JPH09273000A - めっき装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】移動体を用いて、高精密微細パターンのめっき
を可能とするめっき装置を提供する。 【解決手段】めっき装置は、 めっき液で満たされため
っき槽13内に、 電極4に接続されて陰極となる被めっき
物10と、 電極11と、 被めっき物10と電極11の間にあっ
て被めっき物側に隣接配設されて被めっき物10のめっき
面に沿って往復動する移動体9と、被めっき物10と電極1
1の間にあって電極側に隣接配設された遮蔽板12とを備
え、移動体9は、移動方向の垂直方向に所定厚みを有
し、めっき面直近におけるめっき液の流れを乱流化する
よう、めっき面から所定間隔を離れたところを所定速度
で移動し、遮蔽板12は、当該遮蔽板の外周を絶縁パッキ
ン24にてめっき液シールされて、めっき槽13に取り付け
られている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板上に金
属皮膜を形成するめっき装置に係り、特にめっき液中に
棒状移動体を有するめっき装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】めっき装置に関する開示された従来技術
としては、特公昭６０−５８７９９号公報による、噴流
又は流れとして被めっき物へ当てて処理面に対する液の
撹拌,更新を行うもの、特開平３−２６２１２４号公報
による、被めっき物を揺動又は振動させめっき液の撹
拌,更新を行うもの、特公昭５５−２３９１９号公報に
よるガス体等によるバブリング撹拌を行うものがある。
また、特開平７−５４１８９号公報による技術は、層流
状態により被メッキ基板上に一様なメッキ膜を得るもの
である。

【０００３】さらに、実開平２−６６６７９号公報によ
る技術では、撹拌棒に傾斜面を形成し、その傾斜面によ
りめっき液を被めっき物へと案内している。また、特開
平３−２９４４９７号公報では、羽根板を駆動してい
る。一方、さらに、特公昭６１−４８５９０号公報に開
示された技術では、電気めっきにおけるめっき面に対す
る電界の均一性を確保するように遮蔽板を設けている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では、いずれもめっき面上でのめっき液の流れを
層流状態としているので、アスペクト比が０．３を越え
るような厳しい微細パターンでは、めっき面全域での溝
または孔等のパターン底部のめっき液の更新、ならびに
バンプ等の微細孔の底に残る気泡の除去が十分でなく、
めっき厚さ精度を１０％以下に抑え、不良個所を低減す
ることは困難である。また、羽根板後方の滞留水の問題
から羽根板の反転動を考慮すると速度は最大でも０．１
ｍ／ｓ程度と遅く、かつ、鍍金面からの距離が最小でも
１０ｍｍと遠く離れていて、最近の半導体素子の微細パ
ターンのめっきに対応することは難しいと思われる。

【０００５】さらにまた、遮蔽板を設けているが、遮蔽
板と処理槽の接続部における電気的絶縁(周辺隙間から
の電気のリーク)についての配慮が無く、その結果、遮
蔽板の孔以外からの電界の回り込みによって膜厚に微細
な変動が生じて、パターンの高精密微細化への対応に課
題が残っている。したがって、本発明の目的は、高精密
微細パターンのめっきを可能とするめっき装置を提供す
るにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の特徴は、めっき液中に被めっき物と移動体とを近接
配し、移動体が被めっき物のめっき面に沿って往復動
し、めっき面に対するめっき液の更新を行うめっき装置
であって、移動体は、移動方向の垂直方向に所定厚みを
有し、めっき面直近におけるめっき液の流れを乱流化す
るよう、めっき面から所定間隔を離れたところを所定速
度で移動するところにある。

【０００７】また、他の特徴は、めっき液で満たされた
めっき槽内に、陰極電極に接続されて陰極となる被めっ
き物と、陽極電極と、該被めっき物と該陽極電極の間に
配設された遮蔽板とを備えるめっき装置において、前記
遮蔽板は、当該遮蔽板の外周をシール体にてめっき液シ
ールされ、めっき槽に取り付けられている点にある。

