成物中同
一元素の組合せは除く)等で表されるCoを主成分とす
るCo系の磁性合金や、Ba−フェライト、Sr−フェ
ライト、γ−フェライト及びCo−γ−フェライト等の
フェライト系磁性体等を好ましく挙げることができる。
使用に際しては、これらを単独で又は2種以上組み合わ
せて用いることができる。The magnetic layer 16 is formed by a known thin film forming means,
For example, PVD such as a vapor deposition method, a sputtering method, and an ion plating method, or CVD can be used. In addition, examples of the material forming the magnetic layer 16 include CoCr, CoNi, CoCrX, and CoCr.
PtX, CoSm, CoSmX, CoNiX and CoW
X (where X is Ta, Pt, Au, Ti, V, C
r, Ni, W, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm,
Eu, Li, Si, B, Ca, As, Y, Zr, Nb,
Mo, Ru, Rh, Ag, Sb, Hb, and the like, showing one or more metals selected from the group consisting of Hf, etc., and containing Co as a main component) Preferable examples include Co-based magnetic alloys and ferrite-based magnetic materials such as Ba-ferrite, Sr-ferrite, γ-ferrite, and Co-γ-ferrite.
Upon use, these can be used alone or in combination of two or more.
【0023】次に、本発明の磁気記録媒体を、図2に示
すその好ましい実施例に基づき説明する。なお、図1と
同じ点については特に詳述しないが、図1に関して詳述
した説明が適宜適用される。また、図2において図1と
同じ部材については、図1と同じ符号を付した。Next, the magnetic recording medium of the present invention will be described based on its preferred embodiment shown in FIG. Note that the same points as those in FIG. 1 will not be described in detail, but the description in detail regarding FIG. Further, in FIG. 2, the same members as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals as those in FIG.
【0024】図2に示す磁気記録媒体10は、非磁性基
板14上に金属M2 (M2 はカーバイド形成能を有する
金属)を構成要素とする層22が設けられ、該層22上
に、上記非磁性基板14の面方向において連続している
凸部12が設けられている。そして、該凸部12上に
は、アモルファス層24が設けられ、該アモルファス層
24上には、第1下地層26及び第2下地層28が順次
設けられている。更に、該第2下地層28上には、磁性
層16が設けられ、該磁性層16上には、保護層30及
び潤滑剤層32が順次設けられている。In the magnetic recording medium 10 shown in FIG. 2, a layer 22 having a metal M 2 (M 2 is a metal having a carbide forming ability) as a constituent element is provided on a non-magnetic substrate 14, and on the layer 22, Protrusions 12 are provided which are continuous in the surface direction of the non-magnetic substrate 14. An amorphous layer 24 is provided on the convex portion 12, and a first underlayer 26 and a second underlayer 28 are sequentially provided on the amorphous layer 24. Further, the magnetic layer 16 is provided on the second underlayer 28, and the protective layer 30 and the lubricant layer 32 are sequentially provided on the magnetic layer 16.
【0025】図2に示す磁気記録媒体について更に詳述
すると、上記非磁性基板14上に設けられる金属M2 を
構成要素とする層22は、上記凸部12の表面プロフィ
ールを一層好適なものにするために用いられるものであ
る。即ち、上記層22はその表面に微細な凹凸を有する
ように形成されるものであり、この上に上記凸部12が
形成されると、該凸部12の表面には、上記層22によ
る凹凸と該凸部12による凹凸とが複合化した形状が形
成される結果、上記凸部12の表面プロフィールが一層
好適なものとなる。The magnetic recording medium shown in FIG. 2 will be described in more detail. The layer 22 made of metal M 2 provided on the non-magnetic substrate 14 makes the surface profile of the protrusion 12 more preferable. It is used to That is, the layer 22 is formed so as to have fine irregularities on its surface, and when the convex portion 12 is formed thereon, the surface of the convex portion 12 is irregularized by the layer 22. As a result of the formation of a complex shape of the convex and concave portions 12 and the convex and concave portions, the surface profile of the convex portion 12 becomes more preferable.
【0026】上記層22を構成する金属M2 は、カーバ
イド形成能を有するものであり、その例は、上記凸部1
2を形成する際に用いられる金属Mと同様である。特に
好ましい金属はTi、Si、Cr若しくはZr又はT
i、Si、Cr若しくはZrを含む合金である。また、
上記層22の厚さは一般に5〜200nmであることが
好ましい。The metal M 2 forming the layer 22 has a carbide forming ability, and an example thereof is the convex portion 1 described above.
