JPH09274425A - ホログラム素子およびその製造方法 - Google Patents
ホログラム素子およびその製造方法Info
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- JPH09274425A JPH09274425A JP8104823A JP10482396A JPH09274425A JP H09274425 A JPH09274425 A JP H09274425A JP 8104823 A JP8104823 A JP 8104823A JP 10482396 A JP10482396 A JP 10482396A JP H09274425 A JPH09274425 A JP H09274425A
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Landscapes
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- Optical Head (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学性能に優れ、低コストで量産可能なホロ
グラム素子を得る。 【解決手段】 ガラス板１上にフォトリソ工程により金
属（Ｃｒ膜２）からなる微細パターンを形成してガラス
製原板１ａを作製する。そのガラス製原板１ａ上にＵＶ
硬化型樹脂６を供給する。ガラス基板７によりＵＶ硬化
型樹脂６を押圧してその微細パターンをＵＶ硬化型樹脂
層６ａの表面に転写する。紫外光５を照射してＵＶ硬化
型樹脂層６ａを硬化させる。一体化したガラス基板７お
よびＵＶ硬化型樹脂層６ａをガラス製原板１ａから離型
する。表面に反射防止膜８、９を形成してホログラム素
子１０を得る。
グラム素子を得る。 【解決手段】 ガラス板１上にフォトリソ工程により金
属（Ｃｒ膜２）からなる微細パターンを形成してガラス
製原板１ａを作製する。そのガラス製原板１ａ上にＵＶ
硬化型樹脂６を供給する。ガラス基板７によりＵＶ硬化
型樹脂６を押圧してその微細パターンをＵＶ硬化型樹脂
層６ａの表面に転写する。紫外光５を照射してＵＶ硬化
型樹脂層６ａを硬化させる。一体化したガラス基板７お
よびＵＶ硬化型樹脂層６ａをガラス製原板１ａから離型
する。表面に反射防止膜８、９を形成してホログラム素
子１０を得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光ヘッド等の光学シ
ステムに使用される光学素子としてのホログラム素子に
係り、特に光ピックアップにおけるレーザ光を回折現象
にて０次光、±１次光、±２次光等に分けるホログラム
素子およびその製造方法に関する。
ステムに使用される光学素子としてのホログラム素子に
係り、特に光ピックアップにおけるレーザ光を回折現象
にて０次光、±１次光、±２次光等に分けるホログラム
素子およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ホログラム素子としては、特開平
４−３１６０８１号公報に記載されるように、平坦な光
学ガラスを反応性イオンエッチングなどのようなドライ
エッチングによりエッチングし、光学ガラス板上に微細
な凹凸パターンを形成したホログラム素子が知られてい
る。また、特開平４−１５１２２０号公報には、金属モ
ールドを用いてプラスチックを射出成形することより、
プラスチック板に微細な凹凸パターンを形成したホログ
ラム素子が開示されている。
４−３１６０８１号公報に記載されるように、平坦な光
学ガラスを反応性イオンエッチングなどのようなドライ
エッチングによりエッチングし、光学ガラス板上に微細
な凹凸パターンを形成したホログラム素子が知られてい
る。また、特開平４−１５１２２０号公報には、金属モ
ールドを用いてプラスチックを射出成形することより、
プラスチック板に微細な凹凸パターンを形成したホログ
ラム素子が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のホ
ログラム素子およびその製造方法では、以下のような様
々な問題があった。まず、ガラス基板をドライエッチン
グする方法に関しては、製品面の信頼性および面精度が
良好であるが、作製面ではドライエッチングなどの再現
性が悪く、工程管理が容易でない。また、エッチング
後、ガラス基板の表面に残留物が生じる等の問題があっ
た。すなわち、製造工程が複雑で歩留りが悪く、試作時
