JPH09289984A - 静磁場発生装置 - Google Patents
静磁場発生装置Info
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- JPH09289984A JPH09289984A JP8129319A JP12931996A JPH09289984A JP H09289984 A JPH09289984 A JP H09289984A JP 8129319 A JP8129319 A JP 8129319A JP 12931996 A JP12931996 A JP 12931996A JP H09289984 A JPH09289984 A JP H09289984A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】広い開口を有することで被検者に開放感を与
え、また術者には被検者へのアクセスを容易にすると共
に、磁場均一度の良い静磁場を発生させ、かつ磁場漏洩
の少ない磁気共鳴イメ−ジング装置用静磁場発生装置を
提供することを目的とする。 【課題】撮影空間(7)に均一磁場を発生するコイル
(1)と、コイル(1)を支持する支持手段と、コイル
(1)と支持手段を収容する容器(2)とを具備する静
磁場発生装置において、コイル(1)は、撮影空間(均
一磁場領域に相当)(7)を挾んで上下方向にはほぼ等
距離に対向して配置され、容器(2)の外周を板状鉄材
(3)とリング状鉄材(4)の組合せで取り囲み、リン
グ状鉄材(4)の対向端面(4A)間を柱状鉄材(5)
で接続して磁気的閉回路を構成し、リング状鉄材(4)
の端面(4A)の位置が、コイル(1)の中央面(1
0)に近接しないようにした。撮影空間の磁場均一度が
向上し、磁気共鳴イメ−ジング装置の画質向上に寄与す
る。
え、また術者には被検者へのアクセスを容易にすると共
に、磁場均一度の良い静磁場を発生させ、かつ磁場漏洩
の少ない磁気共鳴イメ−ジング装置用静磁場発生装置を
提供することを目的とする。 【課題】撮影空間(7)に均一磁場を発生するコイル
(1)と、コイル(1)を支持する支持手段と、コイル
(1)と支持手段を収容する容器(2)とを具備する静
磁場発生装置において、コイル(1)は、撮影空間(均
一磁場領域に相当)(7)を挾んで上下方向にはほぼ等
距離に対向して配置され、容器(2)の外周を板状鉄材
(3)とリング状鉄材(4)の組合せで取り囲み、リン
グ状鉄材(4)の対向端面(4A)間を柱状鉄材(5)
で接続して磁気的閉回路を構成し、リング状鉄材(4)
の端面(4A)の位置が、コイル(1)の中央面(1
0)に近接しないようにした。撮影空間の磁場均一度が
向上し、磁気共鳴イメ−ジング装置の画質向上に寄与す
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気共鳴イメージ
ング装置(以下、MRI装置という。)に適した静磁場
発生装置に係り、特に、広い開口を有することで被検者
に開放感を与え、また、術者には被検者へのアクセスを
容易にすると共に、磁場漏洩を少なくした静磁場発生装
置に関する。
ング装置(以下、MRI装置という。)に適した静磁場
発生装置に係り、特に、広い開口を有することで被検者
に開放感を与え、また、術者には被検者へのアクセスを
容易にすると共に、磁場漏洩を少なくした静磁場発生装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】人体の構造を非破壊的に検査する診断装
置としては、X線CT装置、超音波診断装置、MRI装
置等が広く使用されている。その中で、核磁気共鳴現象
を用いて人体内部を描写することができるMRI装置
は、放射線等の被曝はなく、良質な画像を得られる特徴
をもっている。
置としては、X線CT装置、超音波診断装置、MRI装
置等が広く使用されている。その中で、核磁気共鳴現象
を用いて人体内部を描写することができるMRI装置
は、放射線等の被曝はなく、良質な画像を得られる特徴
をもっている。
【0003】ここで、核磁気共鳴現象について概略を説
明すると、人体内部の固有の磁気モーメントを持つ原子
核の集団は、静磁場中に置かれたときに、その静磁場と
同じ方向を向き、特定の周波数で回転する。これをラー
モア歳差運動と呼び、静磁場の磁束密度をBo、周波数
をfとした場合、両者の関係は f=γBo(γ:核磁気回転比) で表される。この静磁場と垂直方向に同等の高周波磁場
を加えることで、前記原子核の集団が励起され、検出器
を静磁場と垂直方向に置くことで、特定の原子核の信号
が得られる。
明すると、人体内部の固有の磁気モーメントを持つ原子
核の集団は、静磁場中に置かれたときに、その静磁場と
同じ方向を向き、特定の周波数で回転する。これをラー
モア歳差運動と呼び、静磁場の磁束密度をBo、周波数