【０００８】そして、上記目的を達成するめっき装置
は、めっき液で満たされためっき槽内に、陰極電極に接
続されて陰極となる被めっき物と、陽極電極と、該被め
っき物と該陽極電極の間にあって前記被めっき物側に隣
接配設されて前記被めっき物のめっき面に沿って往復動
する移動体と、前記被めっき物と前記陽極電極の間にあ
って前記陽極電極側に隣接配設された遮蔽板とを備える
めっき装置において、前記移動体は、移動方向の垂直方
向に所定厚みを有し、前記めっき面直近における前記め
っき液の流れを乱流化するよう、前記めっき面から所定
間隔を離れたところを所定速度で移動し、前記遮蔽板
は、当該遮蔽板の外周をシール体にてめっき液シールさ
れ、めっき槽に取り付けられているものである。

【０００９】本発明によれば、高精密微細パターンのめ
っきが可能となるめっき装置が提供される。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照し説明する。図１は、本発明による一実
施例のめっき装置を示す断面図である。図１において、
めっき液で満たされためっき槽１３内に、陰極電極とし
ての電極４と接続している被めっき物１０と、移動体と
しての棒状移動体９と、遮蔽板１２と、陽極電極として
の電極１１との配置構成が示されている。そして被めっ
き物１０と遮蔽板１２の間隔ｈ と、遮蔽板１２と電極
１１の間隔ｉ とが示されている。図２は、図１のＡ−
Ａ断面を示す図である。被めっき物１０に対する棒状移
動体９のカバー範囲が示されている。即ち、被めっき物
１０のめっき面寸法〔ａ×ｃ〕に対する棒状移動体 ９
の移動範囲寸法〔ｂ×ｄ〕の関係が示されている。寸法
ｂは、棒状移動体 ９の垂直方向の下端から液面５まで
の移動体の移動長である。寸法ｄは、移動体の移動幅を
表わし、複数本のうちの両端に位置する棒状移動体９の
移動範囲によって、被めっき物１０のめっき面をカバー
する寸法である。なお、ｄ/ｃおよびｂ/ａをカバー率
(％)と定義し、カバー率が100(％)を越えることは、棒
状移動体９の移動範囲が、換言すれば、移動体によって
めっき液の流動状態が乱流化される(流れが乱される)範
囲が、被めっき物１０のめっき面より大きくなっている
ことを指している。

【００１１】図３は、図１のＢ−Ｂ断面を示す図であ
る。 被めっき物１０のめっき面寸法〔ａ×ｃ〕に対す
る遮蔽板１２の孔１２ａの寸法〔ｊ×ｋ〕の関係と、遮
蔽板１２と絶縁パッキン２４との配置構成が示されてい
る。即ち、絶縁パッキン２４は上部を除く遮蔽板１２の
外周に設けられて、遮蔽板１２を絶縁支持している。図
４は、図２の Ｃ−Ｃ 断面を示す拡大図である。棒状移
動体９の寸法〔ｅ×ｇ〕と、棒状移動体９と被めっき物
１０との間隙ｆ(即ち、めっき面から所定間隔を離すた
めの間隙ｆ)と、被めっき物１０の表面に被覆されてい
る被膜２２の厚さ寸法ｍ (即ち、めっきパターンの深さ
ｍ)と、被膜２２に開いている微小溝３０(または微小
孔)の寸法ｐ (即ち、被めっきパターンの幅ｐ) とが示
されている。寸法ｇは、棒状移動体９の移動方向の幅で
あり、寸法ｅは、棒状移動体９の被覆膜２１を含む厚さ
(即ち、移動方向に対する垂直方向の所定厚みｅ)であ
る。尚、厳密に言えば、間隙ｆは棒状移動体９と被膜２
２との間隙であるが、間隙ｆ(mm)に対し被膜２２の厚さ
ｍ(μm)が非常に小さいので、棒状移動体９と被めっき
物１０との間隙と見做しても可である。

【００１２】図１〜図４を同時に参照し、本実施例のめ
っき装置の構成について説明する。めっき槽１３の中に
はめっき液が液面５まで満たされ、電源１に電線３及び
電極４を介して接続された被めっき物１０と、電源１に
電線２を介して接続された電極１１との間に、棒状移動
体９と遮蔽板１２とが配置されている。そして、被めっ
き物１０は支持器１４によって支持され、カバー２５が
該支持器１４に取り付けられ、該カバー２５は被めっき
物１０の裏面１０ａへのめっき液の廻り込みを防止して
いる。めっき液は、めっき槽１３の底部管２６よりスリ
ットを介してめっき槽１３内に供給され、遮蔽板１２の
孔１２ａを通り電極１１側のめっき槽１３の側壁を越え
て排出管２７より流出し、貯槽(図示せず)，ポンプ(図
示せず)，フイルタ(図示せず)を介して再度、底部管２
６に導かれて、循環する構成になっている。

