JPH0927532A - 基板の搬送方法 - Google Patents
基板の搬送方法Info
- Publication number
- JPH0927532A JPH0927532A JP7173075A JP17307595A JPH0927532A JP H0927532 A JPH0927532 A JP H0927532A JP 7173075 A JP7173075 A JP 7173075A JP 17307595 A JP17307595 A JP 17307595A JP H0927532 A JPH0927532 A JP H0927532A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cassette
- storage
- substrates
- photosensitive substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板を収納庫から搬入出する際に、基板に塵
埃等の異物が付着することや、放電によりパターンが破
壊されることを防止する基板の搬送方法を提供する。 【構成】 露光等の処理前の（搬送元の）カセット１と
処理後の（搬送先の）カセット２とを独立した別のもの
とし、搬送元のカセットからは最下位に位置する基板か
ら順に搬出し、搬送先のカセットへは最上位の収納位置
から順に搬入する。 【効果】 このため、搬入出している基板の下には常に
感光基板が存在せず、塵埃等の異物が感光基板上に落下
することがない。また、カセット内に収納されている感
光基板の上方に搬送アームが進入することもなく、帯電
した感光基板と搬送アームとの間で放電が起こることも
ない。
埃等の異物が付着することや、放電によりパターンが破
壊されることを防止する基板の搬送方法を提供する。 【構成】 露光等の処理前の（搬送元の）カセット１と
処理後の（搬送先の）カセット２とを独立した別のもの
とし、搬送元のカセットからは最下位に位置する基板か
ら順に搬出し、搬送先のカセットへは最上位の収納位置
から順に搬入する。 【効果】 このため、搬入出している基板の下には常に
感光基板が存在せず、塵埃等の異物が感光基板上に落下
することがない。また、カセット内に収納されている感
光基板の上方に搬送アームが進入することもなく、帯電
した感光基板と搬送アームとの間で放電が起こることも
ない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板の搬送方法に
関し、半導体素子や液晶表示基板を製造するための露光
装置に用いられる、複数の基板を収納する収納庫から１
枚ずつ基板を搬入出する場合の搬送方法に関する。
関し、半導体素子や液晶表示基板を製造するための露光
装置に用いられる、複数の基板を収納する収納庫から１
枚ずつ基板を搬入出する場合の搬送方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の搬送方法は、複数のスロ
ット（収納用の段）を有し、各スロットに対して１枚ず
つ、複数の基板を収納する収納庫に基板搬送用のアーム
を進入し、複数の基板のうち１枚だけ受け取ってアーム
を収納庫から退出することにより基板を搬出していた。
また、基板を収納庫に収納（搬入）する際は、基板を保
持したアームを収納庫に進入して基板を元のスロットに
受け渡し、収納庫から退出するようにしていた。
ット（収納用の段）を有し、各スロットに対して１枚ず
つ、複数の基板を収納する収納庫に基板搬送用のアーム
を進入し、複数の基板のうち１枚だけ受け取ってアーム
を収納庫から退出することにより基板を搬出していた。
また、基板を収納庫に収納（搬入）する際は、基板を保
持したアームを収納庫に進入して基板を元のスロットに
受け渡し、収納庫から退出するようにしていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、複数収納されている基板を１枚ずつ搬入出
するため、最下位に収納されている基板を搬入出する場
合以外は、搬入出する基板の下方に他の基板が収納され
ていることになる。そのため、基板を搬入出する際に基
板が収納庫やアームと接触して生じる塵埃が、下方に収
納されている基板上に落下することになる。基板が半導
体素子や液晶表示基板を製造するための感光基板である
場合には、塵埃が付着することは露光不良の原因とな
り、製品の歩留りを低下させる原因となる。
においては、複数収納されている基板を１枚ずつ搬入出
するため、最下位に収納されている基板を搬入出する場
合以外は、搬入出する基板の下方に他の基板が収納され
ていることになる。そのため、基板を搬入出する際に基
板が収納庫やアームと接触して生じる塵埃が、下方に収
納されている基板上に落下することになる。基板が半導
体素子や液晶表示基板を製造するための感光基板である
場合には、塵埃が付着することは露光不良の原因とな
り、製品の歩留りを低下させる原因となる。
【０００４】また、露光等の処理を施した基板は一般的
に帯電しており、この帯電した基板を収納庫に対して収
納してある場合、次に基板を搬入するため搬送アームが
既に収納されている基板の上方に進入してきた場合に、
搬送アームとの間で放電を起こし、露光によって形成さ
れたパターンを破壊することもあった。本発明は上記問
題点に鑑み、基板を収納庫から搬入出する際に基板に塵
埃等の異物が付着することや、放電によりパターンが破
壊されることを防止する基板の搬送方法を提供すること
を目的とする。
に帯電しており、この帯電した基板を収納庫に対して収
納してある場合、次に基板を搬入するため搬送アームが
既に収納されている基板の上方に進入してきた場合に、
搬送アームとの間で放電を起こし、露光によって形成さ
れたパターンを破壊することもあった。本発明は上記問
題点に鑑み、基板を収納庫から搬入出する際に基板に塵
埃等の異物が付着することや、放電によりパターンが破