をfとした場合、両者の関係は f=γBo(γ:核磁気回転比) で表される。この静磁場と垂直方向に同等の高周波磁場
を加えることで、前記原子核の集団が励起され、検出器
を静磁場と垂直方向に置くことで、特定の原子核の信号
が得られる。
【0004】MRI装置の場合、上記の現象だけでは配
置情報を得られないため、静磁場に一時的に傾斜を与え
る傾斜磁場を加えることで、周波数ごとに信号強度の分
布が得られ、さらにフーリエ変換することで画像化す
る。
置情報を得られないため、静磁場に一時的に傾斜を与え
る傾斜磁場を加えることで、周波数ごとに信号強度の分
布が得られ、さらにフーリエ変換することで画像化す
る。
【0005】そのため、MRI装置によって作られる画
像は、3つの磁場、すなわち静磁場、高周波磁場、傾斜
磁場の磁場特性によって直接的に影響を受ける。例え
ば、傾斜磁場の特性が悪いと画像の歪みが生じ、高周波
磁場の特性が悪いと画像のぼけが生じる。その中で、静
磁場の特性は画像の歪み、画像のぼけ、S/Nに直接影
響を与え、MRI装置における基本性能を決める重要性
を持っている。そのため、数10〜数100ppmオー
ダーの高均一性でかつ高安定な磁場が要求されている。
像は、3つの磁場、すなわち静磁場、高周波磁場、傾斜
磁場の磁場特性によって直接的に影響を受ける。例え
ば、傾斜磁場の特性が悪いと画像の歪みが生じ、高周波
磁場の特性が悪いと画像のぼけが生じる。その中で、静
磁場の特性は画像の歪み、画像のぼけ、S/Nに直接影
響を与え、MRI装置における基本性能を決める重要性
を持っている。そのため、数10〜数100ppmオー
ダーの高均一性でかつ高安定な磁場が要求されている。
【0006】静磁場発生装置には、一般的に大きく分け
て、強磁性体からなる永久磁石方式、導電率の高い物質
を電流搬送手段とし、これに電流を供給して静磁場を得
る常電導磁石方式、超電導線材を電流搬送手段とし、こ
れに電流を供給して静磁場を得る超電導磁石方式などが
ある。
て、強磁性体からなる永久磁石方式、導電率の高い物質
を電流搬送手段とし、これに電流を供給して静磁場を得
る常電導磁石方式、超電導線材を電流搬送手段とし、こ
れに電流を供給して静磁場を得る超電導磁石方式などが
ある。
【0007】永久磁石方式は、強磁性体を組み合わせる
ことによって磁場の発生方式が比較的簡単に変えられ、
超電導線材のように液体ヘリウム等の冷却用媒体を用い
ないですむため冷却機構が不要である。そのため構造が
簡易化でき、ランニングコストが安いなどの特徴をもっ
ている。その反面、磁石に用いる磁性材料の発生する磁
場強度には限界があり、高出力の静磁場を発生させる手
段としては不向きである。
ことによって磁場の発生方式が比較的簡単に変えられ、
超電導線材のように液体ヘリウム等の冷却用媒体を用い
ないですむため冷却機構が不要である。そのため構造が
簡易化でき、ランニングコストが安いなどの特徴をもっ
ている。その反面、磁石に用いる磁性材料の発生する磁
場強度には限界があり、高出力の静磁場を発生させる手
段としては不向きである。
【0008】また、常電導磁石方式は、銅などの導電率
の高い常電導物質の線材をコイル状に巻いて静磁場発生
源として用いる方式である。必要なときだけ静磁場発生
源に電流を流して静磁場を得ることができることが特徴
である。しかし、常電導物質を用いているため、静磁場
を得るためには電源が必要である。電流を多く流すと発
熱が生じ、冷却機構が必要となる。そのため、永久磁石
方式と同じく、高出力の静磁場を発生させる手段として
は不向きである。
の高い常電導物質の線材をコイル状に巻いて静磁場発生
源として用いる方式である。必要なときだけ静磁場発生
源に電流を流して静磁場を得ることができることが特徴
である。しかし、常電導物質を用いているため、静磁場
を得るためには電源が必要である。電流を多く流すと発
熱が生じ、冷却機構が必要となる。そのため、永久磁石
方式と同じく、高出力の静磁場を発生させる手段として
は不向きである。
【0009】上記に対し、超電導磁石方式は、超電導線
材をコイル状に巻いて静磁場発生源として用いるため、
多量の電流を流すことができ、高い静磁場を発生させる
ことができる。また、コイルの設計によっては、被検者
を撮影する空間において、非常に均一性の良い静磁場分
布が得られ易い。しかし、なんらかの原因によって、超
電導線材の一部分の温度が上昇し、超電導特性を失うク
エンチ現象が起きる場合がある。この現象が起こると、
磁石全体が減磁してしまい、被検者(患者)に高速でか
つ大きな磁場変化を与え、生体に危険を及ぼす可能性が
あるなどの問題がある。また、コイルは、臨界温度(超
電導状態を維持するための温度)以下に維持するため
に、液体ヘリウム等の冷却用媒体によって冷すか、若し
くは、冷凍機によって直接冷却する必要があり、ランニ
ングコスト上で問題がある。
材をコイル状に巻いて静磁場発生源として用いるため、