【００１３】本実施例では、三本の棒状移動体９が使用
され、棒状移動体９の下端は梁１５で連接補強され、液
面５から突き出ている棒状移動体９の上端はボルト６と
ホルダ７を介して軸８に固定されている。軸８は、めっ
き槽１３に設けた二つの軸受１６により軸支され、モー
タ(図示せず)により回転する円盤２０に取り付けられた
ピン１９により、連接棒１８，ピン１７を介して矢印の
Ｘ方向の動作方向に、即ち、水平方向に往復動させられ
ている。そして、軸８の往復動に伴って棒状移動体９が
被めっき物１０のめっき面に沿って往復動する。 本
実施例では、軸８に固定されている棒状移動体９の水平
方向に往復動する所定速度としての移動速度ｖは、円盤
２０の回転中心からピン１９の中心までの距離をｒ
[ｍ]、円盤の回転数ｎ[回転数／ｓ]とすると、ｖ≒２π
ｒｎ[ｍ／ｓ]の式で表わされる。

【００１４】次に、本発明によるめっき装置の特徴につ
いて説明する。図５は、めっき作業の不具合例を示す断
面図である。図５(ａ)に示しためっき金属２３ａは、気
泡，異物等のよる欠陥孔２９を有する不具合現象例であ
る。図５(ｂ)に示しためっき金属２３ｂは、過剰撹拌ま
たはめっき液異状等による中央部凹みを有する不具合現
象例である。図５(ｃ)に示しためっき金属２３ｃは、壁
面濡れ性不足による周辺部凹みを有する不具合現象例で
ある。これらの不具合に対して対処できるものが、本実
施例に示す特徴からなる棒状移動体構成ならびに遮蔽板
構成である。これについて図４，図６〜図８，図１０を
参照し説明する。

【００１５】本実施例のめっき装置は、図４に示すよう
に、めっき金属２３が、被めっき物１０の表面に被覆さ
れた被膜２２が有する微小溝３０の底部にまで達し、即
ち、底にある導電性材からなる下地膜２８を完全に覆っ
てめっきを施すものである。換言すれば、図４におい
て、被めっき物１０の被膜２２との間に適切な間隙ｆを
有して近接している適切な厚さｅを有する棒状移動体９
が、軸８の駆動により適切な移動速度ｖで移動し、該移
動する棒状移動体９がめっき液を適切に撹拌することに
よって、被めっき物１０の広い表面のめっき液が、速や
かにかつ連続的に、微小溝３０の底にまで供給され、い
わゆるめっき液が更新され、さらに、液圧の変動によっ
てめっき面に付着している気泡等が排除され、全ての微
小溝３０の底部までめっき金属２３を施すことが可能と
なり、安定しためっき面が得られるものである。

【００１６】なお、棒状移動体９の外表面は、テフロン
などの樹脂材からなる適当な厚さと滑らかな表面を有す
る被覆膜２１が施されている。これは、めっき液及びめ
っき洗浄薬液によって、一般に金属材から構成される当
該棒状移動体９が腐食されるのを防止するために、耐薬
品性の非金属被膜からなる被覆膜である。特に、後述す
るように本発明による適切な移動速度ｖは、従来技術の
移動速度ｖより５倍から１０倍位も大きくなることもあ
り、腐食促進に対する防備の点で有効である。

【００１７】次に、めっき面近傍のめっき液の流れ(め
っき液の流動状態)を激しくすると共に、めっき面直近
での液の流れの乱れを利用して、孔または溝の底部まで
めっき液を到達させめっき液を更新すると同時に、気泡
等の障害物を除去することができるような、厚さｅ，間
隙ｆ，移動速度ｖなどの関係について、具体的に検討し
た結果について説明する。