にはサンプルとして仕上がるが、量産ではコスト面が満
足できなかった。
ログラム素子およびその製造方法では、以下のような様
々な問題があった。まず、ガラス基板をドライエッチン
グする方法に関しては、製品面の信頼性および面精度が
良好であるが、作製面ではドライエッチングなどの再現
性が悪く、工程管理が容易でない。また、エッチング
後、ガラス基板の表面に残留物が生じる等の問題があっ
た。すなわち、製造工程が複雑で歩留りが悪く、試作時
にはサンプルとして仕上がるが、量産ではコスト面が満
足できなかった。
【０００４】一方、プラスチックを射出成形する方法に
関しては、コストが安く、量産に適しているが、厚さが
０．５ｍｍ以下の薄形のものを得るには成形が不可能で
あり、更に製品面において信頼性および面精度等が十分
に満足できるものではないという問題があった。本発明
はこのような従来の問題点に鑑みてなされたもので、光
学性能に優れ、かつ低コストで量産可能なホログラム素
子およびこれを製造する製造方法を提供することを目的
とする。
関しては、コストが安く、量産に適しているが、厚さが
０．５ｍｍ以下の薄形のものを得るには成形が不可能で
あり、更に製品面において信頼性および面精度等が十分
に満足できるものではないという問題があった。本発明
はこのような従来の問題点に鑑みてなされたもので、光
学性能に優れ、かつ低コストで量産可能なホログラム素
子およびこれを製造する製造方法を提供することを目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】そのような課題を解決す
るために、請求項１に係る発明は、ガラス基板上に微細
パターンを有するＵＶ硬化型樹脂層を設けてホログラム
素子を構成した。このように、ホログラム素子をガラス
とＵＶ硬化型樹脂とからなる複合型光学素子の構成とす
れば、以下のような製造方法により光学性能を満足する
ホログラム素子を低コストで量産することができる。
るために、請求項１に係る発明は、ガラス基板上に微細
パターンを有するＵＶ硬化型樹脂層を設けてホログラム
素子を構成した。このように、ホログラム素子をガラス
とＵＶ硬化型樹脂とからなる複合型光学素子の構成とす
れば、以下のような製造方法により光学性能を満足する
ホログラム素子を低コストで量産することができる。
【０００６】また、請求項２に係る発明は、請求項１に
係るホログラム素子を製造するにあたり、ガラス板上に
フォトリソ工程により金属からなる微細パターンを形成
してガラス製原板を作製する工程と、そのガラス製原板
上にＵＶ硬化型樹脂を供給する工程と、ガラス基板によ
りＵＶ硬化型樹脂を押圧して前記微細パターンをＵＶ硬
化型樹脂層の表面に転写する工程と、紫外光を照射して
ＵＶ硬化型樹脂層を硬化させる工程と、一体化したガラ
ス基板およびＵＶ硬化型樹脂層をガラス製原板から離型
する工程とからなることを特徴とする。
係るホログラム素子を製造するにあたり、ガラス板上に
フォトリソ工程により金属からなる微細パターンを形成
してガラス製原板を作製する工程と、そのガラス製原板
上にＵＶ硬化型樹脂を供給する工程と、ガラス基板によ
りＵＶ硬化型樹脂を押圧して前記微細パターンをＵＶ硬
化型樹脂層の表面に転写する工程と、紫外光を照射して
ＵＶ硬化型樹脂層を硬化させる工程と、一体化したガラ
ス基板およびＵＶ硬化型樹脂層をガラス製原板から離型
する工程とからなることを特徴とする。
【０００７】さらに、請求項３に係る発明は、請求項１
に係るホログラム素子を製造するにあたり、金属母体上
に微細パターンを形成して金属製コアを作製する工程
と、その金属製コア上にＵＶ硬化型樹脂を供給する工程
と、ガラス基板によりＵＶ硬化型樹脂を押圧して前記微
細パターンをＵＶ硬化型樹脂層の表面に転写する工程
と、紫外光を照射してＵＶ硬化型樹脂層を硬化させる工
程と、一体化したガラス基板およびＵＶ硬化型樹脂層を
金属製コアから離型する工程とからなることを特徴とす
る。
に係るホログラム素子を製造するにあたり、金属母体上
に微細パターンを形成して金属製コアを作製する工程
と、その金属製コア上にＵＶ硬化型樹脂を供給する工程
と、ガラス基板によりＵＶ硬化型樹脂を押圧して前記微
細パターンをＵＶ硬化型樹脂層の表面に転写する工程
と、紫外光を照射してＵＶ硬化型樹脂層を硬化させる工
程と、一体化したガラス基板およびＵＶ硬化型樹脂層を
金属製コアから離型する工程とからなることを特徴とす
る。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の携帯を図面
