JPH09288202A - 反射防止膜 - Google Patents
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Abstract
上に、反射防止性能に全く影響を与えない厚さのオーバ
ーコート層を設けることにより、膜の弱さ即ち耐磨耗
性、耐擦傷性を大幅に改善し、CRTディスプレィー全
面パネル等の使用に十分耐えうる反射防止膜を提供す
る。 【解決手段】 透光性を有するプラスチック基板、該基
板上にコートされた金属アルコキシドとコロイド状金属
酸化物及び/または金属ハライドとを主成分とする帯電
防止性能を有する高屈折率層、及び高屈折率層上にコー
トされた屈折率(nd)1.36以下の非晶質フッ素樹
脂の反射防止層、及び該反射防止膜上にコートされた有
機ポリシロキサンを主成分とし且つ界面活性能力を有す
るフッ素系材料を含有するコート層から成ることを特徴
とする耐磨耗性、耐擦傷性、密着性及び透光性に優れた
反射防止膜。
Description
ラスチック材料を製造する際の反射防止膜に関するもの
である。
チック材料は光学フィルターや光学レンズ等にも使用さ
れているが、屈折率が1.45〜1.60の範囲にある
ため、全くの透明といえども7〜10%程度の光学反射
を起こす。
射によるゴースト現象、また透過して物を見る際の見づ
らさの原因ともなる。
しては、真空蒸着法で屈折率の低いフッ化マグネシウ
ム、シリカ等のλ/4膜又は、屈折率の高い酸化チタ
ン、酸化ジルコニウム等のλ/4膜との組合せによる多
層コートが使用されてきた。
ついては、膜品質、生産性共に良好な方法であるが、C
RTディスプレィーの全面パネルのような大きな板につ
いては、蒸着釜への一回の投入数が極端に少なくなって
しまい、コストの高いものとなるという問題がある。
フッ素樹脂を適当な溶媒に溶解し、ディッピング法で製
膜し、反射防止膜を得る方法も知られている。この方法
は、大きな板へのコートも比較的容易であるが、樹脂自
体の硬さに乏しく、λ/4波長膜、即ち100〜200
nm厚の膜は容易に剥離してしまう為、外部に露出した
状態での使用には無理がある。しかも、フッ素樹脂の特
徴である強撥水性、強撥油性、電気絶縁性の為に、静電
気を帯びやすく、埃を吸着しやすいという問題もある。
しかし、一番の問題は、真空蒸着法に比べて反射防止性
能がやや劣るということにある。
素樹脂で形成される反射防止膜の上に、反射防止性能に
全く影響を与えない厚さのオーバーコート層を設けるこ
とにより、膜の弱さ即ち耐磨耗性、耐擦傷性を大幅に改
善し、CRTディスプレィー全面パネル等の使用に十分
耐えうる反射防止膜を提供する。
防止膜のアンダー層として、金属アルコキシドとコロイ
ド状金属酸化物及び/またはその無機前駆体との組み合
わせを用い、必要に応じエポキシ系樹脂を組み合わせた
高屈折率層を1〜2層設けることにより、フッ素樹脂の
特徴である強撥水性、強撥油性をそこなうこと無く、帯
電防止効果も兼ね備えた反射防止膜を提供すると共に、
2層以上の多層干渉膜の作用により、可視領域全体(4
00〜700nm)での低反射化が可能となり、真空蒸
着と同様の反射防止膜をゾル−ゲル法を用いたディッピ
ングによる製膜法で提供することを目的としている。
を有するプラスチック基板、該基板上にコートされた金
属アルコキシドとコロイド状金属酸化物及び/または金
属ハライドと、必要によりエポキシ系樹脂とを主成分と
する帯電防止性能を有する高屈折率層、及び高屈折率層
上にコートされた屈折率(nd)1.36以下の非晶質
フッ素樹脂の反射防止層、及び該反射防止膜上にコート
された有機ポリシロキサンを主成分とし且つ界面活性能
力を有するフッ素系材料を含有するコート層から成るこ
とを特徴とする耐磨耗性、耐擦傷性、密着性及び透光性
に優れた反射防止膜が提供される。
1において、この反射防止膜は、透光性プラスチック基
板1、この基板上に設けられた高屈折率層2、高屈折率
層上に設けられた反射防止層3及び反射防止層上に設け
られたコート層4から成っている。
おいて、この反射防止膜は、透光性プラスチック基板
1、この基板上に設けられた第1の高屈折率層2a、第
1の高屈折率層上に設けられた第2の高屈折率層2b、
第2の高屈折率層上に設けられた反射防止層3及び反射
防止層上に設けられたコート層4から成っている。
高屈折率層2、2a、2b等を、金属アルコキシドとコ
ロイド状金属酸化物及び/または金属ハライドと、必要
に応じエポキシ系樹脂とを主成分とする組成物で構成
し、高屈折率層が帯電防止性能をも有するようにする。
1.36以下の非晶質フッ素樹脂を使用し、また、コー
ト層4としては、有機ポリシロキサンを主成分とし且つ
界面活性能力を有するフッ素系材料を含有する組成物を
用いる。
ら成る反射防止層の下に、金属アルコキシドとコロイド
状金属酸化物及び/または金属ハライドと、必要に応じ
更にエポキシ系樹脂とを主成分とする高屈折率層を設け
