JPH09274066A - 半導体試験装置及びこれを利用した試験方法及び半導体装置 - Google Patents
半導体試験装置及びこれを利用した試験方法及び半導体装置Info
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- JPH09274066A JPH09274066A JP8318269A JP31826996A JPH09274066A JP H09274066 A JPH09274066 A JP H09274066A JP 8318269 A JP8318269 A JP 8318269A JP 31826996 A JP31826996 A JP 31826996A JP H09274066 A JPH09274066 A JP H09274066A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、突起電極を有する半導体装置の試験
及び突起電極の検査の時間短縮及び信頼性を向上させる
ことを課題とする。 【解決手段】半導体試験装置10は、固定治具13に保
持された半導体装置11の降下動作により各突起電極1
2の夫々がフォーミング基板16の上面に形成された各
検査凹部17に嵌合する。この時、各突起電極12の外
観形状及び位置が各検査凹部17との嵌合にり検査され
る。そして、各突起電極12が各検査凹部17内の各測
定端子19に接続され、半導体装置11の電気的動作試
験が行なわれる。このように、半導体装置11の電気的
動作試験と半導体装置11の下面に設けられた複数の突
起電極12の外観形状及び配列位置検査とを同時に行な
うとができるので、試験,検査時間を短縮することがで
きると共に試験,検査の信頼性を高めることができる。
及び突起電極の検査の時間短縮及び信頼性を向上させる
ことを課題とする。 【解決手段】半導体試験装置10は、固定治具13に保
持された半導体装置11の降下動作により各突起電極1
2の夫々がフォーミング基板16の上面に形成された各
検査凹部17に嵌合する。この時、各突起電極12の外
観形状及び位置が各検査凹部17との嵌合にり検査され
る。そして、各突起電極12が各検査凹部17内の各測
定端子19に接続され、半導体装置11の電気的動作試
験が行なわれる。このように、半導体装置11の電気的
動作試験と半導体装置11の下面に設けられた複数の突
起電極12の外観形状及び配列位置検査とを同時に行な
うとができるので、試験,検査時間を短縮することがで
きると共に試験,検査の信頼性を高めることができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体試験装置及び
これを利用した試験方法及び半導体装置に係り、特に突
起電極を有する半導体チップ及び半導体装置の試験に用
いて好適な半導体試験装置及びこれを利用した試験方法
及び半導体装置に関する。
これを利用した試験方法及び半導体装置に係り、特に突
起電極を有する半導体チップ及び半導体装置の試験に用
いて好適な半導体試験装置及びこれを利用した試験方法
及び半導体装置に関する。
【0002】近年、半導体装置の高密度化,高速化,小
型化が要求されており、この要求に対応すべく、パッケ
ージに封止されていない半導体チップ(いわゆるベアチ
ップ)又はBGA(Ball Grid Array)構造の半導体装置
を回路基板上に直接複数個搭載する実装方法が多用され
るようになってきている。
型化が要求されており、この要求に対応すべく、パッケ
ージに封止されていない半導体チップ(いわゆるベアチ
ップ)又はBGA(Ball Grid Array)構造の半導体装置
を回路基板上に直接複数個搭載する実装方法が多用され
るようになってきている。
【0003】この実装方法においては、例えば複数個配
設されるベアチップあるいは半導体装置の内、一つに異
常があれば装置全体が不良品となるため、個々のベアチ
ップあるいは半導体装置に高い信頼性が要求される。そ
こで、個々のベアチップあるいは半導体装置が正常に機
能するか否かを調べる試験が重要な課題となってきてい
る。
設されるベアチップあるいは半導体装置の内、一つに異
常があれば装置全体が不良品となるため、個々のベアチ
ップあるいは半導体装置に高い信頼性が要求される。そ
こで、個々のベアチップあるいは半導体装置が正常に機
能するか否かを調べる試験が重要な課題となってきてい
る。
【0004】
【従来の技術】従来より、下面に球状に突出する突起電
極を有する半導体装置(以下、樹脂封止されていないベ
アチップ及び樹脂封止された半導体装置を総称して「半
導体装置」という)の試験方法として種々の試験方法が
提案されており、また実施されている。
極を有する半導体装置(以下、樹脂封止されていないベ
アチップ及び樹脂封止された半導体装置を総称して「半
導体装置」という)の試験方法として種々の試験方法が
提案されており、また実施されている。
【0005】この種の半導体装置の電気的動作試験を行
う場合、突起電極に試験装置の試験針を接触させるた
め、突起電極をできるだけ変質させずに各突起電極の電
気的接続の試験を行なわなければならず、さらに試験の
信頼性が高く、且つ低コストであることが要求されてい
る。
う場合、突起電極に試験装置の試験針を接触させるた
め、突起電極をできるだけ変質させずに各突起電極の電
気的接続の試験を行なわなければならず、さらに試験の
信頼性が高く、且つ低コストであることが要求されてい
る。
【0006】従来の半導体試験装置としては、例えば半
導体用テストソケットを使用したものがある。この半導
体用テストソケットは、プローブ(試験針)を用いた試
験方法により半導体の電気的動作を試験する構成となっ
ている。この試験法は、半導体装置の下面に形成された
複数の突起電極に対応するよう試験用基板に複数のプロ
ーブを配設しておき、このプローブの先端を直接突起電
極に接触させることにより試験を行う試験方法である。
導体用テストソケットを使用したものがある。この半導
体用テストソケットは、プローブ(試験針)を用いた試
験方法により半導体の電気的動作を試験する構成となっ
ている。この試験法は、半導体装置の下面に形成された
複数の突起電極に対応するよう試験用基板に複数のプロ
ーブを配設しておき、このプローブの先端を直接突起電
極に接触させることにより試験を行う試験方法である。
【0007】すなわち、半導体用テストソケットは、半
導体装置の複数の突起電極と同一の配列に設けられた複
数のプローブを有し、このプローブにはU字状に曲げら
れた撓み部分が設けられている。そして、プローブの先
端が半導体装置の突起電極に当接して押圧されると、撓
み部分が変形して突起電極の損傷を軽減するようになっ
ている。
導体装置の複数の突起電極と同一の配列に設けられた複
数のプローブを有し、このプローブにはU字状に曲げら
れた撓み部分が設けられている。そして、プローブの先
端が半導体装置の突起電極に当接して押圧されると、撓
み部分が変形して突起電極の損傷を軽減するようになっ
ている。
【0008】また、突起電極は半導体装置の下面にマト
リクス状に設けられているため、半導体装置が基板に実
装された状態では各突起電極の接続状態が外部から確認
できないので、実装前に突起電極の寸法、形状を検査す
る必要がある。この種の検査装置としては、例えば光学
的に突起電極の突出高さを測定するものがある。この他
の検査方法としては、検査員の目視により突起電極の形
状をチェックする方法がある。
リクス状に設けられているため、半導体装置が基板に実
装された状態では各突起電極の接続状態が外部から確認
できないので、実装前に突起電極の寸法、形状を検査す
る必要がある。この種の検査装置としては、例えば光学
的に突起電極の突出高さを測定するものがある。この他
の検査方法としては、検査員の目視により突起電極の形
状をチェックする方法がある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来は
半導体装置の電気的な試験と突起電極の形状の検査とを
別々に行っており、検査工程に多くの手間がかかるばか
りか検査終了までの時間が余計にかかるため、検査効率
が低いといった問題があった。
半導体装置の電気的な試験と突起電極の形状の検査とを
別々に行っており、検査工程に多くの手間がかかるばか
りか検査終了までの時間が余計にかかるため、検査効率
が低いといった問題があった。
【0010】また、上記したプローブ試験法により半導
体装置の電気的な試験を行う場合、突起電極の高さにバ
ラツキがあるため、プローブの先端との接続が十分でな
い場合がある。さらに、プローブにはU字状に曲げられ
た撓み部分が設けられているもののプローブの先端が突
起電極に当接したとき、半田により形成された突起電極
を変形させてしまうおそれがあった。
体装置の電気的な試験を行う場合、突起電極の高さにバ
ラツキがあるため、プローブの先端との接続が十分でな
い場合がある。さらに、プローブにはU字状に曲げられ
た撓み部分が設けられているもののプローブの先端が突
起電極に当接したとき、半田により形成された突起電極
を変形させてしまうおそれがあった。
【0011】また、突起電極の検査を行う場合、半導体
装置の下面に多数の突起電極が所定の配列で密集して設
けられているので、光学的に突起電極の突出高さを測定
することが難しく、また検査員が目視により全ての突起
電極の外観形状をチェックすることは困難であり、検査
の信頼性が低いばかりか検査時間の短縮にも限界があ
る。
装置の下面に多数の突起電極が所定の配列で密集して設
けられているので、光学的に突起電極の突出高さを測定
することが難しく、また検査員が目視により全ての突起
電極の外観形状をチェックすることは困難であり、検査
の信頼性が低いばかりか検査時間の短縮にも限界があ
る。
【0012】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、突起電極の信頼性及び試験の効率を向上しうる半
導体試験装置及びこれを利用した試験方法及び半導体装
置を提供することを目的とする。
あり、突起電極の信頼性及び試験の効率を向上しうる半
導体試験装置及びこれを利用した試験方法及び半導体装
置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では下記の種々の手段を講じた事を特徴とす
るものである。請求項1記載の発明では、一面に複数の
突起電極を有する被試験半導体が装着され、該突起電極
に測定端子を接触させて電気的に接続することにより該
被試験半導体の試験を行う構成とされた半導体試験装置
において、前記被試験半導体の一面に対向するように基
板を設け、該基板に前記突起電極に対応した形状の凹部
を設け、前記複数の突起電極の夫々が前記基板の凹部に
嵌合することにより前記突起電極の端部が前記測定端子
に電気的に接続され電気的動作試験を行うよう構成した
ことを特徴とするものである。
に、本発明では下記の種々の手段を講じた事を特徴とす
るものである。請求項1記載の発明では、一面に複数の
突起電極を有する被試験半導体が装着され、該突起電極
に測定端子を接触させて電気的に接続することにより該
被試験半導体の試験を行う構成とされた半導体試験装置
において、前記被試験半導体の一面に対向するように基
板を設け、該基板に前記突起電極に対応した形状の凹部
を設け、前記複数の突起電極の夫々が前記基板の凹部に
嵌合することにより前記突起電極の端部が前記測定端子
に電気的に接続され電気的動作試験を行うよう構成した
ことを特徴とするものである。
【0014】また、請求項2記載の発明では、前記請求
項1記載の半導体試験装置において、前記複数の突起電
極の夫々が前記基板の凹部に嵌合することにより前記突
起電極を成形すると共に前記突起電極の形状検査を行う
ことを特徴とするものである。
項1記載の半導体試験装置において、前記複数の突起電
極の夫々が前記基板の凹部に嵌合することにより前記突
起電極を成形すると共に前記突起電極の形状検査を行う
ことを特徴とするものである。
【0015】また、請求項3記載の発明では、前記請求
項1記載の半導体試験装置において、前記複数の突起電
極の夫々が前記基板の凹部に嵌合することにより前記突
起電極の形状検査を行うと同時に、前記突起電極の端部
が前記測定端子に電気的に接続され電気的動作試験を行
うよう構成したことを特徴とするものである。
項1記載の半導体試験装置において、前記複数の突起電
極の夫々が前記基板の凹部に嵌合することにより前記突
起電極の形状検査を行うと同時に、前記突起電極の端部
が前記測定端子に電気的に接続され電気的動作試験を行
うよう構成したことを特徴とするものである。
【0016】また、請求項4記載の発明では、前記請求
項1乃至3のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記被試験半導体と前記基板とが平行状態を保つよ
うに位置調整を行う調芯機構を設けたことを特徴とする
ものである。
項1乃至3のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記被試験半導体と前記基板とが平行状態を保つよ
うに位置調整を行う調芯機構を設けたことを特徴とする
ものである。
【0017】また、請求項5記載の発明では、前記請求
項1乃至4のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記突起電極と前記凹部との相対位置が一致するよ
うに前記被試験半導体と前記基板との相対位置を規制す
る位置決め機構を設けたことを特徴とするものである。
項1乃至4のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記突起電極と前記凹部との相対位置が一致するよ
うに前記被試験半導体と前記基板との相対位置を規制す
る位置決め機構を設けたことを特徴とするものである。
【0018】また、請求項6記載の発明では、前記請求
項1乃至4のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記基板をフローティング状態に設け、前記複数の
突起電極の夫々が前記基板の凹部に嵌合することによ
り、前記突起電極と前記凹部との相対位置が一致するよ
うに前記被試験半導体に対する前記基板の位置を位置決
めすることを特徴とするものである。
項1乃至4のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記基板をフローティング状態に設け、前記複数の
突起電極の夫々が前記基板の凹部に嵌合することによ
り、前記突起電極と前記凹部との相対位置が一致するよ
うに前記被試験半導体に対する前記基板の位置を位置決
めすることを特徴とするものである。
【0019】また、請求項7記載の発明では、前記請求
項1乃至6のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記測定端子を上下動可能に設け、前記突起電極を
前記基板の凹部に嵌合させることにより前記測定端子が
下動すると共に前記突起電極が前記測定端子に接続され
るよう構成したことを特徴とするものである。
項1乃至6のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記測定端子を上下動可能に設け、前記突起電極を
前記基板の凹部に嵌合させることにより前記測定端子が
下動すると共に前記突起電極が前記測定端子に接続され
るよう構成したことを特徴とするものである。
【0020】また、請求項8記載の発明では、前記請求
項1乃至6のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記被試験半導体とこの被試験半導体を支持する固
定治具との間、または前記被試験半導体と前記基板との
間、または前記基板と前記測定端子が形成された測定基
板との間の何れかに、弾性を有する緩衝材を設けたこと
を特徴とするものである。
項1乃至6のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記被試験半導体とこの被試験半導体を支持する固
定治具との間、または前記被試験半導体と前記基板との
間、または前記基板と前記測定端子が形成された測定基
板との間の何れかに、弾性を有する緩衝材を設けたこと
を特徴とするものである。
【0021】また、請求項9記載の発明では、前記請求
項1乃至6のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記被試験半導体と前記基板との間に、前記被試験
半導体と前記基板との間のクリアランスを一定に保つス
ペーサを設けたことを特徴とするものである。
項1乃至6のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記被試験半導体と前記基板との間に、前記被試験
半導体と前記基板との間のクリアランスを一定に保つス
ペーサを設けたことを特徴とするものである。
【0022】また、請求項10記載の発明では、前記請
求項1乃至9のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記測定端子の先端部に突起状端子を形成したこと
を特徴とするものである。また、請求項11記載の発明
では、前記請求項10記載の半導体試験装置において、
前記突起状端子をスタッドバンプにより形成したことを
特徴とするものである。
求項1乃至9のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記測定端子の先端部に突起状端子を形成したこと
を特徴とするものである。また、請求項11記載の発明
では、前記請求項10記載の半導体試験装置において、
前記突起状端子をスタッドバンプにより形成したことを
特徴とするものである。
【0023】また、請求項12記載の発明では、前記請
求項10または請求項11記載の半導体試験装置におい
て、前記突起状端子は、同種または異種の金属よりなる
複数個のスタッドバンプを複数個多段に形成した構造を
有することを特徴とするものである。
求項10または請求項11記載の半導体試験装置におい
て、前記突起状端子は、同種または異種の金属よりなる
複数個のスタッドバンプを複数個多段に形成した構造を
有することを特徴とするものである。
【0024】また、請求項13記載の発明では、前記請
求項1乃至9のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記測定端子の表面部に粗化面を形成したことを特
徴とするものである。また、請求項14記載の発明で
は、前記請求項1乃至9のいずれかに記載の半導体試験
装置において、前記測定端子の表面部に、前記測定端子
の材料とは異なる材料よりなる異種金属膜を形成したこ
とを特徴とするものである。
求項1乃至9のいずれかに記載の半導体試験装置におい
て、前記測定端子の表面部に粗化面を形成したことを特
徴とするものである。また、請求項14記載の発明で
は、前記請求項1乃至9のいずれかに記載の半導体試験
装置において、前記測定端子の表面部に、前記測定端子
の材料とは異なる材料よりなる異種金属膜を形成したこ
とを特徴とするものである。
【0025】また、請求項15記載の発明では、前記請
求項1乃至14のいずれかに記載の半導体試験装置にお
いて、前記基板に形成された凹部の形状を、半球形状,
円錐形状,及び角錐形状の内のいずれか一つの形状とし
たことを特徴とするものである。
求項1乃至14のいずれかに記載の半導体試験装置にお
いて、前記基板に形成された凹部の形状を、半球形状,
円錐形状,及び角錐形状の内のいずれか一つの形状とし
たことを特徴とするものである。
【0026】また、請求項16記載の発明では、前記請
求項1乃至15のいずれかに記載の半導体試験装置にお
いて、前記測定端子を、フレキシブル構造とされた端子
シートと、前記端子シートの下部に位置すると共に前記
基板の凹部と対向する位置に凸部を形成した基台とによ
り構成し、前記凸部が前記端子シート部を押し出すこと
により測定端子を形成することを特徴とするものであ
る。
求項1乃至15のいずれかに記載の半導体試験装置にお
いて、前記測定端子を、フレキシブル構造とされた端子
シートと、前記端子シートの下部に位置すると共に前記
基板の凹部と対向する位置に凸部を形成した基台とによ
り構成し、前記凸部が前記端子シート部を押し出すこと
により測定端子を形成することを特徴とするものであ
る。
【0027】また、請求項17記載の発明では、前記請
求項1乃至16のいずれかに記載の半導体試験装置にお
いて、前記基板の前記測定端子と対向する位置に第2の
凹部を形成したことを特徴とするものである。
求項1乃至16のいずれかに記載の半導体試験装置にお
いて、前記基板の前記測定端子と対向する位置に第2の
凹部を形成したことを特徴とするものである。
【0028】また、請求項18記載の発明では、前記請
求項1乃至17のいずれかに記載の半導体試験装置にお
いて、前記基板と、前記測定端子が形成された測定基板
との位置決めを行なう基板位置決め機構を設けたことを
特徴とするものである。
求項1乃至17のいずれかに記載の半導体試験装置にお
いて、前記基板と、前記測定端子が形成された測定基板
との位置決めを行なう基板位置決め機構を設けたことを
特徴とするものである。
【0029】また、請求項19記載の発明では、前記請
求項1乃至18のいずれかに記載の半導体試験装置にお
いて、前記基板と、前記被試験半導体との位置決めを行
なう半導体位置決め機構を設けたことを特徴とする半導
体試験装置。
求項1乃至18のいずれかに記載の半導体試験装置にお
いて、前記基板と、前記被試験半導体との位置決めを行
なう半導体位置決め機構を設けたことを特徴とする半導
体試験装置。
【0030】また、請求項20記載の発明では、一面に
複数の突起電極を有する被試験半導体が装着され、該突
起電極に測定端子を接触させて電気的に接続することに
より該被試験半導体の試験を行う構成とされた半導体試
