JPH09291010A - Fluorinated polysiloxane-containing cosmetic - Google Patents

Fluorinated polysiloxane-containing cosmetic

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JPH09291010A
JPH09291010A JP10277096A JP10277096A JPH09291010A JP H09291010 A JPH09291010 A JP H09291010A JP 10277096 A JP10277096 A JP 10277096A JP 10277096 A JP10277096 A JP 10277096A JP H09291010 A JPH09291010 A JP H09291010A
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JP
Japan
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group
general formula
silicon compound
represented
substituted
Prior art date
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JP10277096A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Iyanagi
宏一 井柳
Eiji Takahashi
栄治 高橋
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Pola Chemical Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject cosmetic, excellent in compatibility with an oil and fat, capable of providing a soft, strong, thin and uniform water and oil repellent protecting film and useful as a basic, a makeup cosmetics, etc. SOLUTION: This fluorinated polysiloxane-containing cosmetic comprises a fluorinated polysiloxane represented by formula I R is a monovalent hydrocarbon group or the one in which at least a part of hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms; R' is a group represented by the formula O-Si(R)3 , or R; at least one of all the R groups is a monovalent hydrocarbon in which at least a part of the hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms} in an amount of 0.1-20wt.% based on the whole cosmetic. The compound represented by formula I is obtained by carrying out the hydrolysis and polycondensation of a silicon compound represented by formula II and then reacting the resultant compound with a silicon compound represented by the formula (R)3 SiX and/or a silicon compound represented by the formula (R)3 Si-O-Si(R)3 or a silicon compound represented by formula III as a terminal blocking agent.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、油脂との相溶性に
優れ、皮膚、頭髪、爪等の各種人体の表面に柔軟且つ強
固で、しかも薄く均一な撥水撥油性保護膜を与える、梯
子型フッ素変性シリーン誘導体を含有する化粧料に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a ladder which has excellent compatibility with fats and oils and provides a flexible and strong water- and oil-repellent protective film on the surface of various human bodies such as skin, hair and nails, which is thin and uniform. The present invention relates to cosmetics containing a fluorine-modified silene derivative.

【0002】[0002]

【従来技術】シリコーンは、従来から撥水性の被膜を与
える被膜剤として広範囲に利用されている。そして、こ
のシリコーン化合物にフッ素置換基を導入することによ
り、撥油性を付与しようとする試みもなされている。こ
のような例としては、ユニット−(R02SiO−(但
し、R0は有機基を表す。以下同様)、及びユニット
(R03SiO1/2−からなる高分子シリコーンや、こ
れにユニットR0SiO2/ 3及び/またはユニットSiO
2を添加したシリコーン樹脂の側鎖または末端にフッ素
置換基を導入したものが挙げられる(特開昭64−83
086号公報、特開平5−78491号公報、特開平6
−358185号公報参照)。
2. Description of the Related Art Silicone has been widely used as a coating agent for providing a water-repellent coating. Attempts have also been made to impart oil repellency by introducing a fluorine substituent into this silicone compound. As such an example, a polymer silicone composed of a unit-(R 0 ) 2 SiO- (wherein R 0 represents an organic group; the same applies hereinafter) and a unit (R 0 ) 3 SiO 1/ 2-, This unit R 0 SiO 2/3, and / or units SiO
A silicone resin having 2 added thereto has a fluorine substituent introduced into the side chain or terminal thereof (Japanese Patent Laid-Open No. 64-83).
086, JP-A-5-78491, JP-A-6
-358185 gazette).

【0003】しかしながら、従来のフッ素置換シリコー
ンの多くは二次元型(直鎖状)であり、三次元シリコー
ンであってもネットワ−ク構造が有機基R0によって切
断され、分子の連続性が低下するため、得られる撥水撥
油性の被膜は、柔軟性は有するものの、被膜強度が不十
分で、被膜の耐久性に問題があった。SiO2ユニット
の割合を増加させれば、ある程度被膜強度を向上させる
ことはできるが、この方法でも限界がある上、SiO2
ユニットの割合の増加により分子の可とう性が低下し、
ひいては被膜の強度が著しく低下するという欠点も生じ
る。また、厚く塗布すれば被膜強度は得られるが、薄く
均一に塗布した方が望ましいことは勿論である。さら
に、三次元フッ素置換シリコーンは、一般には種々の油
脂との相溶性が悪いという問題点も有していた。
However, most of the conventional fluorine-substituted silicones are two-dimensional type (straight-chain type), and even with three-dimensional silicone, the network structure is cleaved by the organic group R 0 , and the continuity of the molecule is lowered. Therefore, although the obtained water and oil repellent coating film has flexibility, the coating film strength is insufficient and there is a problem in the durability of the coating film. By increasing the proportion of SiO 2 units, it can be improved to some extent the film strength, on this method also has limitations, SiO 2
The increase in the proportion of units reduces the flexibility of the molecule,
As a result, there is a drawback that the strength of the coating is significantly reduced. Further, although coating strength can be obtained by applying a thick coating, it is needless to say that a thin and uniform coating is desirable. Further, the three-dimensional fluorine-substituted silicone generally has a problem of poor compatibility with various fats and oils.

【0004】このため、持っている物性が化粧品に有用
と思われているにも係わらず、シリコーン類で化粧料に
応用されているものは極僅かであった。
For this reason, although the physical properties it possesses are considered to be useful for cosmetics, very few silicones have been applied to cosmetics.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な状況に鑑みてなされたものであり、柔軟且つ強固で、
しかも薄く均一な撥水撥油性保護膜を与える、基礎化粧
料、メークアップ化粧料、頭髪化粧料、洗浄料、美爪
料、浴用剤等の化粧料を提供することを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances and is flexible and strong,
Moreover, it is an object of the present invention to provide cosmetics such as basic cosmetics, makeup cosmetics, hair cosmetics, cleansing agents, nail enamel, and bath agents that provide a thin and uniform water and oil repellent protective film.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、珪素−珪素原子間に有
機結合を有する特定構造を持ち、且つフッ素原子で置換
された炭化水素基を有する新規な梯子型フッ素化ポリシ
ロキサンが、被膜特性に優れる上、他の化粧料用原料と
の混和性も良いことを見出し、本発明を完成した。
DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a hydrocarbon having a specific structure having an organic bond between silicon and silicon atoms and substituted with a fluorine atom. The present invention has been completed by finding that the novel ladder-type fluorinated polysiloxane having a group is excellent in coating properties and also has good miscibility with other cosmetic raw materials.

【0007】すなわち、本発明の化粧料は、下記一般式
(1)で表される構造を有するフッ素化ポリシロキサン
を含有するものである。
That is, the cosmetic of the present invention contains a fluorinated polysiloxane having a structure represented by the following general formula (1).

【0008】[0008]

【化4】 Embedded image

【0009】[式(1)中、Rは一価の炭化水素基又は
水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換された一
価の炭化水素基を表し、相互に同一又は異なっていても
よい。R’は下記一般式(2)で表される基又はRを表
し、相互に同一又は異なっていてもよい。
[In the formula (1), R represents a monovalent hydrocarbon group or a monovalent hydrocarbon group in which at least a part of hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms, and they may be the same or different from each other. . R'represents a group represented by the following general formula (2) or R, and may be the same or different from each other.

【0010】[0010]

【化5】−O−Si(R)3 ・・・(2)Embedded image —O—Si (R) 3 (2)

【0011】ただし、一般式(1)及び(2)に含まれ
る全Rのうちの少なくとも1つは、水素原子の少なくと
も一部がフッ素原子で置換された一価の炭化水素基であ
る。Qは二価の有機基を表す。nは10以上の整数を表
す。] また、本発明は、下記一般式(3)で表される珪素化合
物を加水分解重縮合させた後、これに下記一般式(4)
で表される珪素化合物及び/又は下記一般式(5)で表
される珪素化合物、もしくは下記一般式(6)で表され
る珪素化合物を末端封鎖剤として反応させることにより
得られる前記フッ素化ポリシロキサン。
However, at least one of all Rs contained in the general formulas (1) and (2) is a monovalent hydrocarbon group in which at least a part of hydrogen atoms is substituted with a fluorine atom. Q represents a divalent organic group. n represents an integer of 10 or more. In the present invention, the silicon compound represented by the following general formula (3) is hydrolyzed and polycondensed, and then the following general formula (4) is added thereto.
And / or the fluorinated poly (polysiloxane) obtained by reacting a silicon compound represented by the following general formula (5) or a silicon compound represented by the following general formula (6) as a terminal blocking agent. Siloxane.

【0012】[0012]

【化6】 [Chemical 6]

【0013】[式(3)、(4)、(5)及び(6)
中、R及びQは、前記一般式(1)におけるのと同義で
ある。また、Xは加水分解性の基を表す。]
[Equations (3), (4), (5) and (6)]
In the above, R and Q have the same meanings as in the general formula (1). Further, X represents a hydrolyzable group. ]

【0014】本発明で用いる前記フッ素化ポリシロキサ
ンは、下記一般式(7)で表される骨格構造によって分
子の連続性を向上させ、柔軟且つ強固な被膜を与えるこ
とができる。また、フッ素置換基によって被膜に撥水撥
油性が付与され、Qで表される有機基の存在及び梯子型
分子の疑似二次元構造によって、油脂への溶解性に優れ
る。よって、かかるフッ素化ポリシロキサンを含有する
本発明の化粧料は、油脂との相溶性に優れ、皮膚、頭
髪、爪等の各種人体の表面に柔軟且つ強固で、しかも薄
く均一な撥水撥油性保護膜を与えることができる。
The fluorinated polysiloxane used in the present invention can improve the continuity of molecules by the skeleton structure represented by the following general formula (7) and can provide a flexible and strong coating film. Further, the fluorine substituent imparts water and oil repellency to the coating film, and due to the presence of the organic group represented by Q and the pseudo two-dimensional structure of the ladder type molecule, the solubility in oil and fat is excellent. Therefore, the cosmetic of the present invention containing such a fluorinated polysiloxane has excellent compatibility with oils and fats, is flexible and strong on the surface of various human bodies such as skin, hair, nails, etc., and is thin and uniform water and oil repellency. A protective film can be provided.

【0015】[0015]

【化7】 Embedded image

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を詳
細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail.

【0017】(1)フッ素化ポリシロキサン 本発明の化粧料は、前記一般式(1)で表される梯子型
構造を有するフッ素化ポリシロキサンを含有することを
特徴とする。ここで、前記一般式(1)中、Qは二価の
有機基であれば特に限定されないが、好ましくは、1)
アルキレン基;2)ポリメチレン基;3)フェニレン
基;4)アリーレン基;5)前記1)〜4)の基の水素
原子の少なくとも一部が更にアルキル基、フェニル基、
及びアリール基からなる群のうちの少なくとも1種で置
換された基;6)前記1)〜5)の基の構造中に、酸素
原子、窒素原子又は硫黄原子を有する官能基を含む基;
及び7)前記1)〜6)の基の水素原子の少なくとも一
部が塩素原子または臭素原子で置換された基;よりなる
群から選ばれる二価の有機基である。
(1) Fluorinated Polysiloxane The cosmetic material of the present invention is characterized by containing a fluorinated polysiloxane having a ladder structure represented by the general formula (1). Here, in the general formula (1), Q is not particularly limited as long as it is a divalent organic group, but preferably 1).
Alkylene group; 2) polymethylene group; 3) phenylene group; 4) arylene group; 5) at least a part of hydrogen atoms of the groups of 1) to 4) above is further an alkyl group, a phenyl group,
And a group substituted with at least one member selected from the group consisting of aryl groups; 6) a group containing a functional group having an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom in the structure of the groups 1) to 5) above;
And 7) a divalent organic group selected from the group consisting of the groups 1) to 6) in which at least some of the hydrogen atoms are replaced with chlorine or bromine.

【0018】アルキレン基としては炭素数3〜20程度
のもの、ポリメチレン基としては炭素数3〜20程度の
もの、アリーレン基としては炭素数6〜20程度のもの
が好ましい。また、置換されるアルキル基としては炭素
数1〜5程度のもの、アリール基としては炭素数6〜1
2程度のものが好ましい。また、酸素原子、窒素原子又
は硫黄原子を有する官能基としては、エーテル、チオエ
ーテル、エステル、ケトン、アミド、イミド、アミン及
びイミン等の官能基が挙げられる。
The alkylene group is preferably one having about 3 to 20 carbon atoms, the polymethylene group is preferably one having about 3 to 20 carbon atoms, and the arylene group is preferably one having about 6 to 20 carbon atoms. The substituted alkyl group has about 1 to 5 carbon atoms, and the aryl group has 6 to 1 carbon atoms.
It is preferably about 2. Examples of the functional group having an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom include functional groups such as ether, thioether, ester, ketone, amide, imide, amine and imine.

【0019】具体的には、以下の有機基を例示すること
ができる。なお、以下の式中、a、b、c、dは各々1
以上の整数を表す。
Specifically, the following organic groups can be exemplified. In the formula below, a, b, c and d are each 1
Represents the above integer.

【0020】[0020]

【化8】−(CH2)a− …(1)、 −CH(CH3)−(CH
2)a− …(2)、−(CH2)a−C(C25)(CH3)− …
(3)、 −C64− …(4)、−(CH2)a−C64−(CH
Cl)− …(5)、−CH(CH3)-C64-(CH2)a- …
(6)、−(CH2)a−S−(CH2)b- …(7)、 −(CH2)a
-S-C64- …(8)、−CH(CH3)−S−(CH2)a- …
(9)
[Of 8] - (CH 2) a - ... (1), -CH (CH 3) - (CH
2) a - ... (2) , - (CH 2) a -C (C 2 H 5) (CH 3) - ...
(3), -C 6 H 4 - ... (4), - (CH 2) a -C 6 H 4 - (CH
Cl) - ... (5), - CH (CH 3) -C 6 H 4 - (CH 2) a - ...
(6), - (CH 2 ) a -S- (CH 2) b - ... (7), - (CH 2) a
-S-C 6 H 4 - ... (8), - CH (CH 3) -S- (CH 2) a - ...
(9)

【0021】[0021]

【化9】 Embedded image

【0022】前記一般式(1)中、Rは、一価の炭化水
素基又は水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換
された一価の炭化水素基であり、好ましくは、アルキル
基、フェニル基、アリール基及びこれらの基の水素原子
の少なくとも一部がフッ素原子で置換された基からなる
群から選ばれる基が挙げられる。前記一般式(1)中、
R’は、前記一般式(2)で表される基又は前記Rを表
す。
In the above general formula (1), R is a monovalent hydrocarbon group or a monovalent hydrocarbon group in which at least a part of hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms, and preferably an alkyl group or phenyl. Examples thereof include a group, an aryl group, and a group selected from the group consisting of a group in which at least a part of hydrogen atoms of these groups are substituted with a fluorine atom. In the general formula (1),
R'represents the group represented by the general formula (2) or the R.

【0023】Rにおけるアルキル基としては、炭素数1
〜5程度のもの、アリール基としては炭素数6〜12程
度のものが好ましい。また、R及びR’は、それぞれ相
互に同一でも異なっていてもよい。すなわち、R及び
R’については、各々1ポリシロキサン分子中に同一の
基を含んでいてもよく、また異なった基を含んでいても
よい。更にRとR’が互いに同一でも異なっていてもよ
い。ただし、一般式(1)及び(2)の全Rのうち、少
なくとも1つは水素原子の少なくとも一部がフッ素原子
で置換された一価の炭化水素基である。1分子中におけ
るR全量に対して0.1〜99.9%、好ましくは15
〜70%がフッ素原子で置換された基であることが好ま
しい。
The alkyl group in R has 1 carbon atom.
It is preferable that the aryl group has about 5 to about 5 carbon atoms, and the aryl group has about 6 to 12 carbon atoms. R and R ′ may be the same or different from each other. That is, R and R'may each contain the same group in one polysiloxane molecule, or may contain different groups. Further, R and R'may be the same or different from each other. However, among all Rs in the general formulas (1) and (2), at least one is a monovalent hydrocarbon group in which at least a part of hydrogen atoms is substituted with a fluorine atom. 0.1 to 99.9%, preferably 15 with respect to the total amount of R in one molecule
It is preferable that ˜70% is a group substituted with a fluorine atom.