ることにより、非晶質フッ素樹脂が本来有する撥水性、
撥油性、耐汚染性等を損なうことなしに、帯電防止性能
を付与し、非晶質フッ素樹脂の欠点であった埃等の吸着
傾向を防止することができる。
折率層を設けたので、光線の反射率を一層低く抑制する
ことができ、ゾル−ゲルコート法による反射防止膜とし
ては、例外的に優れた反射防止性能が得られる。
金属ハライドと金属アルコキシドを組み合わせることに
より、強固な膜形成が可能となるばかりではなく、必要
に応じ更にエポキシ系樹脂を組み合わせることにより、
各種プラスチック基板との密着性が良くなり、下層の高
屈折率化が自在に調整できるようになったため、種々の
透明プラスチック基板に対応した多層反射防止膜の作成
が可能となった。
脂の屈折率の低さは、分子中のフッ素原子の多量含有に
起因するものである。しかしながら、このフッ素原子の
存在により、膜表面の撥水性、撥油性が非常に高くな
り、ハードコート剤やそれに類した塗料をその上に形成
させようとしてもこれをはじいてしまい、水玉状になっ
て製膜できない。また、撥水性が非常に高く、その為静
電気を帯びやすく、空中の塵や埃などを吸着しやすいと
いう難点もある。
有する(メタ)アクリレートとエチレングリコール(メ
タ)アクリレートとの低分子量共重合体のように、親水
性、親フッ素樹脂性の界面活性能力を有する材料は、フ
ッ素樹脂表面で完全な濡れ性を示し、これらを添加する
ことで有機ポリシロキサン系材料をフッ素樹脂表面にコ
ーティングすることが可能となった。
により、表面の滑り性が大幅に改善され、耐擦傷性、耐
磨耗性が得られ、非晶質フッ素樹脂の第一の難点である
膜の弱さを改善することができた。更に、パーフルオロ
アルキル基を有するポリシロキサンを用いることによ
り、耐水性、耐アルコール性が得られることも分かっ
た。
るものではないが、光学特性の見地から、ポリメチルメ
タクリレート、ポリカーボネート、ポリアリルジグリコ
ールカーボネート、ポリスチレン等が使用でき、透明も
しくは油溶性染料で着色したものが使用される。フッ素
樹脂と基板との馴染み、密着性を上げる目的で、あらか
じめプライマーコートしたものを本発明に使用すること
も可能である。
され、その親水性により反射防止膜に帯電防止効果を付
与するコロイド状金属酸化物としては、シリカゾル、チ
タニアゾル、アルミナゾル、酸化ジルコニウムゾル、酸
化アンチモンゾル等が挙げられるが、屈折率の調整の点
や有機溶媒への分散性、コーティング液の安定性、更に
はプラスチック基板及び非晶質フッ素樹脂との濡れ性や
密着性を考慮すると、シリカゾル、アルミナゾル、酸化
アンチモンゾルが好ましい。又、これらのコロイド状金
属酸化物は金属塩化物の加水分解を有機溶媒中で行うこ
とにより、簡単に製造することができる。
分として使用され、屈折率を上げることを目的とする金
属ハライドとしては、金属塩化物、金属臭化物が使用さ
れ、一層具体的には、三塩化アンチモン、四塩化ジルコ
ニウム、三塩化ビスマス、四臭化チタン、三臭化アンチ
モン等が挙げられるが、高屈折率化の点や有機溶媒への
分散性、コーティング液の安定性を考慮すると、三塩化
アンチモン、三塩化ビスマス、三臭化アンチモンが好ま
しい。
ラスチック基板及び非晶質フッ素樹脂に接着するための
バインダーとして使用される金属アルコキシドは、下記
式(1) M(OR)m ‥‥(1) 式中、Mは金属を表し、Rは炭素数1〜5の炭化水素基
を表し、mは金属Mの原子価(3または4)を表す、 で表されるものである。
ジルコニウム、スズ等が適している。金属アルコキシド
の具体例としては、アルミニウムエトキサイド、アルミ
ニウムイソプロポキシド、アルミニウムブトキシド、ア
ルミニウムt−ブトキサイド、スズt−ブトキサイド、
チタンメトキサイド、チタンエトキサイド、チタンn−
プロポキサイド、チタンイソプロポキサイド、チタンn
−ブトキサイド、チタンイソブトキサイド、ジルコニウ
ムエトキサイド、ジルコニウムn−プロポキサイド、ジ
ルコニウムイソプロポキサイド、ジルコニウムn−ブト
キサイド等が挙げられる。
に反応して、沈澱物を生成する特徴があり、非常に不安
定な物質である。これらをβ−ジケトンと反応させてキ
レート化合物にすることにより、安定なコーティング組
成物として使用できる。
セト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸n−プ
ロピル、アセト酢酸i−プロピル、アセチルアセトン等
が挙げられるが、最も好ましくはアセト酢酸エチルが挙
げられる。β−ジケトンは金属アルコキシドに対して、
0.5〜2.0molのモル比で使用されるが、より好
ましくは0.8〜1.2molである。
化合物を加水分解して用いてもよい。加水分解を行うも
のとして、塩酸、硝酸、硫酸等の鉱酸または、酢酸、蓚
酸等の有機酸を水溶液として用いてもよい。
は、金属アルコキシドのキレート化合物1molに対し
て0.5mol〜2.0molが好ましく、より好まし
