JPS63118094A - 電気メツキ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電気メッキ装置に関し、詳しくはストリップ
（鋼板素地など）の表面処理のための電気メッキ装Ｍに
関する。

〔従来の技術とその問題点〕

１２．１知のように、メッキ条件の一つの７！！流密度
は、可能な限り大きいことが望ましい。すなわち、（１
）メッキ速度を上昇させ、（２）水素過電圧の上昇によ
り卑な金属を１１流効率よくメッキでき、（３）緻密な
、強度の大きいメッキ膜が作られ、（４）均一電着性が
改善される。しかしながら、使用可能な電流密度の上限
は、電橋近傍の金属イオン量で決まるので、換言すれば
、高電流密度になればなる程、金１イオンが７８７ｐｉ
、から被メッキ面に十分拡散できず、メッキ表面の金属
イオン濃度が低下する。したがって、この拡散層を小さ
くするため、１１が電流密度の増加に有効な手段とされ
ており、ビット発生防止にもを効となっている。

ところで、かかる攪拌手段としては従来より（ａｌ空気
攪１？、（ｂ１機械的攪＋’ｌ’　（プロペラ、陰極揺
動）、（Ｃ１超音波攪拌、ｆｄ＋メッキ液の連続濾過に
よる強制対流などが知られており、特にストリップの電
気メッキ装置では、強制対流による攪拌が主として行わ
れている。

しかしながら、拡散層を小さくするために強制対流を強
化しようとすれば、流速を大きくとり、ひいてはポンプ
容量を大きくしなければならず、また、機械的攪拌では
方向性があったり、局部的な撹拌となる。また、実公昭
５４−１２００７号公報で紹介されているような超音波
攪拌の単独使用では、ストリップの電気メッキ装置に用
いた場合、出力を大きくするとともに設備が大となる。

ｃ問題点を解決するための手段〕 そこで本発明は、かかる従来技術の問題点を一挙に解決
するため創作されたもので、電気メッキのメッキ速度を
向上し、生産性を上げ、工場面積の縮小化ならびに省力
化に資するため、メッキ液の強制対流を施したメッキ槽
でストリップを電気メッキする電気メッキ装置において
、ストリップの表面上に適宜の間隔をおいて超音波振動
子を設け、該ストリップと該振動子との間に、咳据動子
に向け広がった角度を有する小透孔を穿設し陽極板を介
在させた電気メッキ装置を提供する。

〔作　用〕

ストリップを陰極としたメッキ槽に浸を責しながら走行
させ、咳メフキ槽に濾過されたメッキ液を噴出して槽内
のメッキ液を攪拌するとともに、超音波振動子からの超
音波によってもメッキ液を攪拌して、ストリップ表面の
拡散層を可及的に小とするので、電流密度を大としなが
らメッキ速度を向上させることができる。かかる場合、
超音波１辰勤子からの超音波が陽極板によって妨げられ
るので、陽極板に小透孔を穿設して超音波を該小透孔を
透過させストリップに照射させる。かかる超音波の照射
によってメッキ面は斑点模様などの局部的なメッキが形
成されるので、これを防ぐため、超音波振動子に向け広
がった小透孔の傾斜面で、超音波を反射してストリップ
面に均一な攪拌を行う。

〔実施例〕

本発明の構成の詳細を添付図面に示す実施例により説明
する。図示は連続電気メッキラインのメッキ装置を示し
、１はストリップ、２は電解メッキ槽でトレイ式といわ
れる上部開放横形槽を示す。

３．３は上、下陽極、４．４は前後のコンダククロール
、５，５はメッキ液吹出し口、６，６はメッキ液オーバ
フローロを示す、該オーバフローロ６．６からオーバフ
ローしたメッキ液は、適宜のイオン金属濾過装置（図示
せず）を経由して、ポンプＰによりメッキ液吹出し口５
，５より陽極３゜３間に向け吹出すようになっている０
以上の構造は周知の連続電気メッキラインのメッキ装置
を示すものである。

ここにおいて、本実施例は上の陽極３上に１枚の１辰勤
板７を設け、該振動板７上に等間隔に設置された複数の
振動子８，８・・・を設ける。したがって、振動子８に
よる超音波はストリップｌおよび陽極３に垂直に照射す
るようにし、これにより、陰極であるストリップ１およ
び陽極３の分橿作用による電圧降下を抑制することがで
きる。また、下の陽極３も同様の構造としている。