多量の電流を流すことができ、高い静磁場を発生させる
ことができる。また、コイルの設計によっては、被検者
を撮影する空間において、非常に均一性の良い静磁場分
布が得られ易い。しかし、なんらかの原因によって、超
電導線材の一部分の温度が上昇し、超電導特性を失うク
エンチ現象が起きる場合がある。この現象が起こると、
磁石全体が減磁してしまい、被検者(患者)に高速でか
つ大きな磁場変化を与え、生体に危険を及ぼす可能性が
あるなどの問題がある。また、コイルは、臨界温度(超
電導状態を維持するための温度)以下に維持するため
に、液体ヘリウム等の冷却用媒体によって冷すか、若し
くは、冷凍機によって直接冷却する必要があり、ランニ
ングコスト上で問題がある。
【0010】しかし、上記の静磁場発生装置には、撮影
空間内に高い静磁場を発生する反面、MRI装置のシス
テムの外部に漏洩磁場を発生させる問題がある。この漏
洩磁場が大きいと、MRI装置のシステムの外部にある
磁性体が引き寄せられたり、心脈数を制御するペースメ
ーカーが破損したりして、多くの危険が生じる。
空間内に高い静磁場を発生する反面、MRI装置のシス
テムの外部に漏洩磁場を発生させる問題がある。この漏
洩磁場が大きいと、MRI装置のシステムの外部にある
磁性体が引き寄せられたり、心脈数を制御するペースメ
ーカーが破損したりして、多くの危険が生じる。
【0011】図3に示したものは、テーブルに水平方向
に寝載された被検者に対して垂直方向に1対のコイルの
組があり、上下方向に静磁場を発生させている垂直磁場
方式の例である。図3(a)は縦断面図で、図3(b)
は横断面図である。図3(a)において、1対のコイル
11がテーブル(図示せず)に寝載された被検者13を
挾んで対向して配置されているが、各々のコイル11に
は電磁力が加わるため、各々のコイル11は容器12内
に固定、支持されている。このように1対のコイル11
を静磁場発生源とする静磁場発生装置によって発生され
た磁束は空気中に発散し、大きな漏洩磁場を生じる。
に寝載された被検者に対して垂直方向に1対のコイルの
組があり、上下方向に静磁場を発生させている垂直磁場
方式の例である。図3(a)は縦断面図で、図3(b)
は横断面図である。図3(a)において、1対のコイル
11がテーブル(図示せず)に寝載された被検者13を
挾んで対向して配置されているが、各々のコイル11に
は電磁力が加わるため、各々のコイル11は容器12内
に固定、支持されている。このように1対のコイル11
を静磁場発生源とする静磁場発生装置によって発生され
た磁束は空気中に発散し、大きな漏洩磁場を生じる。
【0012】この漏洩磁場の問題を解決する手段として
は、超電導磁石方式や常電導磁石方式などのコイルを用
いた場合、アクティブシールド方式がある。この方式
は、コイルを2種類に分け、静磁場を発生する向きとは
逆向きの磁場を発生するコイルを静磁場発生源の外側に
配置することで漏洩磁場を抑制する方法である。この方
法は静磁場発生装置全体の重量の観点から見て、効率良
く漏洩磁場を抑制することが可能であるが、コイル線材
が多く必要となる問題もある。
は、超電導磁石方式や常電導磁石方式などのコイルを用
いた場合、アクティブシールド方式がある。この方式
は、コイルを2種類に分け、静磁場を発生する向きとは
逆向きの磁場を発生するコイルを静磁場発生源の外側に
配置することで漏洩磁場を抑制する方法である。この方
法は静磁場発生装置全体の重量の観点から見て、効率良
く漏洩磁場を抑制することが可能であるが、コイル線材
が多く必要となる問題もある。
【0013】そこで、静磁場発生源が発生する磁束線の
通り道(以下、帰路という。)を作ることで、漏洩磁場
の低減を行っている場合がある。この磁束線の帰路に
は、透磁率の高い物質を使用することで、効率の良い磁
気回路が構成でき、更に漏洩磁場の抑制が可能である。
一般的には、鉄(特に、純鉄など)を用いることが良く
知られている。
通り道(以下、帰路という。)を作ることで、漏洩磁場
の低減を行っている場合がある。この磁束線の帰路に
は、透磁率の高い物質を使用することで、効率の良い磁
気回路が構成でき、更に漏洩磁場の抑制が可能である。
一般的には、鉄(特に、純鉄など)を用いることが良く
知られている。
【0014】鉄を用いて磁気回路を作った例を図4に示
す。図4に示したものは、特願平08−19503号公
報に開示されており、図3と同様に容器12内に固定、
支持された1対のコイル11の組が垂直方向に対向して
配置され、更に容器12の外部領域を取り囲むように鉄
材14、15、16が配置されて、磁気回路を構成した
ものである。図4(a)は縦断面図、図4(b)は横断
面図である。鉄材14、15、16には大きく分けて2
つの役割がある。板状の鉄材14は、1対のコイル11
の組の外側に、水平面に沿って配置されており、上下方
向に漏れる磁束線を防いでいる。また、コイル11の周