【００１８】図６は、図１に示す実施例のめっき装置に
おける間隙ｆとめっき不良率の関係を示す図である。即
ち、被めっき物１０のめっき面寸法〔ａ×ｃ〕は、最大
３００×最大３００(ｍｍ)、棒状移動体９の移動速度ｖ
は０．５(ｍ/s)、棒状移動体９の厚みｅは１０(ｍｍ)と
した場合の本実施例による、間隙ｆと不良率の関係を示
したものである。

【００１９】図６に示すように本実施例によれば、被め
っき物１０との間隙ｆが、５(ｍｍ)以下の範囲と小さい
ほどめっき不良率が低下する。反対に５(ｍｍ)以上の範
囲では、従来技術と同程度の不良率であり、不良率低減
効果がないことが判明した。

【００２０】そして、移動速度ｖを変化させて不良率低
減の効果を確認した結果では、棒状移動体９の移動速度
ｖが、０．０５ｍ/s以下と低速すぎると、流れが従来技
術と同様に層流化されて効果がなくなる。一方、高速す
ぎると１ｍ/s付近から、めっき厚さのバラツキが増加し
始めることも判明した。この理由としては、実験装置の
構造の影響やパターンの形状等の差も有るが、高速移動
によるめっき液の流動状態が激しくなり過ぎて、逆にバ
ラツキが拡大したものと推考される。

【００２１】種々検討した結果から、棒状移動体９の移
動速度ｖは、０．１〜１(ｍ/s)が良いことが判明した。
さらに、好ましくは、不良率が安定して低減することの
理由から、０．２〜０．７(ｍ/s)の範囲が良いことが判
明した。

【００２２】従来は、被膜２２の接着強度の問題等から
液の流れを極端に変動させることは避けていたが、当発
明者らの検討により、被膜２２の剥離を生じない程度
で、かつキャビテーション等を発生させない範囲内で、
出来る限り早く液を掻き混ぜる方法が、めっき面のめっ
き金属２３の厚さのバラツキを少なくするということが
判明した。すなわち、被めっき物１０に対面している側
の棒状移動体９の面あるいは角部で、めっき液の速い流
れ及びめっき液の粘性による被めっき物１０のめっき面
近傍における流れの微妙な乱れと圧力の変化を発生させ
るので、めっき孔内の気泡等を除去する働きが有ること
の知見を得た。換言すれば、めっき面直近におけるめっ
き液の流れを乱流化することが重要であることが判明し
た。なお、この「めっき面直近におけるめっき液の流れ
を乱流化する」とは、「層流境界層が剥離して乱流境界層
が形成された状態、ならびにキャビテーションが発生し
ない程度に圧力が変化した状態にあること」と推考す
る。

【００２３】図７は、図１に示す実施例のめっき装置に
おける比ｅ／ｆとめっき不良率の関係を示す図である。
すなわち、めっき面寸法〔ａ×ｃ〕は最大３００×最大
３００(ｍｍ)、移動速度ｖは０．１(ｍ/s)、間隙ｆを１
(ｍｍ)とした場合の本実施例による、比ｅ／ｆ(棒状移
動体９の被覆膜２１を含む厚さｅと間隙ｆの比)と、不
良率との関係を示したものである。当発明者らの検討結
果から、比ｅ／ｆが１以下の範囲では、めっき面に対す
る撹拌の効果が薄くなり、不良率が低下しないことが判
明した。したがって、比ｅ/ｆは１以上の範囲が良いと
言える。

【００２４】また、比ｅ／ｆが１０付近を越えそれ以上
に大きくなるに連れ、不良率が増加することが判明し
た。この理由は、間隙ｆにおけるめっき液の流速が増加
し過ぎて、前述した棒状移動体９の移動速度ｖが上限速
度を越える領域と同様の現象が発生しているものと推考
する。したがって、比ｅ／ｆは、１〜１０の範囲が好ま
しいことが判明した。その理由は、比ｅ／ｆと移動速度
ｖとの関係により、めっき液に微妙な流れの乱れを適切
に生じさせ、連続的に効率の良いめっき液更新ができる
からであると言える。尚、図６から求められる「比ｅ／
ｆと不良率との関係」も、上記図７の関係と同じ傾向を
示していることが判る。