験装置の試験方法において、前記被試験半導体の一面に
対向するように設けられた基板の凹部に前記複数の突起
電極を嵌合させて各突起電極の形状を試験すると共に、
前記突起電極の端部を前記凹部に設けられた前記測定端
子に電気的に接続させて前記被試験半導体の試験を行う
ことを特徴とするものである。
複数の突起電極を有する被試験半導体が装着され、該突
起電極に測定端子を接触させて電気的に接続することに
より該被試験半導体の試験を行う構成とされた半導体試
験装置の試験方法において、前記被試験半導体の一面に
対向するように設けられた基板の凹部に前記複数の突起
電極を嵌合させて各突起電極の形状を試験すると共に、
前記突起電極の端部を前記凹部に設けられた前記測定端
子に電気的に接続させて前記被試験半導体の試験を行う
ことを特徴とするものである。
【0031】また、請求項21記載の発明では、前記請
求項20記載の半導体試験装置の試験方法において、前
記基板或いは前記被試験半導体の少なく一方を振動させ
ることにより、前記基板に形成された凹部に前記突起電
極を位置決めすることを特徴とするものである。
求項20記載の半導体試験装置の試験方法において、前
記基板或いは前記被試験半導体の少なく一方を振動させ
ることにより、前記基板に形成された凹部に前記突起電
極を位置決めすることを特徴とするものである。
【0032】また、請求項22記載の発明では、前記請
求項20記載の半導体試験装置の試験方法において、前
記基板に真空吸引装置に接続れさた吸引孔を形成すると
共に、前記吸引孔により前記突起電極を吸引することに
より、前記基板に形成された凹部に前記突起電極を位置
決めすることを特徴とするものである。
求項20記載の半導体試験装置の試験方法において、前
記基板に真空吸引装置に接続れさた吸引孔を形成すると
共に、前記吸引孔により前記突起電極を吸引することに
より、前記基板に形成された凹部に前記突起電極を位置
決めすることを特徴とするものである。
【0033】また、請求項23記載の発明では、前記請
求項20記載の半導体試験装置の試験方法において、前
記基板を多孔質材料により形成すると共に該基板を真空
吸引装置に接続し、前記基板に前記突起電極を吸引する
ことにより、前記基板に形成された凹部に前記突起電極
を位置決めすることを特徴とするものである。
求項20記載の半導体試験装置の試験方法において、前
記基板を多孔質材料により形成すると共に該基板を真空
吸引装置に接続し、前記基板に前記突起電極を吸引する
ことにより、前記基板に形成された凹部に前記突起電極
を位置決めすることを特徴とするものである。
【0034】また、請求項24記載の発明では、前記請
求項20記載の半導体試験装置の試験方法において、前
記被試験半導体を前記基板に沿って水平移動させうる移
動装置を設け、該移動装置により前記被試験半導体を水
平移動させることにより、前記突起電極を前記凹部に嵌
合させ位置決めすることを特徴とするものである。
求項20記載の半導体試験装置の試験方法において、前
記被試験半導体を前記基板に沿って水平移動させうる移
動装置を設け、該移動装置により前記被試験半導体を水
平移動させることにより、前記突起電極を前記凹部に嵌
合させ位置決めすることを特徴とするものである。
【0035】また、請求項25記載の発明では、前記請
求項20記載の半導体試験装置の試験方法において、前
記凹部に勾配の異なる第1及び第2の傾斜面を形成し、
該第1及び第2の傾斜面の勾配差に基づき前記突起電極
を前記凹部に嵌合させ位置決めすることを特徴とするも
のである。
求項20記載の半導体試験装置の試験方法において、前
記凹部に勾配の異なる第1及び第2の傾斜面を形成し、
該第1及び第2の傾斜面の勾配差に基づき前記突起電極
を前記凹部に嵌合させ位置決めすることを特徴とするも
のである。
【0036】また、請求項26記載の発明では、半導体
素子に突起電極を有しており、前記突起電極に対応した
凹部が形成された基板を有する半導体試験装置に装着さ
れて所定の電気的動作試験が行なわれる半導体装置にお
いて、前記突起電極は、前記基板に形成された凹部に押
し当てられることにより、前記凹部の形状に沿った形状
に整形されていることを特徴とするものである。
素子に突起電極を有しており、前記突起電極に対応した
凹部が形成された基板を有する半導体試験装置に装着さ
れて所定の電気的動作試験が行なわれる半導体装置にお
いて、前記突起電極は、前記基板に形成された凹部に押
し当てられることにより、前記凹部の形状に沿った形状
に整形されていることを特徴とするものである。
【0037】更に、請求項27記載の発明では、前記請
求項26記載の半導体装置において、前記突起電極の形
状は円錐形状または円柱形状であることを特徴とするも
のである。
求項26記載の半導体装置において、前記突起電極の形
状は円錐形状または円柱形状であることを特徴とするも
のである。
【0038】上記した各手段は、下記のように作用す
る。請求項1記載の発明によれば、複数の突起電極の夫
々が基板の凹部に嵌合することにより突起電極の端部が
測定端子に電気的に接続されるため、各突起電極の形状
を凹部との嵌合により検査することができると共に突起
電極が測定端子に接続されることにより被試験半導体の
電気的試験を行うことができる。そのため、被試験半導
体の試験及び突起電極の検査を同時に行うことが可能と
なり、検査工程での信頼性の向上と共に試験、検査時間
の短縮化を図ることができる。
る。請求項1記載の発明によれば、複数の突起電極の夫
々が基板の凹部に嵌合することにより突起電極の端部が
測定端子に電気的に接続されるため、各突起電極の形状
を凹部との嵌合により検査することができると共に突起
電極が測定端子に接続されることにより被試験半導体の
電気的試験を行うことができる。そのため、被試験半導
体の試験及び突起電極の検査を同時に行うことが可能と
なり、検査工程での信頼性の向上と共に試験、検査時間
の短縮化を図ることができる。
【0039】また、請求項2記載の発明によれば、複数
の突起電極の夫々が基板の凹部に嵌合することにより突
起電極を成形すると共に突起電極の形状検査を行うた
め、突起電極の形状が異なる場合でも基板の凹部に合っ
た形状に成形され、突起電極の形状不良を減少させるこ
とができる。
の突起電極の夫々が基板の凹部に嵌合することにより突
起電極を成形すると共に突起電極の形状検査を行うた
め、突起電極の形状が異なる場合でも基板の凹部に合っ
た形状に成形され、突起電極の形状不良を減少させるこ
とができる。
【0040】また、請求項3記載の発明では、複数の突
起電極の夫々が基板の凹部に嵌合することにより突起電
極の形状検査を行うと同時に、突起電極の端部が測定端
子に電気的に接続され電気的動作試験を行うため、突起
電極の検査工程が一工程で済むことになり、突起電極の
検査時間を大幅に短縮することができる。
起電極の夫々が基板の凹部に嵌合することにより突起電
極の形状検査を行うと同時に、突起電極の端部が測定端
子に電気的に接続され電気的動作試験を行うため、突起
電極の検査工程が一工程で済むことになり、突起電極の
検査時間を大幅に短縮することができる。
【0041】また、請求項4記載の発明によれば、被試
験半導体と基板とが平行状態を保つように位置調整を行
う調芯機構を設けたため、被試験半導体が傾いた状態で
装着されても複数の突起電極の夫々を正確に凹部に嵌合
させることができ、被試験半導体の試験及び突起電極の
検査の信頼性を向上させることができる。
験半導体と基板とが平行状態を保つように位置調整を行
う調芯機構を設けたため、被試験半導体が傾いた状態で
装着されても複数の突起電極の夫々を正確に凹部に嵌合
させることができ、被試験半導体の試験及び突起電極の
検査の信頼性を向上させることができる。
【0042】また、請求項5記載の発明によれば、位置
決め機構により突起電極と凹部との相対位置が一致する
ように被試験半導体と基板との相対位置を規制するた
め、複数の突起電極の夫々を正確に凹部に嵌合させるこ
とができ、被試験半導体の試験及び突起電極の検査の信
頼性を向上させることができる。
決め機構により突起電極と凹部との相対位置が一致する
ように被試験半導体と基板との相対位置を規制するた
め、複数の突起電極の夫々を正確に凹部に嵌合させるこ
とができ、被試験半導体の試験及び突起電極の検査の信
頼性を向上させることができる。
【0043】また、請求項6記載の発明によれば、基板
をフローティング状態に設け、複数の突起電極の夫々が
基板の凹部に嵌合することにより、突起電極と凹部との
相対位置が一致するように被試験半導体に対する基板の
位置を位置決めするため、複数の突起電極の夫々を正確
に凹部に嵌合させることができ、被試験半導体の試験及
び突起電極の検査の信頼性を向上させることができる。
をフローティング状態に設け、複数の突起電極の夫々が
基板の凹部に嵌合することにより、突起電極と凹部との
相対位置が一致するように被試験半導体に対する基板の
位置を位置決めするため、複数の突起電極の夫々を正確
に凹部に嵌合させることができ、被試験半導体の試験及
び突起電極の検査の信頼性を向上させることができる。
【0044】また、請求項7記載の発明によれば、突起
電極を基板の凹部に嵌合させることにより測定端子を下
動させると共に突起電極が測定端子に接続されるため、
被試験半導体が傾いた状態で装着されても各測定端子が
個別に上下動して被試験半導体の試験及び突起電極の検
査を行うことができる。
電極を基板の凹部に嵌合させることにより測定端子を下
動させると共に突起電極が測定端子に接続されるため、
被試験半導体が傾いた状態で装着されても各測定端子が
個別に上下動して被試験半導体の試験及び突起電極の検
査を行うことができる。
【0045】また、請求項8記載の発明によれば、緩衝
材の弾性変形により基板と被試験半導体とが平行な状態
で各突起電極を凹部に嵌合させることができると共に嵌
合時の衝撃を吸収することができる。また、請求項9記
載の発明によれば、被試験半導体と基板との間のクリア
ランスを一定に保つスペーサを設けたことにより、突起
電極に不要な荷重が印加されることを防止でき、よって
突起電極に変形が発生することを抑制することができ
る。
材の弾性変形により基板と被試験半導体とが平行な状態
で各突起電極を凹部に嵌合させることができると共に嵌
合時の衝撃を吸収することができる。また、請求項9記
載の発明によれば、被試験半導体と基板との間のクリア
ランスを一定に保つスペーサを設けたことにより、突起
電極に不要な荷重が印加されることを防止でき、よって
突起電極に変形が発生することを抑制することができ
る。
【0046】また、請求項10記載の発明によれば、測
定端子の先端部に突起状端子を形成したことにより、測
定端子の先端部は突出した構造となり、被試験半導体に
設けられた突起電極との接続性を向上することができ
る。
定端子の先端部に突起状端子を形成したことにより、測
定端子の先端部は突出した構造となり、被試験半導体に
設けられた突起電極との接続性を向上することができ
る。
【0047】また、請求項11記載の発明によれば、前
記突起状端子をスタッドバンプにより形成したことによ
り、半導体装置の製造技術として一般に用いられている
ワイヤボンディング技術を用いて突起状端子を形成する
ことができ、よって低コストでかつ作成効率よく突起状
端子を形成することができる。
記突起状端子をスタッドバンプにより形成したことによ
り、半導体装置の製造技術として一般に用いられている
ワイヤボンディング技術を用いて突起状端子を形成する
ことができ、よって低コストでかつ作成効率よく突起状
端子を形成することができる。
【0048】また、通常スタッドバンプはその先端部に
ワイヤ切断による小突起が形成され、この小突起はプロ
ーブ先端と同様に尖った形状となるため、これによって
も測定端子と突起電極との接続性を向上することができ
る。また、請求項12記載の発明によれば、突起状端子
を同種または異種の金属よりなる複数個のスタッドバン
プを複数個多段に形成した構造としたことにより、最先
端部に配設される突起状電極の材質を突起電極に対し適
合性の良いものに選定でき、また最先端部以外の突起状
端子の材質は測定端子或いは最先端部に配設され突起状
端子に対し適合性の良いものに選定できる。
ワイヤ切断による小突起が形成され、この小突起はプロ
ーブ先端と同様に尖った形状となるため、これによって
も測定端子と突起電極との接続性を向上することができ
る。また、請求項12記載の発明によれば、突起状端子
を同種または異種の金属よりなる複数個のスタッドバン
プを複数個多段に形成した構造としたことにより、最先
端部に配設される突起状電極の材質を突起電極に対し適
合性の良いものに選定でき、また最先端部以外の突起状
端子の材質は測定端子或いは最先端部に配設され突起状
端子に対し適合性の良いものに選定できる。
【0049】このため、最先端部に配設された突起状端
子と突起電極との接続性、各突起状端子間の接続性、及
び突起状端子と測定端子との接続性を共に良好なものと
することができる。また、請求項13記載の発明によれ
ば、測定端子の表面部に粗化面を形成したことにより、
粗化面は微細な凹凸が形成された状態となりその表面積
は広くなり、また微細な凸部は突起電極に食い込む状態
となるため、測定端子と突起電極との電気的接続を確実
に行なうことができる。
子と突起電極との接続性、各突起状端子間の接続性、及
び突起状端子と測定端子との接続性を共に良好なものと
することができる。また、請求項13記載の発明によれ
ば、測定端子の表面部に粗化面を形成したことにより、
粗化面は微細な凹凸が形成された状態となりその表面積
は広くなり、また微細な凸部は突起電極に食い込む状態
となるため、測定端子と突起電極との電気的接続を確実
に行なうことができる。
【0050】また、請求項14記載の発明によれば、測
定端子の材料とは異なる材料よりなる異種金属膜を測定
端子の表面部に形成したことにより、測定端子及び突起
電極の材料が接合性の不良なものであっても、異種金属
膜として測定端子及び突起電極に共に接合性の良好な材
料を選定することが可能となり、測定端子と突起電極と
の間における電気的接合性の向上と、保護及び測定端子
の保護を図ることができる。
定端子の材料とは異なる材料よりなる異種金属膜を測定
端子の表面部に形成したことにより、測定端子及び突起
電極の材料が接合性の不良なものであっても、異種金属
膜として測定端子及び突起電極に共に接合性の良好な材
料を選定することが可能となり、測定端子と突起電極と
の間における電気的接合性の向上と、保護及び測定端子
の保護を図ることができる。
【0051】また、請求項15記載の発明のように、基
板に形成された凹部の形状は、突起電極の形状検査を行
いうる半球形状,円錐形状,及び角錐形状のいずれを採
用することも可能である。突起電極のフォーミング性の
面からは半球形状が望ましく、また凹部の形成性の面か
らは円錐形状,角錐形状の方が望ましい。
板に形成された凹部の形状は、突起電極の形状検査を行
いうる半球形状,円錐形状,及び角錐形状のいずれを採
用することも可能である。突起電極のフォーミング性の
面からは半球形状が望ましく、また凹部の形成性の面か
らは円錐形状,角錐形状の方が望ましい。
【0052】また、請求項16記載の発明によれば、フ
レキシブル構造とされた端子シートと、この端子シート
の下部に位置すると共に基板の凹部と対向する位置に凸
部を形成した基台とにより測定端子を構成し、凸部が端
子シート部を押し出すことにより測定端子を形成する構
成とすることにより、測定端子は突出した端子形状とな
るため突起電極との電気的接続を確実に行なうことがで
きる。
レキシブル構造とされた端子シートと、この端子シート
の下部に位置すると共に基板の凹部と対向する位置に凸
部を形成した基台とにより測定端子を構成し、凸部が端
子シート部を押し出すことにより測定端子を形成する構
成とすることにより、測定端子は突出した端子形状とな
るため突起電極との電気的接続を確実に行なうことがで
きる。
【0053】また、測定端子はフレキシブル構造とされ
た端子シートに形成されるため、前記基台に測定端子を
プリント配設する必要はなく、かつ端子シートの形成は
フレキシブル回路基板の形成に準じて行なうことができ
るため、容易かつ安価に形成することができる。
た端子シートに形成されるため、前記基台に測定端子を
プリント配設する必要はなく、かつ端子シートの形成は
フレキシブル回路基板の形成に準じて行なうことができ
るため、容易かつ安価に形成することができる。
【0054】また、請求項17記載の発明によれば、基
板の測定端子と対向する位置に第2の凹部を形成したこ
とにより、突起電極が基板に嵌合した状態において、基
板下部に露出する突起電極の表面積を広く設定すること
ができ、測定端子と突起電極との接続を確実に行なうこ
とができる。
板の測定端子と対向する位置に第2の凹部を形成したこ
とにより、突起電極が基板に嵌合した状態において、基
板下部に露出する突起電極の表面積を広く設定すること
ができ、測定端子と突起電極との接続を確実に行なうこ
とができる。
【0055】また、請求項18記載の発明によれば、基
板位置決め機構を設けたことにより、基板と測定端子が
形成された測定基板との位置決めを高精度に行なうこと
ができる。また、請求項19記載の発明によれば、半導
体位置決め機構を設けたことにより、基板と被試験半導
体との位置決めを高精度に行なうことができる。
板位置決め機構を設けたことにより、基板と測定端子が
形成された測定基板との位置決めを高精度に行なうこと
ができる。また、請求項19記載の発明によれば、半導
体位置決め機構を設けたことにより、基板と被試験半導
体との位置決めを高精度に行なうことができる。
【0056】また、請求項20記載の発明によれば、被
試験半導体の一面に対向するように設けられた基板の凹
部に複数の突起電極を嵌合させて各突起電極の形状を試
験すると共に、突起電極の端部を凹部に設けられた測定
端子に電気的に接続させて被試験半導体の試験を行うた
め、各突起電極の形状を凹部との嵌合により検査するこ
とができ、また突起電極が測定端子に接続されることに
より被試験半導体の電気的試験を行うことができる。
試験半導体の一面に対向するように設けられた基板の凹
部に複数の突起電極を嵌合させて各突起電極の形状を試
験すると共に、突起電極の端部を凹部に設けられた測定
端子に電気的に接続させて被試験半導体の試験を行うた
め、各突起電極の形状を凹部との嵌合により検査するこ
とができ、また突起電極が測定端子に接続されることに
より被試験半導体の電気的試験を行うことができる。
【0057】そのため、被試験半導体の試験及び突起電
極の検査を同時に行うことが可能となり、検査工程での
信頼性の向上と共に試験、検査時間の短縮化を図ること
ができる。また、請求項21記載の発明によれば、基板
或いは被試験半導体の少なく一方を振動させることによ
り、被試験半導体は基板上で相対的に移動し、やがて基
板に形成された凹部に突起電極は嵌入して位置決めされ
る。よって、突起電極と凹部の位置決めを容易かつ自動
的に行なうことができる。
極の検査を同時に行うことが可能となり、検査工程での
信頼性の向上と共に試験、検査時間の短縮化を図ること
ができる。また、請求項21記載の発明によれば、基板
或いは被試験半導体の少なく一方を振動させることによ
り、被試験半導体は基板上で相対的に移動し、やがて基
板に形成された凹部に突起電極は嵌入して位置決めされ
る。よって、突起電極と凹部の位置決めを容易かつ自動
的に行なうことができる。
【0058】また、請求項22及び請求項23記載の発
明によれば、真空吸引装置により突起電極を吸引し、基
板に形成された凹部に突起電極を位置決めすることによ
り、確実に突起電極を凹部内に嵌入させることができ
る。また、請求項24記載の発明によれば、被試験半導
体を基板に沿って水平移動させうる移動装置を設け、こ
の移動装置により被試験半導体を水平移動させることに
より、被試験半導体の移動に伴いやがて突起電極は凹部
に嵌入し位置決めされる。よって、簡単かつ確実に突起
電極と凹部との位置決め処理を行なうことができる。
明によれば、真空吸引装置により突起電極を吸引し、基
板に形成された凹部に突起電極を位置決めすることによ
り、確実に突起電極を凹部内に嵌入させることができ
る。また、請求項24記載の発明によれば、被試験半導
体を基板に沿って水平移動させうる移動装置を設け、こ
の移動装置により被試験半導体を水平移動させることに
より、被試験半導体の移動に伴いやがて突起電極は凹部
に嵌入し位置決めされる。よって、簡単かつ確実に突起
電極と凹部との位置決め処理を行なうことができる。
【0059】また、請求項25記載の発明によれば、凹
部に勾配の異なる第1及び第2の傾斜面を形成すること
により、勾配の緩やかな傾斜面を突起電極を案内する案
内面として用い、勾配な急な傾斜面を突起電極を係止す
る係止面として用いることができる。
部に勾配の異なる第1及び第2の傾斜面を形成すること
により、勾配の緩やかな傾斜面を突起電極を案内する案
内面として用い、勾配な急な傾斜面を突起電極を係止す
る係止面として用いることができる。
【0060】そして、この第1及び第2の傾斜面の勾配
差に基づき突起電極を凹部に嵌合させ位置決めすること
により、凹部に嵌入した突起電極は案内面として機能す
る傾斜面に案内され、係止面として機能する傾斜面に係
止されて位置決めされる。よって、簡単かつ確実に突起
電極と凹部との位置決め処理を行なうことができる。
差に基づき突起電極を凹部に嵌合させ位置決めすること
により、凹部に嵌入した突起電極は案内面として機能す
る傾斜面に案内され、係止面として機能する傾斜面に係
止されて位置決めされる。よって、簡単かつ確実に突起
電極と凹部との位置決め処理を行なうことができる。
【0061】また、請求項26記載の発明によれば、突
起電極は半導体試験装置を構成する基板に形成された凹
部に押し当てられ、凹部の形状に沿った形状に整形され
ることにより、球形状以外の形状に形成することが可能
となる。よって、突起電極の形状を半導体装置の実装態
様に適した形状にすることができる。