壊されることを防止する基板の搬送方法を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記問題点解決のため本
発明では、鉛直方向に沿って複数の収納位置を有し、こ
の複数の収納位置に対して複数の基板（Ａ〜Ｅ）を収納
した収納庫（１）から基板を１枚ずつ搬出し、収納庫に
対して基板を１枚ずつ搬入する基板の搬送方法におい
て、収納庫内の最下位に位置する基板（Ａ）から上位に
位置する基板（Ｅ）へ向けて順に搬出し、搬出された基
板を上記収納庫（１）とは異なる、基板の収納されてい
ない第２の収納庫（２）の最上位の収納位置から下位の
収納位置へ向けて順に搬入することとした。
発明では、鉛直方向に沿って複数の収納位置を有し、こ
の複数の収納位置に対して複数の基板（Ａ〜Ｅ）を収納
した収納庫（１）から基板を１枚ずつ搬出し、収納庫に
対して基板を１枚ずつ搬入する基板の搬送方法におい
て、収納庫内の最下位に位置する基板（Ａ）から上位に
位置する基板（Ｅ）へ向けて順に搬出し、搬出された基
板を上記収納庫（１）とは異なる、基板の収納されてい
ない第２の収納庫（２）の最上位の収納位置から下位の
収納位置へ向けて順に搬入することとした。
【０００６】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施例による基
板の搬送方法を用いる露光装置の概略的な構成を示す図
である。カセット１には当初、複数（この場合５枚）の
感光基板Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅが収納されている。この感
光基板はカセット１の最下位の収納位置から最上位の収
納位置に向けてＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅの順に収納されてい
る。また、カセット１は昇降台３上に載置され、当初、
搬送アーム７がカセット１の最下位の収納位置にアクセ
スする高さになっている。そして、駆動装置５によって
矢印αの方向に降下する。これにより、搬送アーム７の
カセット１に対するアクセス位置（高さ）を変更する。
即ち、搬送アーム７がアクセスする感光基板を選択する
ことができる。
板の搬送方法を用いる露光装置の概略的な構成を示す図
である。カセット１には当初、複数（この場合５枚）の
感光基板Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅが収納されている。この感
光基板はカセット１の最下位の収納位置から最上位の収
納位置に向けてＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅの順に収納されてい
る。また、カセット１は昇降台３上に載置され、当初、
搬送アーム７がカセット１の最下位の収納位置にアクセ
スする高さになっている。そして、駆動装置５によって
矢印αの方向に降下する。これにより、搬送アーム７の
カセット１に対するアクセス位置（高さ）を変更する。
即ち、搬送アーム７がアクセスする感光基板を選択する
ことができる。
【０００７】搬送アーム７はカセット１内に進入して感
光基板をカセット１から受け取り、感光基板を保持した
まま、駆動装置９によって露光ステージ１３へ向けて
（矢印βの方向に）移動される。その後、感光基板は搬
送アーム７から露光ステージ１３上へ受け渡され、不図
示の照明光学系からの光束でマスク１１のパターンの像
が投影光学系１２を介して露光される。
光基板をカセット１から受け取り、感光基板を保持した
まま、駆動装置９によって露光ステージ１３へ向けて
（矢印βの方向に）移動される。その後、感光基板は搬
送アーム７から露光ステージ１３上へ受け渡され、不図
示の照明光学系からの光束でマスク１１のパターンの像
が投影光学系１２を介して露光される。
【０００８】露光が終了した感光基板は、搬送アーム８
が受け取り、駆動装置１０によってカセット２に向けて
（矢印γの方向へ）搬送される。カセット２は当初、感
光基板を収納していない。また、カセット２は昇降台４
上に載置され、当初、搬送アーム８がカセットの最上位
の収納位置にアクセスする高さになっている。そして、
駆動装置６によって矢印δの方向に上昇する。これによ
り、搬送アーム８のカセット２に対するアクセス位置
（高さ）を変更する。即ち、搬送アーム８がアクセスす
る収納位置を選択することができる。
が受け取り、駆動装置１０によってカセット２に向けて
（矢印γの方向へ）搬送される。カセット２は当初、感
光基板を収納していない。また、カセット２は昇降台４
上に載置され、当初、搬送アーム８がカセットの最上位
の収納位置にアクセスする高さになっている。そして、
駆動装置６によって矢印δの方向に上昇する。これによ
り、搬送アーム８のカセット２に対するアクセス位置
（高さ）を変更する。即ち、搬送アーム８がアクセスす
る収納位置を選択することができる。
【０００９】図１は、装置の搬送工程のある時点を模式
的に示しており、いま、搬送アーム７はカセット１内の
３枚目の感光基板Ｃを搬出している。この感光基板Ｃの
搬出が完了すると、カセット１内の感光基板Ｄが搬送ア
ーム７のアクセス位置と同じ高さになるように、昇降台
３によってカセット１を降下する。そして搬送アーム７
が再度カセット１内に進入して感光基板Ｄを受け取る。
的に示しており、いま、搬送アーム７はカセット１内の
３枚目の感光基板Ｃを搬出している。この感光基板Ｃの
搬出が完了すると、カセット１内の感光基板Ｄが搬送ア
ーム７のアクセス位置と同じ高さになるように、昇降台
３によってカセット１を降下する。そして搬送アーム７
が再度カセット１内に進入して感光基板Ｄを受け取る。
【００１０】一方、１枚目の感光基板Ａは既に露光処理
が終了しており、カセット２内の最上位の収納位置に収
納されている。また、２枚目の感光基板Ｂは、同様に露
光処理が終了しており、搬送アーム８によってカセット
２に向けて搬送されている。これに合わせて、カセット