いのは0.5mol〜1.0molである。この時、水
分量が多いとコーティング液の安定性が悪くなる。
形成される高屈折率層は、膜の強度が弱いために、それ
単独で光学薄膜として利用するにはやや困難な面があ
る。また、金属アルコキシドのキレート化合物だけでは
膜厚を厚くすることが難しく、その欠点を補い、尚且つ
その親水性により、帯電防止効果を付与するため、コロ
イド状金属酸化物を添加する。また、金属ハライドを添
加することでより高屈折率化を図ることができる。更
に、エポキシ系樹脂を添加することで厚膜化によるクラ
ックの防止、かつ、プラスチック基板との密着性を可能
とする。
組成物には、有機溶剤を溶媒として用いることができ
る。有機溶剤は、金属アルコキシドやコロイド状金属酸
化物との相溶性があるのでよく、特に制限されない。溶
剤として、アルコール類、ケトン類、エステル類、芳香
族炭化水素類等が挙げられる。具体例としては、メタノ
ール、イソプロパノール、メチルエチルケトン、酢酸イ
ソブチル、トルエン等が挙げられる。これらの溶剤を用
いて、全固形分濃度が全重量の1〜30重量%になる様
に、濃度調整をする。
容易なディッピング法が好適に使用できる。コートされ
た薄膜は、一般に70〜140℃程度の温度で熱処理す
ることが好ましい。
ロ非晶質フッ素樹脂としては、主鎖に環構造を有するパ
ーフルオロ非晶質フッ素樹脂であれば何れでもよいが、
このパーフルオロ非晶質フッ素樹脂の適当な例として、
主鎖中に下記式(2)
ッ素樹脂が挙げられる。
の全てが上記環状の反復単位から成っていても、或いは
反復単位の一部が上記環状の反復単位から反復単位の残
りの一部が線状のパーフルオロ単量体単位から成ってい
てもよい。
れ自体公知の方法で得ることができ、例えば両末端二重
結合のパーフルオロエーテル単量体の環化重合や、環状
パーフルオロ単量体のラジカル重合により得ることがで
きる。これらの重合に際して他のパーフルオロ単量体を
共存させることにより、共重合体を得ることができる。
量体としては、下記式(5) CF2 =CF−(−CF2 −)n −O−(−CF2 −)m −CF=CF2 ‥(5 ) (n=1〜5、m=1〜5、n+m=1〜6) で表されるパーフルオロエーテルを挙げることができ、
その例として、パーフルオロアリルビニルエーテル、パ
ーフルオロジアリルエーテル、パーフルオロブテニルビ
ニルエーテル、パーフルオロブテニルアリルビニルエー
テル、パーフルオロジブテニルエーテルなどが例示され
る。
量体の他のタイプとしては、下記式(6) CF2 =CFO−R−O−CF=CF2 ‥(6) R;パーフルオロアルキレン基 で表されるパーフルオロアルキレングリコールジビニル
エーテルを挙げることができ、その例として、パーフル
オロエチレングリコールジビニルエーテル、パーフルオ
ロテトラメチレングリコールジビニルエーテルなどが例
示される。
例えば、下記式(7)
ル−1,3−ジオキソールを挙げることができる。
トラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パ
ーフルオロビニルプロピルエーテル、パーフルオロアリ
ルブチルエーテル、パーフルオロジビニルエチルエーテ
ル、パーフルオロビニルアリルエーテルなどが例示され
る。
限されないが、環状エーテルとパーフルオロ−2,2−
ジメチル−1,3−ジオキソールとの共重合体、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテルの共重合
体、パーフルオロビニルアリルエーテルとの環化共重合
体等である。
ポンフロロケミカル(株)製「テフロンAF」、旭硝子
(株)製「サイトップ」、住友スリーエム(株)製「フ
ロラードFC−722」、デュポン社の「テフロンAF
1600」等が挙げられる。
ーフルオロハイドロフラン等が揮発スピードのバランス
的に良好であり、上記樹脂を1〜5%濃度で溶解し、コ
ート液を作成することが出来る。
れ、耐磨耗性、耐擦傷性を付与する有機ポリシロキサン
系材料としては、シラノール基、アルコキシ基、アセチ
ル基、フェニル基、ポリエーテル基、パーフルオロアル
キル基等を側鎖に持つメチルポリシロキサン又はジメチ
ルポリシロキサンが挙げられる。
キシ基(メトキシ基やエトキシ基等)、アセチル基等の
官能基は、ポリシロキサンに架橋反応性を付与するもの
であり、一方フェニル基はポリシロキサンに耐熱性や耐
久性等を付与するために有効であり、またポリエーテル
基は界面活性作用を付与するものであり、パーフルオロ
アルキル基は耐化学薬品性や耐水性を付与するものであ
る。用いるポリシロキサンは、好ましくは架橋反応性を
有するものがよい。
ロキサンとしては、東レ・ダウコーニング(株)製シリ
コーンオイルBY16−817(シラノール基)、SH
510(フェニル基)、SF8421(ポリエーテル
基)、FS1265(フルオロアルキル基)等が挙げら