起電極は半導体試験装置を構成する基板に形成された凹
部に押し当てられ、凹部の形状に沿った形状に整形され
ることにより、球形状以外の形状に形成することが可能
となる。よって、突起電極の形状を半導体装置の実装態
様に適した形状にすることができる。
【0062】更に、請求項27記載の発明によれば、突
起電極の形状を円錐形状とした場合には、突起電極の先
端は尖っており、かつこの先端部に押圧力は集中するた
め、当該突起電極を有する半導体装置を実装基板に実装
する際、突起電極はその先端部から溶融し実装基板に接
合されるため、効率よく確実に実装処理を行なうことが
できる。
起電極の形状を円錐形状とした場合には、突起電極の先
端は尖っており、かつこの先端部に押圧力は集中するた
め、当該突起電極を有する半導体装置を実装基板に実装
する際、突起電極はその先端部から溶融し実装基板に接
合されるため、効率よく確実に実装処理を行なうことが
できる。
【0063】また、突起電極の形状を円柱形状とした場
合には、突起電極の先端は偏平状となり実装基板との接
触面積は広くなるため、確実な実装処理を行なうことが
できる。
合には、突起電極の先端は偏平状となり実装基板との接
触面積は広くなるため、確実な実装処理を行なうことが
できる。
【0064】
【発明の実施の形態】つぎに本発明の実施例について図
面と共に説明する。図1は本発明の第1実施例である半
導体試験装置10を上下方向に分解して示す図である。
面と共に説明する。図1は本発明の第1実施例である半
導体試験装置10を上下方向に分解して示す図である。
【0065】半導体試験装置10は、被試験半導体とな
る半導体装置11の電気的動作試験と半導体装置11の
下面に設けられた複数の突起電極12(121 〜1
2n )の外観形状及び配列位置検査とを同時に行う装置
である。半導体装置11は半導体チップ又は半導体チッ
プがモールドされたBGA(Ball Grid Array)構造のI
Cパッケージであり、下面に所定の配列で突出する複数
の突起電極12を有した構成となっている。各突起電極
12は、例えば半田(材質がPb/Sn)により球状に
形成され、一般には「半田バンプ」又は「ハンダボー
ル」とも呼ばれている。
る半導体装置11の電気的動作試験と半導体装置11の
下面に設けられた複数の突起電極12(121 〜1
2n )の外観形状及び配列位置検査とを同時に行う装置
である。半導体装置11は半導体チップ又は半導体チッ
プがモールドされたBGA(Ball Grid Array)構造のI
Cパッケージであり、下面に所定の配列で突出する複数
の突起電極12を有した構成となっている。各突起電極
12は、例えば半田(材質がPb/Sn)により球状に
形成され、一般には「半田バンプ」又は「ハンダボー
ル」とも呼ばれている。
【0066】また、半導体装置11は、下面に複数の突
起電極12を有する構造であるため、パッケージの側面
に電極を突出させたQFP(Quad Flat Package)構造の
半導体装置よりも電極を高密度に設けることが可能にな
り電極数の増大に対応することができる。
起電極12を有する構造であるため、パッケージの側面
に電極を突出させたQFP(Quad Flat Package)構造の
半導体装置よりも電極を高密度に設けることが可能にな
り電極数の増大に対応することができる。
【0067】13は平板状の半導体装置11を水平状態
に保持する固定治具で、昇降可能に支持されている。ま
た、固定治具13には、半導体装置11を吸着するため
の吸着手段として真空ポンプ(図示せず)に接続された
吸着部14が設けられている。
に保持する固定治具で、昇降可能に支持されている。ま
た、固定治具13には、半導体装置11を吸着するため
の吸着手段として真空ポンプ(図示せず)に接続された
吸着部14が設けられている。
【0068】さらに、固定治具13の上部には、固定治
具13を揺動自在に支持して面振れを調整するための調
芯機構15が設けられている。この調芯機構15は、例
えば固定治具13を昇降させる昇降機構(図示せず)の
ロッド15aの端部に設けられた球状支持部15bと、
球状支持部15bが嵌合する軸受部15cとよりなる。
そのため、調芯機構15は、球状支持部15bと軸受部
15cとにより自在継手と同様な構成とされている。
具13を揺動自在に支持して面振れを調整するための調
芯機構15が設けられている。この調芯機構15は、例
えば固定治具13を昇降させる昇降機構(図示せず)の
ロッド15aの端部に設けられた球状支持部15bと、
球状支持部15bが嵌合する軸受部15cとよりなる。
そのため、調芯機構15は、球状支持部15bと軸受部
15cとにより自在継手と同様な構成とされている。
【0069】例えば固定治具13の下方に対向するフォ
ーミング基板16が傾いていた場合、固定治具13に吸
着された半導体装置11を傾斜させるような力が作用す
る。しかしながら、調芯機構15の球状支持部15bが
その方向に傾いて半導体装置11がフォーミング基板1
6に追従するため、半導体装置11及び半導体試験装置
10の損傷が防止される。
ーミング基板16が傾いていた場合、固定治具13に吸
着された半導体装置11を傾斜させるような力が作用す
る。しかしながら、調芯機構15の球状支持部15bが
その方向に傾いて半導体装置11がフォーミング基板1
6に追従するため、半導体装置11及び半導体試験装置
10の損傷が防止される。
【0070】16はフォーミング基板で、例えばマシナ
ラブルセラミクッス等により形成されており、上面には
半導体装置11の突起電極12と同一の配列とされた複
数の検査凹部17(171 〜17n )が設けられてい
る。この検査凹部17は、突起電極12の外形に対応し
た半球状の窪みであり、上記突起電極12が上方から嵌
合されることにより突起電極12の形状が規定の寸法形
状に形成されているか否かが判定される。
ラブルセラミクッス等により形成されており、上面には
半導体装置11の突起電極12と同一の配列とされた複
数の検査凹部17(171 〜17n )が設けられてい
る。この検査凹部17は、突起電極12の外形に対応し
た半球状の窪みであり、上記突起電極12が上方から嵌
合されることにより突起電極12の形状が規定の寸法形
状に形成されているか否かが判定される。
【0071】すなわち、複数の突起電極12の夫々が所
定の配列でない場合、あるいは突起電極12が規定の寸
法形状より大きい場合は、突起電極12が検査凹部17
内に挿入されず、突起電極12の位置ずれ及び突起電極
12の形状不良であることを判定できる。
定の配列でない場合、あるいは突起電極12が規定の寸
法形状より大きい場合は、突起電極12が検査凹部17
内に挿入されず、突起電極12の位置ずれ及び突起電極
12の形状不良であることを判定できる。
【0072】また、フォーミング基板16は、半導体装
置11の突起電極12が検査凹部17内に嵌合されるこ
とにより、突起電極12を成形することができる。突起
電極12は半田等により球状に形成されるが、製造過程
で所定の球状にならず、いびつな形状になったり、ある
いは球状の一部に出っ張りができる等することがある。
そのような場合、フォーミング基板16の方が突起電極
12よりも硬い材質であるため、突起電極12は検査凹
部17内に嵌合された状態で押圧されると、突起電極1
2の形状を検査凹部17の形状に合うように成形され
る。
置11の突起電極12が検査凹部17内に嵌合されるこ
とにより、突起電極12を成形することができる。突起
電極12は半田等により球状に形成されるが、製造過程
で所定の球状にならず、いびつな形状になったり、ある
いは球状の一部に出っ張りができる等することがある。
そのような場合、フォーミング基板16の方が突起電極
12よりも硬い材質であるため、突起電極12は検査凹
部17内に嵌合された状態で押圧されると、突起電極1
2の形状を検査凹部17の形状に合うように成形され
る。
【0073】そのため、突起電極12が形状不良である
場合でも、検査工程で突起電極12の外形が検査凹部1
7の形状に成形されることになり、突起電極12の形状
不良を減少させることができる。よって、検査工程にお
ける突起電極12の形状不良率を下げることができる。
場合でも、検査工程で突起電極12の外形が検査凹部1
7の形状に成形されることになり、突起電極12の形状
不良を減少させることができる。よって、検査工程にお
ける突起電極12の形状不良率を下げることができる。
【0074】18は測定基板で、上記フォーミング基板
16の下方に位置するように配設されている。測定基板
18の上面には、複数の検査凹部17の底部中心に対向
するように各検査凹部17と同一の配列で複数の測定端
子19(191 〜19n )が配設されている。尚、各測
定端子19(191 〜19n )は、ほぼ半球状に形成さ
れ、測定基板18上に形成された配線層20より突出す
るように設けられている。
16の下方に位置するように配設されている。測定基板
18の上面には、複数の検査凹部17の底部中心に対向
するように各検査凹部17と同一の配列で複数の測定端
子19(191 〜19n )が配設されている。尚、各測
定端子19(191 〜19n )は、ほぼ半球状に形成さ
れ、測定基板18上に形成された配線層20より突出す
るように設けられている。
【0075】上記各測定端子19(191 〜19n )
は、夫々半導体装置11の電気的動作を試験するための
端子であり、図2に示されるようにフォーミング基板1
6の検査凹部17(171 〜17n )の底部中心に設け
られた孔17aと一致して検査凹部17(171 〜17
n )内に突出するように設けられている。
は、夫々半導体装置11の電気的動作を試験するための
端子であり、図2に示されるようにフォーミング基板1
6の検査凹部17(171 〜17n )の底部中心に設け
られた孔17aと一致して検査凹部17(171 〜17
n )内に突出するように設けられている。
【0076】また、フォーミング基板16と測定基板1
8とは、積重された状態で半導体試験装置10に装着さ
れている。そのため、半導体装置11が固定治具13に
保持された状態のまま降下されると、図3に示されるよ
うにフォーミング基板16の各検査凹部17に挿入され
た突起電極12の端部が測定基板18上の各測定端子1
9に当接して電気的に接続され、半導体装置11の試験
が可能となる。
8とは、積重された状態で半導体試験装置10に装着さ
れている。そのため、半導体装置11が固定治具13に
保持された状態のまま降下されると、図3に示されるよ
うにフォーミング基板16の各検査凹部17に挿入され
た突起電極12の端部が測定基板18上の各測定端子1
9に当接して電気的に接続され、半導体装置11の試験
が可能となる。
【0077】21は上記フォーミング基板16及び測定
基板18を保持するステージで、固定治具13の下方に
対向して設けられている。また、ステージ21の上面に
は、フォーミング基板16及び測定基板18を所定装着
位置に保持するための保持部22が設けられている。
基板18を保持するステージで、固定治具13の下方に
対向して設けられている。また、ステージ21の上面に
は、フォーミング基板16及び測定基板18を所定装着
位置に保持するための保持部22が設けられている。
【0078】さらに、ステージ21の下部には、半導体
装置11に対するフォーミング基板16及び測定基板1
8の位置を調整するための調芯機構23が設けられてい
る。この調芯機構23は、上記調芯機構15と同様な構
成とされており、例えばステージ21の下面の中央から
下方に突出するロッド23aの端部に設けられた球状支
持部23bと、球状支持部23bが嵌合する軸受部23
cとよりなる。
装置11に対するフォーミング基板16及び測定基板1
8の位置を調整するための調芯機構23が設けられてい
る。この調芯機構23は、上記調芯機構15と同様な構
成とされており、例えばステージ21の下面の中央から
下方に突出するロッド23aの端部に設けられた球状支
持部23bと、球状支持部23bが嵌合する軸受部23
cとよりなる。
【0079】そのため、調芯機構23は、球状支持部2
3bと軸受部23cとにより自在継手と同様な構成とさ
れている。例えば、半導体装置11が傾いた状態で装着
された場合、フォーミング基板16にはステージ21を
傾斜させるような力が作用する。しかしながら、調芯機
構23の球状支持部23bが傾いてフォーミング基板1
6が半導体装置11に追従するため、フォーミング基板
16を保持するステージ21を固定治具13と平行な状
態に調整する。これにより、フォーミング基板16及び
測定基板18の損傷が防止される。
3bと軸受部23cとにより自在継手と同様な構成とさ
れている。例えば、半導体装置11が傾いた状態で装着
された場合、フォーミング基板16にはステージ21を
傾斜させるような力が作用する。しかしながら、調芯機
構23の球状支持部23bが傾いてフォーミング基板1
6が半導体装置11に追従するため、フォーミング基板
16を保持するステージ21を固定治具13と平行な状
態に調整する。これにより、フォーミング基板16及び
測定基板18の損傷が防止される。
【0080】ここで、上記のように構成された半導体試
験装置10を使用して半導体装置11を検査、試験する
場合の動作について説明する。尚、図4は半導体装置1
1がフォーミング基板16から離間した状態を示し、図
5は半導体装置11がフォーミング基板16に近接され
た状態を示す。
験装置10を使用して半導体装置11を検査、試験する
場合の動作について説明する。尚、図4は半導体装置1
1がフォーミング基板16から離間した状態を示し、図
5は半導体装置11がフォーミング基板16に近接され
た状態を示す。
【0081】半導体装置11は、ハンドリング装置(図
示せず)により固定治具13の下方に搬送されると、図
4に示されるように吸着部14により吸着されて固定治
具13の下面に保持される。尚、固定治具13の下面に
保持される際、半導体装置11の吸着位置が所定位置に
位置決めされる。これにより、半導体装置11はフォー
ミング基板16の上方で対向する。
示せず)により固定治具13の下方に搬送されると、図
4に示されるように吸着部14により吸着されて固定治
具13の下面に保持される。尚、固定治具13の下面に
保持される際、半導体装置11の吸着位置が所定位置に
位置決めされる。これにより、半導体装置11はフォー
ミング基板16の上方で対向する。
【0082】次に、固定治具13及び半導体装置11が
昇降機構の降下動作によりA方向に降下してステージ2
0上に保持されたフォーミング基板16に近接する。そ
して、図5に示されるように、固定治具13の降下動作
と共に半導体装置11の下面に突出する各突起電極12
(121 〜12n )の夫々がフォーミング基板16の上
面に形成された各検査凹部17(171 〜17n )に嵌
合する。
昇降機構の降下動作によりA方向に降下してステージ2
0上に保持されたフォーミング基板16に近接する。そ
して、図5に示されるように、固定治具13の降下動作
と共に半導体装置11の下面に突出する各突起電極12
(121 〜12n )の夫々がフォーミング基板16の上
面に形成された各検査凹部17(171 〜17n )に嵌
合する。
【0083】このとき、各突起電極12(121 〜12
n )の外観形状及び位置が各検査凹部17(171 〜1
7n )との嵌合により検査される。複数の突起電極12
(121 〜12n )のうち一つでも規定の寸法形状より
も大きい場合、あるいは一つでも所定の配列からずれた
位置にある場合には、その突起電極12が検査凹部17
内に挿入されずフォーミング基板16の上面に乗り上げ
た状態となる。
n )の外観形状及び位置が各検査凹部17(171 〜1
7n )との嵌合により検査される。複数の突起電極12
(121 〜12n )のうち一つでも規定の寸法形状より
も大きい場合、あるいは一つでも所定の配列からずれた
位置にある場合には、その突起電極12が検査凹部17
内に挿入されずフォーミング基板16の上面に乗り上げ
た状態となる。
【0084】この場合、各突起電極12(121 〜12
n )が各検査凹部17(171 〜17n )の底部に位置
する各測定端子19(191 〜19n )に接続されない
ため、突起電極12の形状不良であることを判定でき
る。また、各突起電極12(121 〜12n )の外観形
状及び位置が正確である場合には、各突起電極12(1
21 〜12n )が各検査凹部17(171 〜17n)内
に嵌合して各測定端子19(191 〜19n )に接続さ
れる。そして、半導体装置11の電気的動作試験が行わ
れる。
n )が各検査凹部17(171 〜17n )の底部に位置
する各測定端子19(191 〜19n )に接続されない
ため、突起電極12の形状不良であることを判定でき
る。また、各突起電極12(121 〜12n )の外観形
状及び位置が正確である場合には、各突起電極12(1
21 〜12n )が各検査凹部17(171 〜17n)内
に嵌合して各測定端子19(191 〜19n )に接続さ
れる。そして、半導体装置11の電気的動作試験が行わ
れる。
【0085】このように、半導体装置11の各突起電極
12(121 〜12n )をフォーミング基板16の各検
査凹部17(171 〜17n )に嵌合させることによ
り、半導体装置11の電気的動作試験と半導体装置11
の下面に設けられた複数の突起電極12(121 〜12
n )の外観形状及び配列位置検査とを同時に行うことが
できるので、試験、検査時間を大幅に短縮することがで
きる。
12(121 〜12n )をフォーミング基板16の各検
査凹部17(171 〜17n )に嵌合させることによ
り、半導体装置11の電気的動作試験と半導体装置11
の下面に設けられた複数の突起電極12(121 〜12
n )の外観形状及び配列位置検査とを同時に行うことが
できるので、試験、検査時間を大幅に短縮することがで
きる。
【0086】また、複数の突起電極12の外観形状は、
夫々対向配置された複数の検査凹部17をゲージとして
検査されるため、検査員による目視検査あるいは光学的
に突起電極12の突出高さを測定する方法よりも信頼性
が高められている。また、半導体装置11の試験と突起
電極12の検査とを別々に行うよりも検査コストを安価
に抑えることができる。
夫々対向配置された複数の検査凹部17をゲージとして
検査されるため、検査員による目視検査あるいは光学的
に突起電極12の突出高さを測定する方法よりも信頼性
が高められている。また、半導体装置11の試験と突起
電極12の検査とを別々に行うよりも検査コストを安価
に抑えることができる。
【0087】さらに、突起電極12が所定の球状でなく
いびつな形状である場合、フォーミング基板16は半導
体装置11の突起電極12が検査凹部17内に嵌合され
た状態で押圧することにより、突起電極12の外形を検
査凹部17の形状に成形することができる。
いびつな形状である場合、フォーミング基板16は半導
体装置11の突起電極12が検査凹部17内に嵌合され
た状態で押圧することにより、突起電極12の外形を検
査凹部17の形状に成形することができる。
【0088】すなわち、半導体試験装置10では、上記
突起電極12の形状検査及び半導体装置11の電気的動
作試験を行うと共に、突起電極12の外形を検査凹部1
7に合った形状に成形することができる。そのため、検
査工程で突起電極12の外形が検査凹部17の形状に成
形され、突起電極12の形状不良を減少させることがで
きる。
突起電極12の形状検査及び半導体装置11の電気的動
作試験を行うと共に、突起電極12の外形を検査凹部1
7に合った形状に成形することができる。そのため、検
査工程で突起電極12の外形が検査凹部17の形状に成
形され、突起電極12の形状不良を減少させることがで
きる。
【0089】そして、試験、検査終了後は、固定治具1
3及び半導体装置11が昇降機構の上昇動作によりB方
向に上昇してステージ20上に保持されたフォーミング
基板16から離間する。固定治具13及び半導体装置1
1が図4に示す位置に復帰すると、吸着部14の吸着動
作が停止すると共にハンドリング装置(図示せず)によ
り半導体装置11が半導体試験装置10から取り出され
る。
3及び半導体装置11が昇降機構の上昇動作によりB方
向に上昇してステージ20上に保持されたフォーミング
基板16から離間する。固定治具13及び半導体装置1
1が図4に示す位置に復帰すると、吸着部14の吸着動
作が停止すると共にハンドリング装置(図示せず)によ
り半導体装置11が半導体試験装置10から取り出され
る。
【0090】図6は上記測定端子19の第1の変形例を
分解して示す縦断面図である。図6において、測定端子
25は測定基板18の上面に上記測定端子19を突出さ
せる代わりに配線層20と同一高さ、すなわちプリント
された配線層20の銅泊パターンと同一の膜厚により形
成されている。そして、フォーミング基板16の検査凹
部17の底部中心には、上記孔17aよりも十分に大径
とされた孔17bが設けられている。
分解して示す縦断面図である。図6において、測定端子
25は測定基板18の上面に上記測定端子19を突出さ
せる代わりに配線層20と同一高さ、すなわちプリント
された配線層20の銅泊パターンと同一の膜厚により形
成されている。そして、フォーミング基板16の検査凹
部17の底部中心には、上記孔17aよりも十分に大径
とされた孔17bが設けられている。
【0091】そのため、検査凹部17内に突起電極12
が嵌合されると球状に形成された突起電極12の先端部
分が配線層20と同一高さの測定端子25に接続され
る。これにより、半導体装置11の電気的動作試験が行
われる。また、半導体装置11の突起電極12がフォー
ミング基板16の検査凹部17内に嵌合された状態で押
圧されることにより、上記半導体装置11の電気的動作
試験を行うと共に、突起電極12の形状検査及び突起電
極12の成形が行われる。
が嵌合されると球状に形成された突起電極12の先端部
分が配線層20と同一高さの測定端子25に接続され
る。これにより、半導体装置11の電気的動作試験が行
