JPH09291148A - 変成ポリフェニレンオキサイドの製法、この製法による変成ポリフェニレンオキサイドを用いたエポキシ樹脂組成物、この組成物を用いたプリプレグ、及びこのプリプレグを用いた積層板 - Google Patents
変成ポリフェニレンオキサイドの製法、この製法による変成ポリフェニレンオキサイドを用いたエポキシ樹脂組成物、この組成物を用いたプリプレグ、及びこのプリプレグを用いた積層板Info
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Abstract
染み込み性、高周波特性に優れた積層板の製造に有用な
変成ポリフェニレンオキサイド(変成PPO)の製法、
変成PPOを用いたエポキシ樹脂組成物、この組成物を
用いたプリプレグ及びこのプリプレグを用いた積層板を
提供する。 【解決手段】 数平均分子量が10000〜3000
0の高分子量のPPOをポリフェノール性化合物とラジ
カル開始剤の存在下で再分配反応させて得られた数平均
分子量が1000〜3000のフェノール変性PPO及
びエピクロルヒドリンとを反応させる。この生成物は末
端にエポキシ基を有する低分子の変成PPOで、この変
成PPOを含むエポキシ樹脂組成物、プリプレグ、及び
積層板。
Description
ンオキサイドの製法、この製法による変成ポリフェニレ
ンオキサイドを用いたエポキシ樹脂組成物、この組成物
を用いたプリプレグ、及びこのプリプレグを用いた積層
板に関し、半導体等の電子部品を搭載する回路板に加工
される積層板に有用なものである。
及びポリフェニレンオキサイド(以下、PPOと記す)
の硬化物がガラスクロスと一体となった積層板は、19
70年にはすでに知られている。この種のポリフェニレ
ンオキサイド−エポキシ樹脂系の熱硬化型樹脂の硬化物
から成る積層板は、優れた高周波特性、特に、誘電率、
誘電正接の特性を備えている点で、衛星通信波領域で使
用されるXバンド(10GHz)領域に好適である。
移温度が高いことに関連して溶融粘度が高ために、この
種のPPOを含有したプリプレグを加熱加圧する成形加
工性が悪い。
する解決手段が模索されているが、PPOは相溶性が乏
しく、機械的強度に難点があり、この問題解決のために
相溶化剤として両者のポリマーのグラフト、またはブロ
ックの共重合体の使用が考えられる。これらの共重合体
は無変成のPPOの末端に結合したフェノール性水酸基
を他のポリマー中の官能基と反応させることによって生
成される。これらの他のポリマーで変成したPPOとし
ては、たとえば特公昭53−12557号公報によって
固有粘度0.6以下のPPOとエピクロルヒドリンを触
媒の存在下で反応させることによって末端をエポキシ化
した変成PPOを製造する方法、特開平4−26142
6号によって末端をエポキシ化した変成PPOにポリカ
ルボン酸を反応させることによって末端カルボン酸変成
PPOを製造する方法、特開平4−80231号公報に
よって末端をエポキシ化した変成PPOにポリアミン化
合物を反応させることによって末端アミノ化変成PPO
を製造する方法が知られている。
述の如く溶融粘度が高く、その結果積層板の銅箔のピー
リング強度が弱く、プリプレグの層間にメッキが染み込
む現象が起き、また樹脂の含浸性が悪いことに起因する
半田耐熱性が低い問題がある。
鑑みてなされたもので、その目的とするところは、金属
箔の引き剥がし強度、半田耐熱性、メッキ染み込み性並
びに高周波特性の指標である誘電率、誘電正接特性に優
れた積層板の製造に有用なエポキシ樹脂組成物を構成す
る変成ポリフェニレンオキサイドの製法、変成ポリフェ
ニレンオキサイドを用いたエポキシ樹脂組成物、この組
成物を用いたプリプレグ、及びこのプリプレグを用いた
積層板を提供するものである。
求項3に係る変性ポリフェニレンオキサイドの製法は、
数平均分子量が10000〜30000の高分子量のポ
リフェニレンオキサイドをポリフェノール性化合物とラ
ジカル開始剤の存在下で再分配反応させて得られた数平
均分子量が1000〜3000のフェノール変性ポリフ
ェニレンオキサイド、及びエピクロルヒドリンとを反応
させるもので、末端にエポキシ基を導入した低分子量の
変成ポリフェニレンオキサイドが生成する。
物は、エポキシ樹脂、請求項1乃至請求項3に係る製法
によって得られた変成ポリフェニレンオキサイド、及び
エポキシ樹脂の硬化剤を必須成分として含有し、金属箔
の引き剥がし強度、半田耐熱性、メッキ染み込み性並び
に高周波特性の指標である誘電率、誘電正接特性に優れ
た積層板の製造に有用なものである。
求項4のエポキシ樹脂組成物を基材に含浸し、このエポ
キシ樹脂組成物中のエポキシ樹脂とエポキシ変成ポリフ
ェニレンオキサイドがエポキシ樹脂の硬化剤によりBス
テージに半硬化したもので、金属箔の引き剥がし強度、
半田耐熱性、メッキ染み込み性並びに高周波特性の指標