【００２５】図８は、図１に示す実施例のめっき装置に
おけるカバー率ｄ/ｃ及びｂ/ａとめっき不良率の関係を
示す図である。図において、１１０(％)位を境として１
１０(％)以下の範囲では、めっき面の周辺に気泡，めっ
き厚の変動等の欠陥が生じるので、不良率が増加する傾
向にある。そしてまた、１１０(％)以上の範囲では、不
良率はカバー率に関係なく一定になることが判明した。
なお、上限のカバー率の範囲は、めっき装置の実用寸法
から自ずから制限されることは言うまでもない。この結
果から、棒状移動体９のカバーする範囲は、カバー率が
１１０(％)以上から実用上の上限カバー率までの範囲と
することが望ましいと言える。さらに、後述するよう
に、棒状移動体９の移動ストロークＳt寸法と棒状移動
体９の幅ｇを含む設置スパンＬs寸法とが重ならない範
囲であることが望ましいと言える。

【００２６】以上を纏めると次の通りである。広いめっ
き面に対するめっき液供給の均一化には、マスク材等の
被膜剥離を生じない程度で、且つ、出来るだけ早い動き
でめっき面直近の液を移動更新させる方が良い。しかし
その一方で、移動体の動きによって生じるめっき液の激
しい流れやキャビテーションに起因する基盤表面のマス
ク材等の剥離を起こさない程度に液の流れを乱すため
の、移動体の移動速度ｖと、移動体の厚さｅと、被めっ
き物と移動体との間隙ｆとの、これらの関係を適切に選
択し、めっき面上での液の撹拌と液流及び液圧の変動を
生じさせ、アスペクト比の高い微細パターンにおいて
も、めっき液の更新を速やかに行うと共に、気泡等の障
害物の除去,排出を行い、高精度の不良が少ないめっき
を可能とするものである。

【００２７】ところで、移動体を複数本設けた場合の留
意点として、次の事項があることが判明した。すなわ
ち、移動体が往復動し反転するときに、一時的ではある
が移動体はめっき液中で停止する。この停止により、停
止した移動体が一時的ではあるが電界の妨げとなる。し
たがって、移動ストロークＳtが、図２に示す設置スパ
ンＬsの整数倍に一致している場合は、往復の間に２回
停止する移動体の停止位置が重なり、重なった部位は他
の重ならない部位に比べて、停止した移動体による電界
を妨げる時間が２倍になり、該他の部位との受電界量の
偏差が更に拡大して、重なった部位に対面する被めっき
物のめっき厚さが減少する。

【００２８】この弊害を防止するには、移動体の停止位
置がめっき面上にない構造、即ち、移動体を一本にする
のが良い。しかしながら、複数本にした場合は、ストロ
ークと設置スパンをずらすことが良いことが判明した。
すなわち、複数本の往復動する移動体が反転するときに
一時的に停止する当該移動体の各停止位置は、該往時の
各停止位置と該復時の各停止位置とが重ならない関係に
する。好ましくは、ストロークは設置スパンＬsの「整数
の２／３倍」に設定することが良いことも判明した。勿
論、各設置スパンＬsをそれぞれ異なる寸法にして重な
らない関係にするも可である。

【００２９】さらにまた、本明細書において図説してい
ないが、図４に示した棒状移動体９の幅ｇは、電気めっ
き等では電界線の妨げになるために狭いほど良いことが
判明した。しかしながら、棒状移動体９の棒厚さｅに対
する棒幅ｇが短すぎる場合には、強度的な問題以外に移
動速度ｖが高速の場合に棒状移動体９の後方に渦が発生
し振動等の原因になり、さらに超高速の場合にはキャビ
テーションが発生し、被膜２２等の剥離の原因となるこ
とも判明している。従って、棒状移動体９については、
図４に示した矩形断面形状の移動体のほかに、例えば、
楕円形，菱形，十字形などの断面形状に応じて、移動速
度ｖと厚さｅと間隙ｆの関係、あるいは移動速度ｖと厚
さｅと幅ｇの関係が適切に選定されなければならないこ
とが判明している。