を参照して説明する。まず、設計上必要とされるホログ
ラム素子の条件を以下に示す。 ・有効径；φ４ｍｍ ・面精度；λ／８（有効径内透過波面収差） ・回折光量；０次光 ５５±３％、１次光 １５．５±
１％ ・格子ピッチ；最小で２μｍ、最大で２０μｍ ・信頼性；６０℃、９０％ ＲＨに５００時間放置し、
取り出し後の面精度がλ／６以内、回折光量は０次光／
±１次光の変化量が３％以内
を参照して説明する。まず、設計上必要とされるホログ
ラム素子の条件を以下に示す。 ・有効径；φ４ｍｍ ・面精度；λ／８（有効径内透過波面収差） ・回折光量；０次光 ５５±３％、１次光 １５．５±
１％ ・格子ピッチ；最小で２μｍ、最大で２０μｍ ・信頼性；６０℃、９０％ ＲＨに５００時間放置し、
取り出し後の面精度がλ／６以内、回折光量は０次光／
±１次光の変化量が３％以内
【０００９】（実施形態１）クロムエッチングによるガ
ラス製原板を用いて、ガラスとＵＶ硬化型樹脂とからな
るホログラム素子を製造する本実施形態を図１に示す。
図１（ａ）に示すように、洗浄した面精度の良好な石英
製のガラス板１を用意し、同図（ｂ）に示すように、ガ
ラス板１の片面にＣｒ膜２を真空蒸着する。Ｃｒ膜２の
膜厚は使用目的に合せて設定するが、およそ３０００〜
６０００オングストローム程度である。その後、図１
（ｃ）に示すように、Ｃｒ膜２上にフォトレジスト３
（ＯＦＰＲ−８００、東京応用化学（株）製）をスピン
コートし、このフォトレジスト３を吸着式ホットプレー
トにて１１０℃で９０秒、プリベークする。
ラス製原板を用いて、ガラスとＵＶ硬化型樹脂とからな
るホログラム素子を製造する本実施形態を図１に示す。
図１（ａ）に示すように、洗浄した面精度の良好な石英
製のガラス板１を用意し、同図（ｂ）に示すように、ガ
ラス板１の片面にＣｒ膜２を真空蒸着する。Ｃｒ膜２の
膜厚は使用目的に合せて設定するが、およそ３０００〜
６０００オングストローム程度である。その後、図１
（ｃ）に示すように、Ｃｒ膜２上にフォトレジスト３
（ＯＦＰＲ−８００、東京応用化学（株）製）をスピン
コートし、このフォトレジスト３を吸着式ホットプレー
トにて１１０℃で９０秒、プリベークする。
【００１０】次に、図１（ｄ）のようなＥＢ（電子ビー
ム）描画により所定のパターンを形成したフォトマスク
４を用意し、同図（ｅ）に示すように、このフォトマス
ク４をガラス板１に設けたフォトレジスト３上に載せ、
更にこのフォトマスク４の上方から紫外光５を照射し、
露光する。紫外光５で露光した後、現像液に浸して現像
する。これにより、紫外光５の当った部分のフォトレジ
スト３が取れ、紫外光５の当っていない部分のフォトレ
ジスト３が残って、図１（ｆ）に示すように、Ｃｒ膜２
上にフォトマスク４のパターンが転写される。
ム）描画により所定のパターンを形成したフォトマスク
４を用意し、同図（ｅ）に示すように、このフォトマス
ク４をガラス板１に設けたフォトレジスト３上に載せ、
更にこのフォトマスク４の上方から紫外光５を照射し、
露光する。紫外光５で露光した後、現像液に浸して現像
する。これにより、紫外光５の当った部分のフォトレジ
スト３が取れ、紫外光５の当っていない部分のフォトレ
ジスト３が残って、図１（ｆ）に示すように、Ｃｒ膜２
上にフォトマスク４のパターンが転写される。
【００１１】なお、本実施形態では、ポジ型フォトレジ
ストを用いたが、ネガ型フォトレジストを用いることも
可能である。ただし、ネガ型フォトレジストの場合、紫
外光５の当っていない部分のフォトレジスト３が取れる
ため、フォトレジスト３の凹凸のパターンがポジ型とは
逆になる。現像後、フォトレジスト３の強度を上げるた
めに温風循環乾燥機にて８０℃以下で２０分、ポストベ
ークする。こうして、ガラス板１上にフォトレジスト３
のパターンが形成される。
ストを用いたが、ネガ型フォトレジストを用いることも
可能である。ただし、ネガ型フォトレジストの場合、紫
外光５の当っていない部分のフォトレジスト３が取れる
ため、フォトレジスト３の凹凸のパターンがポジ型とは
逆になる。現像後、フォトレジスト３の強度を上げるた
めに温風循環乾燥機にて８０℃以下で２０分、ポストベ
ークする。こうして、ガラス板１上にフォトレジスト３
のパターンが形成される。
【００１２】このフォトレジスト３のパターンをマスク
として、Ｃｒエッチング液によってＣｒ膜２を図１
（ｇ）に示すようにエッチングする。本実施形態では、
Ｃｒエッチング液として、硝酸アンモニウムセリウムを