It is the same as the metal M used when forming 2. Particularly preferred metals are Ti, Si, Cr or Zr or T
It is an alloy containing i, Si, Cr or Zr. Also,
Generally, the thickness of the layer 22 is preferably 5 to 200 nm.
【0027】また、図2において、符号24で示される
アモルファス層は、好ましくは3B〜5B元素を含有す
るものであり、例えば、B、C、Si、P等から構成さ
れている。該アモルファス層24は、上記凸部12の表
面状態の影響を上層に及ぼさない作用を有する。これに
より、上記凸部12を構成する材料と磁性膜制御用の材
料(即ち、後述する下地層を構成する材料)とを独立に
設計することが容易となる。Further, in FIG. 2, the amorphous layer indicated by reference numeral 24 preferably contains 3B to 5B elements, and is composed of, for example, B, C, Si, P and the like. The amorphous layer 24 has an effect that the upper layer is not affected by the surface condition of the convex portion 12. This makes it easy to independently design the material forming the convex portion 12 and the material for controlling the magnetic film (that is, the material forming the underlayer described later).
【0028】上記アモルファス層24は、上述の作用を
有するものであるから、上記凸部12と上記磁性層16
との間に形成されることが好ましく、特に図2に示すよ
うに、上記凸部12の上(就中、Al−M系合金からな
る上記凸部12の上)に直接形成されることが、角型比
の一層の向上の点から好ましい。Since the amorphous layer 24 has the above-mentioned function, the convex portion 12 and the magnetic layer 16 are provided.
It is preferable that it is formed between the convex portion 12 and the convex portion 12 (particularly, the convex portion 12 made of an Al-M alloy), as shown in FIG. It is preferable from the viewpoint of further improving the squareness ratio.
【0029】上記アモルファス層24の形成方法には特
に制限は無く、例えば、該アモルファス層24としてア
モルファスカーボン層を用いる場合には、炭素材をター
ゲットとしたPVDにより形成することができる。該炭
素材としては、黒鉛のような結晶性炭素材を使用するこ
ともできるが、ガラス状の炭素材を使用することが好ま
しい。また、上記炭素材が、Si、Ti、W、Zr、C
r、Nb、Mo、Ta又はAl等の炭化物、窒化物、ホ
ウ化物又は酸化物、或いはBN又はB4 C等のセラミッ
クス粒子を含有することも好ましい。上記アモルファス
層の厚さは、一般に5〜50nmであることが好まし
い。The method for forming the amorphous layer 24 is not particularly limited. For example, when an amorphous carbon layer is used as the amorphous layer 24, it can be formed by PVD using a carbon material as a target. A crystalline carbon material such as graphite can be used as the carbon material, but a glassy carbon material is preferably used. Further, the carbon material is Si, Ti, W, Zr, C.
It is also preferable to contain a carbide, nitride, boride or oxide such as r, Nb, Mo, Ta or Al, or ceramic particles such as BN or B 4 C. Generally, the thickness of the amorphous layer is preferably 5 to 50 nm.
【0030】次に、上記アモルファス層24上に順次設
けられる上記第1下地層26及び第2下地層28につい
てそれぞれ説明すると、該第1下地層26は、媒体ノイ
ズを一層低減化せしめる目的で設けられるものであり、
Ti又はTi合金から構成されるものであることが好ま
しい。一方、上記第2下地層28は、上記磁性層16の
静磁気特性の向上を目的として設けられるものであり、
この目的のために、その材質としては該磁性層16を構
成する物質の格子定数に近いものを用いることが好まし
い。特に、該第2下地層28は、Cr又はCrを含む二
元合金からなることが静磁気特性の向上と共に媒体ノイ
ズの低減化の点から好ましい。該Crを含む二元合金の
例としては、CrTi、CrMo、CrW、CrNb、
CrSi、CrCo、CrTa等を挙げるこができる。
上記第1下地層26及び第2磁性層の厚さは、それぞれ
5〜200nm及び5〜150nmであることが好まし
い。なお、上記第1下地層26及び第2下地層28は、
共に、例えばPVD等により形成することができる。Next, each of the first underlayer 26 and the second underlayer 28 which are sequentially provided on the amorphous layer 24 will be described. The first underlayer 26 is provided for the purpose of further reducing the medium noise. That is
It is preferably composed of Ti or a Ti alloy. On the other hand, the second underlayer 28 is provided for the purpose of improving the magnetostatic characteristics of the magnetic layer 16.