れるが、本発明は勿論この例に限定されない。
界面張力を下げ、非晶質フッ素樹脂上に塗布させるため
の添加剤として、界面活性能力を有するフッ素系材料の
任意のものが使用されるが、好適なものとして、パーフ
ルオロ基と親水基を側鎖に持つフッ素化アルキルエステ
ルやパーフルオロ基と親油基とを側鎖に持つフッ素化脂
肪族高分子エステル等が挙げられる。
アルキルエステルとしては、住友スリーエム(株)製
「フロラードFC430」、「フロラードFC43
1」、フッ素化脂肪族高分子エステルとしては、住友ス
リーエム(株)製「フロラードFC740」が挙げられ
る。但し、本発明はこの材料のみに限定するものではな
い。
料は、非晶質フッ素樹脂膜上に十分な濡れが確保される
ような量であれば良く、特に限定されないが、一般に有
機シロキサン系材料を基準として、0.5〜10.0重
量%、好ましくは1.0〜3.0重量%で用いればよ
い。
有するフッ素系材料は、有機溶媒に溶解して溶液の形で
コーティングに用いるのがよい。有機溶媒としては非晶
質フッ素樹脂を溶解、軟化しないようなものが好まし
く、アルコール系、エステル系、或いはこれらの混合系
などの易揮発性の溶剤が使用される。溶液中の固形分濃
度は、0.05〜3.0重量%程度であるのが望まし
い。
促進するために、ジブチルスズラウレート、スズオクト
エート等の触媒を触媒量で用いることもできる。
ン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、芳香族ポリエステ
ル系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリアリレート系樹
脂、フェノキシ系樹脂、エポキシ系樹脂及びそれらの塩
化物や臭素化物等があげられる。これらの樹脂のうち、
フェノキシ系樹脂やエポキシ系樹脂はプラスチック基板
への接着性に優れ、金属酸化物の分散用バインダーとし
ても好ましい。
ンと多価フェノール或いは多価アルコールとから誘導さ
れるエポキシ樹脂を基本とする樹脂類であり、これには
エポキシ樹脂そのものの他に、カルボキシル基末端、水
酸基末端、アミド基末端、イソシアネート基末端の重合
でこれを変成して成るエポキシエステル、エポキシビニ
ル、エポキシアミド、エポキシウレタン等の変性エポキ
シ樹脂も使用される。また、フェノキシ系樹脂とは、エ
ピクロールヒドリンと多価フェノール(ビスフェノー
ル)とから誘導される点では、エポキシ樹脂と共通して
いるが、はるかに高分子量であり、熱可塑性である点で
エポキシ樹脂と相違するものである。
しては、大日本インキ工業(株)製「エピクロン85
0」、東レ・ダウコーニング(株)製、シリコーンレジ
ン「SR2410」、「SR2411」、「SR211
5」、鐘淵化学工業(株)製「カネカゼムラックYC3
315」、「YC3835」などがあげられる。もちろ
ん、本発明はこの例に限定されない。
〜400nm、非晶質フッ素樹脂の反射防止層の膜厚が
50〜200nm、有機ポリシロキサンを主成分とする
コート層の膜厚が200nm以下、好ましくは100n
m以下であることが好ましい。また、高屈折率層を複層
に設ける場合には、第1層目の高屈折層の膜厚が50〜
600nm、第2層目の高屈折層の膜厚が100〜40
0nmであることが好ましい。
とにより、反射防止性能を最大限に向上させることがで
きる。プラスチック基板の屈折率をnS 、第一の高屈折
率層の屈折率をn3 、その厚みをd3 (単位はnm)、
第二の高屈折率層の屈折率をn2 、その厚みをd2 、反
射防止層の屈折率をn1 、その厚みをd1 としたとき、
次の層構成とすることが好ましい。
び(9) n3 ・nS 2 = n1 2 ‥(8) 及び n1 ・d1 =n3 ・d3 =λ/4 ‥(9) を実質的に満足するように、高屈折率層及び反射防止層
を設けるのがよい。
(10)及び(11) n1 ・n3 =n2 ・(n0 ・nS )1/2 ‥(10) 式中、n0 は空気の屈折率である、及び n1 ・d1 =n2 ・d2 =n3 ・d3 =λ/4 ‥(11) を実質的に満足するように、高屈折率層及び反射防止層
を設けるのがよい。
(12)及び(13) n3 2・nS = n0 ・n1 2 ・・(12) 及び n1 ・d1 =n2 ・d2 /2=n3 ・d3 =λ/4 ・・(13) を実質的に満足するように、高屈折率層及び反射防止層
を設けることもできる。
(14)及び(15) n3 2・nS = n0 ・n1 2 ‥(14) 及び n1 ・d1/3 =n2 ・d2 /2=n3 ・d3 =λ/4 ‥(15) を実質的に満足するように、高屈折率層及び反射防止層
を設けることもできる。
の調製 テフロンAF−1600(三井デュポンフロロケミカル
(株)製)を濃度2%となるよう、沸点102℃のパー
フルオロオクタン、パーフルオロハイドロフランの混合
溶剤であるフロリナートFC−75(住友スリーエム
(株)製)に溶解しコート液を作成した(コート液
