JPH09283792A - 面発光サイリスタおよび自己走査型発光装置 - Google Patents

面発光サイリスタおよび自己走査型発光装置

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JPH09283792A
JPH09283792A JP8983696A JP8983696A JPH09283792A JP H09283792 A JPH09283792 A JP H09283792A JP 8983696 A JP8983696 A JP 8983696A JP 8983696 A JP8983696 A JP 8983696A JP H09283792 A JPH09283792 A JP H09283792A
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幸久 楠田
Seiji Ono
誠治 大野
Shunsuke Otsuka
俊介 大塚
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 外部発光効率の良い面発光サイリスタを提供
する。 【解決手段】 面発光サイリスタは、N形の半導体基板
1上に、N形の半導体層24と、P形の半導体層23
と、N形の半導体層22と、P形の半導体層21とがこ
の順に積層され、半導体層21上に設けられたアノード
電極25と、半導体層22上に設けられたゲート電極と
を備えている。半導体層24,23,22は、アノード
電極の領域とゲート領域との間に、くびれ部42を有し
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、面発光サイリスタ
のような面発光素子の外部発光効率を高めるための構
造、およびこのような面発光素子を用いた自己走査型発
光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、面発光素子の代表的なものとして
発光ダイオードおよびレーザダイオードが知られてい
る。発光ダイオードは化合物半導体(GaAs,Ga
P,AlGaAs等)のPN接合またはPIN接合を形
成し、これに順方向電圧を加えることにより接合内部に
キャリアを注入し、その再結合の過程で生じる発光現象
を利用するものである。
【0003】またレーザダイオードはこの発光ダイオー
ドの内部に導波路を設けた構造となっている。あるしき
い電流以上の電流を流すと注入される電子−正孔対が増
加し反転分布状態となり、誘導放射による光子の増倍
(利得)が発生し、へき開面などを利用した平行な反射
鏡により発生した光が再び活性層に帰還されてレーザ発
振が起こる。そして導波路の端面からレーザ光が出射さ
れていくものである。
【0004】これら発光ダイオード,レーザダイオード
と同じ発光メカニズムを有する発光素子として、発光機
能を有する負性抵抗素子(発光サイリスタ,レーザサイ
リスタ等)も知られている。発光サイリスタは先に述べ
たような化合物半導体でPNPN構造を作るものであ
り、シリコンではサイリスタとして実用化されている。
これらについては、例えば青木昌治編著「発光ダイオー
ド」工業調査会、167〜169頁に記載されている。
この発光機能を有する負性抵抗素子(ここでは発光サイ
リスタと呼ぶ)の基本構造は、N形GaAs基板上にP
NPN構造を形成したもので、サイリスタと全く同じ構
造である。電流−電圧特性もサイリスタと全く同じS字
形負性抵抗の特性を示す。
【0005】また本出願人は、面発光サイリスタを用い
た自己走査型発光装置について、既に多くの出願におい
て開示している。例えば、特開平2−263668号公
報「発光装置」、特開平2−212170号公報「発光
素子アレイおよびその駆動方法」、特開平3−5588
5号公報「発光・受光モジュール」、特開平3−200
364号公報「光信号の読み取り方法及びこれに使用す
るスイッチ素子アレイ」、特開平4−23367号公報