For this purpose, it is preferable to use a material having a lattice constant close to that of the substance forming the magnetic layer 16. In particular, it is preferable that the second underlayer 28 is made of Cr or a binary alloy containing Cr from the viewpoint of improving magnetostatic characteristics and reducing medium noise. Examples of the binary alloy containing Cr include CrTi, CrMo, CrW, CrNb,
Examples thereof include CrSi, CrCo, CrTa, and the like.
The thicknesses of the first underlayer 26 and the second magnetic layer are preferably 5 to 200 nm and 5 to 150 nm, respectively. The first base layer 26 and the second base layer 28 are
Both can be formed, for example, by PVD or the like.
【0031】次に、上記磁性層16上に設けられる上記
保護層30について説明すると、該保護層30は、耐摩
耗性の観点から力学的強度の高い材料で形成されている
ことが好ましく、具体的な材質としては、例えば、A
l、Si、Ti、Cr、Zr、Nb、Mo、Ta、W等
の金属の酸化物(酸化ケイ素、酸化ジルコニウム等);
該金属の窒化物(窒化ホウ素等);該金属の炭化物(炭
化ケイ素、炭化タングステン等);ダイヤモンドライク
カーボン等のカーボン(炭素)及びボロンナイトライド
等からなる群より選択される一種以上が用いられること
が好ましい。また、上記材料の中でも、カーボン、炭化
ケイ素、炭化タングステン、酸化ケイ素、酸化ジルコニ
ウム、窒化ホウ素又はこれらの複合材料が好ましく、更
に好ましくはカーボンであり、中でも特にダイヤモンド
ライクカーボン及びガラス状カーボンが好ましい。な
お、カーボンの保護層の成膜時にガスとして水素やメタ
ン等の炭化水素を混入させ、水素化カーボンの保護層と
なしてもよい。上記保護層30の厚さは、一般に5〜2
5nmであることが好ましい。なお、上記保護層30
は、PVD等により形成することができる。Next, the protective layer 30 provided on the magnetic layer 16 will be described. The protective layer 30 is preferably made of a material having high mechanical strength from the viewpoint of wear resistance, and concretely, As a typical material, for example, A
1, oxides of metals such as Si, Ti, Cr, Zr, Nb, Mo, Ta and W (silicon oxide, zirconium oxide, etc.);
One or more selected from the group consisting of a nitride (boron nitride, etc.) of the metal; a carbide (silicon carbide, tungsten carbide, etc.) of the metal; carbon (carbon) such as diamond-like carbon and boron nitride. It is preferable. Among the above materials, carbon, silicon carbide, tungsten carbide, silicon oxide, zirconium oxide, boron nitride or a composite material thereof is preferable, carbon is more preferable, and diamond-like carbon and glassy carbon are particularly preferable. It should be noted that hydrocarbon such as hydrogen or methane may be mixed as a gas at the time of forming the carbon protective layer to form a hydrogenated carbon protective layer. The thickness of the protective layer 30 is generally 5 to 2
Preferably it is 5 nm. The protective layer 30
Can be formed by PVD or the like.
【0032】次に、上記保護層30上に設けられる上記
潤滑剤層32について説明すると、該潤滑剤層32は、
磁気記録媒体の走行性及び耐久性を向上させるために用
いられるものであり、例えば厚さが5〜100Å程度に
なるように潤滑剤をスピンコーティング、ディップコー
ティング、スプレーコーティング等の塗布手段で塗布す
る方法や、フッ化炭素系化合物と酸素とを気相重合(特
に光CVD)する方法(例えば、特願平6−28694
0号記載の方法等)により形成することができる。該潤
滑剤としては、フッ素系高分子を好適に用いることがで
きる。該フッ素系高分子としては、分子中に極性基を有
するもの及び極性基を有しないものの双方を単独で又は
組み合わせて用いることができる。分子中に極性基を有
する上記フッ素系高分子としては、分子量が2000〜
4000のパーフロロポリエーテル系の高分子であっ
て、末端に芳香族環又はOH基を有するものが好ましく
用いられる。より詳細には、−(CF2 CF2 O)n−
(CF2 O)m−骨格を有し、末端に芳香族環又はOH
基を有し、且つ分子量が2000〜4000であるもの
が好ましい。具体例としては、フォンブリンAM200
1、フォンブリンZ−dol(アオジモント社)等が挙
げられる。一方、分子中に極性基を有しない上記フッ素
系高分子としては、分子量が2000〜10000のパ
ーフロロポリエーテル系の高分子であって、末端にパー
フルオロアルキル基を有するものが好ましく用いられ
る。より詳細には、CF3 −(CF2 CF2 O)n−
(CF2 O)m−CF3 で表わされ、分子量が2000
〜10000であるものが好ましい。具体例としては、
フォンブリンZ03(アオジモント社)等が挙げられ
る。Next, the lubricant layer 32 provided on the protective layer 30 will be described.