【0024】Rの具体例としては、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基等のアルキル
基;フェニル基;メチルフェニル基、エチルフェニル基
等のアリール基;または、これらの基の水素原子の少な
くとも一部がフッ素原子で置換された基が挙げられる。
Specific examples of R include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group,
an alkyl group such as a sec-butyl group or a tert-butyl group; a phenyl group; an aryl group such as a methylphenyl group or an ethylphenyl group; or a group in which at least a part of hydrogen atoms of these groups are substituted with a fluorine atom. Can be mentioned.

【0025】前記一般式(1)中、n(重合度)は10
以上の整数であり、好ましくは50〜5000、さらに
好ましくは100〜2000である。本発明の化粧料に
用いる前記フッ素化ポリシロキサンは、前記一般式
(3)で表される珪素化合物を加水分解重縮合させた
後、これに前記一般式(4)で表される珪素化合物及び
/又は前記一般式(5)で表される珪素化合物、もしく
は前記一般式(6)で表される珪素化合物を末端封鎖剤
として反応させることにより製造される。
In the general formula (1), n (degree of polymerization) is 10
It is an integer of the above or more, preferably 50 to 5000, and more preferably 100 to 2000. The fluorinated polysiloxane used in the cosmetic of the present invention is obtained by hydrolytically polycondensing the silicon compound represented by the general formula (3), and then adding the silicon compound represented by the general formula (4) and / Or the silicon compound represented by the general formula (5) or the silicon compound represented by the general formula (6) is reacted as an end-capping agent.

【0026】この製造方法においては、まず前記一般式
(3)で表される加水分解性基Xを有する珪素化合物
(以下、珪素化合物(3)という。)の一種又は二種類
以上に水を添加し、加水分解重縮合反応を行う。ここ
で、水の添加量は、反応の進行を制御するため、用いた
珪素化合物(3)の加水分解性基Xを加水分解させるの
に必要な理論量以下の量とするのが好ましい。また、こ
のとき、反応を均一に進行させるために有機溶媒を用い
ることが好ましい。前記加水分解重縮合反応の反応温度
は、特に制限はないが、0〜80℃が好ましい。この範
囲であれば、反応温度が低すぎて溶媒の凝固が起こった
り、高すぎて溶媒の極端な蒸発が起こったりして反応の
進行が不均一になるおそれが少ない。また、反応の進行
を促進するため、塩基及び/または酸を触媒として適宜
用いることが好ましい。その添加量は反応に用いる珪素
化合物(3)の5モル%以下が好ましい。
In this production method, first, a silicon compound having a hydrolyzable group X represented by the above general formula (3).
(Hereinafter, referred to as a silicon compound (3).) Water is added to one or more kinds of the compounds, and a hydrolysis polycondensation reaction is performed. Here, in order to control the progress of the reaction, the amount of water added is preferably an amount equal to or less than the theoretical amount necessary for hydrolyzing the hydrolyzable group X of the silicon compound (3) used. At this time, it is preferable to use an organic solvent in order to allow the reaction to proceed uniformly. The reaction temperature of the hydrolysis polycondensation reaction is not particularly limited, but is preferably 0 to 80 ° C. Within this range, it is less likely that the reaction temperature becomes too low and the solvent coagulates, or that the reaction temperature becomes too high and the solvent extremely evaporates and the reaction progresses unevenly. Further, in order to promote the progress of the reaction, it is preferable to appropriately use a base and / or an acid as a catalyst. The addition amount is preferably 5 mol% or less of the silicon compound (3) used in the reaction.

【0027】次に、一定時間重縮合反応を行った後、得
られた重縮合体の反応末端を封鎖して重縮合体を安定に
取り出すため、末端封鎖剤を添加する。末端封鎖剤とし
ては、以下の1〜4のうちのいずれかが採用される。
Next, after carrying out the polycondensation reaction for a certain period of time, an end-capping agent is added in order to block the reaction end of the obtained polycondensate and to stably take out the polycondensate. As the terminal blocking agent, any one of the following 1 to 4 is adopted.

【0028】1.前記一般式(4)の珪素化合物(以
下、珪素化合物(4)という。) 2.前記一般式(5)の珪素化合物(以下、珪素化合物
(5)という。) 3.珪素化合物(4)及び珪素化合物(5) 4.前記一般式(6)の珪素化合物(以下、珪素化合物
(6)という。)
1. Silicon compound represented by the general formula (4) (hereinafter referred to as silicon compound (4)) 1. 2. A silicon compound represented by the general formula (5) (hereinafter referred to as a silicon compound (5)). Silicon compound (4) and silicon compound (5) 4. The silicon compound represented by the general formula (6) (hereinafter referred to as the silicon compound (6)).

【0029】すなわち、前記加水分解重縮合反応によっ
て得られた重縮合体に、これらの末端封鎖剤を添加し
て、更に加水分解反応を行わせる。このとき、末端封鎖
剤の加水分解反応を促進して末端封鎖反応を進行し易く
するため、水及び適切な酸触媒を合わせて添加するのが
好ましい。水の添加量は特に限定されないが、添加した
末端封鎖剤を加水分解するのに必要な理論量以上の量を
添加することが好ましい。また酸触媒の添加量は末端封
鎖剤の2モル%以上が好ましい。また、この末端封鎖工
程は、反応を均一に進行させるため攪拌条件下で行う。
この反応時間は4〜20時間が好ましい。反応終了後は
重縮合体が相分離する場合はデカンテーションで、相分
離しない場合は溶媒留去、凍結乾燥などの方法によっ
て、目的物を取り出す。
That is, these end-capping agents are added to the polycondensate obtained by the above-mentioned hydrolysis polycondensation reaction to further carry out the hydrolysis reaction. At this time, it is preferable to add water and a suitable acid catalyst together in order to promote the hydrolysis reaction of the end-capping agent and facilitate the progress of the end-capping reaction. The amount of water added is not particularly limited, but it is preferable to add an amount of at least a theoretical amount necessary for hydrolyzing the added end-blocking agent. Further, the addition amount of the acid catalyst is preferably 2 mol% or more of the terminal blocking agent. In addition, this end-blocking step is performed under stirring conditions in order to allow the reaction to proceed uniformly.
The reaction time is preferably 4 to 20 hours. After completion of the reaction, the target product is taken out by decantation when the polycondensate is phase-separated, or when the phase separation is not carried out, by distilling off the solvent, freeze-drying or the like.

【0030】以上の工程で使用される材料について以下
に説明する。
Materials used in the above steps will be described below.

【0031】I.一般式(3)で表される珪素化合物
(3):前記一般式(3)中、Xは加水分解性の基であ
れば特に限定されないが、好ましくはアルコキシ基、ハ
ロゲン原子又はアルコキシアルコキシ基を挙げることが
できる。アルコキシ基としては、炭素数1〜5程度のも
のが好ましい。また、R及びQは前記一般式(1)にお
けるのと同義であり、Rは相互に同一であっても異なっ
ていてもよい。珪素化合物(3)は、公知の珪素化合物
を原料として公知の有機反応によって合成することがで
きる。例えば、アミノ基を有するアルコキシシランと酸
クロライド、酸無水物等の酸誘導体との反応;不飽和結
合を有する化合物へのハイドロジェンシランまたはメル
カプトシランの付加反応;アルコキシシラン化合物又は
クロロシラン化合物とグリニアール試薬又は有機リチウ
ム化合物との反応が挙げられる。これらの反応による珪
素化合物の合成を具体的に示すと以下の通りである。た
だし、以下の式中、R、Q、及びXは前述したものと同
義であり、A及びPは二価の有機基を表す。また、Rf
はフッ素で置換された一価の炭化水素基を表し、Zは臭
素原子又はヨウ素原子を表す。
I. Silicon compound (3) represented by the general formula (3): In the general formula (3), X is not particularly limited as long as it is a hydrolyzable group, and preferably an alkoxy group, a halogen atom or an alkoxyalkoxy group. Can be mentioned. The alkoxy group preferably has about 1 to 5 carbon atoms. Further, R and Q have the same meaning as in the general formula (1), and R may be the same as or different from each other. The silicon compound (3) can be synthesized by a known organic reaction using a known silicon compound as a raw material. For example, reaction of an alkoxysilane having an amino group with an acid derivative such as acid chloride or acid anhydride; addition reaction of hydrogensilane or mercaptosilane to a compound having an unsaturated bond; alkoxysilane compound or chlorosilane compound and Grignard reagent Alternatively, a reaction with an organic lithium compound can be mentioned. The synthesis of the silicon compound by these reactions is specifically shown as follows. However, in the following formulas, R, Q, and X have the same meanings as described above, and A and P represent a divalent organic group. Also, R f
Represents a monovalent hydrocarbon group substituted with fluorine, and Z represents a bromine atom or an iodine atom.

【0032】1.フッ素置換基を持たない場合 <1>アミノ基を有するシランと酸クロライド等の酸誘
導体との反応;
1. In case of not having fluorine substituent <1> Reaction of silane having amino group with acid derivative such as acid chloride;

【0033】[0033]

【化10】 Embedded image

【0034】<2>不飽和結合を有する化合物へのハイ
ドロジェンシランまたはメルカプトシランの付加反応;
<2> Addition reaction of hydrogensilane or mercaptosilane to a compound having an unsaturated bond;

【0035】[0035]

【化11】 ・2H−Si(R)X2 + CH2=CH-A-CH=CH2 → X2(R)Si-(CH2)2-A-(CH2)2-Si(R)X2 ・2HS-PSi(R)X2 + CH2=CH-A-CH=CH2 → X2(R)SiP-S-(CH2)2-A-(CH2)2-S-PSi(R)X2 Embedded image · 2H-Si (R) X 2 + CH 2 = CH-A-CH = CH 2 → X 2 (R) Si- (CH 2) 2 -A- (CH 2) 2 -Si (R ) X 2 .2HS-PSi (R) X 2 + CH 2 = CH-A-CH = CH 2 → X 2 (R) SiP-S- (CH 2 ) 2 -A- (CH 2 ) 2 -S- PSi (R) X 2

【0036】<3>シラン化合物とグリニアール試薬又
は有機リチウム化合物との反応;
<3> Reaction of silane compound with Grignard reagent or organolithium compound;

【0037】[0037]

【化12】 ・2Si(R)X3 + ZMgQMgZ → X2(R)SiQSi(R)X2 ・2Si(R)X3 + LiQLi → X2(R)SiQSi(R)X2 Embedded image 2Si (R) X 3 + ZMgQMgZ → X 2 (R) SiQSi (R) X 2 2Si (R) X 3 + LiQLi → X 2 (R) SiQSi (R) X 2

【0038】<4> <1>又は<2>と<3>との組
合せ;
<4><1> or a combination of <2> and <3>;

【0039】[0039]

【化13】 Embedded image

【0040】2.フッ素置換基を有する場合 <1>フルオロシラン化合物とグリニアール試薬又は有
機リチウム塩との反応;
2. In case of having fluorine substituent <1> Reaction of fluorosilane compound with Grignard reagent or organic lithium salt;

【0041】[0041]

【化14】 ・2Si(Rf)X3 + ZMgQMgZ → X2(Rf)SiQSi(Rf)X2 ・2Si(Rf)X3 + LiQLi → X2(Rf)SiQSi(Rf)X2 Embedded image 2Si (R f ) X 3 + ZMgQMgZ → X 2 (R f ) SiQSi (R f ) X 2 · 2Si (R f ) X 3 + LiQLi → X 2 (R f ) SiQSi (R f ). X 2

【0042】<2>前述の1(フッ素を持たない場合)
の<1>〜<3>によって合成したX 3SiQSiX3
グリニアール試薬又は有機リチウム塩との反応;
<2> The above 1 (when fluorine is not included)
X synthesized by <1> to <3> of ThreeSiQSiXThreeWhen
Reaction with Grignard reagents or organolithium salts;

【0043】[0043]

【化15】 ・X3SiQSiX3 + 2RfMgZ → X2(Rf)SiQSi(Rf)X2 ・X3SiQSiX3 + 2RfLi → X2(Rf)SiQSi(Rf)X2 Embedded image X 3 SiQSiX 3 + 2R f MgZ → X 2 (R f ) SiQSi (R f ) X 2 · X 3 SiQSiX 3 + 2R f Li → X 2 (R f ) SiQSi (R f ) X 2

【0044】II.一般式(4)で表される珪素化合物
(4):一般式(4)中、Rは前記一般式(1)におけ
るのと同義であり、一価の炭化水素基又は水素原子の一
部がフッ素原子で置換された一価の炭化水素基を表し、
好ましくは、アルキル基、フェニル基、アリール基及び
これらの基の水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で
置換された基が挙げられる。また、1分子中に同一のも
のを含んでもいてよく、異なったもの含んでいてもよ
い。Rの具体例としては、メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブ
チル基、tert−ブチル基等のアルキル基;フェニル
基;メチルフェニル基、エチルフェニル基等のアリール
基;または、これらの基の水素原子の少なくとも一部が
フッ素原子で置換された基が挙げられる。前記一般式
(4)中、Xは、一般式(3)におけるのと同様、加水
分解性の基であれば特に限定されないが、アルコキシ
基、ハロゲン原子又はアルコキシアルコキシ基を好まし
く挙げることができる。アルコキシ基としては、炭素数
1〜5程度のものが好ましい。
II. Silicon compound (4) represented by the general formula (4): In the general formula (4), R has the same meaning as in the general formula (1), and a monovalent hydrocarbon group or a part of the hydrogen atom is Represents a monovalent hydrocarbon group substituted with a fluorine atom,
Preferred are an alkyl group, a phenyl group, an aryl group, and a group in which at least a part of hydrogen atoms of these groups are substituted with a fluorine atom. The same molecule may be contained in one molecule, or different molecules may be contained in one molecule. Specific examples of R include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group; phenyl group; methylphenyl group, ethylphenyl group. Or an aryl group; or a group in which at least a part of hydrogen atoms of these groups are substituted with a fluorine atom. In the general formula (4), X is not particularly limited as long as it is a hydrolyzable group, as in the general formula (3), but an alkoxy group, a halogen atom or an alkoxyalkoxy group can be preferably mentioned. The alkoxy group preferably has about 1 to 5 carbon atoms.

【0045】このような珪素化合物(4)としては、具
体的には、トリメチルクロロシラン、トリエチルクロロ
シラン、tert−ブチルジメチルクロロシラン、フェ
ニルジメチルクロロシラン、トリメチルメトキシシラ
ン、トリメチルエトキシシラン等が挙げられる。また、
フッ素置換基を有する場合の具体例としては、(CF3
CH23Si(OCH3)、[CF3(CF222(C
3)SiCl、[CF3(CF25](CH32Si
(OC25)、[CF3(CF23(CH222(C2
5)SiCl、[CF3(CF27](C252Si
(OCH3)、[CF3(CF24](C252SiC
l等が挙げられ、該当するフルオロアルキル基を有する
グリニアール試薬又は有機リチウム塩と公知の珪素化合
物との反応、公知のフッ素置換基を有する珪素化合物と
グリニアール試薬又は有機リチウム塩との反応によって
得られる。すなわち、以下の反応式で示される通りであ
る。尚、以下の式中、Rf、Zは上と同義である。ま
た、R1、R2は各々炭化水素基を表す。
Specific examples of the silicon compound (4) include trimethylchlorosilane, triethylchlorosilane, tert-butyldimethylchlorosilane, phenyldimethylchlorosilane, trimethylmethoxysilane and trimethylethoxysilane. Also,
Specific examples in the case of having a fluorine substituent include (CF 3
CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ), [CF 3 (CF 2 ) 2 ] 2 (C
H 3) SiCl, [CF 3 (CF 2) 5] (CH 3) 2 Si
(OC 2 H 5 ), [CF 3 (CF 2 ) 3 (CH 2 ) 2 ] 2 (C 2
H 5) SiCl, [CF 3 (CF 2) 7] (C 2 H 5) 2 Si
(OCH 3), [CF 3 (CF 2) 4] (C 2 H 5) 2 SiC
1 and the like, and is obtained by a reaction of a Grignard reagent or organolithium salt having a corresponding fluoroalkyl group with a known silicon compound, or a reaction of a silicon compound having a known fluorine substituent with a Grignard reagent or an organolithium salt. . That is, it is as shown by the following reaction formula. In the formula below, R f and Z have the same meanings as above. R 1 and R 2 each represent a hydrocarbon group.