「発光装置」、特開平4−296579号公報「発光素
子アレイの駆動方法」である。多数個の発光素子を同一
基板上に集積した発光素子アレイはその駆動用ICと組
み合わせて光プリンタ等の書き込み用光源として利用さ
れている。本発明者らは発光素子アレイの構成要素とし
てPNPN構造を持つ面発光サイリスタに注目し、発光
点の自己走査が実現できることを既に上記のように特許
出願し、光プリンタ用光源として実装上簡便となるこ
と、発光素子ピッチを細かくできること、コンパクトな
自己走査型発光装置を作製できること等を示した。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】図1(a),(b)
は、メサ型のPNPN構造の従来の面発光サイリスタの
断面図および平面図を示す。この面発光サイリスタはN
形半導体基板1上に形成されたN形半導体層24,P形
半導体層23,N形半導体層22,P形半導体層21
と、P形半導体層21にオーミック接触するように形成
されたアノード電極40と、N形半導体層22上にオー
ミック接触するように形成されたゲート電極41とを備
えている。図1(a)の構造上には、図示しないが全体
に絶縁被膜(光を透過する絶縁材料よりなる)が設けら
れ、その上にAl配線140が設けられている。絶縁被
膜には、アノード電極40とAl配線140とを電気的
に接続するためのコンタクトホールCが開けられてい
る。また、N形半導体基板1の裏面には、カソード電極
(図示せず)が設けられている。なお、ゲート電極41
上の絶縁被膜にもコンタクトホールが設けられ、配線に
接続されるが、図示を省略してある。
【0007】このようなPNPN構造の面発光サイリス
タにおいては、アノード電極40からの注入電流は、図
1(a)に矢印で示すように、電極40の真下に向かっ
て主に流れるが(I1 で示す)、一部はゲート電極41
の方へ回り込んで流れる(I 2 で示す)。注入電流I1
およびI2 ともに発光に寄与するが、電流I2 による発
光は、ゲート電極41側に片寄るため、利用できない。
したがって、結果としてアノード電極周辺部から取り出
せる発光光量が低下するという問題がある。
【0008】この発明の目的は、上述のような問題を解
決し、発光光量を増大させた、すなわち外部発光効率の
良い面発光サイリスタを提供することにある。
【0009】この発明の他の目的は、発光光量を増大さ
せた面発光サイリスタを用いた自己走査型発光装置を提
供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、第1導電形の
基板上に、必要ならば第1導電形の第1の半導体層と、
第2導電形の第2の半導体層と、第1導電形の第3の半
導体層と、第2導電形の第4の半導体層とがこの順に積
層され、第4の半導体層上に設けられた第1の電極と、
第3の半導体層上に設けられた第2の電極とを備える面
発光サイリスタにおいて、前記第1,第2,第3の半導
体層は、前記第1の電極の領域と前記第2の電極の領域
との間に、くびれ部を有することを特徴とする面発光サ
イリスタ。
【0011】また本発明は、第1導電形の基板上に、必
要ならば第1導電形の第1の半導体層と、第2導電形の
第2の半導体層と、第1導電形の第3の半導体層と、第
2導電形の第4の半導体層とがこの順に積層され、第4
の半導体層上に設けられた第1の電極と、第3の半導体
層上に設けられた第2の電極とを備える面発光サイリス
タにおいて、前記第3の半導体層は、前記第1の電極の
領域と前記第2の電極の領域との間に、掘込み部を有す
ることを特徴とする。
【0012】さらに本発明は、発光動作のためのしきい
電圧またはしきい電流の制御電極を有する発光素子を複
数個配列し、各発光素子の前記制御電極をその近傍に位
置する少なくとも1つの発光素子の制御電極に、接続用
抵抗または電気的に一方向性を有する電気素子を介して
接続するとともに、各発光素子に電源ラインを負荷抵抗
を介して前記制御電極に接続し、かつ各発光素子にクロ
ックラインを接続して形成した自己走査型発光装置にお