It is used for improving the running property and durability of the magnetic recording medium. For example, a lubricant is applied by a coating means such as spin coating, dip coating, or spray coating so as to have a thickness of about 5 to 100Å. Method or a method of vapor phase polymerization (especially photo-CVD) of a fluorocarbon compound and oxygen (for example, Japanese Patent Application No. 6-28694).
No. 0) and the like). As the lubricant, a fluoropolymer can be preferably used. As the fluorine-based polymer, both those having a polar group in the molecule and those not having a polar group can be used alone or in combination. The fluoropolymer having a polar group in the molecule has a molecular weight of 2000 to
A 4000 perfluoropolyether polymer having an aromatic ring or an OH group at its terminal is preferably used. More particularly, - (CF 2 CF 2 O ) n-
(CF 2 O) m-skeleton with an aromatic ring or OH at the end
Those having a group and having a molecular weight of 2000 to 4000 are preferable. As a specific example, the Fomblin AM200
1, Fomblin Z-dol (Aojimont) and the like. On the other hand, as the fluoropolymer having no polar group in the molecule, a perfluoropolyether polymer having a molecular weight of 2000 to 10000 and having a perfluoroalkyl group at the terminal is preferably used. More specifically, CF 3 - (CF 2 CF 2 O) n-
It is represented by (CF 2 O) m-CF 3 and has a molecular weight of 2000.
It is preferably from 1 to 10,000. As a specific example,
Fomblin Z03 (Aozimont) and the like can be mentioned.
【0033】以上、図2に示す本発明の磁気記録媒体の
好ましい実施例について説明したが、本発明の磁気記録
媒体はかかる実施例に限定されるものではなく、種々の
変更態様が可能である。例えば、上記凸部12の上に直
接アモルファス層24を形成した後に、第1下地層26
を設けることなく第2下地層28、磁性層16、保護層
30及び潤滑剤層32を順次形成してもよい。また、上
記凸部12の上に、アモルファス層24を設けることな
く直接第1下地層26を形成した後に第2下地層28、
磁性層16、保護層30及び潤滑剤層32を順次形成し
てもよく、或いは、上記凸部12の上に、アモルファス
層24及び第1下地層26を設けることなく直接第2下
地層28、磁性層16、保護層30及び潤滑剤層32を
順次形成してもよい。Although the preferred embodiment of the magnetic recording medium of the present invention shown in FIG. 2 has been described above, the magnetic recording medium of the present invention is not limited to such an embodiment, and various modifications can be made. . For example, after forming the amorphous layer 24 directly on the convex portion 12, the first base layer 26 is formed.
The second underlayer 28, the magnetic layer 16, the protective layer 30, and the lubricant layer 32 may be sequentially formed without providing the above. In addition, the first underlayer 26 is formed directly on the convex portion 12 without providing the amorphous layer 24, and then the second underlayer 28,
The magnetic layer 16, the protective layer 30, and the lubricant layer 32 may be sequentially formed, or the second underlayer 28 may be directly formed on the convex portion 12 without providing the amorphous layer 24 and the first underlayer 26. The magnetic layer 16, the protective layer 30, and the lubricant layer 32 may be sequentially formed.
【0034】[0034]
【実施例】以下、本発明の磁気記録媒体を具体的な実施
例により、詳細に説明する。EXAMPLES The magnetic recording medium of the present invention will be described in detail below with reference to specific examples.