【0046】[0046]

【化16】 ・(R1)nSi(OR2)4-n+mRfMgZ →(Rf)m(R1)nSi(OR2)4-n-m+mMg(OR2)Z ・(R1)nSiCl4-n+mRfMgZ →(Rf)m(R1)nSiCl4-n-m+mMgClZ ・(R1)nSiCl4-n+mRfLi →(Rf)m(R1)nSiCl4-n-m+mLiCl ・(Rf)nSi(OR2)4-n+mR1MgZ →(R1)m(Rf)nSi(OR2)4-n-m+mMg(OR2)Z ・(Rf)nSiCl4-n+mR1MgZ →(R1)m(Rf)nSiCl4-n-m+mMgClZ ・(Rf)nSiCl4-n+mR1Li →(R1)m(Rf)nSiCl4-n-m+mLiClEmbedded image (R 1 ) n Si (OR 2 ) 4-n + mR f MgZ → (R f ) m (R 1 ) n Si (OR 2 ) 4-nm + mMg (OR 2 ) Z ・ (R 1 ) n SiCl 4-n + mR f MgZ → (R f ) m (R 1 ) n SiCl 4-nm + m MgClZ ・ (R 1 ) n SiCl 4-n + mR f Li → (R f ) m (R 1 ) n SiCl 4-nm + mLiCl · (R f ) n Si (OR 2 ) 4-n + mR 1 MgZ → (R 1 ) m (R f ) n Si (OR 2 ) 4-nm + mMg (OR 2 ) Z · (R f ) n SiCl 4-n + mR 1 MgZ → (R 1 ) m (R f ) n SiCl 4-nm + m MgClZ ・ (R f ) n SiCl 4-n + mR 1 Li → (R 1 ) m (R f ) n SiCl 4-nm + mLiCl

【0047】III.一般式(5)で表される珪素化合
物(5):前記一般式(5)中、Rは、一般式(4)に
おけるのと同義であり、1分子中に同一のものを含んで
いてもよく、異なったものを含んでいてもよい。このよ
うな珪素化合物としては、具体的には、ヘキサメチルジ
シロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサプロピ
ルジシロキサン、ヘキサフェニルジシロキサン等が挙げ
られる。
III. Silicon compound (5) represented by the general formula (5): In the general formula (5), R has the same meaning as in the general formula (4), and R may be the same in one molecule. Well, it may contain different things. Specific examples of such silicon compounds include hexamethyldisiloxane, hexaethyldisiloxane, hexapropyldisiloxane, and hexaphenyldisiloxane.

【0048】IV.一般式(6)で表される珪素化合物
(6):前記一般式(6)中、R及びQは前記一般式
(1)及び(3)におけるのと同義であり、また各々1
分子中に同一のものを含んでいてもよく、異なったもの
を含んでいてもよい。Xは一般式(3)におけるのと同
義である。このような珪素化合物(6)は、前記珪素化
合物(3)と同様に、公知の珪素化合物を原料として公
知の有機反応によって合成することができる。例えば、
アミノ基を有するアルコキシシラン等と酸クロライド、
酸無水物等の酸誘導体との反応;不飽和結合を有する化
合物へのハイドロジェンシランまたはメルカプトシラン
の付加反応;アルコキシシラン化合物又はクロロシラン
化合物とグリニアール試薬又は有機リチウム化合物との
反応が挙げられる。これらの反応による珪素化合物の合
成を具体的に示すと以下の通りである。ただし、以下の
式中、R、Rf、Q、X、A、P、Zは前述したものと
同義である。
IV. Silicon compound (6) represented by the general formula (6): In the general formula (6), R and Q have the same meanings as in the general formulas (1) and (3), and each is 1
The same molecule may be contained in the molecule, or different molecules may be contained in the molecule. X has the same meaning as in formula (3). Such a silicon compound (6) can be synthesized by a known organic reaction using a known silicon compound as a raw material, similarly to the above silicon compound (3). For example,
Alkoxysilane etc. having amino group and acid chloride,
Examples thereof include a reaction with an acid derivative such as an acid anhydride; an addition reaction of hydrogensilane or mercaptosilane to a compound having an unsaturated bond; a reaction between an alkoxysilane compound or a chlorosilane compound and a Grignard reagent or an organolithium compound. The synthesis of the silicon compound by these reactions is specifically shown as follows. However, in the following formulas, R, R f , Q, X, A, P, and Z have the same meanings as described above.

【0049】1.フッ素置換基を持たない場合 <1>アミノ基を有するシランと酸クロライド等の酸誘
導体との反応;
1. In case of not having fluorine substituent <1> Reaction of silane having amino group with acid derivative such as acid chloride;

【0050】[0050]

【化17】 Embedded image

【0051】<2>不飽和結合を有する化合物へのハイ
ドロジェンシランまたはメルカプトシランの付加反応;
<2> Addition reaction of hydrogensilane or mercaptosilane to a compound having an unsaturated bond;

【0052】[0052]

【化18】 ・2H−Si(R)2X + CH2=CH-A-CH=CH2 → X(R)2Si(CH2)2-A-(CH2)2Si(R)2X ・2HS-PSi(R)2X + CH2=CH-A-CH=CH2 → X(R)2SiP-S-(CH2)2-A-(CH2)2-S-PSi(R)2Embedded image 2H-Si (R) 2 X + CH 2 = CH-A-CH = CH 2 → X (R) 2 Si (CH 2 ) 2 -A- (CH 2 ) 2 Si (R) 2 X 2HS-PSi (R) 2 X + CH 2 = CH-A-CH = CH 2 → X (R) 2 SiP-S- (CH 2 ) 2 -A- (CH 2 ) 2- S-PSi ( R) 2 X

【0053】<3>シラン化合物とグリニアール試薬又
は有機リチウム化合物との反応;
<3> Reaction of silane compound with Grignard reagent or organolithium compound;

【0054】[0054]

【化19】 ・2Si(R)22 + ZMgQMgZ → X(R)2SiQSi(R)2X ・2Si(R)22 + LiQLi → X(R)2SiQSi(R)22Si (R) 2 X 2 + ZMgQMgZ → X (R) 2 SiQSi (R) 2 X 2Si (R) 2 X 2 + LiQLi → X (R) 2 SiQSi (R) 2 X

【0055】<4>珪素化合物(3)とグリニアール試
薬又は有機リチウム化合物との反応;
<4> Reaction of silicon compound (3) with Grignard reagent or organolithium compound;

【0056】[0056]

【化20】 ・X2(R)SiQSi(R)X2 + 2RMgZ → X(R)2SiQSi(R)2X ・X2(R)SiQSi(R)X2 + 2RLi → X(R)2SiQSi(R)2Embedded image X 2 (R) SiQSi (R) X 2 + 2RMgZ → X (R) 2 SiQSi (R) 2 X ・ X 2 (R) SiQSi (R) X 2 + 2RLi → X (R) 2 SiQSi (R) 2 X

【0057】2.フッ素置換基を有する場合 <1>前記1(フッ素置換基を持たない場合)の<1>
〜<3>によって合成したX3SiQSiX3とグリニア
ール試薬又は有機リチウム塩との反応;
2. When it has a fluorine substituent <1><1> in 1 above (when it has no fluorine substituent)
Reaction with synthesized X 3 SiQSiX 3 and Grignard reagent or organic lithium salt by ~ <3>;

【0058】[0058]

【化21】 ・X3SiQSiX3 + 4RfMgZ → X(Rf)2SiQSi(Rf)2X ・X3SiQSiX3 + 4RfLi → X(Rf)2SiQSi(Rf)2Embedded image X 3 SiQSiX 3 + 4R f MgZ → X (R f ) 2 SiQSi (R f ) 2 X ・ X 3 SiQSiX 3 + 4R f Li → X (R f ) 2 SiQSi (R f ) 2 X

【0059】<2>珪素化合物(3)とグリニアール試
薬又は有機リチウム塩との反応;
<2> Reaction of silicon compound (3) with Grignard reagent or organic lithium salt;

【0060】[0060]

【化22】 ・X2(R)SiQSi(R)X2 + 2RfMgZ → X(Rf)(R)SiQSi(Rf)(R)X ・X2(R)SiQSi(R)X2 + 2RfLi → X(Rf)(R)SiQSi(Rf)(R)XEmbedded image X 2 (R) SiQSi (R) X 2 + 2R f MgZ → X (R f ) (R) SiQSi (R f ) (R) X · X 2 (R) SiQSi (R) X 2 + 2R f Li → X (R f ) (R) SiQSi (R f ) (R) X

【0061】V.加水分解重縮合反応に用いる溶媒:珪
素化合物(3)、水、触媒などを溶解することができる
ものであれば特に限定されないが、具体的にはメチルア
ルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール
等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセ
ロソルブ類;テトラヒドロフラン;ジメチルスルフォキ
シド等が挙げられる。
V. Solvent used for hydrolysis polycondensation reaction: not particularly limited as long as it can dissolve the silicon compound (3), water, catalyst, etc., but specifically, alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, etc. Ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; tetrahydrofuran; dimethyl sulfoxide and the like.

【0062】VI.加水分解重縮合反応に用いる塩基及
び/又は酸触媒:前記加水分解重縮合反応に用いる塩基
及び/又は酸触媒としては、通常の加水分解反応に用い
られるものであれば特に制限されないが、具体的には塩
酸、硝酸等の無機酸;酢酸、クエン酸等の有機酸;水酸
化ナトリウム、水酸化アンモニウム等の無機塩基;アミ
ン、モルフォリン等の有機塩基;3−アミノアルコキシ
シランのような塩基性基含有シラン等が挙げられる。
VI. Base and / or acid catalyst used in hydrolysis polycondensation reaction: The base and / or acid catalyst used in the hydrolysis polycondensation reaction is not particularly limited as long as it is used in a usual hydrolysis reaction, Include inorganic acids such as hydrochloric acid and nitric acid; organic acids such as acetic acid and citric acid; inorganic bases such as sodium hydroxide and ammonium hydroxide; organic bases such as amine and morpholine; basic such as 3-aminoalkoxysilane Examples include group-containing silanes.

【0063】VII.末端封鎖反応に用いる酸触媒:前
記末端封鎖反応に用いる酸触媒としては、通常の加水分
解反応に用いられるものであれば特に制限されないが、
具体的には塩酸、硝酸等の無機酸;酢酸、クエン酸等の
有機酸;等が挙げられる。
VII. Acid catalyst used for end-capping reaction: The acid catalyst used for the end-capping reaction is not particularly limited as long as it is used in a usual hydrolysis reaction,
Specific examples thereof include inorganic acids such as hydrochloric acid and nitric acid; organic acids such as acetic acid and citric acid;

【0064】(2)本発明の化粧料 本発明の化粧料は、上記の如く得られた一般式(1)に
表されるフッ素化ポリシロキサンを必須成分として含有
するものである。化粧料としては、化粧水、乳液、クリ
ーム等の基礎化粧料、ファンデーション、アンダーメー
クアップ、口紅、頬紅、マスカラ、アイライナー、アイ
カラー等のメークアップ化粧料、ネイルエナメル、ネイ
ルコート、リムーバー等の美爪料、ヘアローション、ヘ
アリキッド、ヘアスプレー等の頭髪化粧料、シャンプ
ー、リンス、洗顔料、石鹸などの洗浄料、バスエッセン
スやバスソルト等の浴用剤などが挙げられる。これら化
粧料における上記一般式(1)に表されるフッ素化ポリ
シロキサンの好ましい含有量は、化粧料全量に対して
0.1〜20重量%であり、更に好ましくは0.1〜1
0重量%である。
(2) Cosmetic of the present invention The cosmetic of the present invention contains the fluorinated polysiloxane represented by the general formula (1) obtained as described above as an essential component. As cosmetics, basic cosmetics such as lotion, milky lotion, cream, foundation, undermake-up, lipstick, blusher, mascara, eyeliner, eye color and other makeup cosmetics, nail enamel, nail coat, remover, etc. Examples thereof include cosmetics for hair, hair lotions, hair liquids, hair cosmetics such as hair sprays, shampoos, rinses, facial cleansers, cleaning agents such as soaps, and bath agents such as bath essences and bath salts. The content of the fluorinated polysiloxane represented by the general formula (1) in these cosmetics is preferably 0.1 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 1% by weight based on the total amount of the cosmetic.
0% by weight.

【0065】本発明の化粧料には、前記フッ素化ポリシ
ロキサン以外に、通常化粧料で用いられる任意成分を含
有させることができる。このような任意成分としては、
例えば、ワセリンやスクワラン等の炭化水素類、ホホバ
油やゲイロウ等のエステル類、牛脂、オリーブ油等のト
リグリセライド類、ステアリン酸、オレイン酸等の脂肪
酸、セタノール、オレイルアルコール等の高級アルコー
ル類、非イオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチ
オン界面活性剤、両性界面活性剤、多価アルコール類、
水溶性高分子、エタノール、防腐剤、紫外線吸収剤、抗
酸化剤、各種ビタミン、薬効成分、香料類、着色剤、粉
体類等が挙げられる。これらは常法に従って化粧料へと
剤形化することができる。
The cosmetic of the present invention may contain optional components usually used in cosmetics, in addition to the fluorinated polysiloxane. Such optional components include
For example, hydrocarbons such as petrolatum and squalane, esters such as jojoba oil and gayleu, triglycerides such as beef tallow and olive oil, fatty acids such as stearic acid and oleic acid, higher alcohols such as cetanol and oleyl alcohol, nonionic interfaces. Activator, anionic surfactant, cationic surfactant, amphoteric surfactant, polyhydric alcohols,
Examples include water-soluble polymers, ethanol, preservatives, ultraviolet absorbers, antioxidants, various vitamins, medicinal ingredients, fragrances, colorants, powders and the like. These can be formulated into cosmetics according to a conventional method.

【0066】[0066]

【実施例】以下に、本発明の実施例を説明する。Embodiments of the present invention will be described below.

【0067】[0067]

【製造例1】 <珪素化合物(3)の製造>耐圧ビン型の反応容器に
1,3−ブタジエン5.4g、モノハイドロジェンメチ
ルジクロロシラン23.0gを採り混合した。次に塩化
白金酸H2PtCl6・6H2Oをテトラヒドロフラン中
で加熱し、白金0.2ミリモルに相当するこの溶液を前
述の混合溶液に添加した後、反応容器を80℃で4時間
加熱した。ろ過、分留を行って、テトラヒドロフラン及
び塩化白金酸を除去して目的化合物を得た。IR、1
−NMR、13C−NMR、及び29Si−NMRスペクト
ル測定を行ったところ、下記式(1a)で表される目的
化合物が単離されていることが確認された。
Production Example 1 <Production of Silicon Compound (3)> 5.4 g of 1,3-butadiene and 23.0 g of monohydrogenmethyldichlorosilane were taken and mixed in a pressure-resistant bottle-type reaction vessel. Then, chloroplatinic acid H 2 PtCl 6 .6H 2 O was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.2 mmol of platinum was added to the above mixed solution, and then the reaction vessel was heated at 80 ° C. for 4 hours. . Filtration and fractional distillation were performed to remove tetrahydrofuran and chloroplatinic acid to obtain the target compound. IR, 1 H
-NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, and it was confirmed that the target compound represented by the following formula (1a) was isolated.

【0068】[0068]

【化23】 Embedded image

【0069】[0069]

【製造例2】 <珪素化合物(3)の製造>耐圧ビン型の反応容器に
1,3−ブタジエン5.4g、モノハイドロジェントリ
クロロシラン27.1gを採り混合した。次に塩化白金
酸H2PtCl6・6H 2Oをテトラヒドロフラン中で加
熱し、白金0.2ミリモルに相当するこの溶液を前述の
混合溶液に添加した後、反応容器を80℃で4時間加熱
した。ろ過、分留を行って、テトラヒドロフラン及び塩
化白金酸を除去して透明液体を得た。充分乾燥を行った
還流冷却器、攪拌装置及びガス導入管付き三つ口フラス
コに金属マグネシウム5.8gを採り、乾燥窒素ガスで
充分置換を行なった。さらに、この反応容器に金属ナト
リウムと蒸留によって生成脱水したテトラヒドロフラン
200mlを採り、攪拌混合した。
[Production Example 2] <Production of silicon compound (3)> In a pressure bottle type reaction vessel
1,3-Butadiene 5.4g, Monohydrogentri
27.1 g of chlorosilane was taken and mixed. Then platinum chloride
Acid HTwoPtCl6・ 6H TwoAdd O in tetrahydrofuran
Heat and add this solution corresponding to 0.2 mmol platinum to
After adding to the mixed solution, heat the reaction vessel at 80 ° C for 4 hours.
did. After filtration and fractional distillation, tetrahydrofuran and salt
The platinized acid was removed to obtain a transparent liquid. Fully dried
Three-necked frass with reflux condenser, stirrer and gas inlet tube
Take 5.8g of magnesium metal and use dry nitrogen gas.
Substantially replaced. Furthermore, metal nato is placed in this reaction vessel.
Tetrahydrofuran produced by distillation with lithium
200 ml was taken and mixed by stirring.