囲を取り囲むように、リング状の鉄材15を配置するこ
とで、周方向に漏れる磁束線を防ぐことができる。これ
らの強磁性体である鉄材14、15は、静磁場発生源が
発生した磁束線を収束させる手段としての役割を果たし
ている。更に、磁束線を通過させる手段として、2本の
柱状の鉄材16を、上下の磁束線を収束させる手段に接
続することで、板状の鉄材14とリング状の鉄材15で
集められた磁束線が効率良く磁気回路を通る。
す。図4に示したものは、特願平08−19503号公
報に開示されており、図3と同様に容器12内に固定、
支持された1対のコイル11の組が垂直方向に対向して
配置され、更に容器12の外部領域を取り囲むように鉄
材14、15、16が配置されて、磁気回路を構成した
ものである。図4(a)は縦断面図、図4(b)は横断
面図である。鉄材14、15、16には大きく分けて2
つの役割がある。板状の鉄材14は、1対のコイル11
の組の外側に、水平面に沿って配置されており、上下方
向に漏れる磁束線を防いでいる。また、コイル11の周
囲を取り囲むように、リング状の鉄材15を配置するこ
とで、周方向に漏れる磁束線を防ぐことができる。これ
らの強磁性体である鉄材14、15は、静磁場発生源が
発生した磁束線を収束させる手段としての役割を果たし
ている。更に、磁束線を通過させる手段として、2本の
柱状の鉄材16を、上下の磁束線を収束させる手段に接
続することで、板状の鉄材14とリング状の鉄材15で
集められた磁束線が効率良く磁気回路を通る。
【0015】磁気回路の構成を具体的に説明すると、上
側のコイル11で作られて上方向に発生した磁束線は空
気よりも透磁率の高い上側の鉄材14、15に集まり、
更に柱状の鉄材16の中で上から下の逆向きの磁場方向
となり、下側の鉄材14、15を通って、下側のコイル
11に戻って来る。そのため、2個の静磁場発生源11
によって発生した磁束線は空気中に拡散しにくくなり、
撮影空間における総磁束線の数は増え、静磁場の発生効
率も向上する。
側のコイル11で作られて上方向に発生した磁束線は空
気よりも透磁率の高い上側の鉄材14、15に集まり、
更に柱状の鉄材16の中で上から下の逆向きの磁場方向
となり、下側の鉄材14、15を通って、下側のコイル
11に戻って来る。そのため、2個の静磁場発生源11
によって発生した磁束線は空気中に拡散しにくくなり、
撮影空間における総磁束線の数は増え、静磁場の発生効
率も向上する。
【0016】
【発明が解決しようとする課題〕被検者1
3から見た開放感は、1対のコイル11を収容する2個
の容器12の端部の間隔が大きい程良くなる。特に、撮
影空間の中心に視点を置いたとき、この中心からの視線
が対向する容器12の2つの端面の外周部を見込む開き
角度θ0が大きければ大きな開放感が得られる。 【0017】リング状の鉄材15が短い場合には、前記
視線の開き角度θは容器12の端面の外周部との開き角
度θ0に等しいが、リング状の鉄材15が長くなると、
その端部が容器12の端面からはみ出して、開き角度θ
を狭めることになる。すなわち、このときの開き角度θ
は、リング状の鉄材15の対向間隔によって決まること
になり、リング状の鉄材15の端部のはみ出しで対向間
隔が狭くなるために小さくなる。その結果、被検者の開
放感が減少するという問題がある。
3から見た開放感は、1対のコイル11を収容する2個
の容器12の端部の間隔が大きい程良くなる。特に、撮
影空間の中心に視点を置いたとき、この中心からの視線
が対向する容器12の2つの端面の外周部を見込む開き
角度θ0が大きければ大きな開放感が得られる。 【0017】リング状の鉄材15が短い場合には、前記
視線の開き角度θは容器12の端面の外周部との開き角
度θ0に等しいが、リング状の鉄材15が長くなると、
その端部が容器12の端面からはみ出して、開き角度θ
を狭めることになる。すなわち、このときの開き角度θ
は、リング状の鉄材15の対向間隔によって決まること
になり、リング状の鉄材15の端部のはみ出しで対向間
隔が狭くなるために小さくなる。その結果、被検者の開
放感が減少するという問題がある。
【0018】また、リング状の鉄材15が長くなると、
その端部がコイル11に近接して配置されることにな
る。コイル11の周辺領域においては、コイル11が発
生した磁束線が複雑に変化し、その方向及び大きさは、
少しの位置変化でも、大きく変化する。この領域に鉄な
どの強磁性体を配置すると、撮影空間の磁場均一度に影
響を与えるので、所望の均一度を出すためには高い製作
精度が必要となり、作業性及びコストに問題が生じる。
その端部がコイル11に近接して配置されることにな
る。コイル11の周辺領域においては、コイル11が発
生した磁束線が複雑に変化し、その方向及び大きさは、
少しの位置変化でも、大きく変化する。この領域に鉄な
どの強磁性体を配置すると、撮影空間の磁場均一度に影
響を与えるので、所望の均一度を出すためには高い製作