純水で４倍に希釈した液を用いた。Ｃｒエッチングが終
わったら、図１（ｈ）に示すように、アセトン等の溶剤
でフォトレジスト３を剥離し、フォトリソ工程を利用し
たＣｒエッチングによるガラス製原板１ａを作製する。
として、Ｃｒエッチング液によってＣｒ膜２を図１
（ｇ）に示すようにエッチングする。本実施形態では、
Ｃｒエッチング液として、硝酸アンモニウムセリウムを
純水で４倍に希釈した液を用いた。Ｃｒエッチングが終
わったら、図１（ｈ）に示すように、アセトン等の溶剤
でフォトレジスト３を剥離し、フォトリソ工程を利用し
たＣｒエッチングによるガラス製原板１ａを作製する。
【００１３】次に、洗浄した面精度λ／２以下（反射波
面収差）のガラス基板（白板ガラス）７を用意し、この
ガラス基板７の片面にはシランカップリング剤（ＴＳＬ
８３７０、東芝シリコーン（株）製）をスピンコートし
ておく。一方、ガラス製原板１ａの上には、図１（ｉ）
に示すように、図示を省略したディスペンサによりアク
リル系のＵＶ硬化型樹脂６（ＲＣ−８７４０、大日本イ
ンキ化学工業（株）製）を吐出する。
面収差）のガラス基板（白板ガラス）７を用意し、この
ガラス基板７の片面にはシランカップリング剤（ＴＳＬ
８３７０、東芝シリコーン（株）製）をスピンコートし
ておく。一方、ガラス製原板１ａの上には、図１（ｉ）
に示すように、図示を省略したディスペンサによりアク
リル系のＵＶ硬化型樹脂６（ＲＣ−８７４０、大日本イ
ンキ化学工業（株）製）を吐出する。
【００１４】このＵＶ硬化型樹脂６上にシランカップリ
ング剤の塗布してあるガラス基板７を、カップリング剤
塗布面がＵＶ硬化型樹脂６側となるように載せて押圧
し、更にこのガラス基板７の上方から紫外光５を照射
し、図１（ｊ）に示すように、ＵＶ硬化型樹脂層６ａの
ＵＶ硬化を行う。ここで、ガラス基板７にシランカップ
リング剤を塗布するのは、ガラス基板７とＵＶ硬化型樹
脂層６ａとの密着性をより高めるためである。
ング剤の塗布してあるガラス基板７を、カップリング剤
塗布面がＵＶ硬化型樹脂６側となるように載せて押圧
し、更にこのガラス基板７の上方から紫外光５を照射
し、図１（ｊ）に示すように、ＵＶ硬化型樹脂層６ａの
ＵＶ硬化を行う。ここで、ガラス基板７にシランカップ
リング剤を塗布するのは、ガラス基板７とＵＶ硬化型樹
脂層６ａとの密着性をより高めるためである。
【００１５】紫外光５でＵＶ硬化を行った後、一体化し
たガラス基板７およびＵＶ硬化型樹脂層６ａをガラス製
原板１ａから離型し、図１（ｋ）に示すように、ガラス
とＵＶ硬化型樹脂とからなるホログラム素子基板１０ａ
を得る。このホログラム素子基板１０ａのＵＶ硬化型樹
脂層６ａの表面に、図１（ｌ）に示すように、反射防止
膜８を形成する。反射防止膜８は、例えば、特開平３−
１０７８０１号公報等に記載されるようなもので、Ｃｅ
Ｏ2 、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、ＳｉＯ2 からなる薄膜をＵＶ
硬化型樹脂層６ａ側から順に積層したものである。さら
に、ガラス基板７の表面には、公知のＡｌ2 Ｏ3 、Ｚｒ
Ｏ2 、ＭｇＦ2 の三層の反射防止膜９を形成し、ホログ
ラム素子１０の作製を完了する。
たガラス基板７およびＵＶ硬化型樹脂層６ａをガラス製
原板１ａから離型し、図１（ｋ）に示すように、ガラス
とＵＶ硬化型樹脂とからなるホログラム素子基板１０ａ
を得る。このホログラム素子基板１０ａのＵＶ硬化型樹
脂層６ａの表面に、図１（ｌ）に示すように、反射防止
膜８を形成する。反射防止膜８は、例えば、特開平３−
１０７８０１号公報等に記載されるようなもので、Ｃｅ
Ｏ2 、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、ＳｉＯ2 からなる薄膜をＵＶ
硬化型樹脂層６ａ側から順に積層したものである。さら
に、ガラス基板７の表面には、公知のＡｌ2 Ｏ3 、Ｚｒ
Ｏ2 、ＭｇＦ2 の三層の反射防止膜９を形成し、ホログ
ラム素子１０の作製を完了する。
【００１６】（実施形態２）金属製コアを用いて、ガラ
スとＵＶ硬化型樹脂とからなるホログラム素子を製造す
る本実施形態を図２に示す。まず、図２（ａ）に示すよ
うに、金属母体１１を作製する。本実施形態では、金属
母体１１の材質にＳＴＡＶＡＸを用いたが、その他ＹＡ
Ｇなどを用いることも可能である。この金属母体１１の
ホログラムパターンを加工する面に、図２（ｂ）に示す
ように、無電解ニッケルめっき１２を１００μｍ程度形
成する。この無電解ニッケルめっき１２を施した部分に