【0070】攪拌を続けながら、この溶液に、前述のテ
トラヒドロフラン200mlに2,2,2,−トリフル
オロエチルヨーダイド42.0gを溶解した溶液を滴下
した。さらに、氷冷下で、前述のテトラヒドロフラン2
00mlに上記で得た透明液体32.5gを溶解した溶
液を滴下した。滴下終了後、テトラヒドロフランの沸点
で還流を24時間行って反応を完結させた。尚、全ての
操作は乾燥窒素ガス気流下で行った。生成した沈殿をろ
別後、分留を行って目的化合物を得た。IR、 1H−N
MR、13C−NMR、及び29Si−NMRスペクトル測
定を行ったところ、下記式(2a)で表される目的化合
物が単離されていることが確認された。
While continuing stirring, add to the above solution the above-mentioned solution.
2,2,2-trifru in 200 ml of trahydrofuran
A solution of 42.0 g of oroethyl iodide was added dropwise.
did. Further, under ice cooling, the above-mentioned tetrahydrofuran 2
A solution prepared by dissolving 32.5 g of the transparent liquid obtained above in 00 ml.
The solution was added dropwise. Boiling point of tetrahydrofuran after completion of dropping
The mixture was refluxed for 24 hours to complete the reaction. In addition, all
The operation was performed under a stream of dry nitrogen gas. The generated precipitate is filtered
After separation, fractional distillation was performed to obtain the target compound. IR, 1H-N
MR,13C-NMR, and29Si-NMR spectrum measurement
The target compound represented by the following formula (2a)
It was confirmed that the product was isolated.

【0071】[0071]

【化24】 Embedded image

【0072】[0072]

【製造例3】 <珪素化合物(3)の製造>還流冷却器、攪拌装置及び
ガス導入管付き三つ口フラスコに、ビニルトリメトキシ
シラン29.6g、3−メルカプトトリメトキシシラン
39.3g、ベンゼン400mlを採り、攪拌混合し
た。さらにこの溶液に、アゾビスイソブチロニトリル
0.2gをベンゼン100mlに溶解した溶液を添加
し、攪拌混合した。攪拌を続けながら、室温で乾燥窒素
ガスによるバブリングを1時間行った後、加熱してベン
ゼンの沸点で24時間還流を行って反応を完結させた。
ロータリーエバポレーターでベンゼンを除去して透明液
体を得た。充分に乾燥を行った還流冷却器、攪拌装置及
びガス導入管付き三つ口フラスコに、上記の透明液体6
8.9g、金属ナトリウムによる還流と蒸留によって脱
水精製したジエチルエーテル400mlを採り、乾燥窒
素ガスで充分置換を行った。冷却攪拌を続けながら、こ
の溶液にエチルマグネシウムブロミド53.3gを前述
のジエチルエーテル200mlに溶解した溶液を滴下し
た。滴下終了後、室温で20時間攪拌を続け、反応を完
結させた。全ての操作は乾燥窒素ガス気流下で行った。
生成した沈殿を除去後、さらに分留を行って目的化合物
を得た。IR、1H−NMR、13C−NMR、29Si−
NMRスペクトル測定を行ったところ、下記式(3a)
で表される目的化合物が単離されていることが確認され
た。
[Production Example 3] <Production of silicon compound (3)> In a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer and a gas introduction tube, 29.6 g of vinyltrimethoxysilane, 39.3 g of 3-mercaptotrimethoxysilane and benzene were added. 400 ml was taken and mixed by stirring. Further, to this solution, a solution prepared by dissolving 0.2 g of azobisisobutyronitrile in 100 ml of benzene was added and mixed with stirring. After bubbling with dry nitrogen gas at room temperature for 1 hour while continuing stirring, the mixture was heated to reflux at the boiling point of benzene for 24 hours to complete the reaction.
Benzene was removed by a rotary evaporator to obtain a transparent liquid. In a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer, and a gas introduction tube, which had been sufficiently dried,
8.9 g and 400 ml of diethyl ether dehydrated and refined by refluxing with sodium metal and distillation were taken and sufficiently replaced with dry nitrogen gas. While continuing cooling and stirring, a solution prepared by dissolving 53.3 g of ethylmagnesium bromide in 200 ml of the above-mentioned diethyl ether was added dropwise to this solution. After completion of the dropping, stirring was continued at room temperature for 20 hours to complete the reaction. All operations were performed under a stream of dry nitrogen gas.
After removing the generated precipitate, fractional distillation was further performed to obtain the target compound. IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, 29 Si-
When the NMR spectrum was measured, the following formula (3a)
It was confirmed that the target compound represented by was isolated.

【0073】[0073]

【化25】 Embedded image

【0074】[0074]

【製造例4】 <珪素化合物(3)の製造>還流冷却器、攪拌装置及び
ガス導入管付き三つ口フラスコに、ビニルトリメトキシ
シラン29.6g、3−メルカプトトリメトキシシラン
39.3g、ベンゼン400mlを採り攪拌混合した。
さらにこの溶液に、アゾビスイソブチロニトリル0.2
gをベンゼン100mlに溶解した溶液を添加し、攪拌
混合した。攪拌を続けながら、室温で乾燥窒素ガスによ
るバブリングを1時間行った後、加熱してベンゼンの沸
点で24時間還流を行って反応を完結させた。ロータリ
ーエバポレーターでベンゼンを除去して透明液体を得
た。充分乾燥を行った還流冷却器、攪拌装置及びガス導
入管付き三つ口フラスコに金属マグネシウム5.3g及
びヨウ素0.05gを採り、乾燥窒素ガスで充分置換を
行う。さらに、この反応容器に、金属ナトリウムと蒸留
によって生成脱水したジエチルエーテル500mlにパ
ーフルオロブチルヨーダイド69.2g及び上記で得た
透明液体34.5gを溶解した溶液を滴下した。滴下終
了後、攪拌を続けながら室温で2時間放置し反応を完結
させた。尚、全ての操作は乾燥窒素ガス気流下で行っ
た。生成した沈殿をろ別後分留を行って目的化合物を得
た。IR、1H−NMR、13C−NMR、29Si−NM
Rスペクトル測定を行ったところ、下記式(4a)で表
される目的化合物が単離されていることが確認された。
[Production Example 4] <Production of silicon compound (3)> In a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer and a gas introduction tube, 29.6 g of vinyltrimethoxysilane, 39.3 g of 3-mercaptotrimethoxysilane and benzene were added. 400 ml was taken and mixed by stirring.
Furthermore, to this solution, azobisisobutyronitrile 0.2
A solution prepared by dissolving g in 100 ml of benzene was added and mixed with stirring. After bubbling with dry nitrogen gas at room temperature for 1 hour while continuing stirring, the mixture was heated to reflux at the boiling point of benzene for 24 hours to complete the reaction. Benzene was removed by a rotary evaporator to obtain a transparent liquid. 5.3 g of magnesium metal and 0.05 g of iodine are put into a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer and a gas introduction tube, which has been sufficiently dried, and the nitrogen gas is sufficiently replaced with dry nitrogen gas. Furthermore, to this reaction vessel, a solution prepared by dissolving 69.2 g of perfluorobutyl iodide and 34.5 g of the transparent liquid obtained above in 500 ml of diethyl ether produced by dehydration and dehydrated by metallic sodium was added dropwise. After completion of the dropping, the reaction was completed by leaving it for 2 hours at room temperature while continuing stirring. All the operations were performed under a dry nitrogen gas stream. The formed precipitate was separated by filtration and fractionated to obtain the target compound. IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, 29 Si-NM
When the R spectrum was measured, it was confirmed that the target compound represented by the following formula (4a) was isolated.

【0075】[0075]

【化26】 Embedded image

【0076】[0076]

【製造例5】 <珪素化合物(3)の製造>充分に乾燥を行った還流冷
却器、攪拌装置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金
属マグネシウム7.3g、フェニルトリメトキシシラン
198.3g、ヨウ素0.3g、金属ナトリウムによる
還流と蒸留によって脱水精製したテトラヒドロフラン3
00mlを採り、乾燥窒素ガスで充分置換を行ないなが
ら攪拌混合した。攪拌を続けながら、テトラヒドロフラ
ンの沸点での還流条件下、この溶液に1,4−ジブロモ
ベンゼン23.6gを前述のテトラヒドロフラン100
mlに溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、還流を2
4時間続け、反応を完結させた。全ての操作は乾燥窒素
ガス気流下で行った。生成した沈殿を除去後、さらに分
留を行って目的化合物を得た。IR、1H−NMR、13
C−NMR、29Si−NMRスペクトル測定を行ったと
ころ、下記式(5a)で表される目的化合物が単離され
ていることが確認された。
Production Example 5 <Production of Silicon Compound (3)> 7.3 g of metal magnesium, 198.3 g of phenyltrimethoxysilane, in a sufficiently dried three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer and a gas introduction tube. Tetrahydrofuran 3 dehydrated and purified by 0.3 g of iodine, reflux with sodium metal and distillation
00 ml was taken and stirred and mixed while sufficiently substituting with dry nitrogen gas. While continuing to stir, 23.6 g of 1,4-dibromobenzene was added to this solution under reflux conditions at the boiling point of tetrahydrofuran to obtain 100 parts of tetrahydrofuran as described above.
The solution dissolved in ml was added dropwise. Reflux for 2 after the dropping.
The reaction was completed for 4 hours. All operations were performed under a stream of dry nitrogen gas. After removing the generated precipitate, fractional distillation was further performed to obtain the target compound. IR, 1 H-NMR, 13
When C-NMR and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the target compound represented by the following formula (5a) was isolated.

【0077】[0077]

【化27】 Embedded image

【0078】[0078]

【製造例6】 <珪素化合物(3)の製造>充分に乾燥を行った還流冷
却器、攪拌装置及びガス導入管付き三つ口フラスコに、
金属マグネシウム0.7g、1H,1H,2H,2H−
ノナフルオロヘキシルトリメトキシシラン29.4g、
ヨウ素0.01g、金属ナトリウムによる還流と蒸留に
よって脱水精製したテトラヒドロフラン100mlを採
り、乾燥窒素ガスで充分置換を行ないながら攪拌混合し
た。攪拌を続けながら、テトラヒドロフランの沸点での
還流条件下、この溶液に1,4−ジブロモベンゼン2.
4gを前述のテトラヒドロフラン50mlに溶解した溶
液を滴下した。滴下終了後、還流を24時間続け、反応
を完結させた。全ての操作は乾燥窒素ガス気流下で行っ
た。生成した沈殿を除去後、さらに分留を行って目的化
合物を得た。IR、1H−NMR、13C−NMR、29
i−NMRスペクトル測定を行ったところ、下記下記式
(6a)で表される目的化合物が単離されていることが
確認された。
Production Example 6 <Production of Silicon Compound (3)> A three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer and a gas introduction tube, which was sufficiently dried,
Metallic magnesium 0.7 g, 1H, 1H, 2H, 2H-
29.4 g of nonafluorohexyltrimethoxysilane,
Iodine (0.01 g) and tetrahydrofuran (100 ml) dehydrated and refined by refluxing with sodium metal and distillation were taken and stirred and mixed while sufficiently substituting dry nitrogen gas. While continuing stirring, 1,4-dibromobenzene 2. was added to this solution under reflux conditions at the boiling point of tetrahydrofuran.
A solution of 4 g dissolved in 50 ml of the above-mentioned tetrahydrofuran was added dropwise. After completion of the dropping, reflux was continued for 24 hours to complete the reaction. All operations were performed under a stream of dry nitrogen gas. After removing the generated precipitate, fractional distillation was further performed to obtain the target compound. IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, 29 S
When the i-NMR spectrum was measured, it was confirmed that the target compound represented by the following formula (6a) was isolated.

【0079】[0079]

【化28】 Embedded image

【0080】[0080]

【製造例7】 <珪素化合物(3)の製造>耐圧ビン型の反応容器にパ
ラジビニルベンゼン26.0g、モノハイドロジェンメ
チルジエトキシシラン53.6gを採り混合した。次に
塩化白金酸H2PtCl6・6H2Oをテトラヒドロフラ
ン中で加熱し、白金0.2ミリモルに相当するこの溶液
を前述の混合溶液に添加した後、反応容器を80℃で4
時間加熱した。ろ過、分留を行って、テトラヒドロフラ
ン及び塩化白金酸を除去して目的化合物を得た。IR、
1H−NMR、13C−NMR、29Si−NMRスペクト
ル測定を行ったところ、下記式(7a)で表される目的
化合物が単離されていることが確認された。
Production Example 7 <Production of Silicon Compound (3)> Paradivinylbenzene 26.0 g and monohydrogenmethyldiethoxysilane 53.6 g were taken and mixed in a pressure resistant bottle type reaction vessel. Next, chloroplatinic acid H 2 PtCl 6 .6H 2 O was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.2 mmol of platinum was added to the above mixed solution.
Heated for hours. Filtration and fractional distillation were performed to remove tetrahydrofuran and chloroplatinic acid to obtain the target compound. IR,
When 1 H-NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the target compound represented by the following formula (7a) was isolated.

【0081】[0081]

【化29】 Embedded image

【0082】[0082]

【製造例8】 <珪素化合物(3)の製造>耐圧ビン型の反応容器にパ
ラジビニルベンゼン26.0g、モノハイドロジェント
リエトキシシラン65.7gを採り混合した。次に塩化
白金酸H2PtCl6・6H2Oをテトラヒドロフラン中
で加熱し、白金0.2ミリモルに相当するこの溶液を前
述の混合溶液に添加した後、反応容器を80℃で4時間
加熱した。ろ過、分留を行って、テトラヒドロフラン及
び塩化白金酸を除去して透明液体を得た。充分乾燥を行
った還流冷却器、攪拌装置及びガス導入管付き三つ口フ
ラスコに金属マグネシウム3.0gを採り、乾燥窒素ガ
スで充分置換を行なった。さらに、この反応容器に金属
ナトリウムと蒸留によって生成脱水したテトラヒドロフ
ラン200mlを採り攪拌混合した。攪拌を続けなが
ら、この溶液に、前述のテトラヒドロフラン400ml
にパーフルオロヘキシルヨーダイド44.6gを溶解し
た溶液を滴下した。さらに、氷冷下で、前述のテトラヒ
ドロフラン100mlに上記で得た透明液体22.9g
を溶解した溶液を滴下した。
[Production Example 8] <Production of Silicon Compound (3)> Paradivinylbenzene 26.0 g and monohydrogentriethoxysilane 65.7 g were placed in a pressure bottle type reaction vessel and mixed. Then, chloroplatinic acid H 2 PtCl 6 .6H 2 O was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.2 mmol of platinum was added to the above mixed solution, and then the reaction vessel was heated at 80 ° C. for 4 hours. . Filtration and fractional distillation were performed to remove tetrahydrofuran and chloroplatinic acid to obtain a transparent liquid. 3.0 g of metallic magnesium was placed in a three-neck flask equipped with a reflux condenser, a stirrer, and a gas introduction tube, which was sufficiently dried, and was sufficiently replaced with dry nitrogen gas. Further, 200 ml of tetrahydrofuran produced and dehydrated by distillation with sodium metal was placed in this reaction vessel and mixed with stirring. While continuing to stir, add 400 ml of the above-mentioned tetrahydrofuran to this solution.
A solution having 44.6 g of perfluorohexyl iodide dissolved therein was added dropwise. Further, under ice cooling, 22.9 g of the transparent liquid obtained above in 100 ml of the above-mentioned tetrahydrofuran.
Was added dropwise.