である誘電率、誘電正接特性に優れた積層板の製造に有
用なものである。
5のプリプレグを加熱加圧したもので、プリプレグ中の
半硬化したエポキシ樹脂の硬化が完結すると、エポキシ
樹脂の硬化物の架橋構造にポリフェニレンオキサイドが
関与し、その結果、金属箔の引き剥がし強度、半田耐熱
性、メッキ染み込み性並びに高周波特性の指標である誘
電率、誘電正接特性に優れたものである。
変成ポリフェニレンオキサイドは、末端にエポキシ基が
導入された変成PPOである。この変成PPOは、エポ
キシ樹脂の硬化物の架橋構造に関与するもので、数平均
分子量が10000乃至30000の高分子PPOをフ
ェノール性化合物と高分子PPOのラジカル開始剤の存
在下で再分配反応させることによって末端にフェノール
性化合物のフェノール性水酸基を有する低分子のフェノ
ール変成PPOを原料とし、このフェノール変成PPO
は数平均分子量が1000〜3000に制限される。す
なわち、フェノール変成PPOの数平均分子量が100
0未満では積層板の耐熱性が低下し3000を越える
と、基材に含浸したエポキシ樹脂のBステージに変成し
た半硬化物の溶融粘度が増大し、その結果積層板の金属
箔の引き剥がし強度、半田耐熱性、メッキ染み込み性の
性能を阻害するからである。
例を示すとポリ(2,6−ジメチル−1,4フェニレン
オキサイド)を挙げることができる。このような高分子
PPOは、たとえばUSP4,059,568号の明細
書に開示された合成法により製造することができる。
るフェノール性化合物としては、ポリフェノールのビス
フェノールA、フェノ−ルノボラック、クレゾールノボ
ラック等、フェノール性水酸基を分子内に2個以上有す
る多官能のフェノール類が好ましい。ラジカル開始剤と
しては、ジクミルパーオキサイド、tert−ブチルク
ミルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサ
イド、2・5−ジメチル−2・5−ジ−tert−ブチ
ルパーオキシヘキシン3、2・5−ジメチル−2・5−
ジ−tert−ブチルパーオキシヘキサン、α・α’−
ビス(tert−ブチルパーオキシ−m−イソプロピ
ル)ベンゼン〔1・4(または1・3)−ビス(ter
t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼンともい
う〕、ベンゾイルパーオキサイド(以下、BPOと記
す)などの過酸化物を挙げることができる。また、開始
剤として過酸化物ではないが、市販の開始剤である日本
油脂(株)製の商品名「ビスクミル」(1分半減温度3
30℃)を使用することもできる。
10000乃至30000の高分子PPOとフェノール
性化合物をトルエン、クロロホルム等の溶媒中で反応さ
せると、先ず高分子PPOがラジカル化され、直鎖が切
断された低分子のPPOが生成する再分配反応が進行
し、この活性化された低分子PPOとフェノール性化合
物とが反応して末端にフェノール性化合物のフェノール
性水酸基を有する低分子のフェノール変成PPOが生成
する。
ポリフェニレンエーテル100重量部に対して3〜10
重量部で、フェノール性化合物の量は3〜20重量部が
適量である。すなわち、ベンゾイルパーオキサイドなら
びにフェノール性化合物の添加量が過剰になると、再分
配反応が過度に進行し低分子のポリフェニレンオキサイ
ドの数平均分子量が低下し、その結果前述の如く耐熱性
が低下する。また、少な過ぎると再分配反応が進行せず
数平均分子量の低下が起こらない。
ン等の芳香族炭化水素系溶媒中で80〜120℃に10
〜100分加熱して行う。この再分配反応を通して、末
端にフェノール性化合物のフェノール性水酸基を有する
低分子のフェノール変成PPOが生成する。
ドを生成する、低分子PPOから成るフェノール変成P
POとエピクロルヒドリンとの反応について説明する。
フェノール性水酸基と反応してエポキシ化するエピクロ
ルヒドリンのモル数は、末端のフェノール性水酸基に対
して1倍以上好ましくは2倍以上の割合で使用し、反応
条件は80〜120℃で1〜10時間が好ましい。この
反応には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアル
カリ金属の水酸化物の水溶液が有効で、エピクロルヒド
リンのエポキシ基に対して1当量以上好ましくは1.2
当量以上特に好ましくは1.5当量以上使用する。この
反応には、前述のPPOの再分配反応の際に用いた溶媒
を引き続き使用してもよく、他の溶媒に切り換えてもよ
い。反応後は、系を冷却しメタノールの如きPPOに対
して貧溶媒に生成物を注ぎ込み沈殿として析出させ、さ
らにこの沈殿物を濾過して分離し、水又はメタノールで
洗浄し、未反応のエピクロルヒドリンや前記の触媒を除
去した後50〜80℃で減圧乾燥して、目的とする本発