精度が必要となり、作業性及びコストに問題が生じる。
【0019】従って、本発明では、上記課題を解決し、
広い開口を有することで被検者に開放感を与え、また、
術者には被検者へのアクセスを容易にすると共に、漏洩
磁場を少なくした静磁場発生装置を提供することを目的
とする。
広い開口を有することで被検者に開放感を与え、また、
術者には被検者へのアクセスを容易にすると共に、漏洩
磁場を少なくした静磁場発生装置を提供することを目的
とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、次の解
決手段によって達成される。本発明の静磁場発生装置
は、有限の領域に第1の方向に向かう均一磁場を発生さ
せるための電流を流す静磁場発生源と、該静磁場発生源
を支持する支持手段と、前記静磁場発生源と前記支持手
段を収容する容器とを具備する静磁場発生装置におい
て、前記静磁場発生源は前記均一磁場領域を挾んで前記
第1の方向に沿ってほぼ等距離に対向して配置され、前
記容器の外周を強磁性体からなる有底円筒体で取り囲
み、該有底円筒体の対向する端面間を強磁性体からなる
支柱で接続することにより磁気的閉回路を構成し、前記
有底円筒体の端面の位置が前記静磁場発生源の前記第1
の方向に沿った長さの中央部を通り、前記第1の方向と
直交する面(以下、中央面という。)に近接しないよう
にしたものである(請求項1)。この構成では、静磁場
発生源の周りに強磁性体である有底円筒体の端面部が近
接しないようになるので、撮影空間である均一磁場領域
の磁場均一度が乱されることがなくなり、高精度の画像
が得られる。
決手段によって達成される。本発明の静磁場発生装置
は、有限の領域に第1の方向に向かう均一磁場を発生さ
せるための電流を流す静磁場発生源と、該静磁場発生源
を支持する支持手段と、前記静磁場発生源と前記支持手
段を収容する容器とを具備する静磁場発生装置におい
て、前記静磁場発生源は前記均一磁場領域を挾んで前記
第1の方向に沿ってほぼ等距離に対向して配置され、前
記容器の外周を強磁性体からなる有底円筒体で取り囲
み、該有底円筒体の対向する端面間を強磁性体からなる
支柱で接続することにより磁気的閉回路を構成し、前記
有底円筒体の端面の位置が前記静磁場発生源の前記第1
の方向に沿った長さの中央部を通り、前記第1の方向と
直交する面(以下、中央面という。)に近接しないよう
にしたものである(請求項1)。この構成では、静磁場
発生源の周りに強磁性体である有底円筒体の端面部が近
接しないようになるので、撮影空間である均一磁場領域
の磁場均一度が乱されることがなくなり、高精度の画像
が得られる。
【0021】本発明の静磁場発生装置は更に、前記有底
円筒体の対向する端面間の距離を、前記容器の対向する
端面間の距離よりも大きくしたものである(請求項
2)。この構成では、撮影空間の中心から見た視線の開
き角度が、有底円筒体の端面で狭められることがなくな
るので、被検者にとって十分な開放感が得られる。
円筒体の対向する端面間の距離を、前記容器の対向する
端面間の距離よりも大きくしたものである(請求項
2)。この構成では、撮影空間の中心から見た視線の開
き角度が、有底円筒体の端面で狭められることがなくな
るので、被検者にとって十分な開放感が得られる。
【0022】本発明の静磁場発生装置は更に、前記有底
円筒体の対向する端面間の距離を、2つの対向する前記
静磁場発生源の中央面間の距離より大きくしたものであ
る(請求項3)。この構成では、請求項2と同様な効果
が得られる。
円筒体の対向する端面間の距離を、2つの対向する前記
静磁場発生源の中央面間の距離より大きくしたものであ
る(請求項3)。この構成では、請求項2と同様な効果
が得られる。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を添付図面
に従って説明する。図1は、本発明の第1の実施例を示
したものである。図1(a)は縦断面図、図1(b)は
横断面図である。図1において、静磁場発生源であるコ
イル1の組が被検者6を間に挾んで上下方向に対向して
配置されている。このコイル1は円筒型の容器2に収納
され、その内部に支持体(図示せず)で支持、固定され
ている。上下方向に配置された容器2の外側には、板状
の鉄材3とリング状の鉄材4が配置され、さらにそれら
の鉄材3、4を上下方向に接続する2本の柱状の鉄材5
が配置されている。ここで、板状の鉄材3とリング状の
鉄材4は一体化されて、有低円筒状の鉄材であっても良
い。機能的に見ても一体化されていた方が、以下に述べ
る漏洩磁場の抑制効果は大きい。本発明の中では両者は
同じものとして、区別しないで取り扱って行くことにす
る。
に従って説明する。図1は、本発明の第1の実施例を示
したものである。図1(a)は縦断面図、図1(b)は
横断面図である。図1において、静磁場発生源であるコ