われる。また、半導体装置11の突起電極12がフォー
ミング基板16の検査凹部17内に嵌合された状態で押
圧されることにより、上記半導体装置11の電気的動作
試験を行うと共に、突起電極12の形状検査及び突起電
極12の成形が行われる。
【0092】この場合、測定端子25が配線層20から
上方に突出しないため、突起電極12は平坦な測定端子
25に接触することになり、突起電極12の損傷が防止
される。図7は上記測定端子19の第2の変形例を分解
して示す縦断面図である。
上方に突出しないため、突起電極12は平坦な測定端子
25に接触することになり、突起電極12の損傷が防止
される。図7は上記測定端子19の第2の変形例を分解
して示す縦断面図である。
【0093】図7において、測定端子26は、小径なピ
ン形状に形成されており、測定基板18の上面より突出
し、且つ上下方向に移動可能に設けられている。すなわ
ち、測定端子26は上下動可能に支持された支持部材2
7上に設けられている。支持部材27は測定基板18に
穿設された収納孔18a内に収納されたコイルバネ28
により上方に付勢されており、測定端子26はコイルバ
ネ28を介して配線層20に接続されている。また、測
定端子26の先端は、下方から検査凹部17の孔17a
に挿入され、検査凹部17内に突出している。
ン形状に形成されており、測定基板18の上面より突出
し、且つ上下方向に移動可能に設けられている。すなわ
ち、測定端子26は上下動可能に支持された支持部材2
7上に設けられている。支持部材27は測定基板18に
穿設された収納孔18a内に収納されたコイルバネ28
により上方に付勢されており、測定端子26はコイルバ
ネ28を介して配線層20に接続されている。また、測
定端子26の先端は、下方から検査凹部17の孔17a
に挿入され、検査凹部17内に突出している。
【0094】そのため、突起電極12が検査凹部17内
に嵌合されると、突起電極12の端部が測定端子26に
当接して電気的に接続されると共に、測定端子26を下
方に押圧する。その際、コイルバネ28が圧縮されて測
定端子26が下方に移動するため、突起電極12はコイ
ルバネ28のバネ力により確実に測定端子26に接続さ
れると共に、降下動作により衝撃が緩和されて測定端子
26との当接部分が損傷することが防止される。
に嵌合されると、突起電極12の端部が測定端子26に
当接して電気的に接続されると共に、測定端子26を下
方に押圧する。その際、コイルバネ28が圧縮されて測
定端子26が下方に移動するため、突起電極12はコイ
ルバネ28のバネ力により確実に測定端子26に接続さ
れると共に、降下動作により衝撃が緩和されて測定端子
26との当接部分が損傷することが防止される。
【0095】図8は上記測定端子19の第3の変形例を
分解して示す縦断面図である。図8において、測定端子
29は、検査凹部17の底部中心に設けられた孔17a
の周縁部の全周に被覆形成されており、検査凹部17の
底部内面に蒸着された導電性皮膜29aと、フォーミン
グ基板16の下面に蒸着された導電性皮膜29bとより
なる。従って、測定端子29は、検査凹部17の内面と
フォーミング基板16の下面に連続的に被覆形成されて
いる。
分解して示す縦断面図である。図8において、測定端子
29は、検査凹部17の底部中心に設けられた孔17a
の周縁部の全周に被覆形成されており、検査凹部17の
底部内面に蒸着された導電性皮膜29aと、フォーミン
グ基板16の下面に蒸着された導電性皮膜29bとより
なる。従って、測定端子29は、検査凹部17の内面と
フォーミング基板16の下面に連続的に被覆形成されて
いる。
【0096】そのため、突起電極12が検査凹部17内
に嵌合されると、突起電極12の表面が測定端子29の
導電性皮膜29aの全面に当接して接続される。よっ
て、突起電極12は、測定端子29を介して配線層20
に電気的に接続される。また、測定端子29は薄膜であ
るため、突起電極12の嵌合動作を妨げることがなく、
しかも突起電極12が検査凹部17内に嵌合されたとき
突起電極12の表面を損傷させることもない。
に嵌合されると、突起電極12の表面が測定端子29の
導電性皮膜29aの全面に当接して接続される。よっ
て、突起電極12は、測定端子29を介して配線層20
に電気的に接続される。また、測定端子29は薄膜であ
るため、突起電極12の嵌合動作を妨げることがなく、
しかも突起電極12が検査凹部17内に嵌合されたとき
突起電極12の表面を損傷させることもない。
【0097】図9は本発明の第2実施例である半導体試
験装置31を上下方向に分解して示す図である。半導体
試験装置31の固定治具13は、半導体装置11を保持
する位置を規制するための位置決め部32が下面に設け
られている。この位置決め部32は、断面形状が三角形
とされており、半導体装置11の上面外周の角部11a
が摺接する傾斜面32aを有する。この傾斜面32aは
半導体装置11の上面外周の各四辺に上方から当接する
ように形成されている。
験装置31を上下方向に分解して示す図である。半導体
試験装置31の固定治具13は、半導体装置11を保持
する位置を規制するための位置決め部32が下面に設け
られている。この位置決め部32は、断面形状が三角形
とされており、半導体装置11の上面外周の角部11a
が摺接する傾斜面32aを有する。この傾斜面32aは
半導体装置11の上面外周の各四辺に上方から当接する
ように形成されている。
【0098】半導体装置11は、ハンドリング装置(図
示せず)により装着されたとき、傾いた状態で保持され
ることがある。その場合、固定治具13が降下して半導
体装置11の突起電極12が検査凹部17内に嵌合され
る過程で、位置決め部32の傾斜面32aに上面外周の
各四辺の角部11aが摺接して均等に当接するようにガ
イドされる。
示せず)により装着されたとき、傾いた状態で保持され
ることがある。その場合、固定治具13が降下して半導
体装置11の突起電極12が検査凹部17内に嵌合され
る過程で、位置決め部32の傾斜面32aに上面外周の
各四辺の角部11aが摺接して均等に当接するようにガ
イドされる。
【0099】よって、半導体装置11は、上面外周の角
部11aが位置決め部32の傾斜面32aを摺接しなが
ら固定治具13の中心位置に導かれると共に、フォーミ
ング基板16と平行な状態となるように位置決めされ
る。これにより、半導体装置11の各突起電極12は、
フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に嵌合す
ることができる。そのため、半導体装置11の試験及び
突起電極12の検査の信頼性の向上が図られている。
部11aが位置決め部32の傾斜面32aを摺接しなが
ら固定治具13の中心位置に導かれると共に、フォーミ
ング基板16と平行な状態となるように位置決めされ
る。これにより、半導体装置11の各突起電極12は、
フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に嵌合す
ることができる。そのため、半導体装置11の試験及び
突起電極12の検査の信頼性の向上が図られている。
【0100】図10は本発明の第3実施例である半導体
試験装置41を上下方向に分解して示す図である。半導
体試験装置41のフォーミング基板16は、半導体装置
11の装着位置を規制するための位置決め部42が上面
に設けられている。この位置決め部42は、断面形状が
台形とされており、半導体装置11の下面外周の角部1
1bが摺接する傾斜面42aを有する。この傾斜面42
aは半導体装置11の下面外周の各四辺に下方から当接
するように形成されている。
試験装置41を上下方向に分解して示す図である。半導
体試験装置41のフォーミング基板16は、半導体装置
11の装着位置を規制するための位置決め部42が上面
に設けられている。この位置決め部42は、断面形状が
台形とされており、半導体装置11の下面外周の角部1
1bが摺接する傾斜面42aを有する。この傾斜面42
aは半導体装置11の下面外周の各四辺に下方から当接
するように形成されている。
【0101】半導体装置11は、固定治具13に吸着さ
れたとき、傾いた状態で保持されることがある。その場
合、固定治具13が降下して半導体装置11の突起電極
12が検査凹部17内に嵌合される過程で、位置決め部
42の傾斜面42aに半導体装置11の下面外周の各四
辺の角部11bが摺接して均等に当接するようにガイド
される。
れたとき、傾いた状態で保持されることがある。その場
合、固定治具13が降下して半導体装置11の突起電極
12が検査凹部17内に嵌合される過程で、位置決め部
42の傾斜面42aに半導体装置11の下面外周の各四
辺の角部11bが摺接して均等に当接するようにガイド
される。
【0102】よって、半導体装置11は、下面外周の角
部11bが位置決め部42の傾斜面42aを摺接しなが
らフォーミング基板16の中心位置に導かれると共に、
フォーミング基板16と平行な状態となるように位置決
めされる。これにより、半導体装置11の各突起電極1
2は、フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に
嵌合することができる。そのため、半導体装置11の試
験及び突起電極12の検査の信頼性の向上が図られてい
る。
部11bが位置決め部42の傾斜面42aを摺接しなが
らフォーミング基板16の中心位置に導かれると共に、
フォーミング基板16と平行な状態となるように位置決
めされる。これにより、半導体装置11の各突起電極1
2は、フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に
嵌合することができる。そのため、半導体装置11の試
験及び突起電極12の検査の信頼性の向上が図られてい
る。
【0103】図11は本発明の第4実施例である半導体
試験装置51を示す図である。半導体試験装置51は、
半導体装置11を保持する固定治具13の昇降動作をガ
イドして半導体装置11の装着位置を位置決めする位置
決め機構52を有する。この位置決め機構52は、ステ
ージ21の上面に起立するガイドピン53と、固定治具
13に設けられガイドピン53が挿通されるガイド孔5
4とよりなる。
試験装置51を示す図である。半導体試験装置51は、
半導体装置11を保持する固定治具13の昇降動作をガ
イドして半導体装置11の装着位置を位置決めする位置
決め機構52を有する。この位置決め機構52は、ステ
ージ21の上面に起立するガイドピン53と、固定治具
13に設けられガイドピン53が挿通されるガイド孔5
4とよりなる。
【0104】また、位置決め機構52は、固定治具13
及びステージ21の四隅に設けられており、半導体装置
11が水平状態のまま昇降するように固定治具13の昇
降動作をガイドすると共に、フォーミング基板16に対
する半導体装置11の装着位置を所定位置に位置決めす
る。
及びステージ21の四隅に設けられており、半導体装置
11が水平状態のまま昇降するように固定治具13の昇
降動作をガイドすると共に、フォーミング基板16に対
する半導体装置11の装着位置を所定位置に位置決めす
る。
【0105】これにより、半導体装置11の各突起電極
12は、フォーミング基板16の各検査凹部17に正確
に嵌合することができる。そのため、半導体装置11の
試験及び突起電極12の検査の信頼性の向上が図られて
いる。図12は本発明の第5実施例である半導体試験装
置61を示す図である。
12は、フォーミング基板16の各検査凹部17に正確
に嵌合することができる。そのため、半導体装置11の
試験及び突起電極12の検査の信頼性の向上が図られて
いる。図12は本発明の第5実施例である半導体試験装
置61を示す図である。
【0106】半導体試験装置61では、固定治具13の
下面13aに半導体装置11を所定の吸着位置に導く固
定治具側位置決め部62が設けられている。この位置決
め部62は、半導体装置11の上面外周の角部11aが
摺接する傾斜面62aを有する。この傾斜面62aは半
導体装置11の上面外周の各四辺に上方から当接するよ
うに形成されている。
下面13aに半導体装置11を所定の吸着位置に導く固
定治具側位置決め部62が設けられている。この位置決
め部62は、半導体装置11の上面外周の角部11aが
摺接する傾斜面62aを有する。この傾斜面62aは半
導体装置11の上面外周の各四辺に上方から当接するよ
うに形成されている。
【0107】本実施例では、固定治具13の下面13a
が半導体装置11の上面と同じ寸法に形成されている。
そのため、半導体装置11がずれていると、ずれた方向
の角部11aが傾斜面62aに乗り上げることになる。
そして、半導体装置11は吸着されると共に、傾斜面6
2aに沿って固定治具13の下面13aに当接するよう
に変位する。
が半導体装置11の上面と同じ寸法に形成されている。
そのため、半導体装置11がずれていると、ずれた方向
の角部11aが傾斜面62aに乗り上げることになる。
そして、半導体装置11は吸着されると共に、傾斜面6
2aに沿って固定治具13の下面13aに当接するよう
に変位する。
【0108】また、半導体試験装置61は、フォーミン
グ基板16を半導体装置11に追従させて位置決めする
ステージ側位置決め機構63を有する。この位置決め機
構63は、ステージ21の上面に起立するガイドピン6
4と、フォーミング基板16に設けられガイドピン64
が挿通されるガイド孔65とよりなる。尚、ガイドピン
64は、測定基板18の孔18aにも挿通され、測定基
板18の装着位置を位置決めしている。
グ基板16を半導体装置11に追従させて位置決めする
ステージ側位置決め機構63を有する。この位置決め機
構63は、ステージ21の上面に起立するガイドピン6
4と、フォーミング基板16に設けられガイドピン64
が挿通されるガイド孔65とよりなる。尚、ガイドピン
64は、測定基板18の孔18aにも挿通され、測定基
板18の装着位置を位置決めしている。
【0109】位置決め機構63は、フォーミング基板1
6及びステージ21の四隅に設けられており、フォーミ
ング基板16をコイルバネ(図示せず)等により上方に
付勢してフォーミング基板16をフローティング状態に
支持する。また、位置決め機構63は、ガイドピン64
がガイド孔65に遊嵌状態で挿通されているので、フォ
ーミング基板16を水平方向に移動可能に支持してい
る。
6及びステージ21の四隅に設けられており、フォーミ
ング基板16をコイルバネ(図示せず)等により上方に
付勢してフォーミング基板16をフローティング状態に
支持する。また、位置決め機構63は、ガイドピン64
がガイド孔65に遊嵌状態で挿通されているので、フォ
ーミング基板16を水平方向に移動可能に支持してい
る。
【0110】ここで、固定治具13の下面13aに保持
された半導体装置11が降下すると、半導体装置11の
各突起電極12がフォーミング基板16の各検査凹部1
7に嵌合して突起電極12の形状検査が行なわれる。さ
らに、半導体装置11が降下すると共にフォーミング基
板16も降下して測定基板18の上面に当接する。
された半導体装置11が降下すると、半導体装置11の
各突起電極12がフォーミング基板16の各検査凹部1
7に嵌合して突起電極12の形状検査が行なわれる。さ
らに、半導体装置11が降下すると共にフォーミング基
板16も降下して測定基板18の上面に当接する。
【0111】これで、各突起電極12は、測定基板18
上に設けられた各測定端子19に接続され、半導体装置
11の電気的動作試験が行われる。また、フォーミング
基板16と半導体装置11との相対位置がずれていた場
合、各突起電極12が各検査凹部17に嵌合できない。
しかしながら、この半導体試験装置61では、ガイドピ
ン64がガイド孔65に遊嵌しているので、フォーミン
グ基板16が水平方向に変位することが可能である。そ
のため、半導体装置11の降下動作と共に、フォーミン
グ基板16は各突起電極12が各検査凹部17に嵌合す
る位置に変位する。
上に設けられた各測定端子19に接続され、半導体装置
11の電気的動作試験が行われる。また、フォーミング
基板16と半導体装置11との相対位置がずれていた場
合、各突起電極12が各検査凹部17に嵌合できない。
しかしながら、この半導体試験装置61では、ガイドピ
ン64がガイド孔65に遊嵌しているので、フォーミン
グ基板16が水平方向に変位することが可能である。そ
のため、半導体装置11の降下動作と共に、フォーミン
グ基板16は各突起電極12が各検査凹部17に嵌合す
る位置に変位する。
【0112】このように、フォーミング基板16は水平
状態のまま昇降すると共に、半導体装置11に対するフ
ォーミング基板16の水平方向の位置を調整して各突起
電極12を各検査凹部17に嵌合させるように動作す
る。これにより、半導体装置11の各突起電極12は、
フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に嵌合す
ることができる。そのため、半導体装置11の試験及び
突起電極12の検査の信頼性の向上が図られている。
状態のまま昇降すると共に、半導体装置11に対するフ
ォーミング基板16の水平方向の位置を調整して各突起
電極12を各検査凹部17に嵌合させるように動作す
る。これにより、半導体装置11の各突起電極12は、
フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に嵌合す
ることができる。そのため、半導体装置11の試験及び
突起電極12の検査の信頼性の向上が図られている。
【0113】図13は本発明の第6実施例である半導体
試験装置71を示す図である。半導体試験装置71は、
固定治具13の下面13aにゲル状の緩衝材72が固着
されている。この平板状に形成された緩衝材72は、比
較的柔らかくて変形しやすいため、外部からの押圧力が
作用すると、その部分が押圧方向に変形する。また、試
験終了後に半導体装置11が外されると、緩衝材72へ
の押圧力が除去されるため、緩衝材72は元の平板状に
戻る。
試験装置71を示す図である。半導体試験装置71は、
固定治具13の下面13aにゲル状の緩衝材72が固着
されている。この平板状に形成された緩衝材72は、比
較的柔らかくて変形しやすいため、外部からの押圧力が
作用すると、その部分が押圧方向に変形する。また、試
験終了後に半導体装置11が外されると、緩衝材72へ
の押圧力が除去されるため、緩衝材72は元の平板状に
戻る。
【0114】そのため、固定治具13の下面13aに吸
着された半導体装置11を降下させる過程で、フォーミ
ング基板16が半導体装置11に対して傾いている場
合、フォーミング基板16が半導体装置11に傾いた状
態で当接するため、緩衝材72は半導体装置11とフォ
ーミング基板16とが平行となるように変形する。
着された半導体装置11を降下させる過程で、フォーミ
ング基板16が半導体装置11に対して傾いている場
合、フォーミング基板16が半導体装置11に傾いた状
態で当接するため、緩衝材72は半導体装置11とフォ
ーミング基板16とが平行となるように変形する。
【0115】例えばフォーミング基板16が傾いていた
場合、固定治具13に吸着された半導体装置11を傾斜
させるような力が作用する。しかしながら、緩衝材72
の変形により半導体装置11がその方向に傾いてフォー
ミング基板16に追従するため、フォーミング基板16
と半導体装置11とが平行に保たれる。
場合、固定治具13に吸着された半導体装置11を傾斜
させるような力が作用する。しかしながら、緩衝材72
の変形により半導体装置11がその方向に傾いてフォー
ミング基板16に追従するため、フォーミング基板16
と半導体装置11とが平行に保たれる。
【0116】そのため、半導体装置11の各突起電極1
2は、フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に
嵌合することができる。よって、半導体装置11の試験
及び突起電極12の検査の信頼性の向上が図られてい
る。また、各突起電極12が各検査凹部17に嵌合され
る際の衝撃が緩衝材72により緩衝されるため、半導体
装置11及びフォーミング基板16の損傷が防止され
る。
2は、フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に
嵌合することができる。よって、半導体装置11の試験
及び突起電極12の検査の信頼性の向上が図られてい
る。また、各突起電極12が各検査凹部17に嵌合され
る際の衝撃が緩衝材72により緩衝されるため、半導体
装置11及びフォーミング基板16の損傷が防止され
る。
【0117】図14は本発明の第7実施例である半導体
試験装置73を示す図である。半導体試験装置73は、
フォーミング基板16の上面16aにゲル状の緩衝材7
4が固着されている。この緩衝材74は、各検査凹部1
7が設けられている部分の外側を囲むように枠状に形成
されており、外部からの押圧力が作用すると、その部分
が押圧方向に変形する。また、試験終了後に半導体装置
11が上方して離間すると、緩衝材74への押圧力が除
去されるため、緩衝材74は元の形状に戻る。
試験装置73を示す図である。半導体試験装置73は、
フォーミング基板16の上面16aにゲル状の緩衝材7
4が固着されている。この緩衝材74は、各検査凹部1
7が設けられている部分の外側を囲むように枠状に形成
されており、外部からの押圧力が作用すると、その部分
が押圧方向に変形する。また、試験終了後に半導体装置
11が上方して離間すると、緩衝材74への押圧力が除
去されるため、緩衝材74は元の形状に戻る。
【0118】例えば半導体装置11が傾いて装着されて
いた場合、フォーミング基板16を傾斜させるような力
が作用する。しかしながら、押圧された部分の緩衝材7
4の変形により半導体装置11がその方向に傾いてフォ
ーミング基板16の向きに追従するため、フォーミング
基板16と半導体装置11とが平行に保たれる。
いた場合、フォーミング基板16を傾斜させるような力
が作用する。しかしながら、押圧された部分の緩衝材7