1)。
液2)の調製 アルミゾル10(川研ファインケミカル(株)製)が
1.8重量%、チタンテトラブトキシドモノマー(和光
純薬工業(株)製)が4.2重量%、アセト酢酸エチル
が3重量%、エチルセロソルブが10重量%になるよう
に、メタノールを用いて調製する(コート液2)。
液3)の調製 アルミゾル10(川研ファインケミカル(株)製)が
0.7重量%、チタンテトラブトキシドモノマー(和光
純薬工業(株)製)が6.3重量%、アセト酢酸エチル
が3重量%、エチルセロソルブが10重量%になるよう
に、メタノールを用いて調製する(コート液3)。
液4)の調製 チタンテトラブトキシドモノマー(和光純薬工業(株)
製)が6.0重量%、エピクロン850(大日本インキ
化学工業(株)製)が2.0重量%、アセト酢酸エチル
が2.5重量%、エピクロンB−570(大日本インキ
化学工業(株)製)が0.2重量%になるように酢酸イ
ソブチルを用いて調製する(コート液4)。
液5)の調製 三塩化アンチモン(III )を1.5重量%になるように
エタノールに溶解させ、0.05規定塩酸を用いて、加
水分解させ、アンチモンゾルを作成する(調製液1)。
チタンテトラブトキシドモノマー(和光純薬工業(株)
製)が3.0重量%、アセト酢酸エチルが3.0重量%
になるようにイソプロピルアルコールを用いて調製する
(調製液2)。調製液1と調製液2を等重量づつ混合す
る(コート液5)。
ル「BY16−817」(東レ・ダウンコーニング
(株)製)が0.2重量%になるよう、イソプロピルア
ルコールと酢酸イソブチルの重量比が2対3からなる混
合溶媒を用いて希釈し、ポリシロキサンの3重量%のフ
ッ素化アルキルエステル「フロラードFC430」(住
友スリーエム(株)製)を添加する(コート液6)。
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液2を引き上げ速度200mm/mi
nで製膜した。次に、コート液1を引き上げ速度200
mm/minで反射防止膜を製膜した。更に、コート液
6を100mm/minでオーバーコートした。この基
板を100℃、1時間の熱処理を行ない、反射防止性能
を有する基板を得た。表面反射率は0.1%T(測定波
長550nm)であり、鉛筆硬度は3Hで爪で強く擦っ
ても全く傷は付かなかった。また、この表面固有抵抗値
は2×1011Ω・cmであり、帯電防止効果を有してい
た。各層の屈折率及び厚みは前記式(8)及び(9)を
実質上満足するものであった。
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液2を引き上げ速度200mm/mi
nで製膜した。次に、コート液3を引き上げ速度120
mm/minで製膜した。次に、コート液1を引き上げ
速度200mm/minで反射防止膜を製膜した。更
に、実施例1と同様にコート液6を100mm/min
でオーバーコートした。この基板を100℃、1時間の
熱処理を行ない、反射防止機能を有する基板を得た。表
面反射率は0.1%T(550nm)であり、400〜
700nmでの平均表面反射率は1.0%Tであり、全
可視領域で優れた反射防止性能を示した。鉛筆硬度は3
Hで、爪で強く擦っても全く傷は付かなかった。また、
この表面固有抵抗値は5×1011Ωであり、帯電防止効
果を有していた。各層の屈折率及び厚みは前記式(1
0)及び(11)を実質上満足するものであった。
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液2を引き上げ速度200mm/mi
nで製膜した。次に、コート液3を引き上げ速度200
mm/minで2回コートした。次に、コート液1を引
き上げ速度200mm/minで反射防止膜を製膜し
た。更に、実施例1と同様にコート液6を100mm/
minでオーバーコートした。この基板を100℃、1
時間の熱処理を行ない、反射防止性能を有する基板を得
た。表面反射率は0.2%T(測定波長500nm)で
あり、400〜700nmでの平均表面反射率は0.7
%Tであり、全可視領域で優れた反射防止性能を示し
た。鉛筆硬度は3Hで、爪で強く擦っても全く傷はつか
なかった。また、この表面固有抵抗値は5×1010Ωで
あり、帯電防止効果を有していた。各層の屈折率及び厚
みは前記式(12)及び(13)を実質上満足するもの
であった。
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液2を引き上げ速度200mm/mi
nで3回コートした。次に、コート液3を引き上げ速度
200mm/minで2回コートした。次に、コート液
1を引き上げ速度200mm/minで反射防止膜を製
膜した。更に、実施例1と同様に、コート液6を100
mm/minでオーバーコートした。この基板を100
℃、1時間の熱処理を行ない、反射防止性能を有する基