【００３０】尚、参考に記述すれば、検討した供試品の
アスペクト比は、０．１〜２．３の範囲にあり、平均ア
スペクト比は１．１であった。また、棒状移動体の厚さ
ｅは４〜５０(mm)の範囲とし、間隙ｆは０．５〜１５(m
m)の範囲とした。 さらに、めっき液は、一般的に用い
られているノンシアン金めっき液を使用した。

【００３１】次に、図３に戻って、絶縁パッキン２４の
作用と効果について説明する。一般に電気めっきでは、
電極１１と被めっき物１０の形状や大きさ等の相違によ
り、めっき面上での電界分布にバラツキが発生し、めっ
き厚さのバラツキに結び付くことは知られていて、この
ために、被めっき物１０に合わせた孔１２ａを設けた遮
蔽板１２を取り付ける方法がなされている。しかし、上
記以外の電界分布のバラツキとして、遮蔽板１２をめっ
き槽１３に取り付ける際の、遮蔽板１２の外周とめっき
槽１３の隙間から、めっき液を介しての電界の廻り込み
(電界漏れ)があり、新たにこの電界漏れがバラツキに結
び付いていることが判明した。

【００３２】従って、本実施例では、図３に示すような
構成のように、合成樹脂製絶縁材などから成るシール体
としての絶縁パッキン２４を設け、めっき液シールする
ことにより、遮蔽板１２の外周からの電界の廻り込みを
防ぎ(電界漏れを遮断し)、遮蔽板１２の孔１２ａでの電
界制御をより完全なものにして、広い面を高精度で均一
にめっきすることを可能にしたものである。したがっ
て、前述の棒状移動体９の適切な移動と共に、絶縁パッ
キン２４による電界漏れ防止を採用すれば、さらに、半
導体めっきにおける高精度化を達成することができると
言える。

【００３３】次に、被めっき物１０と遮蔽板１２の間隔
ｈと、被めっき物１０と遮蔽板１２の孔１２ａの寸法比
ｊ／ａまたはｋ／ｃとの関係について、説明する。図９
は、図１に示す実施例のめっき装置における間隔ｈと寸
法比ｊ／ａまたは比ｋ／ｃの関係を示す図である。 図
３に示した被めっき物１０の縦ａと遮蔽板１２の孔１２
ａの縦ｊの縦寸法比、ならびに、横ｃと横ｋの横寸法比
と、図１に示した遮蔽板１２と被めっき物１０間の距離
ｈとの関係についての調査結果を示している。

【００３４】図９から、比ｊ／ａ及び比ｋ／ｃが小さく
なるほど、間隔ｈを大きくする必要があることが判明し
た。しかし、間隔ｈには制約があり、大きくするにして
も間隔ｈは、約１０〜３０(mm)の範囲までが不良率低減
の効果から望ましいことも判明している。また、図９に
示した本実施例の場合は、遮蔽板１２と電極１１との間
隔ｉが、充分近づいている状態で設置された例である。
電極１１は、遮蔽板１２の孔に対して充分大きな面積
のものを使用し、板状でも網状でも表面積が同等であれ
ば大差は無いことも判明した。

【００３５】

【発明の効果】本発明によれば、棒状移動体により被め
っき物の表面近傍のめっき液を適切に撹拌して、めっき
面に接するめっき液を間断無く更新すると共に、狭隘部
及び小径孔の気泡によるめっき欠陥を防止して、安定し
ためっき面を得るに好適なめっき装置が提供される。

【００３６】具体的には、最近の半導体装置の進歩に伴
う微細パターン加工技術ニーズは、アスペクト比が１．
０を越えるめっきにまで拡がる状況にあり、この様なニ
ーズに応え、めっき個所を無数に有する基板の全面に亘
り、１０(％)以内のめっき厚さ精度を確保するに本発明
は効果のあるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による一実施例のめっき装置を示す断面
図である。