【0083】滴下終了後、テトラヒドロフランの沸点で
還流を24時間行って反応を完結させた。尚、全ての操
作は乾燥窒素ガス気流下で行った。生成した沈殿をろ別
後分留を行って目的化合物を得た。 IR、1H−NM
R、13C−NMR、29Si−NMRスペクトル測定を行
ったところ、下記式(8a)で表される目的化合物が単
離されていることが確認された。
After completion of the dropwise addition, reflux was carried out for 24 hours at the boiling point of tetrahydrofuran to complete the reaction. All the operations were performed under a dry nitrogen gas stream. The formed precipitate was separated by filtration and fractionated to obtain the target compound. IR, 1 H-NM
When R, 13 C-NMR and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the target compound represented by the following formula (8a) was isolated.

【0084】[0084]

【化30】 Embedded image

【0085】[0085]

【製造例9】 <珪素化合物(3)の製造>還流冷却器、攪拌装置及び
ガス導入管付き三つ口フラスコに3−アミノプロピルメ
チルジエトキシシラン153.0g、、テトラヒドロフ
ラン700ml、トリエチルアミン300mlを採り、
氷冷しつつ攪拌混合した。さらに氷冷攪拌を続けながら
この溶液に、アジピン酸クロライド73.2gをテトラ
ヒドロフラン300mlに溶解した溶液を滴下した。滴
下終了後さらに1時間攪拌を続けた。生成した白色沈殿
をろ別した後、ロータリーエバポレーターでベンゼン、
トリエチルアミンを除去して目的化合物を得た。IR、
1H−NMR、13C−NMR、2 9Si−NMRスペクト
ル測定を行ったところ、下記式(9a)で表される目的
化合物が単離されていることが確認された。
[Production Example 9] <Production of silicon compound (3)> 153.0 g of 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 700 ml of tetrahydrofuran, and 300 ml of triethylamine were placed in a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer, and a gas introduction tube. ,
The mixture was stirred and mixed while cooling with ice. Further, a solution prepared by dissolving 73.2 g of adipic acid chloride in 300 ml of tetrahydrofuran was added dropwise to this solution while continuing stirring with ice cooling. After the dropping was completed, stirring was continued for another hour. After filtering off the generated white precipitate, benzene, and
Triethylamine was removed to obtain the target compound. IR,
1 H-NMR, 13 was subjected to C-NMR, 2 9 Si- NMR spectrum measurement, it was confirmed that the target compound represented by the following formula (9a) has been isolated.

【0086】[0086]

【化31】 Embedded image

【0087】[0087]

【製造例10】 <珪素化合物(3)の製造>耐圧ビン型の反応容器にテ
レフタル酸ジアリル123.0g、モノハイドロジェン
トリメトキシシラン122.2gを採り混合した。次に
塩化白金酸H2PtCl6・6H2Oをテトラヒドロフラ
ン中で加熱し、白金0.2ミリモルに相当するこの溶液
を前述の混合溶液に添加した後、反応容器を80℃で4
時間加熱した。ろ過、分留を行って、テトラヒドロフラ
ン及び塩化白金酸を除去して透明液体を得た。乾燥窒素
ガスで充分置換を行った還流冷却器、攪拌装置及びガス
導入管付き三つ口フラスコに、1H,1H,2H,2H
−ノナフルオロヘキシルリチウム50.8g及び金属ナ
トリウムによる還流と蒸留とによって脱水精製したジエ
チルエーテル400mlを採り、攪拌混合した。攪拌を
続けながら、この溶液に前述のジエチルエーテル100
mlに上記で調製した透明液体49.1gを溶解した溶
液を滴下した。滴下終了後、さらに2時間攪拌を続けた
後、還流を8時間行って反応を完結させた。生成した沈
殿をろ別後、分留を行って目的化合物を得た。IR、1
H−NMR、13C−NMR、29Si−NMRスペクトル
測定を行ったところ、下記式(10a)で表される目的
化合物が単離されていることが確認された。
Production Example 10 <Production of Silicon Compound (3)> 123.0 g of diallyl terephthalate and 122.2 g of monohydrogentrimethoxysilane were placed in a pressure-resistant bottle-type reaction vessel and mixed. Next, chloroplatinic acid H 2 PtCl 6 .6H 2 O was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.2 mmol of platinum was added to the above mixed solution.
Heated for hours. Filtration and fractional distillation were performed to remove tetrahydrofuran and chloroplatinic acid to obtain a transparent liquid. 1H, 1H, 2H, 2H in a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer and a gas introduction tube, which was sufficiently replaced with dry nitrogen gas.
-Nonafluorohexyllithium (50.8 g) and 400 ml of diethyl ether dehydrated and refined by refluxing with sodium metal and distillation were taken and mixed with stirring. With continued stirring, add 100 mL of the above-mentioned diethyl ether to this solution.
A solution in which 49.1 g of the transparent liquid prepared above was dissolved was added dropwise to ml. After the dropwise addition was completed, stirring was continued for another 2 hours, and then reflux was performed for 8 hours to complete the reaction. After filtering off the formed precipitate, fractional distillation was performed to obtain the target compound. IR, 1
H-NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, and it was confirmed that the target compound represented by the following formula (10a) was isolated.

【0088】[0088]

【化32】 Embedded image

【0089】[0089]

【製造例11】 <珪素化合物(3)の製造>耐圧ビン型の反応容器にジ
アリルエーテル58.9g、モノハイドロジェンメチル
ジクロロシラン138.0gを採り混合した。次に塩化
白金酸H2PtCl6・6H2Oをテトラヒドロフラン中
で加熱し、白金0.6ミリモルに相当するこの溶液を前
述の混合溶液に添加した後、反応容器を80℃で4時間
加熱した。ろ過、分留を行って、テトラヒドロフラン及
び塩化白金酸を除去して目的化合物を得た。IR、1
−NMR、13C−NMR、29Si−NMRスペクトル測
定を行ったところ、下記式(11a)で表される目的化
合物が単離されていることが確認された。
[Production Example 11] <Production of silicon compound (3)> 58.9 g of diallyl ether and 138.0 g of monohydrogenmethyldichlorosilane were taken and mixed in a pressure-resistant bottle-type reaction vessel. Next, chloroplatinic acid H 2 PtCl 6 .6H 2 O was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.6 mmol of platinum was added to the above mixed solution, and then the reaction vessel was heated at 80 ° C. for 4 hours. . Filtration and fractional distillation were performed to remove tetrahydrofuran and chloroplatinic acid to obtain the target compound. IR, 1 H
-NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurement were performed, and it was confirmed that the target compound represented by the following formula (11a) was isolated.

【0090】[0090]

【化33】 Embedded image

【0091】[0091]

【製造例12】 <珪素化合物(3)の製造>耐圧ビン型の反応容器にジ
アリルエーテル58.9g、モノハイドロジェントリク
ロロシラン53.6gを採り混合した。次に塩化白金酸
2PtCl6・6H 2Oをテトラヒドロフラン中で加熱
し、白金0.6ミリモルに相当するこの溶液を前述の混
合溶液に添加した後、反応容器を80℃で4時間加熱し
た。ろ過、分留を行ってテトラヒドロフラン、塩化白金
酸を除去して透明液体を得た。充分乾燥を行った還流冷
却器、攪拌装置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金
属マグネシウム11.6gを採り、乾燥窒素ガスで充分
置換を行った。さらに、この反応容器に金属ナトリウム
による還流と蒸留とによって脱水精製したテトラヒドロ
フラン400mlを採り攪拌混合した。攪拌を続けなが
ら、この溶液に、前述のテトラヒドロフラン400ml
に2,2,2−トリフルオロエチルヨーダイド84.0
gを溶解した溶液を滴下した。
[Manufacturing Example 12] <Manufacturing of silicon compound (3)>
Allyl ether 58.9g, Monohydrogenlic
53.6 g of lorosilane was taken and mixed. Next, chloroplatinic acid
HTwoPtCl6・ 6H TwoHeating O in tetrahydrofuran
Then, add this solution corresponding to 0.6 mmol of platinum to the above mixture.
After adding to the combined solution, heat the reaction vessel at 80 ° C for 4 hours.
Was. After filtration and fractional distillation, tetrahydrofuran and platinum chloride
The acid was removed to give a clear liquid. Reflux cooling with sufficient drying
Gold in a three-necked flask equipped with a reactor, a stirrer, and a gas inlet tube.
Take 11.6g of magnesium, and dry nitrogen gas is enough
Substitution was made. In addition, sodium metal was added to the reaction vessel.
Tetrahydro dehydrated and purified by reflux with water and distillation
400 ml of furan was taken and mixed by stirring. Keep stirring
400 ml of the above-mentioned tetrahydrofuran in this solution.
2,2,2-trifluoroethyl iodide 84.0
A solution in which g was dissolved was added dropwise.

【0092】さらに、攪拌を続けながら、氷冷下で、前
述のテトラヒドロフラン400mlに上記で調製した透
明液体73.8gを溶解した溶液を滴下した。滴下終了
後、テトラヒドロフランの沸点で還流を行って、反応を
完結させた。精製した沈殿をろ別後分留を行って目的化
合物を得た。IR、1H−NMR、13C−NMR、29
i−NMRスペクトル測定を行ったところ、下記式(1
2a)で表される目的化合物が単離されていることが確
認された。
Further, while continuing stirring, a solution prepared by dissolving 73.8 g of the above-prepared transparent liquid in 400 ml of tetrahydrofuran was added dropwise under ice cooling. After completion of the dropping, reflux was carried out at the boiling point of tetrahydrofuran to complete the reaction. The purified precipitate was separated by filtration and fractionated to obtain the target compound. IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, 29 S
When the i-NMR spectrum was measured, the following formula (1
It was confirmed that the target compound represented by 2a) was isolated.

【0093】[0093]

【化34】 Embedded image

【0094】[0094]

【製造例13】 <珪素化合物(3)の製造>耐圧ビン型の反応容器にア
ジピン酸ジビニル39.6g、モノハイドロジェンメチ
ルジエトキシシラン53.6gを採り混合した。次に塩
化白金酸H2PtCl6・6H2Oをテトラヒドロフラン
中で加熱し、白金0.3ミリモルに相当するこの溶液を
前述の混合溶液に添加した後、反応容器を80℃で4時
間加熱した。ろ過、分留を行ってテトラヒドロフラン、
塩化白金酸を除去して目的化合物を得た。IR、1H−
NMR、13C−NMR、29Si−NMRスペクトル測定
を行ったところ、下記式(13a)で表される目的化合
物が単離されていることが確認された。
MANUFACTURING EXAMPLE 13 <Manufacturing of Silicon Compound (3)> 39.6 g of divinyl adipate and 53.6 g of monohydrogenmethyldiethoxysilane were taken and mixed in a pressure bottle type reaction vessel. Then, chloroplatinic acid H 2 PtCl 6 .6H 2 O was heated in tetrahydrofuran, this solution corresponding to 0.3 mmol of platinum was added to the above mixed solution, and then the reaction vessel was heated at 80 ° C. for 4 hours. . Filtration and fractional distillation were performed to obtain tetrahydrofuran,
Chloroplatinic acid was removed to obtain the target compound. IR, 1 H-
When NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the target compound represented by the following formula (13a) was isolated.

【0095】[0095]

【化35】 Embedded image

【0096】[0096]

【製造例14】 <珪素化合物(3)の製造>耐圧ビン型の反応容器に1
H,1H,2H−パーフルオロデカ−1−エン89.2
g、ジハイドロジェンジエトキシシラン24.0gを採
り混合した。次に塩化白金酸H2PtCl6・6H2Oを
テトラヒドロフラン中で加熱し、白金0.2ミリモルに
相当するこの溶液を前述の混合溶液に添加した後、反応
容器を80℃で4時間加熱した。冷却後、さらにアジピ
ン酸ジビニル19.8gを添加して再び反応容器を80
℃で4時間加熱した。ろ過、分留を行って、テトラヒド
ロフラン及び塩化白金酸を除去して目的化合物を得た。
IR、1H−NMR、13C−NMR、29Si−NMRス
ペクトル測定を行ったところ、下記式(14a)で表さ
れる目的化合物が単離されていることが確認された。
Production Example 14 <Production of Silicon Compound (3)> 1 in a pressure-resistant bottle-type reaction vessel
H, 1H, 2H-perfluorodec-1-ene 89.2
g and 24.0 g of dihydrogendiethoxysilane were taken and mixed. Then, chloroplatinic acid H 2 PtCl 6 .6H 2 O was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.2 mmol of platinum was added to the above mixed solution, and then the reaction vessel was heated at 80 ° C. for 4 hours. . After cooling, 19.8 g of divinyl adipate was added and the reaction vessel was again heated to 80
Heated at 0 ° C for 4 hours. Filtration and fractional distillation were performed to remove tetrahydrofuran and chloroplatinic acid to obtain the target compound.
When IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the target compound represented by the following formula (14a) was isolated.

【0097】[0097]

【化36】 Embedded image

【0098】[0098]

【製造例15】 <珪素化合物(3)の製造>耐圧ビン型の反応容器にア
リルメチルジクロロシラン46.5g、モノハイドロジ
ェンフェニルジクロロシラン53.1gを採り混合し
た。次に塩化白金酸H 2PtCl6・6H2Oをテトラヒ
ドロフラン中で加熱し、白金0.2ミリモルに相当する
この溶液を前述の混合溶液に添加した後、反応容器を8
0℃で4時間加熱した。ろ過、分留を行って、テトラヒ
ドロフラン及び塩化白金酸を除去して目的化合物を得
た。IR、1H−NMR、13C−NMR、29Si−NM
Rスペクトル測定を行ったところ、下記式(15a)で
表される目的化合物が単離されていることが確認され
た。
MANUFACTURING EXAMPLE 15 <Manufacturing of Silicon Compound (3)>
Rylmethyldichlorosilane 46.5 g, monohydrogen
Take 53.1 g of phenyldichlorosilane and mix
Was. Next, chloroplatinic acid H TwoPtCl6・ 6HTwoO for Tetrahi
Heated in drofuran, equivalent to 0.2 mmol platinum
After adding this solution to the above-mentioned mixed solution, the reaction vessel
Heated at 0 ° C. for 4 hours. After filtration and fractional distillation,
Drofuran and chloroplatinic acid are removed to obtain the target compound.
Was. IR,1H-NMR,13C-NMR,29Si-NM
When the R spectrum was measured, the following formula (15a) was used.
It was confirmed that the target compound represented was isolated.
Was.

【0099】[0099]

【化37】 Embedded image

【0100】[0100]

【製造例16】 <珪素化合物(6)の製造>耐圧ビン型の反応容器に、
パラジビニルベンゼン19.5g、モノハイドロジェン
ジメチルエトキシシラン31.3gを採り混合した。次
に塩化白金酸H2PtCl6・6H2Oをテトラヒドロフ
ラン中で加熱し、白金0.1ミリモルに相当するこの溶
液を前述の混合溶液に添加した後、反応容器を80℃で
4時間加熱した。ろ過、分留を行って、テトラヒドロフ
ラン及び塩化白金酸を除去して目的化合物を得た。I
R、1H−NMR、13C−NMR、29Si−NMRスペ
クトル測定を行ったところ、下記式(16a)で表され
る目的化合物が単離されていることが確認された。
Production Example 16 <Production of Silicon Compound (6)> In a pressure bottle type reaction vessel,
Paradivinylbenzene 19.5 g and monohydrogen dimethylethoxysilane 31.3 g were taken and mixed. Next, chloroplatinic acid H 2 PtCl 6 .6H 2 O was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.1 mmol of platinum was added to the above mixed solution, and then the reaction vessel was heated at 80 ° C. for 4 hours. . Filtration and fractional distillation were performed to remove tetrahydrofuran and chloroplatinic acid to obtain the target compound. I
When R, 1 H-NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the target compound represented by the following formula (16a) was isolated.