板を得た。表面反射率は0.2%T(測定波長550n
m)であり、400〜700nmでの平均表面反射率は
0.7%Tであり、全可視領域で優れた反射防止性能を
示した。鉛筆硬度は3Hで、爪で強く擦っても全く傷は
付かなかった。また、この表面固有抵抗値は5×1010
Ω・cmであり、優れた帯電防止効果を有していた。各
層の屈折率及び厚みは前記式(14)及び(15)を実
質上満足するものであった。
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液4を引き上げ速度200mm/mi
nで製膜した。次に、コート液1を引き上げ速度200
mm/minで反射防止膜を製膜した。更に、コート液
6を100mm/minでオーバーコートした。この基
板を100℃、1時間の熱処理を行い、反射防止性能を
有する基板を得た。表面反射率は0.1%T(測定波長
550nm)であり、鉛筆硬度は4Hで、爪で強く擦っ
ても全く傷は付かなかった。また、この表面固有抵抗値
は5×10 12Ω・cmであり、やや帯電防止効果を有し
ていた。各層の屈折率及び厚みは前記式(8)及び
(9)を実質上満足するものであった。
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液4を引き上げ速度200mm/mi
nで製膜した。次に、コート液5を引き上げ速度120
mm/minで製膜した。次に、コート液1を引き上げ
速度200mm/minで反射防止膜を製膜した。更
に、実施例1と同様にコート液6を100mm/min
でオーバーコートした。この基板を100℃、1時間の
熱処理を行ない、反射防止機能を有する基板を得た。表
面反射率は0.1%T(測定波長550nm)であり、
400〜700nmでの平均表面反射率は1.0%Tで
あり、全可視領域で優れた反射防止性能を示した。鉛筆
硬度は3Hで、爪で強く擦っても全く傷は付かなかっ
た。また、この表面固有抵抗値は5×1011Ωであり、
帯電防止効果を有していた。各層の屈折率及び厚みは前
記式(10)及び(11)を実質上満足するものであっ
た。
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液4を引き上げ速度200mm/mi
nで製膜した。次に、コート液5を引き上げ速度200
mm/minで2回コートした。次に、コート液1を引
き上げ速度200mm/minで反射防止膜を製膜し
た。更に、実施例1と同様にコート液6を100mm/
minでオーバーコートした。この基板を100℃、1
時間の熱処理を行ない、反射防止性能を有する基板を得
た。表面反射率は0.2%T(測定波長500nm)で
あり、400〜700nmでの平均表面反射率は0.7
%Tであり、全可視領域で優れた反射防止性能を示し
た。鉛筆硬度は3Hで、爪で強く擦っても全く傷はつか
なかった。また、この表面固有抵抗値は5×1011Ωで
あり、帯電防止効果を有していた。各層の屈折率及び厚
みは前記式(12)及び(13)を実質上満足するもの
であった。
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液4を引き上げ速度200mm/mi
nで3回コートした。次に、コート液5を引き上げ速度
200mm/minで2回コートした。次に、コート液
1を引き上げ速度200mm/minで反射防止膜を製
膜した。更に、実施例1と同様に、コート液6を100
mm/minでオーバーコートした。この基板を100
℃、1時間の熱処理を行ない、反射防止性能を有する基
板を得た。表面反射率は0.2%T(測定波長550n
m)であり、400〜700nmでの平均表面反射率は
0.7%Tであり、全可視領域で優れた反射防止性能を
示した。鉛筆硬度は3Hで、爪で強く擦っても全く傷は
付かなかった。また、この表面固有抵抗値は5×1010
Ω・cmであり、優れた帯電防止効果を有していた。各
層の屈折率及び厚みは前記式(14)及び(15)を実
質上満足するものであった。
施した、肉厚2mmのポリメチルメタクリレートキャス
ト基板に、コート液1を引き上げ速度200mm/mi
nで単層反射防止膜を製膜した。次に、コート液6を1
00mm/minでオーバーコートした。この基板を1
00℃、1時間の熱処理を行い、反射防止性能を有する
基板を得た。表面反射率は1.2%T(550nm)で
あり、鉛筆硬度は4Hで爪で強く擦っても全く傷は付か
なかった。この表面固有抵抗値は1015Ω・cm以上で
あり、全く帯電防止効果はなかった。
いた反射防止膜のアンダー層に、コロイド状金属酸化物
を用いた高屈折率層を1〜2層もうけることにより、全
可視領域(400〜700nm)で一定して優れた反射
防止性能を有し、かつ優れた帯電防止性能を有する反射
防止膜を提供することができる。更に、反射防止性能を
全く影響を与えない厚さのオーバーコート層を設けるこ
とで、膜強度の弱さ、即ち耐磨耗性、耐擦傷性を大幅に