超精密ＮＣ旋盤でのダイヤモンドターニングにより、図
２（ｃ）に示すように、同芯円状のホログラムパターン
を加工し、金属製コア１１ａを作製する。
スとＵＶ硬化型樹脂とからなるホログラム素子を製造す
る本実施形態を図２に示す。まず、図２（ａ）に示すよ
うに、金属母体１１を作製する。本実施形態では、金属
母体１１の材質にＳＴＡＶＡＸを用いたが、その他ＹＡ
Ｇなどを用いることも可能である。この金属母体１１の
ホログラムパターンを加工する面に、図２（ｂ）に示す
ように、無電解ニッケルめっき１２を１００μｍ程度形
成する。この無電解ニッケルめっき１２を施した部分に
超精密ＮＣ旋盤でのダイヤモンドターニングにより、図
２（ｃ）に示すように、同芯円状のホログラムパターン
を加工し、金属製コア１１ａを作製する。
【００１７】後の工程は、Ｃｒエッチングによるガラス
製原板を用いた上記実施形態１による方法と同様に行
う。まず、洗浄した面精度λ／２以下（反射波面収差）
のガラス基板（白板ガラス）７を用意し、上記実施形態
１と同様の理由から、この片面にシランカップリング剤
をスピンコートしておく。図２（ｄ）に示すように、金
属製コア１１ａのホログラムパターンを加工した無電解
ニッケルめっき１２上に、ディスペンサによりアクリル
系のＵＶ硬化型樹脂６を吐出する。
製原板を用いた上記実施形態１による方法と同様に行
う。まず、洗浄した面精度λ／２以下（反射波面収差）
のガラス基板（白板ガラス）７を用意し、上記実施形態
１と同様の理由から、この片面にシランカップリング剤
をスピンコートしておく。図２（ｄ）に示すように、金
属製コア１１ａのホログラムパターンを加工した無電解
ニッケルめっき１２上に、ディスペンサによりアクリル
系のＵＶ硬化型樹脂６を吐出する。
【００１８】この上にシランカップリング剤を塗布して
あるガラス基板７を、カップリング剤塗布面がＵＶ硬化
型樹脂６側となるように載せて押圧し、更にこのガラス
基板７の上から紫外光５を照射し、図２（ｅ）に示すよ
うに、ＵＶ硬化型樹脂層６ａのＵＶ硬化を行う。紫外光
５でＵＶ硬化を行った後、図２（ｆ）に示すように、一
体化したガラス基板７およびＵＶ硬化型樹脂層６ａを金
属製コア１１ａから離型し、ガラスとＵＶ硬化型樹脂と
からなるホログラム素子基板１０ａを得る。
あるガラス基板７を、カップリング剤塗布面がＵＶ硬化
型樹脂６側となるように載せて押圧し、更にこのガラス
基板７の上から紫外光５を照射し、図２（ｅ）に示すよ
うに、ＵＶ硬化型樹脂層６ａのＵＶ硬化を行う。紫外光
５でＵＶ硬化を行った後、図２（ｆ）に示すように、一
体化したガラス基板７およびＵＶ硬化型樹脂層６ａを金
属製コア１１ａから離型し、ガラスとＵＶ硬化型樹脂と
からなるホログラム素子基板１０ａを得る。
【００１９】そして、実施形態１と同様に、このホログ
ラム素子基板１０ａのＵＶ硬化型樹脂層６ａの表面に、
図２（ｇ）に示すように、反射防止膜８を形成する。反
射防止膜８は、例えば、特開平３−１０７８０１号公報
等に記載されるようなもので、ＣｅＯ2 、ＳｉＯ2 、Ｓ
ｉＯ、ＳｉＯ2 からなる薄膜をＵＶ硬化型樹脂層６ａ側
から順に積層したものである。さらに、ガラス基板７の
表面には、公知のＡｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、ＭｇＦ2 の三
層の反射防止膜９を形成し、ホログラム素子１０の作製
を完了する。以上のようにして作製した実施形態２のホ
ログラム素子（以下、「２Ｐ品」という）について、面
精度に関する信頼性試験を行った結果を図３に示す。
ラム素子基板１０ａのＵＶ硬化型樹脂層６ａの表面に、
図２（ｇ）に示すように、反射防止膜８を形成する。反
射防止膜８は、例えば、特開平３−１０７８０１号公報
等に記載されるようなもので、ＣｅＯ2 、ＳｉＯ2 、Ｓ
ｉＯ、ＳｉＯ2 からなる薄膜をＵＶ硬化型樹脂層６ａ側
から順に積層したものである。さらに、ガラス基板７の
表面には、公知のＡｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、ＭｇＦ2 の三
層の反射防止膜９を形成し、ホログラム素子１０の作製
を完了する。以上のようにして作製した実施形態２のホ
ログラム素子（以下、「２Ｐ品」という）について、面
精度に関する信頼性試験を行った結果を図３に示す。
【００２０】図３は、縦軸に透過波面収差λｐ−ｖを、
横軸にヒートサイクル試験後の経過時間をとったもの
で、ヒートサイクル試験は、−４０℃で２時間保持した