【0035】〔実施例1〕図2に示す構成の磁気記録媒
体を、下記の手順により作製した。即ち、密度1.5g
/cm3 のアモルファスカーボン基板(サイズ2.
5”)を研磨し、その平均表面粗さRaを0.5〜1.
0nmにした。該カーボン基板を精密洗浄した後、4カ
ソードを有するバッチ式スパッタリング装置内にセット
した。カソードには、5”φ×3mmtのTi、Al、
Si及びCのターゲットをそれぞれ設置した。上記カー
ボン基板を上記スパッタ装置内にセットした後、スパッ
タチャンバー内を排気し3×10-7Torrまで真空に
した。次いで、上記スパッタチャンバー内にArガスを
5mTorrまで導入した後、上記カーボン基板をヒー
ターにより200℃まで加熱し、下記の順に各層の形成
を行った。Example 1 A magnetic recording medium having the structure shown in FIG. 2 was manufactured by the following procedure. That is, density 1.5g
/ Cm 3 of amorphous carbon substrate (size 2.
5 ″) and the average surface roughness Ra thereof is 0.5 to 1.
It was set to 0 nm. After precisely cleaning the carbon substrate, it was set in a batch type sputtering apparatus having four cathodes. For the cathode, 5 "φ x 3 mmt Ti, Al,
Targets of Si and C were set, respectively. After setting the carbon substrate in the sputtering apparatus, the inside of the sputtering chamber was evacuated and evacuated to 3 × 10 −7 Torr. Then, after introducing Ar gas up to 5 mTorr in the sputtering chamber, the carbon substrate was heated to 200 ° C. by a heater to form each layer in the following order.
【0036】(1)Ti層 ・材料 :Ti ・基板バイアス電圧:−100V ・膜厚 :50nm (2)凸部形成層 ・材料 :AlSi10at% ・基板バイアス電圧:−100V ・膜厚 :30nm (3)アモルファス層 ・材料 :C ・基板バイアス電圧:−100V ・膜厚 :20nm(1) Ti layer-Material: Ti-Substrate bias voltage: -100V-Film thickness: 50nm (2) Convex part formation layer-Material: AlSi10at% -Substrate bias voltage: -100V-Film thickness: 30nm (3 ) Amorphous layer-Material: C-Substrate bias voltage: -100V-Film thickness: 20nm
【0037】上記アモルファス層の形成後、Arガスを
止め、上記カーボン基板温度が50℃以下になるまで放
置した。その後、上記スパッタチャンバー内をN2 リー
クし、上記アモルファス層までが形成されたカーボン基
板を取り出した。After forming the amorphous layer, Ar gas was stopped and the carbon substrate was left to stand until the temperature became 50 ° C. or lower. Then, the inside of the sputtering chamber was leaked with N 2 , and the carbon substrate having the amorphous layer formed was taken out.
【0038】次いで、上記スパッタ装置のカソードに、
5”φ×3mmtのTi、Cr、CoCr12Pt8 B4
at%及びCのターゲットをそれぞれ設置した。上記カ
ーボン基板を上記装置内に再びセットした後、上記スパ
ッタチャンバー内を排気し3×10-7Torr以下まで
真空にした。上記スパッタチャンバー内にArガスを5
mTorrまで導入した後、上記カーボン基板をヒータ
ーにより240℃まで加熱し、下記の順に各層の形成を
行った。Then, on the cathode of the above-mentioned sputtering device,
5 "φ x 3 mmt Ti, Cr, CoCr 12 Pt 8 B 4
Targets of at% and C were set, respectively. After the carbon substrate was set in the apparatus again, the inside of the sputter chamber was evacuated and evacuated to 3 × 10 −7 Torr or less. Ar gas 5 in the sputtering chamber
After introducing up to mTorr, the carbon substrate was heated to 240 ° C. by a heater to form each layer in the following order.