２内の上から２番目の収納位置が搬送アーム８のアクセ
ス位置と同じ高さになるように、昇降台４によってカセ
ット２を上昇する。
が終了しており、カセット２内の最上位の収納位置に収
納されている。また、２枚目の感光基板Ｂは、同様に露
光処理が終了しており、搬送アーム８によってカセット
２に向けて搬送されている。これに合わせて、カセット
２内の上から２番目の収納位置が搬送アーム８のアクセ
ス位置と同じ高さになるように、昇降台４によってカセ
ット２を上昇する。
【００１１】以後は、同様にして感光基板Ｄ，Ｅを露光
ステージ１３上に搬送して露光処理を行い、露光処理終
了後は、カセット２内に搬入する。そして総ての感光基
板がカセット１からカセット２へ搬送された後は、カセ
ット２内の感光基板の収納順序は、カセット１内の収納
順序とは逆の、上からＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅの順となる。
ステージ１３上に搬送して露光処理を行い、露光処理終
了後は、カセット２内に搬入する。そして総ての感光基
板がカセット１からカセット２へ搬送された後は、カセ
ット２内の感光基板の収納順序は、カセット１内の収納
順序とは逆の、上からＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅの順となる。
【００１２】本発明では、搬送元と搬送先のカセットを
独立した別のものとし、搬送元のカセットからは最下位
に位置する基板から順に搬出し、搬送先のカセットへは
最上位の収納位置から順に搬入するようにしたため、カ
セットに対して基板を搬入出する際には、搬入出してい
る感光基板の下には常に感光基板が存在せず、塵埃等の
異物が感光基板上に落下することがない。
独立した別のものとし、搬送元のカセットからは最下位
に位置する基板から順に搬出し、搬送先のカセットへは
最上位の収納位置から順に搬入するようにしたため、カ
セットに対して基板を搬入出する際には、搬入出してい
る感光基板の下には常に感光基板が存在せず、塵埃等の
異物が感光基板上に落下することがない。
【００１３】また、本発明では、カセット内に収納され
ている感光基板の上方に搬送アームが進入してくること
もないため、帯電した感光基板と搬送アームとの間で放
電が起こることもない。
ている感光基板の上方に搬送アームが進入してくること
もないため、帯電した感光基板と搬送アームとの間で放
電が起こることもない。
【図１】本発明の実施例による基板の搬送方法を用いる
露光装置の概略的な構成を示す図。
露光装置の概略的な構成を示す図。
１，２ カセット ３，４ 昇降台 ５，６ 駆動装置 ７，８ 搬送アーム ９，１０ 駆動装置 Ａ〜Ｅ 感光基板
Claims (1)
- 【請求項１】 鉛直方向に沿って複数の収納位置を有
し、該複数の収納位置に対して複数の基板を収納した収
納庫から前記基板を１枚ずつ搬出し、前記収納庫に対し
て前記基板を１枚ずつ搬入する基板の搬送方法におい
て、 前記収納庫内の最下位に位置する前記基板から上位に位
置する前記基板へ向けて順に搬出し、 搬出された前記基板を前記収納庫とは異なる、前記基板
の収納されていない第２の収納庫の最上位の前記収納位
置から下位の前記収納位置へ向けて順に搬入することを
特徴とする基板の搬送方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7173075A JPH0927532A (ja) | 1995-07-10 | 1995-07-10 | 基板の搬送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7173075A JPH0927532A (ja) | 1995-07-10 | 1995-07-10 | 基板の搬送方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0927532A true JPH0927532A (ja) | 1997-01-28 |
Family
ID=15953751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7173075A Pending JPH0927532A (ja) | 1995-07-10 | 1995-07-10 | 基板の搬送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0927532A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002270674A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | 搬出装置 |
| EP0948031A3 (en) * | 1998-03-31 | 2004-06-09 | NEC Electronics Corporation | Semiconductor fabrication line with contamination preventing function |
-
1995
- 1995-07-10 JP JP7173075A patent/JPH0927532A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0948031A3 (en) * | 1998-03-31 | 2004-06-09 | NEC Electronics Corporation | Semiconductor fabrication line with contamination preventing function |
| JP2002270674A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | 搬出装置 |
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