いて、前記発光素子を、上記の面発光サイリスタとし、
この面発光サイリスタの第1の電極は、前記クロックラ
インに接続され、前記面発光サイリスタの第2の電極
は、前記制御電極であることを特徴とする。
【0013】また本発明は、スイッチング動作のための
しきい電圧またはしきい電流の第1の制御電極を有する
スイッチ素子を複数個配列し、各スイッチ素子の第1の
制御電極をその近傍に位置する少なくとも1つのスイッ
チ素子の第1の制御電極に、接続用抵抗または電気的に
一方向性を有する電気素子を介して接続するとともに、
各スイッチ素子に電源ラインを負荷抵抗を介して第1の
制御電極に接続し、かつ各スイッチ素子にクロックライ
ンを接続して形成した自己走査スイッチ素子アレイと、
発光動作のためのしきい電圧またはしきい電流の第2の
制御電極を有する発光素子を複数個配列した発光素子ア
レイとからなり、前記発光素子アレイの第2の制御電極
を対応する前記スイッチ素子の第1の制御電極と電気的
手段にて接続し、各発光素子に発光のための電流を印加
するラインを設けた自己走査型発光装置において、前記
発光素子を、上記の面発光サイリスタとし、この面発光
サイリスタの第1の電極は、前記電流印加ラインに接続
され、前記面発光サイリスタの第2の電極は、第2の制
御電極であることを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
【0015】
【実施例1】図2(a),(b)は、本発明の一実施例
である面発光サイリスタの側面図および平面図である。
この面発光サイリスタは、GaAsよりなるN形半導体
基板1上にGaAsよりなるN形半導体層24,P形半
導体層23,N形半導体層22,P形半導体層21が順
に積層されている。P形半導体層21上にAuZnより
なるアノード電極40、N形半導体層22上にAuGe
Niよりなるゲート電極41、N形基板1の裏面にカソ
ード電極(図示せず)が設けられている。
【0016】本実施例の面発光サイリスタによれば、ア
ノード電極領域とゲート電極領域との間で、半導体層2
2,23,24の両サイドに切込み42を設け、半導体
層22,23,24にくびれ部43が形成されている。
切込み42の形成はエッチングによって容易に行うこと
ができる。
【0017】このようなくびれ部43の幅lは、半導体
層22,23,24の幅Lに比べて小さいので、くびれ
部43の抵抗値が大きくなる。その結果、アノード電極
40からの注入電流は、図2(a)に矢印で示すよう
に、ゲート電極側には流れず、流入電流はアノード電極
下部での発光に寄与する。したがって、従来の構造に比
べて、発光光量が増大する。
【0018】L=26μm 、l=10μm とした場合
は、発光光量は約10%増大した。
【0019】
【実施例2】図3(a),(b)は、本発明の一実施例
である面発光サイリスタの側面図および平面図である。
この面発光サイリスタは、GaAsよりなるN形半導体
基板1上にGaAsよりなるN形半導体層24,P形半
導体層23,N形半導体層22,P形半導体層21が順
に積層されている。P形半導体層21上にAuZnより
なるアノード電極40、N形半導体層22上にAuGe
Niよりなるゲート電極41、N形基板1の裏面にカソ
ード電極(図示せず)が設けられている。
【0020】本実施例の面発光サイリスタによれば、ア
ノード電極領域とゲート電極領域との間で、半導体層2
2に掘込み部44を設ける。この掘込み部の深さは、掘
込み部が、N形半導体層22とP形半導体層23との間
に形成される空乏層に達することなく、空乏層との間に
或る距離を保つようにする。これは、掘込み部が空乏層
に達してしまうと、N形層22において、アノード電極
40とゲート電極41との抵抗値が大きくなり、サイリ
スタとしての電気的特性が著しく悪化するからである。
【0021】このような掘込み部44を設けることによ
って、半導体層22のアノード電極領域とゲート電極領
域との間の抵抗値が大きくなる。その結果、アノード電