【0039】(4)第1下地層 ・材料 :Ti ・基板バイアス電圧:−100V ・膜厚 :50nm (5)第2下地層 ・材料 :Cr ・基板バイアス電圧:−100V ・膜厚 :40nm (6)磁性層 ・材料 :CoCr12Pt8 B4 at% ・基板バイアス電圧:−100V ・膜厚 :30nm (7)保護層 ・材料 :C ・基板バイアス電圧:−100V ・膜厚 :15nm(4) First Underlayer-Material: Ti-Substrate Bias Voltage: -100V-Thickness: 50 nm (5) Second Underlayer-Material: Cr-Substrate Bias Voltage: -100V-Thickness: 40 nm ( 6) magnetic layers and materials: CoCr 12 Pt 8 B 4 at % · substrate bias voltage: -100 V, the film thickness: 30 nm (7) protective layer, materials: C-substrate bias voltage: -100 V, the film thickness: 15 nm
【0040】上記保護層形成後、Arガスを止め、上記
カーボン基板温度が50℃以下になるまで放置した。そ
の後、上記スパッタチャンバー内をN2 リークし、上記
保護層までが形成されたカーボン基板を取り出した。更
に、テープバーニッシュ、続いて潤滑剤フォンブリンA
M2001(アオジモント社製)を2nmの膜厚になる
ように塗布し、図2に示す構成の磁気記録媒体を得た。After forming the protective layer, Ar gas was stopped and the carbon substrate was left to stand until the temperature became 50 ° C. or lower. Then, the inside of the sputtering chamber was leaked with N 2 , and the carbon substrate having the protective layer formed was taken out. In addition, tape burnish, followed by lubricant Fomblin A
M2001 (manufactured by Aojimont Co., Ltd.) was applied to a film thickness of 2 nm to obtain a magnetic recording medium having the structure shown in FIG.
【0041】得られた磁気記録媒体について、以下の評
価を行った。その結果を表1に示す。The following evaluations were carried out on the obtained magnetic recording media. Table 1 shows the results.
【0042】<凸部の平均直径b、及び平均粗さRa>
凸部までが形成されたカーボン基板を約8×8mmの形
状に切り出した後、AFM像により、10×10μmの
サイズにて測定を行った。<Average diameter b of convex portion and average roughness Ra>
After cutting the carbon substrate on which the convex portions were formed into a shape of about 8 × 8 mm, measurement was performed with an AFM image at a size of 10 × 10 μm.
【0043】<磁性層の平均結晶粒径a、及び凸状部間
の距離x>平均結晶粒径aは、磁性層までが形成された
カーボン基板を、AFM像及びHR−SEM像により測
定した。凸状部間の距離xは、磁性層までが形成された
カーボン基板の縦断面のTEM像により測定したした。<Average crystal grain size a of magnetic layer and distance x between convex portions> The average crystal grain size a was measured by AFM image and HR-SEM image of the carbon substrate on which the magnetic layer was formed. . The distance x between the convex portions was measured by a TEM image of a vertical cross section of the carbon substrate on which the magnetic layer was formed.
【0044】<磁気記録媒体の静磁気特性及びノイズ>
磁気記録媒体の静磁気特性は、上記磁気記録媒体を約8
×8mmの形状に切り出した後、VSM(振動試料型磁
力計)にて、最大印加磁界10kOeにて測定を行っ
た。また、磁気記録媒体のノイズの測定は、インダクテ
ィブヘッドを用い、Guzik(記録再生評価装置)、
オシロスコープ、スペクトラムアナライザーにより測定
を行った。<Static Magnetostatic Characteristics and Noise of Magnetic Recording Medium>
The magnetostatic characteristics of the magnetic recording medium are about 8
After cutting into a shape of × 8 mm, measurement was performed with a maximum applied magnetic field of 10 kOe using a VSM (vibrating sample magnetometer). In addition, the noise of the magnetic recording medium is measured by using an inductive head, using a Guzik (recording / reproducing evaluation device),
The measurement was performed with an oscilloscope and a spectrum analyzer.
【0045】〔実施例2〕実施例1で得られた磁気記録
媒体の記録密度を100kfci(最短記録ビット長を
254nm)とした以外は、実施例1と同様の測定を行
った。その結果を表1に示す。Example 2 The same measurement as in Example 1 was carried out except that the magnetic recording medium obtained in Example 1 had a recording density of 100 kfci (the shortest recording bit length was 254 nm). Table 1 shows the results.
【0046】〔実施例3〕凸部形成層のAlSi10a
t%の膜厚を60nmとした以外は、実施例1と同様に
して磁気記録媒体を作製した。この磁気記録媒体につい
て実施例と同様の測定を行った。その結果を表1に示
す。[Embodiment 3] AlSi10a of the convex portion forming layer
A magnetic recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of t% was set to 60 nm. The same measurement as in the example was performed on this magnetic recording medium. Table 1 shows the results.