4の変形により半導体装置11がその方向に傾いてフォ
ーミング基板16の向きに追従するため、フォーミング
基板16と半導体装置11とが平行に保たれる。
【0119】そのため、半導体装置11の各突起電極1
2は、フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に
嵌合することができる。よって、半導体装置11の試験
及び突起電極12の検査の信頼性の向上が図られてい
る。また、各突起電極12が各検査凹部17に嵌合され
る際の衝撃が緩衝材74により緩衝されるため、半導体
装置11及びフォーミング基板16の損傷が防止され
る。
2は、フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に
嵌合することができる。よって、半導体装置11の試験
及び突起電極12の検査の信頼性の向上が図られてい
る。また、各突起電極12が各検査凹部17に嵌合され
る際の衝撃が緩衝材74により緩衝されるため、半導体
装置11及びフォーミング基板16の損傷が防止され
る。
【0120】図15は本発明の第8実施例である半導体
試験装置75を示す図である。半導体試験装置75は、
測定基板18とフォーミング基板16との間にゲル状の
緩衝材76が設けられている。この緩衝材76は、各測
定端子19が設けられている部分の外側を囲むように枠
状に形成されており、外部からの押圧力が作用すると、
その部分が押圧方向に変形する。また、試験終了後に半
導体装置11が上方して離間すると、緩衝材76への押
圧力が除去されるため、緩衝材76は元の形状に戻る。
試験装置75を示す図である。半導体試験装置75は、
測定基板18とフォーミング基板16との間にゲル状の
緩衝材76が設けられている。この緩衝材76は、各測
定端子19が設けられている部分の外側を囲むように枠
状に形成されており、外部からの押圧力が作用すると、
その部分が押圧方向に変形する。また、試験終了後に半
導体装置11が上方して離間すると、緩衝材76への押
圧力が除去されるため、緩衝材76は元の形状に戻る。
【0121】例えば半導体装置11が傾いて装着されて
いた場合、フォーミング基板16を傾斜させるような力
が作用する。しかしながら、押圧された部分の緩衝材7
6の変形によりフォーミング基板16がその方向に傾い
て半導体装置11の向きに追従するため、フォーミング
基板16と半導体装置11とが平行に保たれる。
いた場合、フォーミング基板16を傾斜させるような力
が作用する。しかしながら、押圧された部分の緩衝材7
6の変形によりフォーミング基板16がその方向に傾い
て半導体装置11の向きに追従するため、フォーミング
基板16と半導体装置11とが平行に保たれる。
【0122】そのため、半導体装置11の各突起電極1
2は、フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に
嵌合することができる。よって、半導体装置11の試験
及び突起電極12の検査の信頼性の向上が図られてい
る。また、各突起電極12が各検査凹部17に嵌合され
る際の衝撃が緩衝材76により緩衝されるため、半導体
装置11及びフォーミング基板16の損傷が防止され
る。
2は、フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に
嵌合することができる。よって、半導体装置11の試験
及び突起電極12の検査の信頼性の向上が図られてい
る。また、各突起電極12が各検査凹部17に嵌合され
る際の衝撃が緩衝材76により緩衝されるため、半導体
装置11及びフォーミング基板16の損傷が防止され
る。
【0123】図16は本発明の第9実施例である半導体
試験装置77を示す図である。半導体試験装置77は、
測定基板18とステージ21との間にゲル状の緩衝材7
8が設けられている。この緩衝材78は、平板状に形成
されており、外部からの押圧力が作用すると、その部分
が押圧方向に変形する。また、試験終了後に半導体装置
11が上方して離間すると、緩衝材78への押圧力が除
去されるため、緩衝材78は元の形状に戻る。
試験装置77を示す図である。半導体試験装置77は、
測定基板18とステージ21との間にゲル状の緩衝材7
8が設けられている。この緩衝材78は、平板状に形成
されており、外部からの押圧力が作用すると、その部分
が押圧方向に変形する。また、試験終了後に半導体装置
11が上方して離間すると、緩衝材78への押圧力が除
去されるため、緩衝材78は元の形状に戻る。
【0124】例えば半導体装置11が傾いて装着されて
いた場合、フォーミング基板16及び測定基板18を傾
斜させるような力が作用する。しかしながら、押圧され
た部分の緩衝材78の変形によりフォーミング基板16
及び測定基板18がその方向に傾いて半導体装置11の
向きに追従するため、フォーミング基板16と半導体装
置11とが平行に保たれる。
いた場合、フォーミング基板16及び測定基板18を傾
斜させるような力が作用する。しかしながら、押圧され
た部分の緩衝材78の変形によりフォーミング基板16
及び測定基板18がその方向に傾いて半導体装置11の
向きに追従するため、フォーミング基板16と半導体装
置11とが平行に保たれる。
【0125】そのため、半導体装置11の各突起電極1
2は、フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に
嵌合することができる。よって、半導体装置11の試験
及び突起電極12の検査の信頼性の向上が図られてい
る。また、各突起電極12が各検査凹部17に嵌合され
る際の衝撃が緩衝材76により緩衝されるため、半導体
装置11及びフォーミング基板16、測定基板18の損
傷が防止される。
2は、フォーミング基板16の各検査凹部17に正確に
嵌合することができる。よって、半導体装置11の試験
及び突起電極12の検査の信頼性の向上が図られてい
る。また、各突起電極12が各検査凹部17に嵌合され
る際の衝撃が緩衝材76により緩衝されるため、半導体
装置11及びフォーミング基板16、測定基板18の損
傷が防止される。
【0126】また、フォーミング基板16には、測定基
板18から起立するガイドロッド79が挿通されるガイ
ド孔16bが設けられている。そのため、フォーミング
基板16は、ガイドロッド79により水平状態のまま上
下動可能に支持され、且つ水平方向の移動を規制されて
所定位置に位置決めされている。
板18から起立するガイドロッド79が挿通されるガイ
ド孔16bが設けられている。そのため、フォーミング
基板16は、ガイドロッド79により水平状態のまま上
下動可能に支持され、且つ水平方向の移動を規制されて
所定位置に位置決めされている。
【0127】図17は本発明の第10実施例である半導
体試験装置80を示す側面図、図18は半導体試験装置
80の平面図である。半導体試験装置80は、半導体装
置11の下面に突出する複数の突起電極12の配列に対
応した配列で複数の検査ユニット81(811 〜8
1n )が配設されている。この検査ユニット81の上端
には、突起電極12に対向する測定端子82が設けられ
ている。すなわち、複数の測定端子82は上記フォーミ
ング基板16を各突起電極12毎に分割したものであ
る。
体試験装置80を示す側面図、図18は半導体試験装置
80の平面図である。半導体試験装置80は、半導体装
置11の下面に突出する複数の突起電極12の配列に対
応した配列で複数の検査ユニット81(811 〜8
1n )が配設されている。この検査ユニット81の上端
には、突起電極12に対向する測定端子82が設けられ
ている。すなわち、複数の測定端子82は上記フォーミ
ング基板16を各突起電極12毎に分割したものであ
る。
【0128】各検査ユニット81は、図18に拡大して
示すように測定端子82の上面に突起電極12の外観形
状に対応する球状の検査凹部83が形成されている。ま
た、測定端子82は、導電材により形成されているた
め、突起電極12が検査凹部83に挿入された時点で突
起電極12と電気的に接続される。
示すように測定端子82の上面に突起電極12の外観形
状に対応する球状の検査凹部83が形成されている。ま
た、測定端子82は、導電材により形成されているた
め、突起電極12が検査凹部83に挿入された時点で突
起電極12と電気的に接続される。
【0129】従って、突起電極12は検査凹部83に嵌
合されると、その外観形状が検査されると共に、電気的
動作試験が行われるため、試験、検査時間を短縮するこ
とが可能になる。さらに、測定端子82は、収納ケース
84内に収納されたコイルバネ85のバネ力により上方
に付勢されており、突起電極12が規定の寸法形状より
も大きい場合、コイルバネ85が圧縮される構成となっ
ている。尚、収納ケース84は、各突起電極12が近接
配置され、隣接する収納ケース84に接触するため、絶
縁材により形成されている。
合されると、その外観形状が検査されると共に、電気的
動作試験が行われるため、試験、検査時間を短縮するこ
とが可能になる。さらに、測定端子82は、収納ケース
84内に収納されたコイルバネ85のバネ力により上方
に付勢されており、突起電極12が規定の寸法形状より
も大きい場合、コイルバネ85が圧縮される構成となっ
ている。尚、収納ケース84は、各突起電極12が近接
配置され、隣接する収納ケース84に接触するため、絶
縁材により形成されている。
【0130】また、測定端子82は下方に延在するロッ
ド86を有しており、ロッド86は収納ケース84内に
支持された中空状のガイド部87の中空孔(図示せず)
内に摺動自在に挿入されている。尚、ロッド86の下端
部は、収納ケース84の底部を貫通して下方に突出して
いる。
ド86を有しており、ロッド86は収納ケース84内に
支持された中空状のガイド部87の中空孔(図示せず)
内に摺動自在に挿入されている。尚、ロッド86の下端
部は、収納ケース84の底部を貫通して下方に突出して
いる。
【0131】収納ケース84の上端には、測定端子82
の下面に当接して測定端子82の衝撃を緩和する緩衝材
88が設けられている。本実施例では、各測定端子82
が個別に昇降可能に支持されているため、例えば半導体
装置11が傾いた状態で装着された場合でも測定端子8
2が各個に下方に押圧されて変位することができるの
で、半導体装置11の装着状態にかかわらず各突起電極
12を各測定端子82の検査凹部83に嵌合させること
ができ、各突起電極12の形状検査及び半導体装置11
の電気的動作試験を同時に行うことができる。
の下面に当接して測定端子82の衝撃を緩和する緩衝材
88が設けられている。本実施例では、各測定端子82
が個別に昇降可能に支持されているため、例えば半導体
装置11が傾いた状態で装着された場合でも測定端子8
2が各個に下方に押圧されて変位することができるの
で、半導体装置11の装着状態にかかわらず各突起電極
12を各測定端子82の検査凹部83に嵌合させること
ができ、各突起電極12の形状検査及び半導体装置11
の電気的動作試験を同時に行うことができる。
【0132】図20は本発明の第11実施例である半導
体試験装置91を示す側面図である。半導体試験装置9
1は、上記各検査ユニット81の収納ケース84の外周
に絶縁体92を被覆してなる。そのため、収納ケース8
4を導電材により形成することが可能になる。
体試験装置91を示す側面図である。半導体試験装置9
1は、上記各検査ユニット81の収納ケース84の外周
に絶縁体92を被覆してなる。そのため、収納ケース8
4を導電材により形成することが可能になる。
【0133】本実施例では、各突起電極12が各測定端
子82の検査凹部83に嵌合された後、各測定端子82
が各突起電極12に押圧されて下動することにより収納
ケース84の上端に接触する。これにより、各突起電極
12は電気的に接続されて半導体装置11の電気的動作
試験が可能になる。
子82の検査凹部83に嵌合された後、各測定端子82
が各突起電極12に押圧されて下動することにより収納
ケース84の上端に接触する。これにより、各突起電極
12は電気的に接続されて半導体装置11の電気的動作
試験が可能になる。
【0134】また、各突起電極12が各測定端子82の
検査凹部83に嵌合されることにより各突起電極12の
外観形状が検査され、その後各測定端子82が収納ケー
ス84の上端に接触する位置まで変位して半導体装置1
1の電気的動作試験が行われるため、突起電極12の外
観検査と半導体装置11の動作試験とを個別に行うこと
ができる。そのため、突起電極12の検査及び半導体装
置11の試験の信頼性の向上を図ることができる。
検査凹部83に嵌合されることにより各突起電極12の
外観形状が検査され、その後各測定端子82が収納ケー
ス84の上端に接触する位置まで変位して半導体装置1
1の電気的動作試験が行われるため、突起電極12の外
観検査と半導体装置11の動作試験とを個別に行うこと
ができる。そのため、突起電極12の検査及び半導体装
置11の試験の信頼性の向上を図ることができる。
【0135】図21は本発明の第12実施例である半導
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、測定基板18に形成されている測定端子100に突
起状端子101を形成したことを特徴とするものであ
る。突起状端子101は、例えばワイヤボンディング法
を用いて形成されるスタッドバンプである。また、本実
施例では測定端子100は平板状の形状、即ち測定基板
18に形成されたパターンにより形成されている。
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、測定基板18に形成されている測定端子100に突
起状端子101を形成したことを特徴とするものであ
る。突起状端子101は、例えばワイヤボンディング法
を用いて形成されるスタッドバンプである。また、本実
施例では測定端子100は平板状の形状、即ち測定基板
18に形成されたパターンにより形成されている。
【0136】この突起状端子101をワイヤボンディン
グ法により形成するには、先ずワイヤボンディング装置
に設けられたキャビラリを用いて測定端子100上に所
謂ネイルヘッド部を形成し、その後キャビラリを若干量
上動させた上でワイヤを切断する。これだけの簡単な処
理により突起状端子101は形成される。
グ法により形成するには、先ずワイヤボンディング装置
に設けられたキャビラリを用いて測定端子100上に所
謂ネイルヘッド部を形成し、その後キャビラリを若干量
上動させた上でワイヤを切断する。これだけの簡単な処
理により突起状端子101は形成される。
【0137】このように、突起状端子101を測定端子
100の上面に形成することにより、測定端子100は
実質的に測定基板18から上部に突出した構造となる。
そして、測定基板18から上部に突出した部位である突
起状端子101が検査凹部17内に進入し突起電極12
と接続することとなる。よって、測定端子100の保護
を図りつつ、測定端子100と突起電極12との電気接
続性を向上させることができる。
100の上面に形成することにより、測定端子100は
実質的に測定基板18から上部に突出した構造となる。
そして、測定基板18から上部に突出した部位である突
起状端子101が検査凹部17内に進入し突起電極12
と接続することとなる。よって、測定端子100の保護
を図りつつ、測定端子100と突起電極12との電気接
続性を向上させることができる。
【0138】また本実施例では、突起状端子101をス
タッドバンプにより形成したことにより、半導体装置の
製造技術として一般に用いられているワイヤボンディン
グ技術を用いて突起状端子101を形成することができ
る。よって、低コストでかつ作成効率よく突起状端子1
01を形成することができる。
タッドバンプにより形成したことにより、半導体装置の
製造技術として一般に用いられているワイヤボンディン
グ技術を用いて突起状端子101を形成することができ
る。よって、低コストでかつ作成効率よく突起状端子1
01を形成することができる。
【0139】また、通常スタッドバンプはその先端部に
ワイヤ切断による小突起が形成され、この小突起は尖っ
た形状となるため、これによっても測定端子100(突
起状端子101)と突起電極12との電気接続性を向上
させることができる。図22及び図23は第12実施例
の変形例を示している。図22は、突起状電極101A
を複数(本変形例では3個)のスタッドバンプを多段に
積層した構造としたものである。同図に示すように、複
数個のスタッドバンプを積層することは可能であり、複
数個のスタッドバンプを積層することにより、突起状電
極101Aの突起量を高くすることができる。
ワイヤ切断による小突起が形成され、この小突起は尖っ
た形状となるため、これによっても測定端子100(突
起状端子101)と突起電極12との電気接続性を向上
させることができる。図22及び図23は第12実施例
の変形例を示している。図22は、突起状電極101A
を複数(本変形例では3個)のスタッドバンプを多段に
積層した構造としたものである。同図に示すように、複
数個のスタッドバンプを積層することは可能であり、複
数個のスタッドバンプを積層することにより、突起状電
極101Aの突起量を高くすることができる。
【0140】よって、使用するフォーミング基板16の
構成や突起電極12の径寸法等に最適な高さの突起状電
極101Aを設けることができ、突起電極12との電気
的接続性を向上することができる。図23は、異種の金
属よりなる複数個のスタッドバンプを複数個多段に形成
することにより突起状電極101Bを構成したものであ
る。本変形例では、スタッドバンプを3層に積層した構
造とされており、またその最先端部のスタッドバンプ1
02aの材料はパラジウム(Pd)とされており、また
他のスタッドバンプ102b,102cの材料は金(A
u)とされている。
構成や突起電極12の径寸法等に最適な高さの突起状電
極101Aを設けることができ、突起電極12との電気
的接続性を向上することができる。図23は、異種の金
属よりなる複数個のスタッドバンプを複数個多段に形成
することにより突起状電極101Bを構成したものであ
る。本変形例では、スタッドバンプを3層に積層した構
造とされており、またその最先端部のスタッドバンプ1
02aの材料はパラジウム(Pd)とされており、また
他のスタッドバンプ102b,102cの材料は金(A
u)とされている。
【0141】このように、最先端部のスタッドバンプ1
02aの材料をパラジウム(Pd)としたのは、一般に
半導体装置の突起電極12には半田メッキがされてお
り、半田との適合性を考慮したものである。また、他の
スタッドバンプ102b,102cの材料を金(Au)
にしたのは、測定端子100の材質が銅(Cu)であ
り、この銅(Cu)と先端部のスタッドバンプ101a
の材料であるパラジウム(Pd)との双方に対する適合
性を考慮したものである。
02aの材料をパラジウム(Pd)としたのは、一般に
半導体装置の突起電極12には半田メッキがされてお
り、半田との適合性を考慮したものである。また、他の
スタッドバンプ102b,102cの材料を金(Au)
にしたのは、測定端子100の材質が銅(Cu)であ
り、この銅(Cu)と先端部のスタッドバンプ101a
の材料であるパラジウム(Pd)との双方に対する適合
性を考慮したものである。
【0142】上記のように、異種の金属よりなる複数個
のスタッドバンプを複数個多段に形成し突起状電極10
1Bを構成したことにより、最先端部に配設されるスタ
ッドバンプ102aの材料を突起電極12に対し適合性
の良いものに選定でき、また最先端部以外のスタッドバ
ンプ102b,102cの材料は測定端子100或いは
最先端部に配設されスタッドバンプ102aに対し適合
性の良いものに選定できる。
のスタッドバンプを複数個多段に形成し突起状電極10
1Bを構成したことにより、最先端部に配設されるスタ
ッドバンプ102aの材料を突起電極12に対し適合性
の良いものに選定でき、また最先端部以外のスタッドバ
ンプ102b,102cの材料は測定端子100或いは
最先端部に配設されスタッドバンプ102aに対し適合
性の良いものに選定できる。
【0143】これにより、最先端部に配設されたスタッ
ドバンプ102aと突起電極12との接続性、各スタッ
ドバンプ102a〜102c間の接続性、及びスタッド
バンプ102cと測定端子100との接続性を共に良好
なものとすることができる。図24は本発明の第13実
施例である半導体試験装置の要部を拡大して示す図であ
る。本実施例では、測定基板18に形成されている測定
端子105の表面部に粗化面106を形成したことを特
徴とするものである。
ドバンプ102aと突起電極12との接続性、各スタッ
ドバンプ102a〜102c間の接続性、及びスタッド
バンプ102cと測定端子100との接続性を共に良好
なものとすることができる。図24は本発明の第13実
施例である半導体試験装置の要部を拡大して示す図であ
る。本実施例では、測定基板18に形成されている測定
端子105の表面部に粗化面106を形成したことを特
徴とするものである。
【0144】この粗化面106は、測定基板18に例え
ばプリント形成された測定端子105の表面部にブラス
ト加工,或いは化学的粗化加工(例えば、強酸に浸漬)
することにより形成される。このように、測定端子10
5の表面部に形成された粗化面106は微細な凹凸が形
成された状態であるため、その表面積は広くなり、突起
電極12が当接した時点でこの微細な凸部は突起電極1
2に食い込んだ状態となるため、測定端子105と突起
電極12との電気的接続を確実に行なうことができる。
ばプリント形成された測定端子105の表面部にブラス
ト加工,或いは化学的粗化加工(例えば、強酸に浸漬)
することにより形成される。このように、測定端子10
5の表面部に形成された粗化面106は微細な凹凸が形
成された状態であるため、その表面積は広くなり、突起
電極12が当接した時点でこの微細な凸部は突起電極1
2に食い込んだ状態となるため、測定端子105と突起
電極12との電気的接続を確実に行なうことができる。
