JP2995755B2 - スタンパの製造方法 - Google Patents
スタンパの製造方法Info
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- JP2995755B2 JP2995755B2 JP1201686A JP20168689A JP2995755B2 JP 2995755 B2 JP2995755 B2 JP 2995755B2 JP 1201686 A JP1201686 A JP 1201686A JP 20168689 A JP20168689 A JP 20168689A JP 2995755 B2 JP2995755 B2 JP 2995755B2
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- stamper
- glass master
- manufacturing
- sol
- master
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ディスク用スタンパの製造方法に関し、特
にゾルゲル法を用いた光ディスク用ガラス基板作製のた
めのワークスタンパの製造方法に関する。
にゾルゲル法を用いた光ディスク用ガラス基板作製のた
めのワークスタンパの製造方法に関する。
従来のゾルゲル法を用いた光ディスク用ガラス基板の
作製プロセスについて説明する。
作製プロセスについて説明する。
まず、所望のデータに基づきガラス原盤にマスタライ
ティングを行う。次に、ガラス原盤にNiのスパッタ及び
電鋳処理を施すことにより、Niスタンパ（マスタ）をお
こす。次いで、Niスタンパ（マスタ）を型にして再度電
鋳処理を行い、Niスタンパ（マザー）を作成する。この
様にして作成したNiスタンパ（マザー）を用いて、射出
成形あるいは2P成形により樹脂製のゾルゲル用ワークス
タンパを得る。
ティングを行う。次に、ガラス原盤にNiのスパッタ及び
電鋳処理を施すことにより、Niスタンパ（マスタ）をお
こす。次いで、Niスタンパ（マスタ）を型にして再度電
鋳処理を行い、Niスタンパ（マザー）を作成する。この
様にして作成したNiスタンパ（マザー）を用いて、射出
成形あるいは2P成形により樹脂製のゾルゲル用ワークス
タンパを得る。
次に、ガラス基板上に、スピンコート法により金属ア
ルコレート、ポリエチレングリコール、塩酸を含むアル
コール溶液（ゾルゲル溶液）を塗布し、ゾルゲル層を形
成する。先程のワークスタンパをこのゾルゲル面に押し
当て、微細なパターンを転写する。重ね合わせたまま一
次焼成を行った後、ワークスタンパから離型した微細パ
ターン付きガラス基板を更に二次焼成する。このような
プロセスを経て、光ディスク用ガラス基板を作製してい
た。
ルコレート、ポリエチレングリコール、塩酸を含むアル
コール溶液（ゾルゲル溶液）を塗布し、ゾルゲル層を形
成する。先程のワークスタンパをこのゾルゲル面に押し
当て、微細なパターンを転写する。重ね合わせたまま一
次焼成を行った後、ワークスタンパから離型した微細パ
ターン付きガラス基板を更に二次焼成する。このような
プロセスを経て、光ディスク用ガラス基板を作製してい
た。
先述したように、ゾルゲル用ワークスタンパを作製す
るには、現状ではかなりのプロセスを必要とする。これ
は、ゾルゲル用ワークスタンパとして、直接Niスタンパ
（マスタ）が使用できないことによる。すなわち、ゾル
ゲル層とNiスタンパをそのまま密着させて一次焼成を行
うと、離型の際、ゾルゲル層の一部がNiスタンパ面に付
着し、正確なパターン転写ができない。
るには、現状ではかなりのプロセスを必要とする。これ
は、ゾルゲル用ワークスタンパとして、直接Niスタンパ
（マスタ）が使用できないことによる。すなわち、ゾル
ゲル層とNiスタンパをそのまま密着させて一次焼成を行
うと、離型の際、ゾルゲル層の一部がNiスタンパ面に付
着し、正確なパターン転写ができない。
このため、上述したような長いプロセスを採り入れて
いるが、特に微細なパターンを比較的大面積に渡って何
度も転写するので、歩留り、コストの面で問題となる。
いるが、特に微細なパターンを比較的大面積に渡って何
度も転写するので、歩留り、コストの面で問題となる。
本発明は、いわゆる2P成形により、ガラス原盤から直
接ゾルゲル用ワークスタンパを製作することができるス
タンパの容易な製造方法を提供するものである。
接ゾルゲル用ワークスタンパを製作することができるス
タンパの容易な製造方法を提供するものである。
本発明によるスタンパの製造方法は、ガラス原盤上に
レジストを塗布する工程、レーザービームを用いて所望
のパターンを露光する工程、微細なパターンを有するレ
ジスト層を形成するための現像工程、残存するレジスト
層をマスクとしてガラス原盤をエッチングする工程、残
存するレジスト層を除去する工程、微細なパターンを有
する前記ガラス原盤に透光性基板を押し当てこのガラス
原盤と透光性基板との間に紫外線硬化樹脂を充填する工
程、前記透光性基板を通して紫外線を照射する工程、前
記ガラス原盤から微細な凹凸を有する紫外線硬化樹脂層
を設けた前記透光性基板を離型する工程とを有する。
レジストを塗布する工程、レーザービームを用いて所望
のパターンを露光する工程、微細なパターンを有するレ
ジスト層を形成するための現像工程、残存するレジスト
層をマスクとしてガラス原盤をエッチングする工程、残
存するレジスト層を除去する工程、微細なパターンを有
する前記ガラス原盤に透光性基板を押し当てこのガラス
原盤と透光性基板との間に紫外線硬化樹脂を充填する工
程、前記透光性基板を通して紫外線を照射する工程、前
記ガラス原盤から微細な凹凸を有する紫外線硬化樹脂層
を設けた前記透光性基板を離型する工程とを有する。
〔実施例〕 まず、鏡面に磨かれているガラス原盤上にホトレジス
トをスピンコート法により1000〜3000Å塗布する。次い
で、マスタライタでレーザービーム露光を行い、専用の
現像液を用いて現像する。次に、ホトレジストをマスク
として、CF4などのガスを用いた反応性イオンエッチン
グ法によりガラス原盤をエッチングする。その後、アッ
シング装置を用いてレジスト層を除去する。このように
して微細なパターンを有するガラス原盤が作製できる。
トをスピンコート法により1000〜3000Å塗布する。次い