【0047】〔実施例4〕熱処理炉内にカーボン基板を
設置し、該熱処理炉内を排気し3×10-7Torr以下
まで真空にした。次に、ArとO2 の混合ガスを該熱処
理炉内に30mTorrになるまで導入した。赤外線加
熱ヒーターにより、該熱処理炉内の温度を1000℃ま
で上昇させ、10分間保持した。その後、ArとO2 の
混合ガスの導入を止め、該熱処理炉内が100℃以下に
なるまで温度を下げ、次いで該熱処理炉をN2 リークさ
せ、上記カーボン基板を取り出した。これにより、上記
カーボン基板の表面に一体的に凸部を形成した。凸部形
成後は、実施例1と同様にして、各層を順に形成し、磁
気記録媒体を作製した。この磁気記録媒体について実施
例と同様の測定を行った。その結果を表1に示す。Example 4 A carbon substrate was placed in a heat treatment furnace, and the heat treatment furnace was evacuated to a vacuum of 3 × 10 −7 Torr or less. Next, a mixed gas of Ar and O 2 was introduced into the heat treatment furnace until it reached 30 mTorr. The temperature inside the heat treatment furnace was raised to 1000 ° C. by an infrared heater and held for 10 minutes. After that, the introduction of the mixed gas of Ar and O 2 was stopped, the temperature inside the heat treatment furnace was lowered to 100 ° C. or lower, then the heat treatment furnace was leaked with N 2 , and the carbon substrate was taken out. As a result, convex portions were integrally formed on the surface of the carbon substrate. After forming the protrusions, each layer was sequentially formed in the same manner as in Example 1 to manufacture a magnetic recording medium. The same measurement as in the example was performed on this magnetic recording medium. Table 1 shows the results.
【0048】〔比較例1〕凸部形成層を設けなかった以
外は、実施例1と同様にして磁気記録媒体を作製した。
この磁気記録媒体について実施例と同様の測定を行っ
た。その結果を表1に示す。[Comparative Example 1] A magnetic recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that the convex portion forming layer was not provided.
The same measurement as in the example was performed on this magnetic recording medium. Table 1 shows the results.
【0049】〔比較例2〕比較例1で得られた磁気記録
媒体の記録密度を100kfci(最短記録ビット長を
254nm)とした以外は、実施例1と同様の測定を行
った。その結果を表1に示す。Comparative Example 2 The same measurement as in Example 1 was carried out except that the recording density of the magnetic recording medium obtained in Comparative Example 1 was 100 kfci (the shortest recording bit length was 254 nm). Table 1 shows the results.
【0050】〔比較例3〕凸部形成層のAlSi10a
t%の膜厚を100nmとした以外は、実施例1と同様
にして磁気記録媒体を作製した。この磁気記録媒体につ
いて実施例と同様の測定を行った。その結果を表1に示
す。[Comparative Example 3] AlSi10a of the protrusion forming layer
A magnetic recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of t% was 100 nm. The same measurement as in the example was performed on this magnetic recording medium. Table 1 shows the results.
【0051】〔比較例4〕比較例3で得られた磁気記録
媒体の記録密度を100kfci(最短記録ビット長を
254nm)とした以外は、実施例1と同様の測定を行
った。その結果を表1に示す。Comparative Example 4 The same measurement as in Example 1 was carried out except that the recording density of the magnetic recording medium obtained in Comparative Example 3 was 100 kfci (the shortest recording bit length was 254 nm). Table 1 shows the results.
【0052】[0052]
【表1】 [Table 1]
【0053】表1に示す結果から明らかなように、実施
例1〜4で得られた本発明の磁気記録媒体では、記録密
度100kfci(最短記録ビット長254nm)にお
けるノイズが2.9〜3.4μVrmsと極めて低減化
されていることがわかる。これに対して、凸部が設けら
れていない磁気記録媒体(比較例1及び2)や、凸部の
平均直径bが極めて大きい磁気記録媒体(比較例3及び
4)では、同記録密度におけるノイズが4.1〜4.8
と極めて大きいことがわかる。As is clear from the results shown in Table 1, in the magnetic recording media of the present invention obtained in Examples 1 to 4, noise at a recording density of 100 kfci (shortest recording bit length 254 nm) was 2.9 to 3. It can be seen that it is extremely reduced to 4 μVrms. On the other hand, in the magnetic recording medium having no convex portion (Comparative Examples 1 and 2) and the magnetic recording medium having an extremely large average diameter b of the convex portion (Comparative Examples 3 and 4), noise at the same recording density was used. Is 4.1 to 4.8
It turns out that it is extremely large.