改善し、無機蒸着反射防止膜に引けを取らないCRTデ
ィスプレー全面パネル等の使用に十分耐えうる反射防止
膜を提供することができる。
る。
る。
Claims (10)
- 【請求項1】 透光性を有するプラスチック基板、該基
板上にコートされた金属アルコキシドとコロイド状金属
酸化物及び/または金属ハライドとを主成分とする帯電
防止性能を有する高屈折率層、及び高屈折率層上にコー
トされた屈折率(nd)1.36以下の非晶質フッ素樹
脂の反射防止層、及び該反射防止膜上にコートされた有
機ポリシロキサンを主成分とし且つ界面活性能力を有す
るフッ素系材料を含有するコート層から成ることを特徴
とする耐磨耗性、耐擦傷性、密着性及び透光性に優れた
反射防止膜。 - 【請求項2】 非晶質フッ素樹脂が環状エーテルとパー
フルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソールと
の共重合体またはテトラフルオロエチレンと環状パーフ
ルオロエーテルの共重合体もしくはパーフルオロビニル
アリルエーテルとの環化共重合体である請求項1記載の
反射防止膜。 - 【請求項3】 高屈折率層が、シランアルコキシド、ア
ルミニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、ジルコ
ニウムアルコキシドなどの高屈折率を有する金属アルコ
キシドと、シリカゾル、アルミナゾル、チタニアゾル、
ジルコニアゾルなどのコロイド状金属酸化物及び/また
は金属塩化物、金属臭化物等の金属ハライドとの組み合
わせにより屈折率(nd)を1.5〜2.0の間で自由
に調節することのできる高屈折率層である請求項1また
は2記載の反射防止膜。 - 【請求項4】 高屈折率層が、高屈折率を有し且つプラ
スチック基板と密着性の良いエポキシ系樹脂を含有する
請求項1乃至3の何れかに記載の反射防止膜。 - 【請求項5】 コート層の界面活性能力を有するフッ素
系材料が、パーフルオロ基と親水基を側鎖に持つフッ素
化アルキルエステルまたはパーフルオロ基と親油基とを
側鎖に持つフッ素化脂肪族高分子エステルであり、且つ
コート層が200nm以下、好ましくは100nm以下
の膜厚を有する請求項1乃至4の何れかに記載の反射防
止膜。 - 【請求項6】 コート層の有機ポリシロキサンが、シラ
ノール基、アルコキシ基、アセチル基、フェニル基、ポ
リエーテル基、パーフルオロアルキル基等を側鎖に持つ
メチルポリシロキサン又は、ジメチルポリシロキサンで
ある請求項1乃至5の何れかに記載の反射防止膜。 - 【請求項7】 プラスチック基板の屈折率をnS 、高屈
折率層の屈折率をn 1 、その厚みをd1 (単位はn
m)、反射防止層の屈折率をn3 、その厚みをd 3 とし
たとき、下記式(8)及び(9) n3 ・nS 2 = n1 2 ‥(8) 及び n1 ・d1 =n3 ・d3 =λ/4 ‥(9) に設計した3層反射防止膜。 - 【請求項8】 高屈折率層を2層設け、プラスチック基
板の屈折率nS 、第一の高屈折率層の屈折率をn1 、そ
の厚みをd1 (単位はnm)、第二の高屈折率層の屈折
率をn2 、その厚みをd2 、反射防止層の屈折率を
n3 、その厚みをd3 、空気の屈折率をn0 としたと
き、下記式(10)及び(11) n1 ・n3 =n2 ・(n0 ・nS )1/2 ‥(10) 及び n1 ・d1 =n2 ・d2 =n3 ・d3 =λ/4 ‥(11) が実質的に満足されるように、高屈折率層及び反射防止
層を設けた請求項1乃至6の何れかに記載の反射防止
膜。 - 【請求項9】 高屈折率層を2層設け、プラスチック基
板の屈折率nS 、第一の高屈折率層の屈折率をn1 、そ
の厚みをd1 (単位はnm)、第二の高屈折率層の屈折
率をn2 、その厚みをd2 、反射防止層の屈折率を
n3 、その厚みをd3 、空気の屈折率をn0 としたと
き、下記式(12)及び(13) n3 2・nS = n0 ・n1 2 ‥(12) 及び n1 ・d1 =n2 ・d2 /2=n3 ・d3 =λ/4 ‥(13) が実質的に満足されるように、第一及び第二の高屈折率
層及び反射防止層を設けた請求項1乃至6の何れかに記
載の反射防止膜。 - 【請求項10】 高屈折率層を2層設け、プラスチック
基板の屈折率nS 、第一の高屈折率層の屈折率をn1 、
その厚みをd1 (単位はnm)、第二の高屈折率層の屈
折率をn2 、その厚みをd2 、反射防止層の屈折率をn
3 、その厚みをd3 、空気の屈折率をn0 としたとき、
下記式(14)及び(15) n3 2・nS = n0 ・n1 2 ‥(14) 及び n1 ・d1/3 =n2 ・d2 /2=n3 ・d3 =λ/4 ‥(15) が実質的に満足されるように、第一及び第二の高屈折率
層及び反射防止層を設けた請求項1乃至6の何れかに記
載の反射防止膜。