イル1の組が被検者6を間に挾んで上下方向に対向して
配置されている。このコイル1は円筒型の容器2に収納
され、その内部に支持体(図示せず)で支持、固定され
ている。上下方向に配置された容器2の外側には、板状
の鉄材3とリング状の鉄材4が配置され、さらにそれら
の鉄材3、4を上下方向に接続する2本の柱状の鉄材5
が配置されている。ここで、板状の鉄材3とリング状の
鉄材4は一体化されて、有低円筒状の鉄材であっても良
い。機能的に見ても一体化されていた方が、以下に述べ
る漏洩磁場の抑制効果は大きい。本発明の中では両者は
同じものとして、区別しないで取り扱って行くことにす
る。
【0024】この構成の静磁場発生装置において、被検
者6の開放感を得るためには静磁場発生装置の中心、す
なわち撮影空間7の中心から見た視野の開き角度θを大
きくすることが必要である。対向する容器2の対向端面
2Aの外周部で決まる視野の開き角度Q0は静磁場発生
源(コイル1を含む。)の設計上決まるものである。容
器2の外周に配置されるリング状の鉄材4は、コイル1
の発生する磁束を収束し、帰路を構成して、漏洩磁場を
低減するものであり、漏洩磁場の低減の面から考えれ
ば、この長さは長い方が効果がある。例えば、上記撮影
空間7を全体的に覆うように配置できれば漏洩磁場を完
全に低減することができるが、開放感の面から考えた場
合そのようなことは不可能であるので、両者の調整をし
なければならない。
者6の開放感を得るためには静磁場発生装置の中心、す
なわち撮影空間7の中心から見た視野の開き角度θを大
きくすることが必要である。対向する容器2の対向端面
2Aの外周部で決まる視野の開き角度Q0は静磁場発生
源(コイル1を含む。)の設計上決まるものである。容
器2の外周に配置されるリング状の鉄材4は、コイル1
の発生する磁束を収束し、帰路を構成して、漏洩磁場を
低減するものであり、漏洩磁場の低減の面から考えれ
ば、この長さは長い方が効果がある。例えば、上記撮影
空間7を全体的に覆うように配置できれば漏洩磁場を完
全に低減することができるが、開放感の面から考えた場
合そのようなことは不可能であるので、両者の調整をし
なければならない。
【0025】容器2の外径を2R0、容器2の対向端面
の間隔を2L0、リング状の鉄材4の外径を2R1、リン
グ状の鉄材4の対向端面の間隔を2L1とし、容器2と
リング状の鉄材4の撮影空間7の中心から見た視野の開
き角度をそれぞれ2θ0、2θ1とすると、 tanθ0=L0/R0,tanθ1=L1/R1 で表される。両開き角度の関係が θ0≦θ1 であれば、容器2の開き角度θ0が、リング状の鉄材4
によって制限されないので、被検者6の開放感は維持さ
れる。
の間隔を2L0、リング状の鉄材4の外径を2R1、リン
グ状の鉄材4の対向端面の間隔を2L1とし、容器2と
リング状の鉄材4の撮影空間7の中心から見た視野の開
き角度をそれぞれ2θ0、2θ1とすると、 tanθ0=L0/R0,tanθ1=L1/R1 で表される。両開き角度の関係が θ0≦θ1 であれば、容器2の開き角度θ0が、リング状の鉄材4
によって制限されないので、被検者6の開放感は維持さ
れる。
【0026】θ0≦θ1が成立するためには、 L0/R0 ≦ L1/R1 となる。リング状の鉄材4は容器2の外周に配置されて
いるので、 R0 ≦ R1 となり、これから、 L0 ≦ L1 といえる。すなわち、リング状の鉄材4の端面間距離L
1は、容器2の端面間距離L0よりも大きくなることで、
撮影空間7の中心からの視界が確保され、被検者の開放
感も確保される。
いるので、 R0 ≦ R1 となり、これから、 L0 ≦ L1 といえる。すなわち、リング状の鉄材4の端面間距離L
1は、容器2の端面間距離L0よりも大きくなることで、
撮影空間7の中心からの視界が確保され、被検者の開放
感も確保される。
【0027】また、リング状の鉄材4の端部4Aがコイ
ル1の外周に近接して配置されると、コイル1の周辺に
おいてはコイル1の発生した磁束線が複雑に変化するの
で、リング状の鉄材4の端部4Aの位置が少し変化した
だけで、磁束線の方向及び大きさが大きく変化する。こ
の磁束線の変化は、撮影空間7の磁場均一度の変化とし
て現われる。このことを検証するためにいくつかの磁気
回路モデルについて、コイル1の位置(中央面10)を
基準にして、リング状の鉄材4の端面4Aの位置を変化
させた場合の撮影空間7の磁場均一度を計算してみた。
計算結果の1例を図2に示す。
ル1の外周に近接して配置されると、コイル1の周辺に
おいてはコイル1の発生した磁束線が複雑に変化するの
で、リング状の鉄材4の端部4Aの位置が少し変化した
だけで、磁束線の方向及び大きさが大きく変化する。こ
の磁束線の変化は、撮影空間7の磁場均一度の変化とし
て現われる。このことを検証するためにいくつかの磁気
回路モデルについて、コイル1の位置(中央面10)を