極40からの注入電流は、図3(a)に矢印で示すよう
に、ゲート電極側には流れず、注入電流はアノード電極
下部での発光に寄与する。したがって、従来の構造に比
べて、発光光量が増大する。
【0022】半導体層22の厚さTが1μmのとき、掘
込み部44の深さtを0.5μmとした場合に、発光光
量は従来の構造に比べて約10%増大した。
【0023】以上の第1および第2の実施例は、ともに
N形半導体基板上に、NPNPの順序で半導体層を積層
したが、P形半導体基板上に、PNPNの順序で半導体
層を積層した構造にも、本発明を適用できることはもち
ろんである。この場合には、最上層のN形半導体層上に
設けられる電極はカソード電極、P形半導体基板の裏面
に設けられる電極は、アノード電極となる。
【0024】また、以上の実施例では、半導体基板の直
上に、半導体基板と同一導電形の半導体層を積層してい
るが、これは以下の理由による。すなわち、一般に、半
導体基板表面に直接PN(あるいはNP)接合を形成す
ると、その形成した半導体層の結晶性の悪さから、デバ
イスとしての特性が劣化する傾向がある。つまり、基板
表面に結晶層をエピタキシャル成長する場合、基板表面
近傍層の結晶性が、結晶層がある一定以上に成長した後
の結晶性と比べて、悪くなっているためである。このた
め、半導体基板と同一の半導体層を一旦形成してから、
PN(あるいはNP)接合を形成すると、上述した問題
は解決できるからである。したがって、この半導体層を
介することが好ましい。
【0025】
【実施例3】本実施例は、本発明の面発光サイリスタを
用いた自己走査型発光装置の1つの例である。
【0026】まず、本実施例の自己走査型発光装置の原
理を説明するための等価回路図を図4に示す。発光素子
として、面発光サイリスタT(−2)〜T(+2)を用
い、面発光サイリスタT(−2)〜T(+2)には、各
々ゲート電極G-2〜G+2が設けられている。各々のゲー
ト電極には、負荷抵抗RL を介して電源電圧VGKが印加
される。また、各々のゲート電極G-2〜G+2は、相互作
用を作るために結合用抵抗RI を介して電気的に接続さ
れている。また、各単体発光サイリスタのアノード電極
に、3本の転送クロックライン(φ1 ,φ2 ,φ3
が、それぞれ3素子おきに(繰り返されるように)接続
される。
【0027】動作を説明すると、まず転送クロックφ3
がハイレベルとなり、面発光サイリスタT(0)がオン
しているとする。このとき3端子サイリスタの特性か
ら、ゲート電極G0 は零ボルト近くまで引き下げられ
る。電源電圧VGKを仮に5ボルトとすると、負荷抵抗R
L 、結合用抵抗RI のネットワークから各面発光サイリ
スタのゲート電圧が決まる。そして、面発光サイリスタ
T(0)に近い素子のゲート電圧が最も低下し、以降順
にT(0)から離れるにしたがいゲート電圧は上昇して
いく。これは次のように表せる。
【0028】 VG0<VG1=VG-1 <VG2=VG-2 (1) これらの電圧の差は、負荷抵抗RL ,結合用抵抗RI
値を適当に選択することにより設定することができる。
【0029】3端子サイリスタのアノード側のターンオ
ン電圧VONは、ゲート電圧よりPN接合の拡散電位V
dif だけ高い電圧となることが知られている。
【0030】VON≒VG +Vdif (2) したがって、アノードにかける電圧をこのターンオン電
圧VONより高く設定すれば、その発光サイリスタはオン
することになる。
【0031】さてこの面発光サイリスタT(0)がオン
している状態で、次の転送クロックパルスφ1 にハイレ
ベル電圧VH を印加する。このクロックパルスφ1 は面
発光サイリスタT(+1)とT(―2)に同時に加わる
が、ハイレベル電圧VH の値を次の範囲に設定すると、
面発光サイリスタT(+1)のみをオンさせることがで
きる。
【0032】 VG-2 +Vdif >VH >VG+1 +Vdif (3) これで面発光サイリスタT(0),T(+1)が同時に
オンしていることになる。そしてクロックパルスφ3