【0054】[0054]
【発明の効果】以上、詳述した通り、本発明の磁気記録
媒体においては、非磁性基板の表面上に凸部を形成し、
この上に磁性層を形成すると共に、該凸部及び該磁性層
を特定の構造とすることにより、高記録密度時のノイズ
を、該凸部が形成されていない磁気記録媒体に比べて極
めて低下させることができる。As described above in detail, in the magnetic recording medium of the present invention, the convex portion is formed on the surface of the non-magnetic substrate,
By forming a magnetic layer on this and forming the convex portion and the magnetic layer into a specific structure, noise at high recording density is significantly reduced as compared with a magnetic recording medium in which the convex portion is not formed. Can be made.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本発明の磁気記録媒体の構造を示す模式図であ
る。FIG. 1 is a schematic view showing a structure of a magnetic recording medium of the present invention.
【図2】本発明の磁気記録媒体の好ましい実施例の構造
を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic view showing the structure of a preferred embodiment of the magnetic recording medium of the present invention.
10 磁気記録媒体 12 凸部 14 非磁性基板 16 磁性層 18 凸状部 20 磁性結晶粒 24 アモルファス層 26 第1下地層 28 第2下地層 30 保護層 32 潤滑剤層 10 magnetic recording medium 12 convex part 14 non-magnetic substrate 16 magnetic layer 18 convex part 20 magnetic crystal grains 24 amorphous layer 26 first underlayer 28 second underlayer 30 protective layer 32 lubricant layer
Claims (5)
に、磁性層が形成されてなる磁気記録媒体において、上
記磁性層の平均結晶粒径a、及び上記凸部の形状を円近
似したときの平均直径bが下記の関係を満たすと共に、
80kfci以上の高記録密度を有し、且つ上記凸部は
上記非磁性基板の面方向において連続していることを特
徴とする磁気記録媒体。 2nm≦a≦30nm 30nm≦b≦400nm b≧2a1. A magnetic recording medium in which a magnetic layer is formed on a non-magnetic substrate having convex portions formed on the surface thereof, and the average crystal grain size a of the magnetic layer and the shape of the convex portions are approximated by a circle. When the average diameter b at the time of satisfying the following relationship,
A magnetic recording medium having a high recording density of 80 kfci or more, and wherein the protrusions are continuous in the plane direction of the non-magnetic substrate. 2 nm ≦ a ≦ 30 nm 30 nm ≦ b ≦ 400 nm b ≧ 2a
において、上記凸部に対応する不連続な凸状部の集合体
である、請求項1記載の磁気記録媒体。2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic layer is an aggregate of discontinuous convex portions corresponding to the convex portions in the surface direction of the non-magnetic substrate.
x≦30nmである、請求項2記載の磁気記録媒体。3. The distance x between adjacent magnetic layers is 0.2 ≦
The magnetic recording medium according to claim 2, wherein x ≦ 30 nm.
B元素を含有するアモルファス層を形成する、請求項1
〜3の何れかに記載の磁気記録媒体。4. Between the convex portion and the magnetic layer 3B-5.
The amorphous layer containing B element is formed.
4. The magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 3.
形成されたAl−M(Mはカーバイド形成能を有する金
属)系合金からなる、請求項1〜4の何れかに記載の磁
気記録媒体。5. The magnetic according to claim 1, wherein the convex portion is made of an Al-M (M is a metal having a carbide forming ability) alloy formed by a physical vapor deposition method. recoding media.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17119895A JPH0927108A (en) | 1995-07-06 | 1995-07-06 | Magnetic recording media |
| GB9612880A GB2302980B (en) | 1995-07-06 | 1996-06-19 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17119895A JPH0927108A (en) | 1995-07-06 | 1995-07-06 | Magnetic recording media |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0927108A true JPH0927108A (en) | 1997-01-28 |
Family
ID=15918841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17119895A Pending JPH0927108A (en) | 1995-07-06 | 1995-07-06 | Magnetic recording media |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0927108A (en) |
-
1995
- 1995-07-06 JP JP17119895A patent/JPH0927108A/en active Pending
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