【0145】図25は本発明の第14実施例である半導
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、測定基板18に形成されている測定端子100の表
面部に異種金属膜107を形成したことを特徴とするも
のである。異種金属膜107は、測定端子100の材料
とは異なる材料である金属膜である。具体的には、測定
端子100は銅(Cu)であり、異種金属膜107の材
料としては測定端子100の材料とは異なる例えばパラ
ジウム(Pd)が選定されている。
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、測定基板18に形成されている測定端子100の表
面部に異種金属膜107を形成したことを特徴とするも
のである。異種金属膜107は、測定端子100の材料
とは異なる材料である金属膜である。具体的には、測定
端子100は銅(Cu)であり、異種金属膜107の材
料としては測定端子100の材料とは異なる例えばパラ
ジウム(Pd)が選定されている。
【0146】本実施例において異種金属膜107の材料
としてパラジウム(Pd)を選定したのは、前記した図
23を用いて説明したと同様の理由である。即ち、一般
に半導体装置の突起電極12には半田メッキがされてお
りこの半田との適合性と、銅よりなる測定端子100と
の適合性の双方を両立させうる材料としてパラジウム
(Pd)を選定している。
としてパラジウム(Pd)を選定したのは、前記した図
23を用いて説明したと同様の理由である。即ち、一般
に半導体装置の突起電極12には半田メッキがされてお
りこの半田との適合性と、銅よりなる測定端子100と
の適合性の双方を両立させうる材料としてパラジウム
(Pd)を選定している。
【0147】このように、測定端子100の表面部に測
定端子100及び突起電極12の双方に適合性を有した
異種金属膜107を形成することにより、測定端子10
0と突起電極12が接合性の不良なものであっても、そ
の間に介在する異種金属膜107により測定端子100
と突起電極12との間における電気的接合性の向上を図
ることができる。また、測定端子100は異種金属膜1
07により覆われた構成となるため、測定端子100の
保護を図ることもできる。
定端子100及び突起電極12の双方に適合性を有した
異種金属膜107を形成することにより、測定端子10
0と突起電極12が接合性の不良なものであっても、そ
の間に介在する異種金属膜107により測定端子100
と突起電極12との間における電気的接合性の向上を図
ることができる。また、測定端子100は異種金属膜1
07により覆われた構成となるため、測定端子100の
保護を図ることもできる。
【0148】図26は本発明の第15実施例である半導
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、フォーミング基板16に形成されている検査凹部1
10の形状を円錐形状としている。このように、フォー
ミング基板16に形成されている検査凹部110の形状
は半球形状に限定されるものではなく、形状検査を行な
いうる形状であれば他の形状としてもよい。
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、フォーミング基板16に形成されている検査凹部1
10の形状を円錐形状としている。このように、フォー
ミング基板16に形成されている検査凹部110の形状
は半球形状に限定されるものではなく、形状検査を行な
いうる形状であれば他の形状としてもよい。
【0149】具体的には、検査凹部110の形状を上記
の円錐形状の他に角錐形状とすることも可能である。
尚、突起電極12のフォーミング性の面からは半球形状
が望ましく、また検査凹部110の形成性の面からは円
錐形状,角錐形状の方が望ましい。
の円錐形状の他に角錐形状とすることも可能である。
尚、突起電極12のフォーミング性の面からは半球形状
が望ましく、また検査凹部110の形成性の面からは円
錐形状,角錐形状の方が望ましい。
【0150】また本実施例では、測定端子構造をフレキ
シブル構造とされた端子シート部111と、この端子シ
ート部111の下部に位置すると共にフォーミング基板
16の検査凹部110と対向する位置に凸部114を形
成した基台113とにより構成したことを特徴とする。
シブル構造とされた端子シート部111と、この端子シ
ート部111の下部に位置すると共にフォーミング基板
16の検査凹部110と対向する位置に凸部114を形
成した基台113とにより構成したことを特徴とする。
【0151】端子シート部111は例えばフレキシブル
回路基板により形成されており、所定位置には測定端子
112のパターンが形成されている。また、端子シート
部111は基台113に装着された状態において、凸部
114が測定端子112をその背面側から上方に向けて
押し出すよう構成されている。よって、測定端子112
は他の部位に比べて突出した端子形状となるため、突起
電極12との電気的接続を確実に行なうことができる。
回路基板により形成されており、所定位置には測定端子
112のパターンが形成されている。また、端子シート
部111は基台113に装着された状態において、凸部
114が測定端子112をその背面側から上方に向けて
押し出すよう構成されている。よって、測定端子112
は他の部位に比べて突出した端子形状となるため、突起
電極12との電気的接続を確実に行なうことができる。
【0152】また、測定端子112はフレキシブル構造
とされた端子シート部111に形成されるため、前記基
台113に測定端子112を直接配設する必要はなく、
かつ端子シート部111の形成はフレキシブル回路基板
の形成に準じて行なうことができるため、容易かつ安価
に形成することができる。
とされた端子シート部111に形成されるため、前記基
台113に測定端子112を直接配設する必要はなく、
かつ端子シート部111の形成はフレキシブル回路基板
の形成に準じて行なうことができるため、容易かつ安価
に形成することができる。
【0153】図27は本発明の第16実施例である半導
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、半導体装置11に配設されている突起電極12と、
フォーミング基板16に形成されている検査凹部17と
の位置決めを行なう方法に特徴を有するものである。具
体的には、本実施例ではフォーミング基板16に振動発
生装置115が接続されており、この振動発生装置11
5を駆動することによりフォーミング基板16を振動さ
せることができる。
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、半導体装置11に配設されている突起電極12と、
フォーミング基板16に形成されている検査凹部17と
の位置決めを行なう方法に特徴を有するものである。具
体的には、本実施例ではフォーミング基板16に振動発
生装置115が接続されており、この振動発生装置11
5を駆動することによりフォーミング基板16を振動さ
せることができる。
【0154】フォーミング基板16を振動させることに
より、半導体装置11はフォーミング基板16上で相対
的に移動(振動)し、やがてフォーミング基板16に形
成されている検査凹部17に突起電極12は嵌入して位
置決めされる。よって、突起電極12と検査凹部17の
位置決めを容易かつ自動的に行なうことができる。
より、半導体装置11はフォーミング基板16上で相対
的に移動(振動)し、やがてフォーミング基板16に形
成されている検査凹部17に突起電極12は嵌入して位
置決めされる。よって、突起電極12と検査凹部17の
位置決めを容易かつ自動的に行なうことができる。
【0155】図28は本発明の第17実施例である半導
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、フォーミング基板116に真空吸引装置(真空ポン
プ)に接続れさた吸引通路118が形成されており、こ
の吸引通路118は検査凹部17内に吸引口117を有
した構成とされている。従って、真空ポンプを駆動して
吸引通路118を介して吸引口117より突起電極12
を吸引することにより、突起電極12は強制的に検査凹
部17内に吸引され、よって検査凹部17に突起電極1
2を精度良く位置決めすることができる。
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、フォーミング基板116に真空吸引装置(真空ポン
プ)に接続れさた吸引通路118が形成されており、こ
の吸引通路118は検査凹部17内に吸引口117を有
した構成とされている。従って、真空ポンプを駆動して
吸引通路118を介して吸引口117より突起電極12
を吸引することにより、突起電極12は強制的に検査凹
部17内に吸引され、よって検査凹部17に突起電極1
2を精度良く位置決めすることができる。
【0156】図29は本発明の第18実施例である半導
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、フォーミング基板119を多孔質材料により形成す
ると共にこのフォーミング基板119を真空吸引装置
(真空ポンプ)に接続した構成としたことを特徴とする
ものである。
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、フォーミング基板119を多孔質材料により形成す
ると共にこのフォーミング基板119を真空吸引装置
(真空ポンプ)に接続した構成としたことを特徴とする
ものである。
【0157】上記構成において真空ポンプを駆動する
と、フォーミング基板119は多孔質材料により形成さ
れているため、半導体装置11はその全面においてフォ
ーミング基板119に吸引され、よって突起電極12は
窪んだ形状の検査凹部17内に嵌入する。よって、検査
凹部17に突起電極12を精度良く位置決めすることが
できる。
と、フォーミング基板119は多孔質材料により形成さ
れているため、半導体装置11はその全面においてフォ
ーミング基板119に吸引され、よって突起電極12は
窪んだ形状の検査凹部17内に嵌入する。よって、検査
凹部17に突起電極12を精度良く位置決めすることが
できる。
【0158】図30は本発明の第19実施例である半導
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、半導体装置11をフォーミング基板135に沿って
水平移動させうる移動装置120を設け、この移動装置
120により半導体装置11を水平移動させうる構成と
したことを特徴とするものである。
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例で
は、半導体装置11をフォーミング基板135に沿って
水平移動させうる移動装置120を設け、この移動装置
120により半導体装置11を水平移動させうる構成と
したことを特徴とするものである。
【0159】この移動装置120は、その先端部に鉤状
の爪部120aを有し、この爪部120aが半導体装置
11の一側面と係合する構成とされている。従って、移
動装置120を同図に示す矢印方向に移動させることに
より、半導体装置11も同方向に移動する。
の爪部120aを有し、この爪部120aが半導体装置
11の一側面と係合する構成とされている。従って、移
動装置120を同図に示す矢印方向に移動させることに
より、半導体装置11も同方向に移動する。
【0160】このように、移動装置120により半導体
装置11を移動付勢しうる構成とすることにより、半導
体装置11の移動に伴いやがて突起電極12はフォーミ
ング基板135に形成されている検査凹部130に嵌入
し位置決めされることとなる。よって、簡単かつ確実に
突起電極12と検査凹部130との位置決め処理を行な
うことができる。
装置11を移動付勢しうる構成とすることにより、半導
体装置11の移動に伴いやがて突起電極12はフォーミ
ング基板135に形成されている検査凹部130に嵌入
し位置決めされることとなる。よって、簡単かつ確実に
突起電極12と検査凹部130との位置決め処理を行な
うことができる。
【0161】一方、本実施例に係る検査凹部130は、
勾配の異なる第1及び第2の傾斜面により形成されてい
る。そして、勾配の緩やかな第1の傾斜面を突起電極1
2を案内する案内面131とし、また勾配な急な第2の
傾斜面を突起電極12を係止する係止面132としてい
る。更に、案内面131と係止面132との間には、突
起電極12の位置決めを行なう位置決め面133が形成
されている。
勾配の異なる第1及び第2の傾斜面により形成されてい
る。そして、勾配の緩やかな第1の傾斜面を突起電極1
2を案内する案内面131とし、また勾配な急な第2の
傾斜面を突起電極12を係止する係止面132としてい
る。更に、案内面131と係止面132との間には、突
起電極12の位置決めを行なう位置決め面133が形成
されている。
【0162】よって、移動装置120により半導体装置
11に形成された突起電極12が検査凹部130の形成
位置に至ると、先ず突起電極12は案内面131に案内
され進行し、続いて係止面132に係止されて位置決め
される。そして、係止面132に係止された状態で下動
して位置決め面133に嵌入する。
11に形成された突起電極12が検査凹部130の形成
位置に至ると、先ず突起電極12は案内面131に案内
され進行し、続いて係止面132に係止されて位置決め
される。そして、係止面132に係止された状態で下動
して位置決め面133に嵌入する。
【0163】このように、検査凹部130に案内面13
1,係止面132,及び位置決め面133を形成するこ
とにより、簡単かつ確実に突起電極12と検査凹部13
0との位置決め処理を行なうことができる。図31は本
発明の第20実施例である半導体試験装置の要部を拡大
して示す図である。本実施例で用いる検査凹部130
は、前記した第19実施例と同様に、突起電極12を案
内する案内面131と、突起電極12を係止する係止面
132と、この案内面131と係止面132との間に形
成され突起電極12の位置決めを行なう位置決め面13
3とを有した構成とされている。
1,係止面132,及び位置決め面133を形成するこ
とにより、簡単かつ確実に突起電極12と検査凹部13
0との位置決め処理を行なうことができる。図31は本
発明の第20実施例である半導体試験装置の要部を拡大
して示す図である。本実施例で用いる検査凹部130
は、前記した第19実施例と同様に、突起電極12を案
内する案内面131と、突起電極12を係止する係止面
132と、この案内面131と係止面132との間に形
成され突起電極12の位置決めを行なう位置決め面13
3とを有した構成とされている。
【0164】しかるに、本実施例では第19実施例のよ
うに移動装置120を用いて半導体装置11を移動付勢
するのではなく、フォーミング基板135を傾ける(図
31(A)では角度θ傾けた状態を示している)ことに
より、半導体装置11を重力により移動付勢する構成と
したことを特徴とするものである。
うに移動装置120を用いて半導体装置11を移動付勢
するのではなく、フォーミング基板135を傾ける(図
31(A)では角度θ傾けた状態を示している)ことに
より、半導体装置11を重力により移動付勢する構成と
したことを特徴とするものである。
【0165】上記構成において、突起電極12と検査凹
部130の位置決めを行なうには、半導体装置11をフ
ォーミング基板135に載置した上で、このフォーミン
グ基板135を傾ける。これにより、半導体装置11は
自重によりフォーミング基板135上を移動し、突起電
極12は検査凹部130の形成位置に至る。
部130の位置決めを行なうには、半導体装置11をフ
ォーミング基板135に載置した上で、このフォーミン
グ基板135を傾ける。これにより、半導体装置11は
自重によりフォーミング基板135上を移動し、突起電
極12は検査凹部130の形成位置に至る。
【0166】すると、先ず図31(A)に示されるよう
に、突起電極12は案内面131に案内され進行する。
続いて、図31(B)に示されるように、突起電極12
は係止面132に係止されて位置決めされる。そして、
図31(C)に示されるように、突起電極12は係止面
132に係止された状態で下動して位置決め面133に
嵌入する。
に、突起電極12は案内面131に案内され進行する。
続いて、図31(B)に示されるように、突起電極12
は係止面132に係止されて位置決めされる。そして、
図31(C)に示されるように、突起電極12は係止面
132に係止された状態で下動して位置決め面133に
嵌入する。
【0167】このように、検査凹部130に案内面13
1,係止面132,及び位置決め面133を形成するこ
とにより、簡単かつ確実に突起電極12と検査凹部13
0との位置決め処理を行なうことができる。特に、第1
9実施例のように移動装置120を用いることなく突起
電極12を検査凹部130に位置決めできるため、半導
体検査装置の構成を簡単化することができる。
1,係止面132,及び位置決め面133を形成するこ
とにより、簡単かつ確実に突起電極12と検査凹部13
0との位置決め処理を行なうことができる。特に、第1
9実施例のように移動装置120を用いることなく突起
電極12を検査凹部130に位置決めできるため、半導
体検査装置の構成を簡単化することができる。
【0168】図32は本発明の第21実施例である半導
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例
は、フォーミング基板136の測定端子100(同図に
は図示せず)と対向する位置に第2の凹部138,13
9を形成したことを特徴とするものである。
体試験装置の要部を拡大して示す図である。本実施例
は、フォーミング基板136の測定端子100(同図に
は図示せず)と対向する位置に第2の凹部138,13
9を形成したことを特徴とするものである。
【0169】この第2の凹部138,139は、検査凹
部17(第1の凹部)の形成位置と対向する位置に形成
されており、その形状は図32(A)に示されるように
矩形或いは円盤状凹部でもよく、また図32(B)に示
されるように検査凹部17の形状と略等しい形状(半球
形状,円錐形状,三角錐形状等)としてもよい。
部17(第1の凹部)の形成位置と対向する位置に形成
されており、その形状は図32(A)に示されるように
矩形或いは円盤状凹部でもよく、また図32(B)に示
されるように検査凹部17の形状と略等しい形状(半球
形状,円錐形状,三角錐形状等)としてもよい。
【0170】このように、フォーミング基板136の測
定端子100と対向する位置に第2の凹部138,13
9を形成することにより、突起電極12がフォーミング
基板136(検査凹部17)に嵌合した状態において、
フォーミング基板136の下部に露出する突起電極12
の表面積を広く設定することができる。
定端子100と対向する位置に第2の凹部138,13
9を形成することにより、突起電極12がフォーミング
基板136(検査凹部17)に嵌合した状態において、
フォーミング基板136の下部に露出する突起電極12
の表面積を広く設定することができる。
【0171】このように、フォーミング基板136から
露出する突起電極12の表面積が広くなることにより、
測定端子100と突起電極12との電気的接続を確実に
行なうことが可能となる。図35は本発明の第24実施
例である半導体試験装置を示しており、また図36は本
発明の第25実施例である半導体試験装置を示してい
る。この第24及び第25実施例は、共に半導体装置1
1とフォーミング基板16との位置決めを行なう半導体
位置決め機構を設けたことを特徴とするものである。
露出する突起電極12の表面積が広くなることにより、
測定端子100と突起電極12との電気的接続を確実に
行なうことが可能となる。図35は本発明の第24実施
例である半導体試験装置を示しており、また図36は本
発明の第25実施例である半導体試験装置を示してい
る。この第24及び第25実施例は、共に半導体装置1
1とフォーミング基板16との位置決めを行なう半導体
位置決め機構を設けたことを特徴とするものである。
【0172】図35に示される第24実施例に係る基板
位置決め機構は、半導体装置11に立設形成された位置
決めピン145と、フォーミング基板16に穿設された
位置決め孔146とにより構成されている。そして、位
置決め孔146に位置決めピン145が挿通されるよう
に半導体装置11フォーミング基板16に装着すること
により、半導体装置11に形成された突起電極12はフ
ォーミング基板16に形成された検査凹部17に精度良
く一致するよう構成されている。
位置決め機構は、半導体装置11に立設形成された位置
決めピン145と、フォーミング基板16に穿設された
位置決め孔146とにより構成されている。そして、位
置決め孔146に位置決めピン145が挿通されるよう
に半導体装置11フォーミング基板16に装着すること
により、半導体装置11に形成された突起電極12はフ
ォーミング基板16に形成された検査凹部17に精度良
く一致するよう構成されている。
【0173】従って、単に位置決め孔146と位置決め
ピン145とが係合するように半導体装置11とフォー
ミング基板16とを位置決めして装着することにより、
突起電極12と検査凹部17との位置決めを精度良く行
なうことができる。一方、図36に示される第25実施
例に係る基板位置決め機構は、半導体装置11に穿設さ
れた位置決め溝148と、フォーミング基板16に立設
形成された位置決めピン147とにより構成されてい
る。そして、位置決めピン147が位置決め溝148に
挿通されるよう半導体装置11をフォーミング基板16
に装着することにより、半導体装置11に形成された突
起電極12はフォーミング基板16に形成された検査凹
部17に精度良く一致するよう構成されている。