基準にして、リング状の鉄材4の端面4Aの位置を変化
させた場合の撮影空間7の磁場均一度を計算してみた。
計算結果の1例を図2に示す。
【0028】図2は、リング状の鉄材4の端面4Aの位
置を変化させたときの撮影空間7の磁場均一度の変化を
示したものである。図2(a)は磁気回路のモデルの構
成を示す配置図を示したもので、磁気回路モデルは磁場
中心に対して上下対称である。図2(b)は板状鉄材か
ら、リング状の鉄材4の端面までの距離をLとし、この
時Lを変化させたときの磁場均一度の変化を示した。図
2(a)において、静磁場発生源のコイル1は、複数の
コイルからなっており、コイル1と板状の鉄材3の寸法
および、位置は固定されており、リング状の鉄材4の端
面4Aの位置を磁石の中心軸上にそって変化させる。た
だし、板状鉄材から、このコイル1のZ方向の中心位置
までの距離をHとし、この値を基準にしており、端面4
Aが磁石中心(撮影空間の中心)8に近づく場合を正と
した。
置を変化させたときの撮影空間7の磁場均一度の変化を
示したものである。図2(a)は磁気回路のモデルの構
成を示す配置図を示したもので、磁気回路モデルは磁場
中心に対して上下対称である。図2(b)は板状鉄材か
ら、リング状の鉄材4の端面までの距離をLとし、この
時Lを変化させたときの磁場均一度の変化を示した。図
2(a)において、静磁場発生源のコイル1は、複数の
コイルからなっており、コイル1と板状の鉄材3の寸法
および、位置は固定されており、リング状の鉄材4の端
面4Aの位置を磁石の中心軸上にそって変化させる。た
だし、板状鉄材から、このコイル1のZ方向の中心位置
までの距離をHとし、この値を基準にしており、端面4
Aが磁石中心(撮影空間の中心)8に近づく場合を正と
した。
【0029】図2(b)において、横軸はリング状鉄材
4の端面4Aの位置をとり、縦軸は磁場均一度の最大値
を1として規格化したものを表示している。計算データ
は3種類示してあり、×印は撮影空間の中心からZ方向
にHだけ離れた位置のデータ、黒丸印は撮影空間の中心
から柱状の鉄材5のある方向(Y方向とする。)にHだ
け離れた位置のデータ、黒三角形印は撮影空間の中心8
から柱状の鉄材5のない方向(X方向とする。)にHだ
け離れた位置のデータである。
4の端面4Aの位置をとり、縦軸は磁場均一度の最大値
を1として規格化したものを表示している。計算データ
は3種類示してあり、×印は撮影空間の中心からZ方向
にHだけ離れた位置のデータ、黒丸印は撮影空間の中心
から柱状の鉄材5のある方向(Y方向とする。)にHだ
け離れた位置のデータ、黒三角形印は撮影空間の中心8
から柱状の鉄材5のない方向(X方向とする。)にHだ
け離れた位置のデータである。
【0030】図2(b)の計算結果によれば、撮影空間
の中心8からZ方向又は、X方向に変化した位置におい
ては、磁場均一度の絶対値が大きい傾向がある。Z方向
では正の値で、X方向では負の値になっている。これに
対してY方向では磁場均一度の絶対値の変化が小さくほ
とんど変化していない。前者の場合、リング状の鉄材4
の端部4Aの位置を伸ばしていくと,単調に増加しL=
1.0H近傍で極大値を示し、これを越えると減少し始
める。
の中心8からZ方向又は、X方向に変化した位置におい
ては、磁場均一度の絶対値が大きい傾向がある。Z方向
では正の値で、X方向では負の値になっている。これに
対してY方向では磁場均一度の絶対値の変化が小さくほ
とんど変化していない。前者の場合、リング状の鉄材4
の端部4Aの位置を伸ばしていくと,単調に増加しL=
1.0H近傍で極大値を示し、これを越えると減少し始
める。
【0031】以上の結果から分かる様にリング状鉄材4
の端面4Aの位置がコイル1の中央面付近にあると撮影
空間7の磁場均一度は悪化する。実用的な見地から、見
た場合、リング状の鉄材4の位置は0.7H<L<1.3
Hの範囲を避ければ良好な磁場均一度が得られる。実用
上、リング上鉄材4の端面4Aの位置が上記の範囲にあ
っても使用不可という訳ではないが、撮影空間7の磁場
均一度を向上するためには大幅な補正が必要となる。こ
の補正手段としては、リング状鉄材4以外に、鉄などの
強磁性体を付加配置することで可能ではあるが、多量の
材料と複雑な配置が必要となり、コスト的に問題が生じ
現実的でない。
の端面4Aの位置がコイル1の中央面付近にあると撮影
空間7の磁場均一度は悪化する。実用的な見地から、見
た場合、リング状の鉄材4の位置は0.7H<L<1.3
Hの範囲を避ければ良好な磁場均一度が得られる。実用
上、リング上鉄材4の端面4Aの位置が上記の範囲にあ
っても使用不可という訳ではないが、撮影空間7の磁場
均一度を向上するためには大幅な補正が必要となる。こ
の補正手段としては、リング状鉄材4以外に、鉄などの
強磁性体を付加配置することで可能ではあるが、多量の
材料と複雑な配置が必要となり、コスト的に問題が生じ