で、マスタライタでレーザービーム露光を行い、専用の
現像液を用いて現像する。次に、ホトレジストをマスク
として、CF4などのガスを用いた反応性イオンエッチン
グ法によりガラス原盤をエッチングする。その後、アッ
シング装置を用いてレジスト層を除去する。このように
して微細なパターンを有するガラス原盤が作製できる。
このガラス原盤の上に、ディスペンサを用いて紫外線
硬化樹脂をリング状に吐出させる。次に、透光性のエポ
キシ基板を、紫外線硬化樹脂がエポキシ基板とガラス原
盤との間に充分展開するように、ガラス原盤に押し当て
る。その後、エポキシ基板側からUV照射を行い、紫外線
硬化樹脂を硬化させる。硬化した紫外線硬化樹脂層をガ
ラス原盤から離型することにより、微細な凹凸を有する
紫外線硬化樹脂層をエポキシ基板上に形成することがで
きる。このようにしてゾルゲル用ワークスタンパが作製
できる。
硬化樹脂をリング状に吐出させる。次に、透光性のエポ
キシ基板を、紫外線硬化樹脂がエポキシ基板とガラス原
盤との間に充分展開するように、ガラス原盤に押し当て
る。その後、エポキシ基板側からUV照射を行い、紫外線
硬化樹脂を硬化させる。硬化した紫外線硬化樹脂層をガ
ラス原盤から離型することにより、微細な凹凸を有する
紫外線硬化樹脂層をエポキシ基板上に形成することがで
きる。このようにしてゾルゲル用ワークスタンパが作製
できる。
次に、ゾルゲル法を用いたガラス基板の作製方法につ
いて述べる。
いて述べる。
ガラス基板上にテトラエトキシシラン、ポリエチレン
グリコール、塩酸を含むエチルアルコール溶液をスピン
コート法により塗布し、ゾルゲル層を2000〜3000Å形成
した。次いで、先程のワークスタンパを減圧下で重ね合
わせて押圧する。そのままの状態で、100℃、10minの一
次焼成を行った。その後、ガラス基板をワークスタンパ
より離型し、350℃、10minの二次焼成を行い、所望の微
細パターンを有するガラス基板を得た。
グリコール、塩酸を含むエチルアルコール溶液をスピン
コート法により塗布し、ゾルゲル層を2000〜3000Å形成
した。次いで、先程のワークスタンパを減圧下で重ね合
わせて押圧する。そのままの状態で、100℃、10minの一
次焼成を行った。その後、ガラス基板をワークスタンパ
より離型し、350℃、10minの二次焼成を行い、所望の微
細パターンを有するガラス基板を得た。
以上述べてきたように、本発明によるスタンパの製造
方法は、従来の方法に比べて短い工程で済み、又、ゾル
ゲル用スタンパとしてNiスタンパを使用しないで済むた
め、ゾルゲル層がスタンパに付着することもなくなり、
その工業上の意義は大きい。
方法は、従来の方法に比べて短い工程で済み、又、ゾル
ゲル用スタンパとしてNiスタンパを使用しないで済むた
め、ゾルゲル層がスタンパに付着することもなくなり、
その工業上の意義は大きい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 7/26
Claims (1)
- 【請求項１】ガラス原盤上にレジストを塗布する工程、
レーザービームを用いて所望のパターンを露光する工
程、微細なパターンを有するレジスト層を形成するため
の現像工程、残存するレジスト層をマスクとしてガラス
原盤をエッチングする工程、残存するレジスト層を除去
する工程、微細なパターンを有する前記ガラス原盤に透
光性基板を押し当てこのガラス原盤と透光性基板との間
に紫外線硬化樹脂を充填する工程、前記透光性基板を通
して紫外線を照射する工程、前記ガラス原盤から微細な
凹凸を有する紫外線硬化樹脂層を設けた前記透光性基板
を離型する工程からなるスタンパの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1201686A JP2995755B2 (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | スタンパの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1201686A JP2995755B2 (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | スタンパの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0365327A JPH0365327A (ja) | 1991-03-20 |
| JP2995755B2 true JP2995755B2 (ja) | 1999-12-27 |
Family
ID=16445222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1201686A Expired - Lifetime JP2995755B2 (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | スタンパの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2995755B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101367662B1 (ko) | 2006-11-22 | 2014-03-03 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 임프린트용 스탬프 제조 방법 |
-
1989
- 1989-08-02 JP JP1201686A patent/JP2995755B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101367662B1 (ko) | 2006-11-22 | 2014-03-03 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 임프린트용 스탬프 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0365327A (ja) | 1991-03-20 |
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