ハイレベル電圧を切ると、面発光サイリスタT(0)が
オフとなりオン状態の転送ができたことになる。
【0033】このように、本実施例では抵抗ネットワー
クで各面発光サイリスタのゲート電極間を結ぶことによ
り、面発光サイリスタに転送機能をもたせることが可能
となる。
【0034】上に述べたような原理から、転送クロック
φ1 ,φ2 ,φ3 のハイレベル電圧を順番に互いに少し
ずつ重なるように設定すれば、発光サイリスタのオン状
態は順次転送されていく。すなわち、発光点が順次転送
され、自己走査型発光装置を実現することができる。
【0035】
【実施例4】本実施例は、本発明者らが特開平2−14
584号公報にて開示した自己走査型発光装置であっ
て、本発明の面発光サイリスタを適用できる例の1つで
ある。
【0036】本実施例では、電気的接続の方法としてダ
イオードを用いた例について述べる。本実施例の自己走
査型発光装置の原理を説明するための等価回路図を図5
に示す。これは発光しきい電圧,電流が外部から制御で
きる発光サイリスタとして、本発明による3端子の面発
光サイリスタを用いた場合を表している。面発光サイリ
スタT(−2)〜T(+2)は、一列に並べられた構成
となっている。G-2〜G+2は、面発光サイリスタT(−
2)〜T(+2)のそれぞれのゲート電極を表す。RL
はゲート電極の負荷抵抗を表し、D-2〜D+2は電気的相
互作用を行うダイオードを表す。またVGKは電源電圧を
表す。各単体面発光サイリスタのアノード電極に、2本
の転送クロックライン(φ1 ,φ2 )がそれぞれ1素子
おきに接続される。
【0037】動作を説明する。まず転送クロックφ2
ハイレベルとなり、面発光サイリスタT(0)がオンし
ているとする。このとき3端子サイリスタの特性からゲ
ート電極G0 は零ボルト近くまで引き下げられる。電源
電圧VGKを仮に5ボルトとすると、抵抗RL ,ダイオー
ドD-2〜D+2のネットワークから各発光サイリスタのゲ
ート電圧が決まる。そして発光サイリスタT(0)に近
い素子のゲート電圧が最も低下し、以降順にT(0)か
ら離れるにしたがいゲート電圧は上昇していく。
【0038】しかしながら、ダイオード特性の一方向
性,非対称性から、電圧を下げる効果は、T(0)の右
方向にしか働かない。すなわちゲート電極G1 はG0
対し、ダイオードの順方向立ち上がり電圧Vdif (PN
接合の拡散電位に等しい)だけ高い電圧に設定され、ゲ
ート電極G2 はG1 に対し、さらにダイオードの順方向
立ち上がり電圧Vdif だけ高い電圧に設定される。一
方、T(0)の左側のゲート電極G-1はダイオードD-1
が逆バイアスになっているため電流が流れず、したがっ
て電源電圧VGKと同電位となる。
【0039】次の転送クロックパルスφ1 は、最近接の
発光サイリスタT(1),T(−1)、そしてT(3)
およびT(−3)等に印加されるが、これらのなかで、
最もターンオン電圧の最も低い素子はT(1)であり、
T(1)のターンオン電圧は約G1 のゲート電圧+V
dif であるが、これはVdif の約2倍である。次にター
ン電圧の低い素子はT(3)であり、Vdif の約4倍で
ある。T(−1)とT(−3)のオン電圧は、約VGK
dif となる。
【0040】以上から、転送クロックパルスのハイレベ
ル電圧をVdif の約2倍からVdifの約4倍の間に設定
しておけば、発光サイリスタT(1)のみをオンさせる
ことができ、転送動作を行うことができる。
【0041】
【実施例5】本実施例は、本発明者らが特開平2−26
3668号公報にて開示した自己走査型発光装置であっ
て、本発明の面発光サイリスタを適用できる例の1つで
ある。
【0042】本実施例の発光装置の原理を説明するため
の等価回路図を図6に示す。
【0043】この自己走査型発光装置は、スイッチ素子
T(−1)〜T(2)、書き込み用発光素子L(−1)
〜L(2)からなる。スイッチ素子部分の構成は、ダイ
オード接続を用いた例を示している。スイッチ素子のゲ