現実的でない。
【0032】
【発明の効果】以上説明した如く、本発明によれば、広
い開口を有することで被検者に開放感を与え、また術者
には被検者へのアクセスを容易にすると共に、磁場均一
度の良い静磁場を発生させ、かつ、磁場漏洩の少ないM
RI装置用静磁場発生装置を提供することができる。
い開口を有することで被検者に開放感を与え、また術者
には被検者へのアクセスを容易にすると共に、磁場均一
度の良い静磁場を発生させ、かつ、磁場漏洩の少ないM
RI装置用静磁場発生装置を提供することができる。
【図1】本発明の第1の実施例を示す図。
【図2】リング状の鉄材の端面の位置と撮影空間の磁場
均一度との関係。
均一度との関係。
【図3】垂直方向に1対のコイルの組を配して上下方向
に静磁場を発生させている垂直磁場方式の従来例。
に静磁場を発生させている垂直磁場方式の従来例。
【図4】鉄を用いて磁気回路を作った従来例。
1…コイル、 2…容器、 3…板状の鉄材、 4…リ
ング状の鉄材、 5…柱状の鉄材、 6…被検者、 7
…撮影空間、 8…磁石の中心、 9…磁石の中心軸、
10…コイルの中央面。
ング状の鉄材、 5…柱状の鉄材、 6…被検者、 7
…撮影空間、 8…磁石の中心、 9…磁石の中心軸、
10…コイルの中央面。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 角川 滋 茨城県日立市幸町一丁目20番2号 株式会 社日立製作所日立研究所内
Claims (3)
- 【請求項1】有限の領域に第1の方向に向かう均一磁場
を発生させるための電流を流す静磁場発生源と、該静磁
場発生源を支持する支持手段と、前記静磁場発生源と前
記支持手段を収容する容器とを具備する静磁場発生装置
において、前記静磁場発生源は前記均一磁場領域を挾ん
で前記第1の方向に沿ってほぼ等距離に対向して配置さ
れ、前記容器の外周を強磁性体からなる有底円筒体で取
り囲み、該有底円筒体の対向する端面間を強磁性体から
なる支柱で接続することにより磁気的閉回路を構成し、
前記有底円筒体の端面の位置が前記静磁場発生源の前記
第1の方向に沿った長さの中央部を通り、前記第1の方
向と直交する面(以下、中央面という。)に近接しない
ようにしたことを特徴とする静磁場発生装置。 - 【請求項2】請求項1記載の静磁場発生装置において、
前記有底円筒体の対向する端面間の距離を、前記容器の
対向する端面間の距離よりも大きくしたことを特徴とす
る静磁場発生装置。 - 【請求項3】請求項1及び2記載の静磁場発生装置にお
いて、前記有底円筒体の対向する端面間の距離を、2つ
の対向する前記静磁場発生源の中央面間の距離より大き
くしたことを特徴とする静磁場発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8129319A JPH09289984A (ja) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | 静磁場発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8129319A JPH09289984A (ja) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | 静磁場発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09289984A true JPH09289984A (ja) | 1997-11-11 |
Family
ID=15006645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8129319A Pending JPH09289984A (ja) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | 静磁場発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09289984A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008086582A (ja) * | 2006-10-03 | 2008-04-17 | Hitachi Metals Ltd | 磁界発生装置 |
-
1996
- 1996-04-26 JP JP8129319A patent/JPH09289984A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008086582A (ja) * | 2006-10-03 | 2008-04-17 | Hitachi Metals Ltd | 磁界発生装置 |
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