ピン145とが係合するように半導体装置11とフォー
ミング基板16とを位置決めして装着することにより、
突起電極12と検査凹部17との位置決めを精度良く行
なうことができる。一方、図36に示される第25実施
例に係る基板位置決め機構は、半導体装置11に穿設さ
れた位置決め溝148と、フォーミング基板16に立設
形成された位置決めピン147とにより構成されてい
る。そして、位置決めピン147が位置決め溝148に
挿通されるよう半導体装置11をフォーミング基板16
に装着することにより、半導体装置11に形成された突
起電極12はフォーミング基板16に形成された検査凹
部17に精度良く一致するよう構成されている。
【0174】従って、単に位置決めピン147と位置決
め溝148とが係合するように半導体装置11とフォー
ミング基板16とを位置決めして装着することにより、
突起電極12と検査凹部17との位置決めを精度良く行
なうことができる。図37及び図38は、本発明に係る
半導体装置及びその製造方法を示している。先ず、図3
7を用いて説明する。図37(A)は、球状の突起電極
12が配設された半導体装置11を半導体試験装置(図
では、半導体試験装置のフォーミング基板150のみ示
す)に装着した状態を示している。
め溝148とが係合するように半導体装置11とフォー
ミング基板16とを位置決めして装着することにより、
突起電極12と検査凹部17との位置決めを精度良く行
なうことができる。図37及び図38は、本発明に係る
半導体装置及びその製造方法を示している。先ず、図3
7を用いて説明する。図37(A)は、球状の突起電極
12が配設された半導体装置11を半導体試験装置(図
では、半導体試験装置のフォーミング基板150のみ示
す)に装着した状態を示している。
【0175】フォーミング基板150には、円錐形状と
された整形凹部151が形成されている。半導体装置1
1が半導体試験装置に装着された状態において、半導体
装置11に設けられた球状の突起電極12は円錐形状と
された凹部151の内部に位置している。
された整形凹部151が形成されている。半導体装置1
1が半導体試験装置に装着された状態において、半導体
装置11に設けられた球状の突起電極12は円錐形状と
された凹部151の内部に位置している。
【0176】この状態において、半導体装置11をフォ
ーミング基板150に向け押圧する。これにより、突起
電極12は整形凹部151に押し付けられ、整形凹部1
51の形状に対応した形状に整形される(整形された突
起電極12を整形突起電極152という)。即ち、整形
突起電極152は、整形凹部151の形状に対応した円
錐形状を有した電極形状となる。図37(B)は、円錐
形状を有した整形突起電極152が形成された半導体装
置11を示している。
ーミング基板150に向け押圧する。これにより、突起
電極12は整形凹部151に押し付けられ、整形凹部1
51の形状に対応した形状に整形される(整形された突
起電極12を整形突起電極152という)。即ち、整形
突起電極152は、整形凹部151の形状に対応した円
錐形状を有した電極形状となる。図37(B)は、円錐
形状を有した整形突起電極152が形成された半導体装
置11を示している。
【0177】このように、整形突起電極152の形状を
円錐形状とすることにより、整形突起電極152の先端
は尖った形状となる。よって、この整形突起電極152
を有した半導体装置11を実装基板(図示せず)に実装
する場合には、先ず整形突起電極152の尖った先端部
が実装基板に当接し、この部位に押圧力は集中する。こ
のため、実装時には整形突起電極152の先端部から溶
融して実装基板に接合されるため、効率よく確実に実装
処理を行なうことができる。
円錐形状とすることにより、整形突起電極152の先端
は尖った形状となる。よって、この整形突起電極152
を有した半導体装置11を実装基板(図示せず)に実装
する場合には、先ず整形突起電極152の尖った先端部
が実装基板に当接し、この部位に押圧力は集中する。こ
のため、実装時には整形突起電極152の先端部から溶
融して実装基板に接合されるため、効率よく確実に実装
処理を行なうことができる。
【0178】一方、図38は本発明に係る半導体装置及
びその製造方法の他実施例を示している。本実施例で用
いるフォーミング基板155には、断面円形とされた整
形孔156が形成されている。この整形孔156の径寸
法は、球状とされた突起電極12の径寸法に比べて小さ
く設定されている。また、半導体装置11が半導体試験
装置に装着された状態において、半導体装置11に設け
られた球状の突起電極12は整形孔156の上部に位置
している。
びその製造方法の他実施例を示している。本実施例で用
いるフォーミング基板155には、断面円形とされた整
形孔156が形成されている。この整形孔156の径寸
法は、球状とされた突起電極12の径寸法に比べて小さ
く設定されている。また、半導体装置11が半導体試験
装置に装着された状態において、半導体装置11に設け
られた球状の突起電極12は整形孔156の上部に位置
している。
【0179】この状態において、半導体装置11をフォ
ーミング基板155に向け押圧する。これにより、突起
電極12は整形孔156の内部に強制的に挿入され、整
形孔156の形状に対応した形状に整形される(整形さ
れた突起電極12を整形突起電極157という)。
ーミング基板155に向け押圧する。これにより、突起
電極12は整形孔156の内部に強制的に挿入され、整
形孔156の形状に対応した形状に整形される(整形さ
れた突起電極12を整形突起電極157という)。
【0180】即ち、整形突起電極157は、整形孔15
6の形状に対応した円柱形状を有した電極形状となる。
図38(B)は、円柱形状を有した整形突起電極157
が形成された半導体装置11を示している。このよう
に、整形突起電極157の形状を円柱形状とすることに
より、整形突起電極157の先端は偏平状となり、よっ
て実装基板との接触面積は広くなるため、確実な実装処
理を行なうことが可能となる。
6の形状に対応した円柱形状を有した電極形状となる。
図38(B)は、円柱形状を有した整形突起電極157
が形成された半導体装置11を示している。このよう
に、整形突起電極157の形状を円柱形状とすることに
より、整形突起電極157の先端は偏平状となり、よっ
て実装基板との接触面積は広くなるため、確実な実装処
理を行なうことが可能となる。
【0181】上記したように、本実施例によれば突起電
極12は半導体試験装置を構成するフォーミング基板1
50,155に形成された整形凹部151或いは形成孔
156に押し当てられ、整形凹部151或いは形成孔1
56の形状に沿った形状に整形される。これにより、半
導体試験装置により半導体装置11に配設されている球
状の特記電極12を球形状以外の形状を有した整形突起
電極152,157に整形することが可能となり、よっ
て整形突起電極152,157の形状を半導体装置11
の実装態様に適した形状にすることができる。
極12は半導体試験装置を構成するフォーミング基板1
50,155に形成された整形凹部151或いは形成孔
156に押し当てられ、整形凹部151或いは形成孔1
56の形状に沿った形状に整形される。これにより、半
導体試験装置により半導体装置11に配設されている球
状の特記電極12を球形状以外の形状を有した整形突起
電極152,157に整形することが可能となり、よっ
て整形突起電極152,157の形状を半導体装置11
の実装態様に適した形状にすることができる。
【0182】尚、整形突起電極の形状は上記した円錐形
状及び円柱形状に限定されるものではなく、フォーミン
グ基板に形成される整形凹部の形状を適宜設定すること
により、任意の形状とすることができる。また、上記し
た各実施例ではフォーミング基板に形成される整形凹部
が突起電極の全周と係合する構成としたしたが、フォー
ミング基板の幅寸法を突起電極の径寸法より狭い構成と
し、整形凹部が突起電極の外周一部と係合する構成とし
てもよい。
状及び円柱形状に限定されるものではなく、フォーミン
グ基板に形成される整形凹部の形状を適宜設定すること
により、任意の形状とすることができる。また、上記し
た各実施例ではフォーミング基板に形成される整形凹部
が突起電極の全周と係合する構成としたしたが、フォー
ミング基板の幅寸法を突起電極の径寸法より狭い構成と
し、整形凹部が突起電極の外周一部と係合する構成とし
てもよい。
【0183】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、下記の種々
の効果を実現することができる。請求項1記載の発明に
よれば、複数の突起電極の夫々が基板の凹部に嵌合する
ことにより突起電極の端部が測定端子に電気的に接続さ
れるため、各突起電極の形状を凹部との嵌合により検査
することができると共に突起電極が測定端子に接続され
ることにより被試験半導体の電気的試験を行うことがで
きる。
の効果を実現することができる。請求項1記載の発明に
よれば、複数の突起電極の夫々が基板の凹部に嵌合する
ことにより突起電極の端部が測定端子に電気的に接続さ
れるため、各突起電極の形状を凹部との嵌合により検査
することができると共に突起電極が測定端子に接続され
ることにより被試験半導体の電気的試験を行うことがで
きる。
【0184】そのため、被試験半導体の試験及び突起電
極の検査を同時に行うことが可能となり、検査工程での
信頼性の向上と共に試験、検査時間の短縮化を図ること
ができる。よって、検査工程の自動化を促進することが
可能になり、検査コストを低減することができる。
極の検査を同時に行うことが可能となり、検査工程での
信頼性の向上と共に試験、検査時間の短縮化を図ること
ができる。よって、検査工程の自動化を促進することが
可能になり、検査コストを低減することができる。
【0185】また、請求項2記載の発明によれば、複数
の突起電極の夫々が基板の凹部に嵌合することにより突
起電極を成形すると共に突起電極の形状検査を行うた
め、突起電極の形状が異なる場合でも基板の凹部に合っ
た形状に成形され、突起電極の形状不良を減少させるこ
とができる。
の突起電極の夫々が基板の凹部に嵌合することにより突
起電極を成形すると共に突起電極の形状検査を行うた
め、突起電極の形状が異なる場合でも基板の凹部に合っ
た形状に成形され、突起電極の形状不良を減少させるこ
とができる。
【0186】よって、突起電極が基板の凹部内に嵌合さ
れた状態で押圧されることにより、電気的動作試験を行
うと共に、突起電極の形状検査及び突起電極の成形を同
時に行うことができ、検査時間の短縮化と共に不良率の
削減を図ることができる。また、請求項3記載の発明で
は、複数の突起電極の夫々が基板の凹部に嵌合すること
により突起電極の形状検査を行うと同時に、突起電極の
端部が測定端子に電気的に接続され電気的動作試験を行
うため、突起電極の検査工程が一工程で済むことにな
り、突起電極の検査時間を大幅に短縮することができ
る。よって、検査工程での検査効率を高めて検査コスト
を低減することができる。
れた状態で押圧されることにより、電気的動作試験を行
うと共に、突起電極の形状検査及び突起電極の成形を同
時に行うことができ、検査時間の短縮化と共に不良率の
削減を図ることができる。また、請求項3記載の発明で
は、複数の突起電極の夫々が基板の凹部に嵌合すること
により突起電極の形状検査を行うと同時に、突起電極の
端部が測定端子に電気的に接続され電気的動作試験を行
うため、突起電極の検査工程が一工程で済むことにな
り、突起電極の検査時間を大幅に短縮することができ
る。よって、検査工程での検査効率を高めて検査コスト
を低減することができる。
【0187】また、請求項4記載の発明によれば、被試
験半導体と基板とが平行状態を保つように位置調整を行
う調芯機構を設けたため、上記請求項1と同様な効果が
得られると共に、被試験半導体が傾いた状態で装着され
ても複数の突起電極の夫々を正確に凹部に嵌合させるこ
とができ、被試験半導体又は基板が損傷することを防止
できる。これにより、被試験半導体の試験及び突起電極
の検査の信頼性をより一層向上させることができる。
験半導体と基板とが平行状態を保つように位置調整を行
う調芯機構を設けたため、上記請求項1と同様な効果が
得られると共に、被試験半導体が傾いた状態で装着され
ても複数の突起電極の夫々を正確に凹部に嵌合させるこ
とができ、被試験半導体又は基板が損傷することを防止
できる。これにより、被試験半導体の試験及び突起電極
の検査の信頼性をより一層向上させることができる。
【0188】また、請求項5記載の発明によれば、位置
決め機構により突起電極と凹部との相対位置が一致する
ように被試験半導体と基板との相対位置を規制するた
め、上記請求項1と同様な効果が得られると共に、複数
の突起電極の夫々を正確に凹部に嵌合させることがで
き、被試験半導体の試験及び突起電極の検査の信頼性を
より一層向上させることができる。
決め機構により突起電極と凹部との相対位置が一致する
ように被試験半導体と基板との相対位置を規制するた
め、上記請求項1と同様な効果が得られると共に、複数
の突起電極の夫々を正確に凹部に嵌合させることがで
き、被試験半導体の試験及び突起電極の検査の信頼性を
より一層向上させることができる。
【0189】また、請求項6記載の発明によれば、基板
をフローティング状態に設け、複数の突起電極の夫々が
基板の凹部に嵌合することにより、突起電極と凹部との
相対位置が一致するように被試験半導体に対する基板の
位置を位置決めするため、複数の突起電極の夫々を正確
に凹部に嵌合させることができ、被試験半導体の試験及
び突起電極の検査の信頼性を向上させることができる。
をフローティング状態に設け、複数の突起電極の夫々が
基板の凹部に嵌合することにより、突起電極と凹部との
相対位置が一致するように被試験半導体に対する基板の
位置を位置決めするため、複数の突起電極の夫々を正確
に凹部に嵌合させることができ、被試験半導体の試験及
び突起電極の検査の信頼性を向上させることができる。
【0190】また、請求項7記載の発明によれば、突起
電極を基板の凹部に嵌合させることにより測定端子を下
動させると共に突起電極が測定端子に接続されるため、
上記請求項1と同様な効果が得られると共に、被試験半
導体が傾いた状態で装着されても各測定端子が個別に上
下動して被試験半導体の試験及び突起電極の検査を行う
ことができる。そのため、被試験半導体の装着状態に拘
わらず、被試験半導体の試験及び突起電極の検査を安定
的に行うことができる。
電極を基板の凹部に嵌合させることにより測定端子を下
動させると共に突起電極が測定端子に接続されるため、
上記請求項1と同様な効果が得られると共に、被試験半
導体が傾いた状態で装着されても各測定端子が個別に上
下動して被試験半導体の試験及び突起電極の検査を行う
ことができる。そのため、被試験半導体の装着状態に拘
わらず、被試験半導体の試験及び突起電極の検査を安定
的に行うことができる。
【0191】また、請求項8記載の発明によれば、緩衝
材の弾性変形により基板と被試験半導体とが平行な状態
で各突起電極を凹部に嵌合させることができ、また突起
電極を基板の凹部に嵌合させる際の衝撃を緩衝材により
吸収することができ、被試験半導体又は基板が損傷する
ことを防止できる。
材の弾性変形により基板と被試験半導体とが平行な状態
で各突起電極を凹部に嵌合させることができ、また突起
電極を基板の凹部に嵌合させる際の衝撃を緩衝材により
吸収することができ、被試験半導体又は基板が損傷する
ことを防止できる。
【0192】また、請求項9記載の発明によれば、突起
電極に不要な荷重が印加されることを防止でき、よって
突起電極に変形が発生することを抑制することができ
る。また、請求項10記載の発明によれば、測定端子の
先端部は突出した構造となり、被試験半導体に設けられ
た突起電極との接続性を向上することができる。
電極に不要な荷重が印加されることを防止でき、よって
突起電極に変形が発生することを抑制することができ
る。また、請求項10記載の発明によれば、測定端子の
先端部は突出した構造となり、被試験半導体に設けられ
た突起電極との接続性を向上することができる。
【0193】また、請求項11記載の発明によれば、半
導体装置の製造技術として一般に用いられているワイヤ
ボンディング技術を用いて突起状端子を形成することが
でき、よって低コストでかつ作成効率よく突起状端子を
形成することができる。また、通常スタッドバンプはそ
の先端部にワイヤ切断による小突起が形成され、この小
突起はプローブ先端と同様に尖った形状となるため、こ
れによっても測定端子と突起電極との接続性を向上する
ことができる。
導体装置の製造技術として一般に用いられているワイヤ
ボンディング技術を用いて突起状端子を形成することが
でき、よって低コストでかつ作成効率よく突起状端子を
形成することができる。また、通常スタッドバンプはそ
の先端部にワイヤ切断による小突起が形成され、この小
突起はプローブ先端と同様に尖った形状となるため、こ
れによっても測定端子と突起電極との接続性を向上する
ことができる。
【0194】また、請求項12記載の発明によれば、最
先端部に配設される突起状電極の材質を突起電極に対し
適合性の良いものに選定でき、また最先端部以外の突起
状端子の材質は測定端子或いは最先端部に配設され突起
状端子に対し適合性の良いものに選定できる。このた
め、最先端部に配設された突起状端子と突起電極との接
続性、各突起状端子間の接続性、及び突起状端子と測定
端子との接続性を共に良好なものとすることができる。
先端部に配設される突起状電極の材質を突起電極に対し
適合性の良いものに選定でき、また最先端部以外の突起
状端子の材質は測定端子或いは最先端部に配設され突起
状端子に対し適合性の良いものに選定できる。このた
め、最先端部に配設された突起状端子と突起電極との接
続性、各突起状端子間の接続性、及び突起状端子と測定
端子との接続性を共に良好なものとすることができる。
【0195】また、請求項13記載の発明によれば、粗
化面は微細な凹凸が形成された状態となりその表面積は
広くなり、また微細な凸部は突起電極に食い込む状態と
なるため、測定端子と突起電極との電気的接続を確実に
行なうことができる。また、請求項14記載の発明によ
れば、測定端子及び突起電極の材料が接合性の不良なも
のであっても、異種金属膜として測定端子及び突起電極
に共に接合性の良好な材料を選定することが可能とな
り、測定端子と突起電極との間における電気的接合性の
向上と、保護及び測定端子の保護を図ることができる。
化面は微細な凹凸が形成された状態となりその表面積は
広くなり、また微細な凸部は突起電極に食い込む状態と
なるため、測定端子と突起電極との電気的接続を確実に
行なうことができる。また、請求項14記載の発明によ
れば、測定端子及び突起電極の材料が接合性の不良なも
のであっても、異種金属膜として測定端子及び突起電極
に共に接合性の良好な材料を選定することが可能とな
り、測定端子と突起電極との間における電気的接合性の
向上と、保護及び測定端子の保護を図ることができる。
【0196】また、請求項15記載の発明のように、基
板に形成された凹部の形状は、突起電極の形状検査を行
いうる半球形状,円錐形状,及び角錐形状のいずれを採
用することも可能である。突起電極のフォーミング性の
面からは半球形状が望ましく、また凹部の形成性の面か
らは円錐形状,角錐形状の方が望ましい。
板に形成された凹部の形状は、突起電極の形状検査を行
いうる半球形状,円錐形状,及び角錐形状のいずれを採
用することも可能である。突起電極のフォーミング性の
面からは半球形状が望ましく、また凹部の形成性の面か
らは円錐形状,角錐形状の方が望ましい。
【0197】また、請求項16記載の発明によれば、凸
部が端子シート部を押し出すことにより測定端子を形成
する構成とすることにより、測定端子は突出した端子形
状となるため突起電極との電気的接続を確実に行なうこ
とができる。また、測定端子はフレキシブル構造とされ
た端子シートに形成されるため、基台に測定端子をプリ
ント配設する必要はなく、かつ端子シートの形成はフレ
キシブル回路基板の形成に準じて行なうことができるた
め、容易かつ安価に形成することかできる。
部が端子シート部を押し出すことにより測定端子を形成
する構成とすることにより、測定端子は突出した端子形
状となるため突起電極との電気的接続を確実に行なうこ
とができる。また、測定端子はフレキシブル構造とされ
た端子シートに形成されるため、基台に測定端子をプリ
ント配設する必要はなく、かつ端子シートの形成はフレ
キシブル回路基板の形成に準じて行なうことができるた
め、容易かつ安価に形成することかできる。
【0198】また、請求項17記載の発明によれば、基
板の測定端子と対向する位置に第2の凹部を形成したこ
とにより、突起電極が基板に嵌合した状態において、基
板下部に露出する突起電極の表面積を広く設定すること
ができ、測定端子と突起電極との接続を確実に行なうこ
とができる。
板の測定端子と対向する位置に第2の凹部を形成したこ
とにより、突起電極が基板に嵌合した状態において、基
板下部に露出する突起電極の表面積を広く設定すること
ができ、測定端子と突起電極との接続を確実に行なうこ
とができる。
【0199】また、請求項18記載の発明によれば、基
板位置決め機構を設けたことにより、基板と測定端子が
形成された測定基板との位置決めを高精度に行なうこと
ができる。また、請求項19記載の発明によれば、半導
体位置決め機構を設けたことにより、基板と被試験半導
体との位置決めを高精度に行なうことができる。
板位置決め機構を設けたことにより、基板と測定端子が
形成された測定基板との位置決めを高精度に行なうこと
ができる。また、請求項19記載の発明によれば、半導
体位置決め機構を設けたことにより、基板と被試験半導
体との位置決めを高精度に行なうことができる。
【0200】また、請求項20記載の発明によれば、被
試験半導体の試験及び突起電極の検査を同時に行うこと
が可能となり、検査工程での信頼性の向上と共に試験,
検査時間の短縮化を図ることができ、よって検査工程の