【0101】[0101]

【化38】 Embedded image

【0102】[0102]

【製造例17】 <珪素化合物(6)の製造>充分に乾燥を行った還流冷
却器、攪拌装置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金
属マグネシウム0.1g、ジフェニルジエトキシシラン
81.7g、ヨウ素0.01g、金属ナトリウムによる
還流と蒸留によって脱水精製したテトラヒドロフラン1
00mlを採り、乾燥窒素ガスで充分置換を行ないなが
ら攪拌混合した。攪拌を続けながら、テトラヒドロフラ
ンの沸点での還流条件下、この溶液に1,4−ジブロモ
ベンゼン7.1gを前述のテトラヒドロフラン50ml
に溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、還流を24時
間続け、反応を完結させた。全ての操作は乾燥窒素ガス
気流下で行った。生成した沈殿を除去後、さらに溶媒を
除去して目的化合物を得た。IR、1H−NMR、13
−NMR、29Si−NMRスペクトル測定を行ったとこ
ろ、下記式(17a)で表される目的化合物が単離され
ていることが確認された。
[Production Example 17] <Production of silicon compound (6)> 0.1 g of metal magnesium and 81.7 g of diphenyldiethoxysilane were placed in a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer and a gas introduction tube, which were sufficiently dried. Tetrahydrofuran 1 dehydrated and purified by 0.01 g of iodine, reflux with sodium metal and distillation
00 ml was taken and stirred and mixed while sufficiently substituting with dry nitrogen gas. While continuing stirring, 7.1 g of 1,4-dibromobenzene was added to this solution under reflux conditions at the boiling point of tetrahydrofuran in 50 ml of the above-mentioned tetrahydrofuran.
Was added dropwise. After completion of the dropping, reflux was continued for 24 hours to complete the reaction. All operations were performed under a stream of dry nitrogen gas. After removing the generated precipitate, the solvent was further removed to obtain the target compound. IR, 1 H-NMR, 13 C
When -NMR and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the target compound represented by the following formula (17a) was isolated.

【0103】[0103]

【化39】 Embedded image

【0104】[0104]

【製造例18】 <珪素化合物(6)の製造>充分乾燥を行った還流冷却
器、攪拌装置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金属
マグネシウム5.8gを採り、乾燥窒素ガスで充分置換
を行った。さらに、この反応容器に金属ナトリウムによ
る還流と蒸留とによって脱水精製したテトラヒドロフラ
ン200mlを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、
この溶液に、前述のテトラヒドロフラン200mlに
2,2,2−トリフルオロエチルヨーダイド42.0g
を溶解した溶液を滴下した。さらに、撹拌を続けなが
ら、氷冷下で、前述のテトラヒドロフラン200mlに
前記製造例11で得られた珪素化合物32.8gを溶解
した溶液を滴下した。滴下終了後、テトラヒドロフラン
の沸点で還流を行って反応を完結させた。精製した沈殿
をろ別後、分留を行って目的化合物を得た。IR、1
−NMR、13C−NMR、29Si−NMRスペクトル測
定を行ったところ、下記式(18a)で表される目的化
合物が単離されていることが確認された。
Production Example 18 <Production of Silicon Compound (6)> 5.8 g of metallic magnesium was placed in a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer and a gas introduction tube, which had been sufficiently dried, and was thoroughly replaced with dry nitrogen gas. went. Further, 200 ml of tetrahydrofuran dehydrated and refined by refluxing with sodium metal and distillation was placed in this reaction vessel and mixed with stirring. While continuing to stir
To this solution, 42.0 g of 2,2,2-trifluoroethyl iodide was added to 200 ml of the above-mentioned tetrahydrofuran.
Was added dropwise. Further, while continuing stirring, a solution prepared by dissolving 32.8 g of the silicon compound obtained in Production Example 11 above in 200 ml of tetrahydrofuran was added dropwise under ice cooling. After completion of the dropping, reflux was carried out at the boiling point of tetrahydrofuran to complete the reaction. After filtering the purified precipitate, fractional distillation was performed to obtain the target compound. IR, 1 H
-NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, and it was confirmed that the target compound represented by the following formula (18a) was isolated.

【0105】[0105]

【化40】 Embedded image

【0106】[0106]

【製造例19】 <フッ素置換基を有する珪素化合物(4)の製造>充分
に乾燥を行った還流冷却器、攪拌装置及びガス導入管付
き三つ口フラスコにエチルマグネシウムブロミド19
2.0g、金属ナトリウムによる還流と蒸留によって脱
水精製したジエチルエーテル800mlを採り、乾燥窒
素ガスで充分置換を行った。攪拌を続けながら、この溶
液に1H,1H,2H,2H−パーフルオロデカノイル
トリメトキシシラン374.9gを前述のジエチルエー
テル400mlに溶解した溶液を滴下した。滴下終了
後、20時間攪拌を続け、反応を完結させた。全ての操
作は乾燥窒素ガス気流下で行った。
Production Example 19 <Production of Silicon Compound (4) Having Fluorine Substituent> Ethyl magnesium bromide 19 was placed in a well-dried three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer and a gas inlet tube.
2.0 g and 800 ml of diethyl ether dehydrated and refined by refluxing with sodium metal and distillation were taken and sufficiently replaced with dry nitrogen gas. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 374.9 g of 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecanoyltrimethoxysilane in 400 ml of the above-mentioned diethyl ether was added dropwise to this solution. After completion of dropping, stirring was continued for 20 hours to complete the reaction. All operations were performed under a stream of dry nitrogen gas.

【0107】生成した沈殿を除去後、さらに分留を行っ
て目的化合物を得た。IR、1H−NMR、13C−NM
R、29Si−NMRスペクトル測定を行ったところ、下
記式(19a)で表される目的化合物が単離されている
ことが確認された。
After removing the produced precipitate, fractional distillation was further carried out to obtain the target compound. IR, 1 H-NMR, 13 C-NM
When the R, 29 Si-NMR spectrum was measured, it was confirmed that the target compound represented by the following formula (19a) was isolated.

【0108】[0108]

【化41】 Embedded image

【0109】[0109]

【製造例20】 <フッ素置換基を有する珪素化合物(4)の製造>充分
に乾燥を行った還流冷却器、攪拌装置及びガス導入管付
き三つ口フラスコに金属マグネシウム5.6gを採り、
乾燥窒素ガスで充分置換を行った。さらに、この反応容
器に金属ナトリウムによる還流と蒸留によって脱水精製
したテトラヒドロフラン100mlを採り、攪拌混合し
た。攪拌を続けながら、この溶液に前述のテトラヒドロ
フラン300mlにパーフルオロプロピルブロミド5
2.3gを溶解した溶液を滴下した。さらに攪拌を続け
ながら、氷冷下で、前述のテトラヒドロフラン100m
lにテトラクロロシラン11.9gを溶解した溶液を滴
下した。滴下終了後、テトラヒドロフランの沸点で還流
を24時間行って、反応を完結させた。全ての操作は乾
燥窒素ガス気流下で行った。生成した沈殿を除去後、さ
らに溶媒を除去して目的化合物を得た。IR、1H−N
MR、13C−NMR、29Si−NMRスペクトル測定を
行ったところ、下記式(20a)で表される目的化合物
が単離されていることが確認された。
MANUFACTURING EXAMPLE 20 <Manufacturing of Silicon Compound (4) Having Fluorine Substituent> 5.6 g of metallic magnesium was placed in a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer and a gas introducing tube, which was sufficiently dried.
It was sufficiently replaced with dry nitrogen gas. Further, 100 ml of tetrahydrofuran dehydrated and refined by refluxing with sodium metal and distillation was placed in this reaction vessel and mixed with stirring. While continuing to stir, add 300 ml of the above-mentioned tetrahydrofuran to this solution and add 5 parts of perfluoropropyl bromide.
A solution in which 2.3 g was dissolved was added dropwise. While continuing stirring, under ice-cooling, 100 m of the above-mentioned tetrahydrofuran
A solution of 11.9 g of tetrachlorosilane dissolved in 1 was added dropwise. After completion of the dropwise addition, reflux was carried out at the boiling point of tetrahydrofuran for 24 hours to complete the reaction. All operations were performed under a stream of dry nitrogen gas. After removing the generated precipitate, the solvent was further removed to obtain the target compound. IR, 1 H-N
When MR, 13 C-NMR and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the target compound represented by the following formula (20a) was isolated.

【0110】[0110]

【化42】 [CF3(CF223SiCl ・・・(20a)Embedded image [CF 3 (CF 2 ) 2 ] 3 SiCl ... (20a)

【0111】[0111]

【製造例21】 <フッ素化ポリシロキサンの製造>冷却器、攪拌装置付
き三つ口フラスコに製造例1の珪素化合物28.4g、
製造例2の珪素化合物42.0g、メチルアルコール1
60mlを採り、混合溶解した。攪拌を続けながらこの
溶液に水10.8gをメチルアルコール40mlに溶解
した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けながら4
0℃で8時間放置した。この混合溶液に、トリメチルク
ロロシラン21.7g、水8.0g、濃塩酸1.0m
l、メチルアルコール40mlからなる溶液を添加し、
40℃で4時間放置した。反応終了後、系は二相に分離
したので、デカンテーションにより溶媒相を除去し、さ
らに5%炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再び
デカンテーションにより水を除去し、80℃で一昼夜真
空乾燥して重縮合体を単離した。IR、1H−NMR、
13C−NMR、29Si−NMRスペクトル測定を行った
ところ、重縮合体が下記式(1b)で表される梯子型シ
リコーンであることが確認された。また、ゲルパーミエ
ーションクロマトグラフ測定よりn1、n2はそれぞれ1
00〜200、100〜200であった。
Production Example 21 <Production of Fluorinated Polysiloxane> In a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 28.4 g of the silicon compound of Production Example 1,
42.0 g of the silicon compound of Production Example 2 and 1 of methyl alcohol
60 ml was taken and mixed and dissolved. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 10.8 g of water in 40 ml of methyl alcohol was added to this solution. After the addition is complete, continue to stir 4
It was left at 0 ° C. for 8 hours. 21.7 g of trimethylchlorosilane, 8.0 g of water, 1.0 m of concentrated hydrochloric acid were added to this mixed solution.
l, a solution consisting of 40 ml of methyl alcohol was added,
It was left at 40 ° C. for 4 hours. After the reaction was completed, the system was separated into two phases, so the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, the water was removed again by decantation, and vacuum dried at 80 ° C overnight. The polycondensate was isolated. IR, 1 H-NMR,
When 13 C-NMR and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the polycondensate was a ladder-type silicone represented by the following formula (1b). In addition, n 1 and n 2 are 1 respectively by gel permeation chromatography measurement.
It was 00-200 and 100-200.

【0112】[0112]

【化43】 Embedded image

【0113】[式(1b)中、Qは−(CH24−を表
す。]
[0113] In the formula (1b), Q is - (CH 2) 4 - represents a. ]

【0114】[0114]

【製造例22】 <フッ素化ポリシロキサンの製造>冷却器、攪拌装置付
き三つ口フラスコに製造例3の珪素化合物71.5、製
造例4の珪素化合物62.0gエチルアルコール250
mlを採り、混合溶解した。攪拌を続けながらこの溶液
にトリエタノールアミン1.3g、水7.2gをエチル
アルコール50mlに溶解した溶液を添加した。添加終
了後、攪拌を続けながら40℃で6時間放置した。この
混合溶液に、ヘキサプロピルジシロキサン132.3
g、水10.8g、濃硝酸2.0ml、エチルアルコー
ル100mlからなる溶液を添加し40℃で2時間放置
した。反応終了後、系は二相に分離したので、デカンテ
ーションにより溶媒相を除去し、さらに5%炭酸水素ナ
トリウム溶液及び水で洗浄後、再びデカンテーションに
より水を除去し、80℃で一昼夜真空乾燥して重縮合体
を単離した。IR、1H−NMR、13C−NMR、29
i−NMRスペクトル測定を行ったところ、重縮合体が
下記式(2b)で表される梯子型シリコーンであること
が確認された。また、ゲルパーミエーションクロマトグ
ラフ測定よりn1、n2はそれぞれ30〜100、70〜
300であった。
Production Example 22 <Production of Fluorinated Polysiloxane> A silicon compound 71.5 of Production Example 3 and a silicon compound 62.0 g of Ethyl alcohol 250 of Production Example 4 were placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
ml was taken and mixed and dissolved. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 1.3 g of triethanolamine and 7.2 g of water in 50 ml of ethyl alcohol was added to this solution. After the addition was completed, the mixture was left at 40 ° C. for 6 hours while continuing stirring. Hexapropyldisiloxane 132.3 was added to this mixed solution.
g, 10.8 g of water, 2.0 ml of concentrated nitric acid, and 100 ml of ethyl alcohol were added, and the mixture was allowed to stand at 40 ° C. for 2 hours. After the reaction was completed, the system was separated into two phases, so the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, the water was removed again by decantation, and vacuum dried at 80 ° C overnight. The polycondensate was isolated. IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, 29 S
When the i-NMR spectrum was measured, it was confirmed that the polycondensate was a ladder-type silicone represented by the following formula (2b). In addition, n 1 and n 2 are 30 to 100 and 70 to
It was 300.

【0115】[0115]

【化44】 Embedded image

【0116】[式(2b)中、Qは−(CH22S(C
23−を表す。]
[In the formula (2b), Q is-(CH 2 ) 2 S (C
H 2 ) 3 −. ]

【0117】[0117]

【製造例23】 <フッ素化ポリシロキサンの製造>冷却器、攪拌装置付
き三つ口フラスコに製造例5の珪素化合物82.2g、
製造例6の珪素化合物225.0g、メチルエチルケト
ン500mlを採り、混合溶解した。攪拌を続けながら
この溶液に酢酸1.2g、水25.2gをメチルエチル
ケトン100mlに溶解した溶液を添加した。添加終了
後、攪拌を続けながら60℃で4時間放置した。20℃
に冷却した後この混合溶液に、ヘキサメチルジシロキサ
ン113.7g、水18.9g、濃塩酸4.0ml、エ
チルアルコール100mlからなる溶液を添加し20℃
で16時間放置した。反応終了後、系は二相に分離した
ので、デカンテーションにより溶媒相を除去し、さらに
5%炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再びデカ
ンテーションにより水を除去し、80℃で一昼夜真空乾
燥して重縮合体を単離した。IR、1H−NMR、13
−NMR、29Si−NMRスペクトル測定を行ったとこ
ろ、重縮合体が下記式(3b)で表される梯子型シリコ
ーンであることが確認された。また、ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフ測定よりn1、n2はそれぞれ150
〜300、250〜500であった。
Production Example 23 <Production of Fluorinated Polysiloxane> In a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 82.2 g of the silicon compound of Production Example 5,
225.0 g of the silicon compound of Production Example 6 and 500 ml of methyl ethyl ketone were taken and mixed and dissolved. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 1.2 g of acetic acid and 25.2 g of water in 100 ml of methyl ethyl ketone was added to this solution. After the addition was completed, the mixture was left at 60 ° C. for 4 hours while continuing stirring. 20 ° C
After cooling to, a solution consisting of 113.7 g of hexamethyldisiloxane, 18.9 g of water, 4.0 ml of concentrated hydrochloric acid and 100 ml of ethyl alcohol was added to this mixed solution, and the mixture was heated to 20 ° C.
For 16 hours. After the reaction was completed, the system was separated into two phases, so the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, the water was removed again by decantation, and vacuum dried at 80 ° C overnight. The polycondensate was isolated. IR, 1 H-NMR, 13 C
When -NMR and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the polycondensate was a ladder-type silicone represented by the following formula (3b). Further, n 1 and n 2 were each 150 from gel permeation chromatographic measurement.
Was ~ 300, 250-500.

【0118】[0118]

【化45】 Embedded image

【0119】[式(3b)中、Qは−C64−を表
す。]
[0119] In Expression (3b), Q is -C 6 H 4 - represents a. ]

【0120】[0120]

【製造例24】 <フッ素化ポリシロキサンの製造>冷却器、攪拌装置付
き三つ口フラスコに製造例7の珪素化合物31.9g、
製造例8の珪素化合物20.1g、3アミノプロピルト
リメトキシシラン1.5g、イソプロピルアルコール1
00mlを採り混合溶解した。攪拌を続けながらこの溶
液に水3.6gをイソプロピルアルコール50mlに溶
解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けながら
70℃で6時間放置した。20℃に冷却した後この混合
溶液に、製造例16の珪素化合物6.8g、水1.5
g、濃硝酸0.5ml、イソプロピルアルコール20m
lからなる溶液を添加し20℃で12時間放置した。反
応終了後系は二相に分離したので、デカンテーションに
より溶媒相を除去し、さらに5%炭酸水素ナトリウム溶
液及び水で洗浄後、再びデカンテーションにより水を除
去し、80℃で一昼夜真空乾燥して重縮合体を単離し
た。IR、1H−NMR、13C−NMR、29Si−NM
Rスペクトル測定を行ったところ、重縮合体が下記式
(4b)で表される梯子型シリコーンであることが確認
された。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフ測
定よりn1、n2はそれぞれ200〜300、600〜7
00であった。
Production Example 24 <Production of Fluorinated Polysiloxane> In a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 31.9 g of the silicon compound of Production Example 7,
20.1 g of the silicon compound of Production Example 8, 1.5 g of 3 aminopropyltrimethoxysilane, and 1 of isopropyl alcohol
00 ml was taken and mixed and dissolved. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 3.6 g of water in 50 ml of isopropyl alcohol was added to this solution. After the addition was completed, the mixture was left at 70 ° C. for 6 hours while continuing stirring. After cooling to 20 ° C., 6.8 g of the silicon compound of Production Example 16 and 1.5 of water were added to this mixed solution.
g, concentrated nitric acid 0.5 ml, isopropyl alcohol 20 m
The solution consisting of 1 was added and left at 20 ° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the system was separated into two phases, so the solvent phase was removed by decantation, further washed with 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, the water was removed again by decantation, and vacuum dried at 80 ° C for one day. The polycondensate was isolated. IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, 29 Si-NM
When the R spectrum was measured, it was confirmed that the polycondensate was a ladder-type silicone represented by the following formula (4b). In addition, n 1 and n 2 are 200 to 300 and 600 to 7, respectively, by gel permeation chromatography measurement.
It was 00.