後、＋７０℃まで２時間かけて昇温し、＋７０℃で２時
間保持した後、−４０℃まで２時間かけて降温するサイ
クルを１０サイクル繰り返した。その後、ホログラム素
子は２２±１℃、５５±５％の恒温室で放置した。な
お、比較のため、光学ガラスをドライエッチングして得
たホログラム素子（比較例１）と、プラスチックを射出
成形して得たホログラム素子（比較例２）とについても
上記と同様の試験を行った。その結果も図３に示す。
横軸にヒートサイクル試験後の経過時間をとったもの
で、ヒートサイクル試験は、−４０℃で２時間保持した
後、＋７０℃まで２時間かけて昇温し、＋７０℃で２時
間保持した後、−４０℃まで２時間かけて降温するサイ
クルを１０サイクル繰り返した。その後、ホログラム素
子は２２±１℃、５５±５％の恒温室で放置した。な
お、比較のため、光学ガラスをドライエッチングして得
たホログラム素子（比較例１）と、プラスチックを射出
成形して得たホログラム素子（比較例２）とについても
上記と同様の試験を行った。その結果も図３に示す。
【００２１】また、２Ｐ品並びに比較例１および比較例
２について、回折光量比に関する信頼性試験を行った結
果を図４に示す。図４は、縦軸に±１次光／０次光を、
横軸にヒートサイクル試験後の経過時間をとったもの
で、ヒートサイクル試験は上記と同様である。
２について、回折光量比に関する信頼性試験を行った結
果を図４に示す。図４は、縦軸に±１次光／０次光を、
横軸にヒートサイクル試験後の経過時間をとったもの
で、ヒートサイクル試験は上記と同様である。
【００２２】表１に、上記面精度および回折光量比の
他、量産性等についての評価を示す。
他、量産性等についての評価を示す。
【表１】 さらに、上記実施形態１により得たホログラム素子につ
いても２Ｐ品（実施形態２）と同様の評価を得た。な
お、本発明は、あらゆる微細パターンのものに適用で
き、同芯円でブレーズド化されたものも含まれる。
いても２Ｐ品（実施形態２）と同様の評価を得た。な
お、本発明は、あらゆる微細パターンのものに適用で
き、同芯円でブレーズド化されたものも含まれる。
【００２３】
【発明の効果】以上のように、本発明のホログラム素子
およびその製造方法によれば、面精度等の信頼性が高
く、また回折光量比の変化も小さい光学性能に優れたホ
ログラム素子を低コストで量産することができる。
およびその製造方法によれば、面精度等の信頼性が高
く、また回折光量比の変化も小さい光学性能に優れたホ
ログラム素子を低コストで量産することができる。
【図１】本発明の実施形態１のホログラム素子の製造工
程を示す工程図である。
程を示す工程図である。
【図２】本発明の実施形態２のホログラム素子の製造工
程を示す工程図である。
程を示す工程図である。
【図３】ヒートサイクル試験後の面精度を示すグラフで
ある。
ある。
【図４】ヒートサイクル試験後の回折光量比を示すグラ
フである。
フである。
１ ガラス板 １ａ ガラス製原板 ２ Ｃｒ膜 ３ フォトレジスト ４ フォトマスク ５ 紫外光 ６ ＵＶ硬化型樹脂 ６ａ ＵＶ硬化型樹脂層 ７ ガラス基板 １０ ホログラム素子 １１ 金属母体 １１ａ 金属製コア
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 関根 熊二郎 栃木県佐野市赤見町2009番地 セキノス株 式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 ガラス基板上に微細パターンを有するＵ
Ｖ硬化型樹脂層を設けたことを特徴とするホログラム素
子。 - 【請求項２】 ガラス板上にフォトリソ工程により金属
からなる微細パターンを形成してガラス製原板を作製す
る工程と、そのガラス製原板上にＵＶ硬化型樹脂を供給
する工程と、ガラス基板によりＵＶ硬化型樹脂を押圧し
て前記微細パターンをＵＶ硬化型樹脂層の表面に転写す
る工程と、紫外光を照射してＵＶ硬化型樹脂層を硬化さ
せる工程と、一体化したガラス基板およびＵＶ硬化型樹
脂層をガラス製原板から離型する工程と、からなること
を特徴とするホログラム素子の製造方法。 - 【請求項３】 金属母体上に微細パターンを形成して金
属製コアを作製する工程と、その金属製コア上にＵＶ硬
化型樹脂を供給する工程と、ガラス基板によりＵＶ硬化
型樹脂を押圧して前記微細パターンをＵＶ硬化型樹脂層
の表面に転写する工程と、紫外光を照射してＵＶ硬化型
樹脂層を硬化させる工程と、一体化したガラス基板およ
びＵＶ硬化型樹脂層を金属製コアから離型する工程と、