ート電極G-1〜G1 は、書き込み用発光素子のゲートに
も接続される。書き込み用発光素子のアノードには、書
き込み信号Sinが加えられている。
【0044】以下に、この発光装置の動作を説明する。
いま、スイッチ素子T(0)がオン状態にあるとする
と、ゲート電極G0 の電圧は、VGK(ここでは5ボルト
と想定する)より低下し、ほぼ零ボルトとなる。したが
って、書き込み信号Sinの電圧が、PN接合の拡散電位
(約1ボルト)以上であれば、発光素子L(0)を発光
状態とすることができる。
【0045】これに対し、ゲート電極G-1は約5ボルト
であり、ゲート電極G1 は約1ボルトとなる。したがっ
て、発光素子L(−1)の書き込み電圧は約6ボルト、
発光素子L(1)の書き込み電圧は約2ボルトとなる。
これから、発光素子L(0)のみに書き込める書き込み
信号Sinの電圧は、約1〜2ボルトの範囲となる。発光
素子L(0)がオン、すなわち発光状態に入ると、書き
込み信号Sinラインの電圧は約1ボルトに固定されてし
まうので、他の発光素子が選択されてしまう、というエ
ラーは防ぐことができる。
【0046】発光強度は書き込み信号Sinに流す電流量
で決められ、任意の強度にて画像書き込みが可能とな
る。また、発光状態を次の素子に転送するためには、書
き込み信号Sinラインの電圧を一度零ボルトまでおと
し、発光している素子をいったんオフにしておく必要が
ある。
【0047】この自己走査型発光装置において、スイッ
チ素子に図1で示した従来の面発光サイリスタを、発光
素子に本発明の面発光サイリスタを用いることができ
る。また、スイッチ素子および発光素子の両方に本発明
の面発光サイリスタを用いてもよい。なお、スイッチ素
子からの発光は不要であるので遮光層を設けて、外部に
光が出ないようにする必要がある。
【0048】
【実施例6】本実施例は、複数の発光素子を同時に発光
できるようにした自己走査型発光装置である。この発光
装置の等価回路図を、図7に示す。
【0049】図6の回路と異なるのは、発光素子を3つ
ずつのブロックとし、1ブロック内の発光素子は1つの
スイッチ素子によって制御し、かつ1ブロック内の発光
素子にそれぞれ別々の書き込み信号ラインSin1,Sin
2,Sin3を接続して、発光素子の発光を制御した点で
ある。図中、発光素子L1 (−1),L2 (−1),L
3 (−1)、発光素子L1 (0),L2 (0),L3
(0)、発光素子L1 (−1),L2 (−1),L3
(−1)等が、ブロック化された発光素子を示してい
る。
【0050】動作は図6の回路と同じで、1素子ずつS
inによって発光が書き込まれていたものが、同時に複数
書き込まれ発光し、それがブロックごとに転送するよう
になったものである。
【0051】いま、LEDプリンタ等の一般的に知られ
る光プリンタ用の光源として、この発光装置を用いるこ
とを考えると、A4の短辺(約21cm)相当のプリン
トを16ドット/mmの解像度で印字するためには約3
400ビットの発光素子が必要になる。
【0052】実施例5にて説明してきた発光装置では、
発光しているポイントは常に一つで、上記の場合ではこ
の発光の強度を変化させて画像を書き込むことになる。
これを用いて光プリンタを形成すると、通常使用されて
いる光プリンタ用LEDアレイ(これは画像を書き込む
ポイントに位置するLEDが、同時に発光するよう駆動
ICによって制御されている)に比べ、画像書き込み時
に3400倍の輝度が必要となり、発光効率が同じなら
ば3400倍の電流を流す必要がある。ただし発光時間
は、逆に通常のLEDアレイに比べ1/3400とな
る。
【0053】しかし発光素子は、一般的に電流が増える
と加速度的に寿命が短くなる傾向があり、いくらデュー
ティが1/3400とはいえ従来のLEDプリンタに比
べ、寿命が短くなってしまうという問題点を持ってい
た。
【0054】しかしながら本実施例によると、ビット総
数が同じ条件で比較すると、この例では1ブロックに3