自動化を促進することが可能になり、検査コストを低減
することができる。
試験半導体の試験及び突起電極の検査を同時に行うこと
が可能となり、検査工程での信頼性の向上と共に試験,
検査時間の短縮化を図ることができ、よって検査工程の
自動化を促進することが可能になり、検査コストを低減
することができる。
【0201】また、請求項21記載の発明によれば、基
板或いは被試験半導体の少なく一方を振動させることに
より、被試験半導体は基板上で相対的に移動し、やがて
基板に形成された凹部に突起電極は嵌入して位置決めさ
れるため、突起電極と凹部の位置決めを容易かつ自動的
に行なうことができる。
板或いは被試験半導体の少なく一方を振動させることに
より、被試験半導体は基板上で相対的に移動し、やがて
基板に形成された凹部に突起電極は嵌入して位置決めさ
れるため、突起電極と凹部の位置決めを容易かつ自動的
に行なうことができる。
【0202】また、請求項22及び請求項23記載の発
明によれば、真空吸引装置により突起電極を吸引し、基
板に形成された凹部に突起電極を位置決めすることによ
り、確実に突起電極を凹部内に嵌入させることができ
る。また、請求項24記載の発明によれば、被試験半導
体を基板に沿って水平移動させうる移動装置を設け、こ
の移動装置により被試験半導体を水平移動させることに
より、被試験半導体の移動に伴い突起電極は凹部に嵌入
し位置決めされるため、簡単かつ確実に突起電極と凹部
との位置決め処理を行なうことができる。
明によれば、真空吸引装置により突起電極を吸引し、基
板に形成された凹部に突起電極を位置決めすることによ
り、確実に突起電極を凹部内に嵌入させることができ
る。また、請求項24記載の発明によれば、被試験半導
体を基板に沿って水平移動させうる移動装置を設け、こ
の移動装置により被試験半導体を水平移動させることに
より、被試験半導体の移動に伴い突起電極は凹部に嵌入
し位置決めされるため、簡単かつ確実に突起電極と凹部
との位置決め処理を行なうことができる。
【0203】また、請求項25記載の発明によれば、第
1及び第2の傾斜面の勾配差に基づき突起電極を凹部に
嵌合させ位置決めすることにより、凹部に嵌入した突起
電極は案内面として機能する傾斜面に案内され、係止面
として機能する傾斜面に係止されて位置決めされるた
め、簡単かつ確実に突起電極と凹部との位置決め処理を
行なうことができる。
1及び第2の傾斜面の勾配差に基づき突起電極を凹部に
嵌合させ位置決めすることにより、凹部に嵌入した突起
電極は案内面として機能する傾斜面に案内され、係止面
として機能する傾斜面に係止されて位置決めされるた
め、簡単かつ確実に突起電極と凹部との位置決め処理を
行なうことができる。
【0204】また、請求項26記載の発明によれば、突
起電極は半導体試験装置を構成する基板に形成された凹
部に押し当てられ、凹部の形状に沿った形状に整形され
ることにより球形状以外の形状に形成することが可能と
なり、よって突起電極の形状を半導体装置の実装態様に
適した形状にすることができる。
起電極は半導体試験装置を構成する基板に形成された凹
部に押し当てられ、凹部の形状に沿った形状に整形され
ることにより球形状以外の形状に形成することが可能と
なり、よって突起電極の形状を半導体装置の実装態様に
適した形状にすることができる。
【0205】更に、請求項27記載の発明によれば突起
電極の形状を円錐形状とした場合には、突起電極の先端
は尖っており、かつこの先端部に押圧力は集中するた
め、当該突起電極を有する半導体装置を実装基板に実装
する際、突起電極はその先端部から溶融し実装基板に接
合されるため、効率よく確実に実装処理を行なうことが
できる。
電極の形状を円錐形状とした場合には、突起電極の先端
は尖っており、かつこの先端部に押圧力は集中するた
め、当該突起電極を有する半導体装置を実装基板に実装
する際、突起電極はその先端部から溶融し実装基板に接
合されるため、効率よく確実に実装処理を行なうことが
できる。
【0206】また、突起電極の形状を円柱形状とした場
合には、突起電極の先端は偏平状となり実装基板との接
触面積は広くなるため、確実な実装処理を行なうことが
できる。
合には、突起電極の先端は偏平状となり実装基板との接
触面積は広くなるため、確実な実装処理を行なうことが
できる。
【図1】本発明の第1実施例である半導体試験装置10
を上下方向に分解して示す構成図である。
を上下方向に分解して示す構成図である。
【図2】フォーミング基板の検査凹部及び測定端子を拡
大して示す縦断面図である。
大して示す縦断面図である。
【図3】半導体装置の突起電極が検査凹部に嵌合された
状態を拡大して示す縦断面図である。
状態を拡大して示す縦断面図である。
【図4】第1実施例の半導体試験装置10の固定治具に
半導体装置が装着された状態を説明するための図であ
る。
半導体装置が装着された状態を説明するための図であ
る。
【図5】第1実施例の半導体試験装置を使用して突起電
極の検査及び半導体装置の試験を行う際の動作を説明す
るための図である。
極の検査及び半導体装置の試験を行う際の動作を説明す
るための図である。
【図6】測定端子の第1の変形例を分解して示す縦断面
図である。
図である。
【図7】測定端子の第2の変形例を分解して示す縦断面
図である。
図である。
【図8】測定端子の第3の変形例を分解して示す縦断面
図である。
図である。
【図9】本発明の第2実施例である半導体試験装置を上
下方向に分解して示す構成図である。
下方向に分解して示す構成図である。
【図10】本発明の第3実施例である半導体試験装置を
上下方向に分解して示す構成図である。
上下方向に分解して示す構成図である。
【図11】本発明の第4実施例である半導体試験装置を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図12】本発明の第5実施例である半導体試験装置を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図13】本発明の第6実施例である半導体試験装置を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図14】本発明の第7実施例である半導体試験装置を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図15】本発明の第8実施例である半導体試験装置を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図16】本発明の第9実施例である半導体試験装置を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図17】本発明の第10実施例である半導体試験装置
を示す構成図である。
を示す構成図である。
【図18】本発明の第10実施例である半導体試験装置
の各検査ユニットが所定の配列で設けられた状態を示す
平面図である。
の各検査ユニットが所定の配列で設けられた状態を示す
平面図である。
【図19】本発明の第10実施例である半導体試験装置
の検査ユニットを拡大して示す縦断面図である。
の検査ユニットを拡大して示す縦断面図である。
【図20】本発明の第11実施例である半導体試験装置
を示す構成図である。
を示す構成図である。
【図21】本発明の第12実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図22】本発明の第12実施例である半導体試験装置
の変形例の要部を拡大して示す図である。
の変形例の要部を拡大して示す図である。
【図23】本発明の第12実施例である半導体試験装置
の変形例の要部を拡大して示す図である。
の変形例の要部を拡大して示す図である。
【図24】本発明の第13実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図25】本発明の第14実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図26】本発明の第15実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図27】本発明の第16実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図28】本発明の第17実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図29】本発明の第18実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図30】本発明の第19実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図31】本発明の第20実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図32】本発明の第21実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図33】本発明の第22実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図34】本発明の第23実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図35】本発明の第24実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図36】本発明の第25実施例である半導体試験装置
の要部を拡大して示す図である。
の要部を拡大して示す図である。
【図37】本発明の一実施例である半導体装置及びその
製造方法を説明するための図である。
製造方法を説明するための図である。
【図38】本発明の他実施例である半導体装置及びその
製造方法を説明するための図である。
製造方法を説明するための図である。
10,31,41,51,61,71,73,75,7
7,80,91 半導体試験装置 11 半導体装置 12(121 〜12n ) 突起電極 13 固定治具 14 吸着部 15,23 調芯機構 16,116,119,135〜137,150,15
5 フォーミング基板 17(171 〜17n ),110,130 検査凹部 18 測定基板 19(191 〜19n ),25,26,29,100,
105,112 測定端子 20 配線層 21 ステージ 29a,29b 導電性皮膜 32,42 位置決め部 52 位置決め機構 53,64 ガイドピン 54,65 ガイド孔 62 固定治具側位置決め部 63 ステージ側位置決め機構 72,74,76,78 緩衝材 81(811 〜81n ) 検査ユニット 82 測定端子 83 検査凹部 84 収納ケース 85 コイルバネ 86 ロッド 87 ガイド部 88 緩衝材 92 絶縁体 101,101A,101B 突起状端子 102a〜102c スタッドバンプ 106 粗化面 107 異種金属 111 端子シート部 113 基台 114 凸部 115 振動発生装置 117 吸引口 118 吸引通路 120 移動装置 131 案内面 132 係止面 133 位置決め面 138,139 第2の凹部 140 測定基板 141,143,145,147 位置決めピン 142,146 位置決め孔 144,148 位置決め溝 151 整形凹部 152,157 整形突起電極 156 整形孔
7,80,91 半導体試験装置 11 半導体装置 12(121 〜12n ) 突起電極 13 固定治具 14 吸着部 15,23 調芯機構 16,116,119,135〜137,150,15
5 フォーミング基板 17(171 〜17n ),110,130 検査凹部 18 測定基板 19(191 〜19n ),25,26,29,100,
105,112 測定端子 20 配線層 21 ステージ 29a,29b 導電性皮膜 32,42 位置決め部 52 位置決め機構 53,64 ガイドピン 54,65 ガイド孔 62 固定治具側位置決め部 63 ステージ側位置決め機構 72,74,76,78 緩衝材 81(811 〜81n ) 検査ユニット 82 測定端子 83 検査凹部 84 収納ケース 85 コイルバネ 86 ロッド 87 ガイド部 88 緩衝材 92 絶縁体 101,101A,101B 突起状端子 102a〜102c スタッドバンプ 106 粗化面 107 異種金属 111 端子シート部 113 基台 114 凸部 115 振動発生装置 117 吸引口 118 吸引通路 120 移動装置 131 案内面 132 係止面 133 位置決め面 138,139 第2の凹部 140 測定基板 141,143,145,147 位置決めピン 142,146 位置決め孔 144,148 位置決め溝 151 整形凹部 152,157 整形突起電極 156 整形孔
Claims (27)
- 【請求項1】 一面に複数の突起電極を有する被試験半
導体が装着され、該突起電極に測定端子を接触させて電
気的に接続することにより該被試験半導体の試験を行う
構成とされた半導体試験装置において、 前記被試験半導体の一面に対向するように基板を設け、 該基板に前記突起電極に対応した形状の凹部を設け、 前記複数の突起電極の夫々が前記基板の凹部に嵌合する
ことにより前記突起電極の端部が前記測定端子に電気的
に接続され電気的動作試験を行うよう構成したことを特
徴とする半導体試験装置。 - 【請求項2】 前記請求項1記載の半導体試験装置にお
いて、 前記複数の突起電極の夫々が前記基板の凹部に嵌合する
ことにより前記突起電極を成形すると共に前記突起電極
の形状検査を行うことを特徴とする半導体試験装置。 - 【請求項3】 前記請求項1記載の半導体試験装置にお
いて、 前記複数の突起電極の夫々が前記基板の凹部に嵌合する
ことにより前記突起電極の形状検査を行うと同時に、前
記突起電極の端部が前記測定端子に電気的に接続され電
気的動作試験を行うよう構成したことを特徴とする半導
体試験装置。 - 【請求項4】 前記請求項1乃至3のいずれかに記載の
半導体試験装置において、 前記被試験半導体と前記基板とが平行状態を保つように
位置調整を行う調芯機構を設けたことを特徴とする半導
体試験装置。 - 【請求項5】 前記請求項1乃至4のいずれかに記載の
半導体試験装置において、 前記突起電極と前記凹部との相対位置が一致するように
前記被試験半導体と前記基板との相対位置を規制する位
置決め機構を設けたことを特徴とする半導体試験装置。 - 【請求項6】 前記請求項1乃至4のいずれかに記載の
半導体試験装置において、記載の半導体試験装置におい
て、 前記基板をフローティング状態に設け、 前記複数の突起電極の夫々が前記基板の凹部に嵌合する
ことにより、前記突起電極と前記凹部との相対位置が一
致するように前記被試験半導体に対する前記基板の位置
を位置決めすることを特徴とする半導体試験装置。 - 【請求項7】 前記請求項1乃至6のいずれかに記載の
半導体試験装置において、 前記測定端子を上下動可能に設け、 前記突起電極を前記基板の凹部に嵌合させることにより
前記測定端子が下動すると共に前記突起電極が前記測定
端子に接続されるよう構成したことを特徴とする半導体
試験装置。 - 【請求項8】 前記請求項1乃至6のいずれかに記載の
半導体試験装置において、 前記被試験半導体と該被試験半導体を支持する固定治具
との間、または前記被試験半導体と前記基板との間、ま
たは前記基板と前記測定端子が形成された測定基板との
間の何れかに、弾性を有する緩衝材を設けたことを特徴
とする半導体試験装置。 - 【請求項9】 前記請求項1乃至6のいずれかに記載の
半導体試験装置において、 前記被試験半導体と前記基板との間に、前記被試験半導
体と前記基板との間のクリアランスを一定に保つスペー
サを設けたことを特徴とする半導体試験装置。 - 【請求項10】 前記請求項1乃至9のいずれかに記載
の半導体試験装置において、 前記測定端子の先端部に突起状端子を形成したことを特
徴とする半導体試験装置。 - 【請求項11】 前記請求項10記載の半導体試験装置
において、 前記突起状端子をスタッドバンプにより形成したことを
特徴とする半導体試験装置。 - 【請求項12】 前記請求項10または請求項11記載
の半導体試験装置において、 前記突起状端子は、同種または異種の金属よりなる複数
個のスタッドバンプを複数個多段に形成した構造を有す
ることを特徴とする半導体試験装置。 - 【請求項13】 前記請求項1乃至9のいずれかに記載
の半導体試験装置において、 前記測定端子の表面部に粗化面を形成したことを特徴と
する半導体試験装置。 - 【請求項14】 前記請求項1乃至9のいずれかに記載
の半導体試験装置において、 前記測定端子の表面部に、前記測定端子の材料とは異な
る材料よりなる異種金属膜を形成したことを特徴とする
半導体試験装置。 - 【請求項15】 前記請求項1乃至14のいずれかに記
載の半導体試験装置において、 前記基板に形成された凹部の形状を、半球形状,円錐形
状,及び角錐形状の内のいずれか一つの形状としたこと
を特徴とする半導体試験装置。 - 【請求項16】 前記請求項1乃至15のいずれかに記
載の半導体試験装置において、 前記測定端子を、フレキシブル構造とされた端子シート
と、前記端子シートの下部に位置すると共に前記基板の
凹部と対向する位置に凸部を形成した基台とにより構成
し、 前記凸部が前記端子シート部を押し出すことにより測定
端子を形成することを特徴とする半導体試験装置。 - 【請求項17】 前記請求項1乃至16のいずれかに記
載の半導体試験装置において、 前記基板の前記測定端子と対向する位置に第2の凹部を
形成したことを特徴とする半導体試験装置。 - 【請求項18】 前記請求項1乃至17のいずれかに記
載の半導体試験装置において、 前記基板と、前記測定端子が形成された測定基板との位
置決めを行なう基板位置決め機構を設けたことを特徴と
する半導体試験装置。 - 【請求項19】 前記請求項1乃至18のいずれかに記
載の半導体試験装置において、 前記基板と、前記被試験半導体との位置決めを行なう半
導体位置決め機構を設けたことを特徴とする半導体試験
装置。 - 【請求項20】 一面に複数の突起電極を有する被試験
半導体が装着され、該突起電極に測定端子を接触させて
電気的に接続することにより該被試験半導体の試験を行
う構成とされた半導体試験装置の試験方法において、 前記被試験半導体の一面に対向するように設けられた基
板の凹部に前記複数の突起電極を嵌合させて各突起電極
の形状を試験すると共に、前記突起電極の端部を前記凹
部に設けられた前記測定端子に電気的に接続させて前記
被試験半導体の試験を行うことを特徴とする半導体試験
装置の試験方法。 - 【請求項21】 前記請求項20記載の半導体試験装置
の試験方法において、 前記基板或いは前記被試験半導体の少なく一方を振動さ
せることにより、前記基板に形成された凹部に前記突起
電極を位置決めすることを特徴とする半導体試験装置の
試験方法。 - 【請求項22】 前記請求項20記載の半導体試験装置
の試験方法において、 前記基板に真空吸引装置に接続れさた吸引孔を形成する
と共に、前記吸引孔により前記突起電極を吸引すること
により、前記基板に形成された凹部に前記突起電極を位
置決めすることを特徴とする半導体試験装置の試験方
法。 - 【請求項23】 前記請求項20記載の半導体試験装置
の試験方法において、 前記基板を多孔質材料により形成すると共に該基板を真
空吸引装置に接続し、前記基板に前記突起電極を吸引す
ることにより、前記基板に形成された凹部に前記突起電
極を位置決めすることを特徴とする半導体試験装置の試
験方法。 - 【請求項24】 前記請求項20記載の半導体試験装置
の試験方法において、 前記被試験半導体を前記基板に沿って水平移動させうる
移動装置を設け、 該移動装置により前記被試験半導体を水平移動させるこ
とにより、前記突起電極を前記凹部に嵌合させ位置決め
することを特徴とする半導体試験装置の試験方法。 - 【請求項25】 前記請求項20記載の半導体試験装置
の試験方法において、 前記凹部に勾配の異なる第1及び第2の傾斜面を形成
し、該第1及び第2の傾斜面の勾配差に基づき前記突起
電極を前記凹部に嵌合させ位置決めすることを特徴とす
る半導体試験装置の試験方法。 - 【請求項26】 半導体素子に突起電極を有しており、
前記突起電極に対応した凹部が形成された基板を有する
半導体試験装置に装着されて所定の電気的動作試験が行
なわれる半導体装置において、 前記突起電極は、前記基板に形成された凹部に押し当て
られることにより、前記凹部の形状に沿った形状に整形
されていることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項27】 請求項26記載の半導体装置におい
て、 前記突起電極の形状は円錐形状または円柱形状であるこ
とを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8318269A JPH09274066A (ja) | 1996-02-07 | 1996-11-28 | 半導体試験装置及びこれを利用した試験方法及び半導体装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2107296 | 1996-02-07 | ||
| JP8-21072 | 1996-02-07 | ||
| JP8318269A JPH09274066A (ja) | 1996-02-07 | 1996-11-28 | 半導体試験装置及びこれを利用した試験方法及び半導体装置 |
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1996
- 1996-11-28 JP JP8318269A patent/JPH09274066A/ja not_active Withdrawn
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