【図２】図１のＡ−Ａ断面を示す図である。

【図３】図１のＢ−Ｂ断面を示す図である。

【図４】図２のＣ−Ｃ断面を示す拡大図である。

【図５】めっき作業の不具合例を示す断面図である。

【図６】図１に示す実施例のめっき装置における間隙ｆ
とめっき不良率の関係を示す図である。

【図７】図１に示す実施例のめっき装置における比ｅ／
ｆとめっき不良率の関係を示す図である。

【図８】図１に示す実施例のめっき装置におけるカバー
率ｄ/ｃ及びｂ/ａとめっき不良率の関係を示す図であ
る。

【図９】図１に示す実施例のめっき装置における間隔ｈ
と寸法比ｊ／ａまたはｋ／ｃの関係を示す図である。

【符号の説明】

１…電源、２，３…電線、４，１１…電極、５…液面、
６…ボルト、７…ホルダ、８…軸、９…棒状移動体、１
０…被めっき物、１０ａ…裏面、１２…遮蔽板、１２ａ
…孔、１３…めっき槽、１４…支持器、１５…梁、１６
…軸受、１７…ピン、１８…連接棒、１９…ピン、２０
…円盤、２１…被覆膜、２２…被膜、２３，２３ａ，２
３ｂ，２３ｃ…めっき金属、２４…絶縁パッキン、２５
…カバー、２６…底部管、２７…排出管、２８…下地
膜、２９…欠陥孔、３０…微小溝

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 椎名 宏美 茨城県日立市弁天町三丁目10番２号 日立 協和工業 株式会社内 (72)発明者 江口 武也 茨城県日立市弁天町三丁目10番２号 日立 協和工業 株式会社内 (72)発明者 土屋 正利 茨城県日立市弁天町三丁目10番２号 日立 協和工業 株式会社内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】めっき液中に被めっき物と移動体とを近接
   配し、前記移動体が前記被めっき物のめっき面に沿って
   往復動し、前記めっき面に対する前記めっき液の更新を
   行うめっき装置であって、 前記移動体は、移動方向の垂直方向に所定厚みを有し、
   前記めっき面直近における前記めっき液の流れを乱流化
   するよう、前記めっき面から所定間隔を離れたところを
   所定速度で移動することを特徴とするめっき装置。
2. 【請求項２】請求項１において、前記所定速度は、０．
   １〜１(ｍ/s)の範囲にあり、前記所定厚みｅ(ｍｍ)と前
   記所定間隔ｆ(ｍｍ)との比ｅ／ｆは、１〜１０の範囲に
   あることを特徴とするめっき装置。
3. 【請求項３】請求項１または請求項２において、前記移
   動体の移動範囲によって前記めっき面をカバーするカバ
   ー率(％)は、１１０(％)以上の範囲であることを特徴と
   するめっき装置。
4. 【請求項４】第１項または第２項または第３項におい
   て、複数本の往復動する前記移動体が反転するときに一
   時的に停止する当該移動体の各停止位置は、往時の各停
   止位置と復時の各停止位置とが重ならない関係にあるこ
   とを特徴とするめっき装置。
5. 【請求項５】めっき液で満たされためっき槽内に、陰極
   電極に接続されて陰極となる被めっき物と、陽極電極
   と、該被めっき物と該陽極電極の間にあって前記被めっ
   き物側に隣接配設されて前記被めっき物のめっき面に沿
   って往復動する移動体と、前記被めっき物と前記陽極電
   極の間にあって前記陽極電極側に隣接配設された遮蔽板
   とを備えるめっき装置において、 前記移動体は、移動方向の垂直方向に所定厚みを有し、
   前記めっき面直近における前記めっき液の流れを乱流化
   するよう、前記めっき面から所定間隔を離れたところを
   所定速度で移動し、 前記遮蔽板は、当該遮蔽板の外周をシール体にてめっき
   液シールされ、前記めっき槽に取り付けられていること
   を特徴とするめっき装置。
6. 【請求項６】請求項１ないし請求項５のいずれか１項に
   おいて、前記移動体は、金属材から構成され、該金属材
   の外表面は、耐薬品性の非金属被膜で被覆されているこ
   とを特徴とするめっき装置。
7. 【請求項７】めっき液で満たされためっき槽内に、陰極
   電極に接続されて陰極となる被めっき物と、陽極電極
   と、該被めっき物と該陽極電極の間に配設された遮蔽板
   とを備えるめっき装置において、 前記遮蔽板は、当該遮蔽板の外周をシール体にてめっき
   液シールされて、前記めっき槽に取り付けられているこ
   とを特徴とするめっき装置。