素子が入っているため、実施例8の発光装置に比べて1
素子の発光時間は3倍となる。したがって、オン状態の
発光素子に流す電流は1/3でよく、実施例8に比べ長
寿命化することが可能である。
【0055】本実施例では、1ブロックに3素子が含ま
れる場合を例示したが、この素子数が大きいほうが書き
込み電流が小さくて済み、さらに長寿命化をはかること
ができる。
【0056】この自己走査型発光装置においても、スイ
ッチ素子および/または発光素子に、本発明の面発光サ
イリスタを用いることができる。
【0057】
【実施例7】本発明の自己走査型発光装置の応用例とし
て光プリンタへの応用について述べる。従来、LEDア
レイの各画素に駆動用ICを接続したモジュールを使っ
て光プリンタへ応用した例が知られている。光プリンタ
の原理図を図8に示す。まず円筒形の感光ドラム61の
表面にアモルファスSi等の光導伝性を持つ材料(感光
体)が作られている。このドラムはプリントの速度で回
転している。まず帯電器67で感光体表面を一様に帯電
させる。そして発光素子アレイ光プリントヘッド68で
印字するドットイメージの光を感光体上に照射し、光の
当たったところの帯電を中和する。次に現像器で感光体
上の帯電状態に従って、トナーを感光体上に付ける。そ
して転写器62でカセット611中から送られてきた用
紙69上にトナーを転写する。そしてその用紙は定着器
63にて熱等を加えられ定着される。一方転写の終了し
たドラムは消去ランプ65で帯電が全面に渡って中和さ
れ、清掃器66で残ったトナーが除去される。
【0058】さて本発明による自己走査型発光装置を所
定の実装基板上に直線状に一列に配列した発光素子アレ
イモジュールを光プリントヘッドに応用する。光プリン
トヘッドの構造を図9に示す。この光プリントヘッド
は、発光素子アレイ612とロッドレンズアレイ613
とで構成され、レンズの焦点が感光ドラム61上に結ぶ
ようになっている。この発光素子アレイモジュールから
の光で感光ドラムに画像情報を書き込むことができる。
【0059】本実施例によれば、この発光素子アレイモ
ジュールのコストを従来よりはるかに低減できるため、
低価格のプリントヘッド、低価格の光プリンタを提供す
ることができる。
【0060】
【発明の効果】本発明によれば、外部発光効率の良い面
発光サイリスタを提供することが可能であり、このよう
な面発光サイリスタを用いた自己走査型発光装置は、外
部発光効率が良いうえに、駆動回路を必要としないの
で、光プリンタ用の低価格の光プリントヘッドを実現す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】メサ型のPNPN構造の従来の面発光サイリス
タの断面図および平面図である。
【図2】本発明の面発光ダイオードの第1の実施例の側
面図および平面図である。
【図3】本発明の面発光ダイオードの第2の実施例の側
面図および平面図である。
【図4】自己走査型発光装置の等価回路図である。
【図5】他の自己走査型発光装置の等価回路図である。
【図6】他の自己走査型発光装置の等価回路図である。
【図7】他の自己走査型発光装置の等価回路図である。
【図8】光プリンタ装置を示す図である。
【図9】発光素子モジュールとロッドレンズアレイとの
組合せを示す図である。
【符号の説明】
1 N形基板 22,24 N形半導体層 21,23 P形半導体層 40 アノード電極 41 ゲート電極 42 くびれ部 44 掘込み部 140 Al配線

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1導電形の基板上に、第1導電形の第1
    の半導体層と、第2導電形の第2の半導体層と、第1導
    電形の第3の半導体層と、第2導電形の第4の半導体層
    とがこの順に積層され、第4の半導体層上に設けられた
    第1の電極と、第3の半導体層上に設けられた第2の電
    極とを備える面発光サイリスタにおいて、 前記第1,第2,第3の半導体層は、前記第1の電極の