ところで、この超音波の周波１９ｆは、ストリップ１の
電気メッキの場合、以下の範囲が望ましい。

１０ＫＨｚ　≦「≦１０００ＫＨｚ すなわち、１ＯＫＨｚ以下では攪拌効果が少なく、］０
ＯＯＫＨｚ以上ではキャビテーションエロージョンが発
生し、これにより斑点の腐蝕模様が発生する。なお、か
かる周並数ｆは ｆ〜１゜０５ｆ で、超音波発生装置の電圧を変えることにより、連続的
に変調する。これは超音波を一定周波数ｆで行うと、攪
拌の効果が周波数ｆのピークのところで最大となり、そ
れ以外のところではその効果が小さくなるからである。

次に、振動子８とストリップ１の距Ｍｄは、電着性にと
って重要であるが、これは以下のようにすればよいこと
が判明した。すなわち、この距離ｄによって、超音波の
攪拌力が ｄ＃１／４λ　（２ｎ−１） で最大となるため、メッキ金属イオンの濃度勾配をみい
だすことができる。

ただし、 λは超音波の波長（λ・ｆ＝ｃ、ｃは音速）ｎは自然数 したがって、当初、振動子８とストリップ１との距離ｄ
にしておくと、メッキ（金属の析出）が進むと、その厚
さによりピークの位置における距離ｄと実際の距離は一
致しなくなる。すなわちメッキ層の厚さが異なってくる
。そこで、超音波発生装置の電圧を変えることにより、
周波数を変関し、メ・７キが析出しても、その表面に超
音波の効果が最も得られるようにする。また、かかる変
調はメッキ液の圧力変動を生じさせるため、金属イオン
をストリップ表面に供給し、変調しない場合より拡散効
果をあげることができる。

次に、陽極３の表面と振動子８の距離ｄ°にも以下の関
係を成立させ、超音波による共振にて不溶性電極表面に
発生した酸素ガスの離脱を助ける。

ｄ′　ヰλ／４　（２ｎ−１） ただし、 λ、ｎは前記と同様である 更に、上の陽極３は例えば、ステンレス、銅合金等の金
属材料で超音波の反射率の高いもので構成し、その形状
は、第１図および第２図に示すように形成する。該陽極
３にはスリット９を設け、該スリット９はストリップｌ
の走行方向に直角に、かつ、該スリット９の中心線上に
前記振動子８を位置させるよう穿設し、該スリット９を
振動子８に向け広がった角度を有するよう形成し、傾斜
面１０を構成する。その結果、該傾斜面ｌＯで超音波が
反射されるため陽８ｊ３とストリップｌとの間のメッキ
液への影響は、スリット９の開口面積より拡大されるの
で、ストリップ１に対し、局所的な超音波の照射が回避
できる。

以上要するに本発明は、特許請求の範囲に記載された構
成を探択したので以下の効果を奏する。

（発明の効果〕 本発明によれば、電気メッキのメッキ速度を向上し、生
産性を上げ、工場面積の縮小化ならびに省力化を図るこ
とは勿論、特に、ストリップについての電気メッキ装置
は一般に過大になりがちであるが、メッキ液の強制対流
による攪拌作用と超音波による攪拌作用とを組合せたの
で、かかるいずれの装置も過大化を回避でき、メッキ速
度を向上することができる。しかも、ストリップの電気
メッキ装置に使用される陽極に小透孔を穿没し、該小透
孔を超音波振動子に向け広がった角度を形成したので、
超音波の均一な照射ができ、ストリップのメッキ面に斑
点（ピット）などをなくし品質を向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例の概要図、第２図は要部斜視図
を示す。 １・・・ストリップ、２・・・電気メッキ槽、３・・・
陽極、８・・・振動子、９・・・スリット。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. メッキ液の強制対流を施した電気メッキ槽でストリップ
   を電気メッキする電気メッキ装置において、該ストリッ
   プの表面上に適宜の間隔をおいて超音波振動子を設け、
   該ストリップと該振動子との間に、発信子に向け広がっ
   た角度を有する小透孔を穿設した陽極板を介在させたこ
   とを特徴とする電気メッキ装置。