【0121】[0121]

【化46】 Embedded image

【0122】[式(4b)中、Qは−(CH2)26
4(CH2)2−を表す。]
[In the formula (4b), Q is-(CH 2 ) 2 C 6 H
4 (CH 2) 2 - represents a. ]

【0123】[0123]

【製造例25】 <フッ素化ポリシロキサンの製造>冷却器、攪拌装置付
き三つ口フラスコに製造例9の珪素化合物45.2g、
メチルセロソルブ200mlを採り混合溶解した。攪拌
を続けながらこの溶液に塩酸0.1ml、水6.5gを
メチルセロソルブ50mlに溶解した溶液を添加した。
添加終了後、攪拌を続けながら20℃で6時間放置し
た。この混合溶液に、製造例19の珪素化合物89.4
g、水12.2g、濃硝酸1.0ml、イソプロピルア
ルコール100mlからなる溶液を添加し20℃で12
時間放置した。凍結乾燥により溶媒、水を除去し、さら
に80℃で一昼夜真空乾燥して重縮合体を単離した。I
R、1H−NMR、13C−NMR、29Si−NMRスペ
クトル測定を行ったところ、重縮合体が下記式(5b)
で表される梯子型シリコーンであることが確認された。
また、ゲルパーミエーションクロマトグラフ測定よりn
は200〜600であった。
Production Example 25 <Production of Fluorinated Polysiloxane> In a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 45.2 g of the silicon compound of Production Example 9,
200 ml of methyl cellosolve was taken and mixed and dissolved. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 0.1 ml of hydrochloric acid and 6.5 g of water in 50 ml of methyl cellosolve was added to this solution.
After the addition was completed, the mixture was left at 20 ° C. for 6 hours while continuing stirring. In this mixed solution, the silicon compound 89.4 of Production Example 19 was added.
g, 12.2 g of water, 1.0 ml of concentrated nitric acid, and 100 ml of isopropyl alcohol, and the solution is added at 20 ° C. for 12 hours.
Left for hours. The solvent and water were removed by freeze-drying, and the polycondensate was isolated by vacuum drying at 80 ° C. for 24 hours. I
When R, 1 H-NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, the polycondensate had the following formula (5b).
It was confirmed to be a ladder-type silicone represented by.
In addition, from gel permeation chromatography measurement,
Was 200-600.

【0124】[0124]

【化47】 Embedded image

【0125】[式(5b)中、Qは下記式で表される基
を表す。]
[In the formula (5b), Q represents a group represented by the following formula. ]

【0126】[0126]

【化48】 Embedded image

【0127】[0127]

【製造例26】 <フッ素化ポリシロキサンの製造>冷却器、攪拌装置付
き三つ口フラスコに、製造例10の珪素化合物273.
8g、3−(4,5−ジヒドロイミダゾール)プロピル
トリエトキシシラン4.0g、エチルアルコール/テト
ラヒドロフラン混合溶媒(重量比で7/3)350ml
を採り、混合溶解した。攪拌を続けながらこの溶液に水
6.5gを前述の混合溶媒100mlに溶解した溶液を
添加した。添加終了後、攪拌を続けながら60℃で4時
間放置した。20℃に冷却した後この混合溶液に、製造
例17の珪素化合物5.3g、水1.0g、濃硝酸0.
5ml、前述の混合溶媒100mlからなる溶液を添加
し、20℃で12時間放置した。反応終了後、系は二相
に分離したので、デカンテーションにより溶媒相を除去
し、さらに5%炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄
後、再びデカンテーションにより水を除去し、80℃で
一昼夜真空乾燥して重縮合体を単離した。IR、1H−
NMR、13C−NMR、29Si−NMRスペクトル測定
を行ったところ、重縮合体が下記式(6b)で表される
梯子型シリコーンであることが確認された。また、ゲル
パーミエーションクロマトグラフ測定よりnは400〜
600であった。
[Production Example 26] <Production of fluorinated polysiloxane> A silicon compound 273. of Production Example 10 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
8 g, 3- (4,5-dihydroimidazole) propyltriethoxysilane 4.0 g, ethyl alcohol / tetrahydrofuran mixed solvent (weight ratio 7/3) 350 ml
Were collected and mixed and dissolved. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 6.5 g of water in 100 ml of the above-mentioned mixed solvent was added to this solution. After the addition was completed, the mixture was left at 60 ° C. for 4 hours while continuing stirring. After cooling to 20 ° C., 5.3 g of the silicon compound of Production Example 17, 1.0 g of water, and 0.1 g of concentrated nitric acid were added to this mixed solution.
A solution consisting of 5 ml and 100 ml of the above mixed solvent was added, and the mixture was left at 20 ° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the system was separated into two phases, so the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, the water was removed again by decantation, and vacuum dried at 80 ° C overnight. The polycondensate was isolated. IR, 1 H-
When NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the polycondensate was a ladder-type silicone represented by the following formula (6b). In addition, n is 400-from gel permeation chromatography measurement.
600.

【0128】[0128]

【化49】 Embedded image

【0129】[式(6b)中、Q1は下記式で表される
基を表し、Q2は−C64−を表す。]
[0129] In the formula (6b), Q 1 represents a group represented by the following formula, Q 2 is -C 6 H 4 - represents a. ]

【0130】[0130]

【化50】 Embedded image

【0131】[0131]

【製造例27】 <フッ素化ポリシロキサンの製造>冷却器、攪拌装置付
き三つ口フラスコに製造例11の珪素化合物49.2
g、製造例12の珪素化合物162.4g、エチルアル
コール500mlを採り混合溶解した。攪拌を続けなが
らこの溶液にクエン酸4.7g、水12.6gをエチル
アルコール100mlに溶解した溶液を添加した。添加
終了後、攪拌を続けながら40℃で4時間放置した。こ
の混合溶液に、製造例18の珪素化合物8.5g、水
0.5g、クエン酸3.2g、エチルアルコール100
mlからなる溶液を添加し40℃で12時間放置した。
反応終了後、系は二相に分離したので、デカンテーショ
ンにより溶媒相を除去し、さらに5%炭酸水素ナトリウ
ム溶液及び水で洗浄後、再びデカンテーションにより水
を除去し、80℃で一昼夜真空乾燥して重縮合体を単離
した。IR、1−NMR、13C−NMR、29Si−N
MRスペクトル測定を行ったところ、重縮合体が下記式
(7b)で表される梯子型シリコーンであることが確認
された。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフ測
定よりn1、n2はそれぞれ300〜400、700〜1
000であった。
Production Example 27 <Production of Fluorinated Polysiloxane> Silicon compound 49.2 of Production Example 11 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
g, 162.4 g of the silicon compound of Production Example 12 and 500 ml of ethyl alcohol were taken and mixed and dissolved. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 4.7 g of citric acid and 12.6 g of water in 100 ml of ethyl alcohol was added to this solution. After the addition was completed, the mixture was left at 40 ° C. for 4 hours while continuing stirring. 8.5 g of the silicon compound of Production Example 18, 0.5 g of water, 3.2 g of citric acid, and 100 parts of ethyl alcohol were added to this mixed solution.
A solution consisting of ml was added and the mixture was allowed to stand at 40 ° C. for 12 hours.
After the reaction was completed, the system was separated into two phases, so the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, the water was removed again by decantation, and vacuum dried at 80 ° C overnight. The polycondensate was isolated. IR, 1 H -NMR, 13 C-NMR, 29 Si-N
When the MR spectrum was measured, it was confirmed that the polycondensate was a ladder-type silicone represented by the following formula (7b). In addition, n 1 and n 2 are 300 to 400 and 700 to 1 respectively by gel permeation chromatography measurement.
000.

【0132】[0132]

【化51】 Embedded image

【0133】[式(7b)中、Qは−(CH23O(C
23−を表す。]
[In the formula (7b), Q is-(CH 2 ) 3 O (C
H 2 ) 3 −. ]

【0134】[0134]

【製造例28】 <フッ素化ポリシロキサンの製造>冷却器、攪拌装置付
き三つ口フラスコに製造例13の珪素化合物74.7
g、製造例14の珪素化合物52.4g、テトラヒドロ
フラン300mlを採り混合溶解した。攪拌を続けなが
らこの溶液に濃塩酸0.3ml、水13.0gをテトラ
ヒドロフラン100mlに溶解した溶液を添加した。添
加終了後、攪拌を続けながら20℃で4時間放置した。
この混合溶液に、トリメチルメトキシシラン26.1
g、水14.4g、濃塩酸2.0ml、テトラヒドロフ
ラン100mlからなる溶液を添加し20℃で12時間
放置した。反応終了後、少量の水を添加すると、系は二
相に分離したので、デカンテーションにより溶媒相を除
去し、さらに5%炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄
後、再びデカンテーションにより水を除去し、80℃で
一昼夜真空乾燥して重縮合体を単離した。IR、1H−
NMR、13C−NMR、29Si−NMRスペクトル測定
を行ったところ、重縮合体が下記式(8b)で表される
梯子型シリコーンであることが確認された。また、ゲル
パーミエーションクロマトグラフ測定よりn1、n2は1
50〜300、250〜500であった。
[Production Example 28] <Production of fluorinated polysiloxane> Silicon compound 74.7 of Production Example 13 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
g, 52.4 g of the silicon compound of Production Example 14 and 300 ml of tetrahydrofuran were mixed and dissolved. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 0.3 ml of concentrated hydrochloric acid and 13.0 g of water in 100 ml of tetrahydrofuran was added to this solution. After the addition was completed, the mixture was left standing at 20 ° C. for 4 hours while continuing stirring.
Trimethylmethoxysilane 26.1 was added to this mixed solution.
g, 14.4 g of water, 2.0 ml of concentrated hydrochloric acid, and 100 ml of tetrahydrofuran were added, and the mixture was allowed to stand at 20 ° C. for 12 hours. After the completion of the reaction, a small amount of water was added, and the system separated into two phases. Therefore, the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, and then water was removed again by decantation. The polycondensate was isolated by vacuum drying at 80 ° C. for 24 hours. IR, 1 H-
When NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the polycondensate was a ladder-type silicone represented by the following formula (8b). Moreover, n 1 and n 2 are 1 from the gel permeation chromatographic measurement.
It was 50-300 and 250-500.

【0135】[0135]

【化52】 Embedded image

【0136】[式(8b)中、Qは下記式で表される基
を表す。]
[In the formula (8b), Q represents a group represented by the following formula. ]

【0137】[0137]

【化53】 Embedded image

【0138】[0138]

【製造例29】 <フッ素化ポリシロキサンの製造>冷却器、攪拌装置付
き三つ口フラスコに製造例1の珪素化合物136.4
g、製造例12の珪素化合物148.5g、エチルアル
コール700mlを採り混合溶解した。攪拌を続けなが
らこの溶液にモルフォリン6.2g、水34.6gをエ
チルアルコール200mlに溶解した溶液を添加した。
添加終了後、攪拌を続けながら20℃で8時間放置し
た。この混合溶液に、製造例18の珪素化合物33.8
g、水2.0g、濃塩酸1.0ml、エチルアルコール
200mlからなる溶液を添加し20℃で16時間放置
した。反応終了後少量の水を添加すると系は二相に分離
したので、デカンテーションにより溶媒相を除去し、さ
らに5%炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再び
デカンテーションにより水を除去し、80℃で一昼夜真
空乾燥して重縮合体を単離した。IR、1H−NMR、
13C−NMR、29Si−NMRスペクトル測定を行った
ところ、重縮合体が下記式(9b)で表される梯子型シ
リコーンであることが確認された。また、1H−NMR
の積分値、ゲルパーミエーションクロマトグラフ測定よ
りn1、n2はそれぞれ300〜500、300〜500
であった。
Production Example 29 <Production of Fluorinated Polysiloxane> A silicon compound 136.4 of Production Example 1 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
g, 148.5 g of the silicon compound of Production Example 12, and 700 ml of ethyl alcohol were taken and mixed and dissolved. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 6.2 g of morpholine and 34.6 g of water in 200 ml of ethyl alcohol was added to this solution.
After the addition was completed, the mixture was left standing at 20 ° C. for 8 hours while continuing stirring. To this mixed solution, the silicon compound 33.8 of Production Example 18 was added.
g, 2.0 g of water, 1.0 ml of concentrated hydrochloric acid, 200 ml of ethyl alcohol were added, and the mixture was allowed to stand at 20 ° C. for 16 hours. When a small amount of water was added after the reaction was completed, the system separated into two phases. Therefore, the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, and then water was removed again by decantation. The polycondensate was isolated by vacuum drying at ℃ for 24 hours. IR, 1 H-NMR,
When 13 C-NMR and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the polycondensate was a ladder-type silicone represented by the following formula (9b). In addition, 1 H-NMR
N 1 and n 2 are 300 to 500 and 300 to 500, respectively, according to the integral value and gel permeation chromatographic measurement.
Met.

【0139】[0139]

【化54】 Embedded image

【0140】[式(9b)中、Q1は−(CH24−を
表し、Q2は−(CH23O(CH23−を表す。]
[In the formula (9b), Q 1 represents — (CH 2 ) 4 — and Q 2 represents — (CH 2 ) 3 O (CH 2 ) 3 —. ]

【0141】[0141]

【製造例30】 <フッ素化ポリシロキサンの製造>冷却器、攪拌装置付
き三つ口フラスコに製造例15の珪素化合物232.5
g、エチルセロソルブ500mlを採り混合溶解した。
攪拌を続けながらこの溶液に濃アンモニア水2.5m
l、水30.2gをエチルセロソルブ100mlに溶解
した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けながら5
0℃で8時間放置した。20℃に冷却後この混合溶液
に、製造例20の珪素化合物439.3g、水12.6
g、濃塩酸8.0ml、エチルセロソルブ200mlか
らなる溶液を添加し20℃で12時間放置した。反応終
了後、系は二相に分離したので、デカンテーションによ
り溶媒相を除去し、さらに5%炭酸水素ナトリウム溶液
及び水で洗浄後、再びデカンテーションにより水を除去
し、80℃で一昼夜真空乾燥して重縮合体を単離した。
IR、1H−NMR、13C−NMR、29Si−NMRス
ペクトル測定を行ったところ、重縮合体が下記式(10
b)で表される梯子型シリコーンであることが確認され
た。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフ測定よ
りnは1400〜1600であった。
Production Example 30 <Production of Fluorinated Polysiloxane> A silicon compound 232.5 of Production Example 15 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
g and 500 ml of ethyl cellosolve were taken and mixed and dissolved.
2.5m concentrated ammonia water in this solution while continuing to stir
1, and a solution of 30.2 g of water dissolved in 100 ml of ethyl cellosolve was added. After the addition is complete, continue to stir 5
It was left at 0 ° C. for 8 hours. After cooling to 20 ° C., 439.3 g of the silicon compound of Production Example 20 and 12.6 of water were added to this mixed solution.
g, 8.0 ml of concentrated hydrochloric acid, and 200 ml of ethyl cellosolve were added, and the mixture was allowed to stand at 20 ° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the system was separated into two phases, so the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, the water was removed again by decantation, and vacuum dried at 80 ° C overnight. The polycondensate was isolated.
When IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were carried out, the polycondensate had the following formula (10
It was confirmed to be a ladder type silicone represented by b). Further, n was 1400 to 1600 according to gel permeation chromatography measurement.