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Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002006104A (ja) * | 2000-06-23 | 2002-01-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 高屈折率コーティング組成物、高屈折率塗膜、画像表示装置、及び、反射防止フィルム |
| US6846568B2 (en) | 2001-07-16 | 2005-01-25 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Antireflective, mar-resistant multilayer laminate |
| JP2005538028A (ja) * | 2002-09-14 | 2005-12-15 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 被覆物 |
| JP2006124608A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-05-18 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 押出しシート用メタクリル樹脂組成物及びその押出しシート製造法 |
| US7824043B2 (en) | 2004-06-11 | 2010-11-02 | Zeon Corporation | Reflection preventing layered product and optical member |
| KR101147416B1 (ko) * | 2010-07-26 | 2012-05-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 표시 장치 |
| WO2013179514A1 (ja) * | 2012-05-28 | 2013-12-05 | 株式会社ナミコス | ガラス容器及びその製造方法 |
| WO2019202942A1 (ja) | 2018-04-19 | 2019-10-24 | フクビ化学工業株式会社 | 反射防止板 |
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Families Citing this family (1)
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| KR101537901B1 (ko) * | 2014-04-30 | 2015-07-23 | 한국교통대학교산학협력단 | 고방열성 투명 시트 및 그 제조방법 |
-
1997
- 1997-01-14 JP JP00491797A patent/JP3761273B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002006104A (ja) * | 2000-06-23 | 2002-01-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 高屈折率コーティング組成物、高屈折率塗膜、画像表示装置、及び、反射防止フィルム |
| US6846568B2 (en) | 2001-07-16 | 2005-01-25 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Antireflective, mar-resistant multilayer laminate |
| JP2005538028A (ja) * | 2002-09-14 | 2005-12-15 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 被覆物 |
| US7824043B2 (en) | 2004-06-11 | 2010-11-02 | Zeon Corporation | Reflection preventing layered product and optical member |
| JP2006124608A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-05-18 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 押出しシート用メタクリル樹脂組成物及びその押出しシート製造法 |
| KR101147416B1 (ko) * | 2010-07-26 | 2012-05-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 표시 장치 |
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