    領域と前記第2の電極の領域との間に、くびれ部を有す
    ることを特徴とする面発光サイリスタ。
  2. 【請求項2】第1導電形の基板上に、第1導電形の第1
    の半導体層と、第2導電形の第2の半導体層と、第1導
    電形の第3の半導体層と、第2導電形の第4の半導体層
    とがこの順に積層され、第4の半導体層上に設けられた
    第1の電極と、第3の半導体層上に設けられた第2の電
    極とを備える面発光サイリスタにおいて、 前記第3の半導体層は、前記第1の電極の領域と前記第
    2の電極の領域との間に、掘込み部を有することを特徴
    とする面発光サイリスタ。
  3. 【請求項3】第1導電形の基板上に、第2導電形の第2
    の半導体層と、第1導電形の第3の半導体層と、第2導
    電形の第4の半導体層とがこの順に積層され、第4の半
    導体層上に設けられた第1の電極と、第3の半導体層上
    に設けられた第2の電極とを備える面発光サイリスタに
    おいて、 前記第2,第3の半導体層は、前記第1の電極の領域と
    前記第2の電極の領域との間に、くびれ部を有すること
    を特徴とする面発光サイリスタ。
  4. 【請求項4】第1導電形の基板上に、第2導電形の第2
    の半導体層と、第1導電形の第3の半導体層と、第2導
    電形の第4の半導体層とがこの順に積層され、第4の半
    導体層上に設けられた第1の電極と、第3の半導体層上
    に設けられた第2の電極とを備える面発光サイリスタに
    おいて、 前記第3の半導体層は、前記第1の電極の領域と前記第
    2の電極の領域との間に、掘込み部を有することを特徴
    とする面発光サイリスタ。
  5. 【請求項5】発光動作のためのしきい電圧またはしきい
    電流の制御電極を有する発光素子を複数個配列し、各発
    光素子の前記制御電極をその近傍に位置する少なくとも
    1つの発光素子の制御電極に、接続用抵抗または電気的
    に一方向性を有する電気素子を介して接続するととも
    に、各発光素子に電源ラインを負荷抵抗を介して前記制
    御電極に接続し、かつ各発光素子にクロックラインを接
    続して形成した自己走査型発光装置において、 前記発光素子を、請求項1〜4のいずれかに記載の面発
    光サイリスタとし、この面発光サイリスタの第1の電極
    は、前記クロックラインに接続され、前記面発光サイリ
    スタの第2の電極は、前記制御電極であることを特徴と
    する自己走査型発光装置。
  6. 【請求項6】スイッチング動作のためのしきい電圧また
    はしきい電流の第1の制御電極を有するスイッチ素子を
    複数個配列し、各スイッチ素子の第1の制御電極をその
    近傍に位置する少なくとも1つのスイッチ素子の第1の
    制御電極に、接続用抵抗または電気的に一方向性を有す
    る電気素子を介して接続するとともに、各スイッチ素子
    に電源ラインを負荷抵抗を介して第1の制御電極に接続
    し、かつ各スイッチ素子にクロックラインを接続して形
    成した自己走査スイッチ素子アレイと、 発光動作のためのしきい電圧またはしきい電流の第2の
    制御電極を有する発光素子を複数個配列した発光素子ア
    レイとからなり、 前記発光素子アレイの第2の制御電極を対応する前記ス
    イッチ素子の第1の制御電極と電気的手段にて接続し、
    各発光素子に発光のための電流を印加するラインを設け
    た自己走査型発光装置において、 前記発光素子を、請求項1〜4のいずれかに記載の面発
    光サイリスタとし、この面発光サイリスタの第1の電極
    は、前記電流印加ラインに接続され、前記面発光サイリ
    スタの第2の電極は、第2の制御電極であることを特徴
    とする自己走査型発光装置。
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