からなることを特徴とするホログラム素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8104823A JPH09274425A (ja) | 1996-04-03 | 1996-04-03 | ホログラム素子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8104823A JPH09274425A (ja) | 1996-04-03 | 1996-04-03 | ホログラム素子およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09274425A true JPH09274425A (ja) | 1997-10-21 |
Family
ID=14391127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8104823A Pending JPH09274425A (ja) | 1996-04-03 | 1996-04-03 | ホログラム素子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09274425A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002350849A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-04 | Citizen Electronics Co Ltd | 液晶表示装置のフロントライト |
| KR100913200B1 (ko) * | 2007-12-12 | 2009-08-24 | 주식회사 키앤코어 | 표시판 및 그 제조 방법 |
| KR100962495B1 (ko) * | 2002-12-28 | 2010-06-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시모듈의 제조방법 및 장치 |
| WO2013145850A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 回折格子およびその製造方法 |
| JP2014151446A (ja) * | 2013-02-05 | 2014-08-25 | Kuraray Co Ltd | モアレ模様装飾体、モアレ模様装飾体の製造方法及びモアレ模様装飾体を用いた偽造防止部材 |
| JP2024521672A (ja) * | 2021-06-03 | 2024-06-04 | ヴァイアヴィ・ソリューションズ・インコーポレイテッド | 微細構造パターンの複製方法 |
-
1996
- 1996-04-03 JP JP8104823A patent/JPH09274425A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002350849A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-04 | Citizen Electronics Co Ltd | 液晶表示装置のフロントライト |
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| US9261631B2 (en) | 2012-03-30 | 2016-02-16 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method for manufacturing a diffraction grating |
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| US12353128B2 (en) | 2021-06-03 | 2025-07-08 | Viavi Solutions Inc. | Method of replicating a microstructure pattern |
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050714 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050720 |
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