【0142】[0142]

【化55】 Embedded image

【0143】[式(10b)中、Qは−(CH23−を
表す。]
[In the formula (10b), Q represents-(CH 2 ) 3- . ]

【0144】[0144]

【製造例31】 <フッ素化ポリシロキサンの製造>冷却器、攪拌装置付
き三つ口フラスコに製造例14の珪素化合物314.5
g、製造例7の珪素化合物23.9g、イソプロピルア
ルコール300mlを採り混合溶解した。攪拌を続けな
がらこの溶液に濃塩酸0.4ml、水19.4gをイソ
プロピルアルコール50mlに溶解した溶液を添加し
た。添加終了後、攪拌を続けながら20℃で8時間放置
した。この混合溶液に、トリエチルクロロシシラン4
5.2g、ヘキサエチルジシロキサン49.3g、水1
0.8g、濃塩酸3.0ml、イソプロピルアルコール
100mlからなる溶液を添加し20℃で16時間放置
した。反応終了後、少量の水を添加すると、系は二相に
分離したので、デカンテーションにより溶媒相を除去
し、さらに5%炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄
後、再びデカンテーションにより水を除去し、80℃で
一昼夜真空乾燥して重縮合体を単離した。IR、1H−
NMR、13C−NMR、29Si−NMRスペクトル測定
を行ったところ、重縮合体が下記式(11b)で表され
る梯子型シリコーンであることが確認された。また、1
H−NMRの積分値、ゲルパーミエーションクロマトグ
ラフ測定よりn1、n2はそれぞれ300〜500、70
0〜1000であった。
Production Example 31 <Production of Fluorinated Polysiloxane> A silicon compound 314.5 of Production Example 14 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
g, 23.9 g of the silicon compound of Production Example 7, and 300 ml of isopropyl alcohol were taken and mixed and dissolved. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 0.4 ml of concentrated hydrochloric acid and 19.4 g of water in 50 ml of isopropyl alcohol was added to this solution. After the addition was completed, the mixture was left standing at 20 ° C. for 8 hours while continuing stirring. Add triethylchlorosilane 4 to this mixed solution.
5.2 g, hexaethyldisiloxane 49.3 g, water 1
A solution consisting of 0.8 g, concentrated hydrochloric acid 3.0 ml, and isopropyl alcohol 100 ml was added, and the mixture was allowed to stand at 20 ° C. for 16 hours. After the completion of the reaction, a small amount of water was added, and the system separated into two phases. Therefore, the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, and then water was removed again by decantation. The polycondensate was isolated by vacuum drying at 80 ° C. for 24 hours. IR, 1 H-
When NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that the polycondensate was a ladder-type silicone represented by the following formula (11b). Also 1
From the integrated value of H-NMR and gel permeation chromatography measurement, n 1 and n 2 were 300 to 500 and 70, respectively.
It was 0 to 1000.

【0145】[0145]

【化56】 Embedded image

【0146】[式(11b)中、Q1は−(CH226
4(CH22−を表し、Q2は下記一般式で表される基
を表す。]
[In the formula (11b), Q 1 is-(CH 2 ) 2 C 6
H 4 (CH 2) 2 - represents, Q 2 represents a group represented by the following formula. ]

【0147】[0147]

【化57】 Embedded image

【0148】[0148]

【実施例1】 <化粧料の配合例1〜5>前記製造例で得られた本発明
のフッ素化ポリシロキサン1b〜5bを用いて、表1に
示す処方に従って5種のクリーム(配合例1〜5)を製
造した。即ち、A、B、C、及びD部の各成分を、それ
ぞれ別々に80℃に加熱し溶解させた。次いで、AとB
とを混合し良く混練りし、これにCを加え希釈し、Dを
徐々に撹拌しながら加えて乳化し、撹拌冷却してクリー
ムを得た。以下、表中の数値は重量部を表す。
Example 1 <Composition Examples 1 to 5 of Cosmetics> Using the fluorinated polysiloxanes 1b to 5b of the present invention obtained in the above Production Examples, 5 kinds of creams (Formulation Example 1 ~ 5) were produced. That is, the components of A, B, C, and D parts were separately heated to 80 ° C. and dissolved. Then A and B
And were mixed and kneaded well, and C was added to the mixture to dilute it, and D was gradually added with stirring to emulsify, followed by stirring and cooling to obtain a cream. Hereinafter, the numerical values in the table represent parts by weight.

【0149】[0149]

【表1】 [Table 1]

【0150】[0150]

【実施例2】 <化粧料の配合例6〜10>前記製造例で得られた本発
明のフッ素化ポリシロキサン6b〜10bを用いて、表
2の処方に従って5種のファンデーション(配合例6〜
10)を製造した。即ち、A部をヘンシルミキサーに秤
込み、低速回転で混合し、B部を滴下しながら回転を高
速に挙げコーティングし、1mmヘリングボーンスクリ
ーンを装着したパルベライザーで仕上げ粉砕し、金皿に
充填後、加圧成型してファンデーションを得た。これら
のファンデーションはいずれも化粧持ちに優れるもので
あった。
Example 2 <Cosmetic Formulation Examples 6 to 10> Using the fluorinated polysiloxanes 6b to 10b of the present invention obtained in the above Production Examples, 5 types of foundations (Formulation Examples 6 to
10) was manufactured. That is, the part A was weighed in a Hensyl mixer, mixed at a low speed, coated at a high speed while dropping the part B, finished pulverized with a pulverizer equipped with a 1 mm herringbone screen, and filled in a gold plate. Then, pressure molding was performed to obtain a foundation. All of these foundations had excellent makeup retention.

【0151】[0151]

【表2】 [Table 2]

【0152】[0152]

【実施例3】 <化粧料の配合例11〜15>前記製造例で得られた本
発明のフッ素化ポリシロキサン7b〜11bを用いて、
表3の処方に従って5種のヘアトニック(配合例11〜
15)を作成した。即ち、表3の処方成分を加温して溶
解させ、ヘアトニックを得た。これらのヘアトニックは
いずれも毛髪のツヤを良くする作用に優れていた。
Example 3 <Cosmetic Formulation Examples 11 to 15> Using the fluorinated polysiloxanes 7b to 11b of the present invention obtained in the above Production Example,
Five types of hair tonics according to the formulations in Table 3 (formulation examples 11 to 11)
15) was created. That is, the prescription ingredients in Table 3 were heated and dissolved to obtain a hair tonic. All of these hair tonics were excellent in improving the gloss of the hair.

【0153】[0153]

【表3】 [Table 3]

【0154】[0154]

【実施例4】 <化粧料の配合例16〜20>前記製造例で得られた本
発明のフッ素化ポリシロキサン2b〜6bを用いて、表
4の処方に従って5種のリンス(配合例16〜20)を
作成した。即ち、表4の処方成分を加温下に撹拌して可
溶化し、リンスを得た。これらのリンスは櫛通りの改善
作用に優れていた。
Example 4 <Composition Examples 16 to 20 of Cosmetics> Using the fluorinated polysiloxanes 2b to 6b of the present invention obtained in the above Production Example, 5 kinds of rinses (Formulation Examples 16 to 20) was created. That is, the prescription components in Table 4 were stirred under heating to be solubilized to obtain a rinse. These rinses were excellent in combing improvement.

【0155】[0155]

【表4】 [Table 4]

【0156】[0156]

【実施例5】 <クリームの評価>比較例として、配合例1において前
記製造例で得られたフッ素化ポリシロキサンを従来のジ
メチコン(ジメチルポリシロキサン:100c.s.)
に置き換えたものを用いて、配合例1〜5のクリームと
の撥水性の比較を、専門パネラー5名を用いて行った。
評価は、クリームを適量下腕内側部に塗布し、水滴を落
とし、これを擦った状態を見て、強い順に順位を付し
て、順位の平均を求めて行った。サンプルはブラインド
で行った。結果を表5に示す。本発明の一般式(1)に
表されるフッ素化ポリシロキサンを含有する化粧料が撥
水性に優れることが判る。
Example 5 <Evaluation of Cream> As a comparative example, a conventional dimethicone (dimethylpolysiloxane: 100 c.s.) was prepared by using the fluorinated polysiloxane obtained in the above Production Example in the formulation example 1.
The water repellency of the creams of Formulation Examples 1 to 5 was compared by using 5 those specialized panelists.
The evaluation was performed by applying an appropriate amount of cream to the inner part of the lower arm, dropping water droplets, observing the state of rubbing, ranking in order from the strongest, and obtaining the average of the rankings. The sample was run blind. Table 5 shows the results. It can be seen that the cosmetic containing the fluorinated polysiloxane represented by the general formula (1) of the present invention has excellent water repellency.

【0157】尚、前記製造例で得られた本発明のフッ素
化ポリシロキサンの代わりに、従来のフッ素化シロキサ
ン(東レ(株)製シリコーンFS1265)を用いて配
合例1と同様の組成のクリームを製造しようとしたが、
乳化しなかった。
A cream having the same composition as in Formulation Example 1 was prepared by using a conventional fluorinated siloxane (Silicone FS1265 manufactured by Toray Industries, Inc.) instead of the fluorinated polysiloxane of the present invention obtained in the above Production Example. I tried to make it,
Did not emulsify.

【0158】[0158]

【表5】 [Table 5]

【0159】[0159]

【発明の効果】本発明のフッ素化ポリシロキサンを用い
ることにより、油脂との相溶性に優れ、皮膚、頭髪、爪
等の各種人体の表面に柔軟且つ強固で、しかも薄く均一
な撥水撥油性保護膜を与える化粧料が得られ、基礎化粧
料、メークアップ化粧料、頭髪化粧料、洗浄料、美爪
料、浴用剤等として有用である。
EFFECT OF THE INVENTION By using the fluorinated polysiloxane of the present invention, it has excellent compatibility with oils and fats, and is flexible and strong on the surface of various human bodies such as skin, hair, nails, etc. A cosmetic that gives a protective film is obtained, and it is useful as a basic cosmetic, a make-up cosmetic, a hair cosmetic, a cleansing agent, a nail varnish, a bath agent and the like.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で表される構造を有す
るフッ素化ポリシロキサンを含有する化粧料。 【化1】 [式(1)中、Rは一価の炭化水素基又は水素原子の少
なくとも一部がフッ素原子で置換された一価の炭化水素
基を表し、相互に同一又は異なっていてもよい。R’は
下記一般式(2)で表される基又はRを表し、相互に同
一又は異なっていもよい。 【化2】−O−Si(R)3 ・・・(2) ただし、一般式(1)及び(2)に含まれる全Rのうち
の少なくとも1つは、水素原子の少なくとも一部がフッ
素原子で置換された一価の炭化水素基である。Qは二価
の有機基を表す。nは10以上の整数を表す。]
1. A cosmetic containing a fluorinated polysiloxane having a structure represented by the following general formula (1). Embedded image [In the formula (1), R represents a monovalent hydrocarbon group or a monovalent hydrocarbon group in which at least a part of hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms, and they may be the same or different from each other. R'represents a group represented by the following general formula (2) or R, and may be the same or different from each other. ## STR2 ## -O-Si (R) 3 · · · (2) provided that at least one of all R are included in the general formula (1) and (2), at least part of the hydrogen atoms fluorine It is a monovalent hydrocarbon group substituted with atoms. Q represents a divalent organic group. n represents an integer of 10 or more. ]
【請求項2】 一般式(1)で表されるフッ素化ポリシ
ロキサンにおいて、Qが、1)アルキレン基;2)ポリ
メチレン基;3)フェニレン基;4)アリーレン基;
5)前記1)〜4)の基の水素原子の少なくとも一部が
更にアルキル基、フェニル基、及びアリール基からなる
群のうちの少なくとも1種で置換された基;6)前記
1)〜5)の基の構造中に、酸素原子、窒素原子又は硫
黄原子を有する官能基を含む基;及び7)前記1)〜
6)の基の水素原子の少なくとも一部が塩素原子または
臭素原子で置換された基;よりなる群から選ばれる二価
の有機基である、請求項1記載の化粧料。
2. In the fluorinated polysiloxane represented by the general formula (1), Q is 1) an alkylene group; 2) a polymethylene group; 3) a phenylene group; 4) an arylene group;
5) A group in which at least a part of hydrogen atoms of the groups of 1) to 4) are further substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group, a phenyl group and an aryl group; 6) 1) to 5 above A group containing a functional group having an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom in the structure of the group)); and 7) the above 1) to
The cosmetic according to claim 1, which is a divalent organic group selected from the group consisting of a group in which at least a part of hydrogen atoms of the group 6) is substituted with a chlorine atom or a bromine atom;
【請求項3】 前記一般式(1)で表されるフッ素化ポ
リシロキサンにおいて、Qが、1)アルキレン基;2)
ポリメチレン基;3)フェニレン基;4)アリーレン
基;5)前記1)〜4)の基の水素原子の少なくとも一
部が更にアルキル基、フェニル基、及びアリール基から
なる群のうちの少なくとも1種で置換された基;6)前
記1)〜5)の基の構造中にエーテル、チオエーテル、
エステル、ケトン、アミド、イミド、アミン及びイミン
からなる群のうちの少なくとも1種の官能基を含んだ
基;及び7)前記1)〜6)の基の水素原子の少なくと
も一部が塩素原子または臭素原子で置換された基;より
なる群から選ばれる二価の有機基である、請求項1又は
2記載の化粧料。
3. In the fluorinated polysiloxane represented by the general formula (1), Q is 1) an alkylene group; 2).
Polymethylene group; 3) phenylene group; 4) arylene group; 5) at least one of the groups 1) to 4) wherein at least a part of the hydrogen atoms further comprises an alkyl group, a phenyl group, and an aryl group. A group substituted with 6) an ether, a thioether in the structure of the group of 1) to 5) above,
A group containing at least one functional group selected from the group consisting of esters, ketones, amides, imides, amines and imines; and 7) at least some of the hydrogen atoms of the groups 1) to 6) above are chlorine atoms or The cosmetic according to claim 1 or 2, which is a divalent organic group selected from the group consisting of a group substituted with a bromine atom;
【請求項4】 前記一般式(1)で表されるフッ素化ポ
リシロキサンにおけるRが、アルキル基、フェニル基、
アリール基及びこれらの基の水素原子の少なくとも一部
がフッ素原子で置換された基よりなる群から選ばれる基
であり、且つRのうちの少なくとも1つが、水素原子の
少なくとも一部がフッ素原子で置換された基である、請
求項1〜3のいずれか一項に記載の化粧料。
4. R in the fluorinated polysiloxane represented by the general formula (1) is an alkyl group, a phenyl group,
An aryl group and a group selected from the group consisting of a group in which at least a part of hydrogen atoms of these groups are substituted with a fluorine atom, and at least one of R is at least a part of hydrogen atoms being a fluorine atom. The cosmetic according to any one of claims 1 to 3, which is a substituted group.
【請求項5】 前記一般式(1)で表されるフッ素化ポ
リシロキサンが、下記一般式(3)で表される珪素化合
物を加水分解重縮合させた後、これに下記一般式(4)
で表される珪素化合物及び/又は下記一般式(5)で表
される珪素化合物、もしくは下記一般式(6)で表され
る珪素化合物を末端封鎖剤として反応させることより得
られるものである、請求項1〜4のいずれか一項に記載
の化粧料。 【化3】 [式(3)、(4)、(5)及び(6)中、R及びQ
は、前記一般式(1)におけるのと同義である。また、
Xは加水分解性の基を表す。]
5. The fluorinated polysiloxane represented by the general formula (1) is hydrolyzed and polycondensed with a silicon compound represented by the following general formula (3), and then the silicon compound represented by the following general formula (4) is added thereto.
And a silicon compound represented by the following general formula (5) or a silicon compound represented by the following general formula (6) as a terminal blocking agent. The cosmetic according to any one of claims 1 to 4. Embedded image [R and Q in Formulas (3), (4), (5) and (6)
Is as defined in the above general formula (1). Also,
X represents a hydrolyzable group. ]
【請求項6】 一般式(1)に表されるフッ素化ポリシ
ロキサンの含有量が化粧料全量に対し0.1〜20重量
%である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の化粧
料。
6. The content of the fluorinated polysiloxane represented by the general formula (1) is from 0.1 to 20% by weight based on the total amount of the cosmetic, and the content is from 1 to 5. Cosmetics.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108350002A (en) * 2015-10-14 2018-07-31 依视路国际公司 Include the optical article of the precursor coating of the anti-fog coating with antifouling properties obtained by amphipathic compound

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