明の変成ポリフェニレンオキサイドを高い純度で得るこ
とができる。
フェニレンオキサイドは、溶融粘度が低く流動性に富
み、ビスフェノ−ルA型エポキシ樹脂、ビスフェノ−ル
F型エポキシ樹脂、ビスフェノ−ルS型エポキシ樹脂、
フェノ−ルノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹
脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹
脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、及び、多官能エポキシ
樹脂等のエポキシ樹脂にも相溶性に富み、均質なワニス
を構成するエポキシ樹脂組成物を与える。
イドは、ポリアミンやポリカルボン酸化合物を反応させ
て末端アミンPPOや末端カルボン酸PPOを製造する
原料としても有用である。
れる、本発明のエポキシ樹脂組成物について説明する。
このエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、上記の変成
ポリフェニレンオキサイド、及びエポキシ樹脂の硬化剤
を必須成分として含有して成るもので、上記の変成ポリ
フェニレンオキサイドは末端にエポキシ基を有する樹脂
であるからして、この樹脂とは別に配合される上記エポ
キシ樹脂とともにエポキシ樹脂成分として作用する。こ
こで、エポキシ樹脂組成物の主要成分である上記エポキ
シ樹脂としては、積層板に使用されるエポキシ樹脂であ
れば特に限定されるものではなく、例えば、ビスフェノ
−ルA型エポキシ樹脂、ビスフェノ−ルF型エポキシ樹
脂、ビスフェノ−ルS型エポキシ樹脂、フェノ−ルノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、ヒダントイ
ン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ビフェニル型
エポキシ樹脂、及び、多官能エポキシ樹脂等が挙げら
れ、これらの単独あるいは混合して使用される。さら
に、これらの樹脂を臭素化した難燃化エポキシ樹脂も使
用することができる。
通常使用される第一級、第2級アミン等のアミン系、ビ
スフェノールA、ビスフェノールF等のポリフェノール
を含むフェノール系、酸無水物系を挙げることができ
る。これらは、単独あるいは複数混合して使用される。
に応じて例えばイミダゾール系の硬化促進剤、その他通
常使用される促進剤が添加される。
ついて言及すると、エポキシ基を導入した変成PPOは
硬化剤によって主要成分のエポキシ樹脂とも結合する。
したがって、変成PPOはエポキシ樹脂の架橋構造に架
橋構造に関与することになる。
でガラス布、ガラス不織布等に含浸乾燥して得られたプ
リプレグは、金属箔の引き剥がし強度、半田耐熱性、メ
ッキ染み込み性並びに高周波特性の指標である誘電率、
誘電正接特性に優れた積層板を与える。
くることができる。ワニス中に基材を浸漬するなどし
て、基材にこれらの樹脂ワニスを含浸させ付着させる。
プリプレグの樹脂含有量は、特に限定しないが、30〜
70重量%とするのが好ましい。また、含浸時には、樹
脂ワニスを25〜35℃に保つと樹脂ワニス中のエポキ
シ樹脂に対する硬化剤の硬化反応を阻止し、基材への含
浸性を高めることができ、積層板の特性を良好にするこ
とができる。樹脂ワニスを含浸後加熱乾燥するに当たっ
ては、80〜180℃の温度が好ましい。その理由は、
この加熱乾燥が不十分であると、プリプレグ表面部分の
みの乾燥に止まり溶媒が内部に残留する為にプリプレグ
の表面と内部との間で樹脂の濃度差に起因する歪が生
じ、プリプレグ表面に微細なクラックが発生する。ま
た、過度に加熱乾燥をすると、プリプレグ表面では乾燥
過程で急激な粘度変化が起こるためにプリプレグ表面に
スジムラや樹脂タレが発生し、金属箔とプリプレグとの
密着性にムラが生じ、その結果金属箔の引き剥がし強
さ、半田耐熱性、誘電特性に大小、強弱のムラが発生す
る。
ミドクロス、ポリエステルクロス、パルプ紙、リンター
紙等が挙げられる。
記のプリプレグの数枚と要すれば金属箔を積層して被圧
体とし、この被圧体を加熱加圧して積層板を得る。金属
箔としては、銅箔、アルミニューム箔等が用いられる。
加圧は、金属箔およびシートの接合と、厚みの調整のた
めに行うので、加圧条件は必要に応じて選択することが
できる。また、変成ポリフェニレンオキサイドとエポキ
シ樹脂とこれらののエポキシ樹脂の硬化剤の架橋反応
は、主として硬化剤の反応特性に依存するので、硬化剤
の種類に応じて加熱温度、加熱時間を選ぶ。たとえば、
一般には温度150〜300℃、圧力50kg/c
m2 、時間10〜60分程度が目安である。
は、エポキシ樹脂とポリフェニレンオキサイドの特性が
損なわれず、誘電特性等の高周波特性が優れ、しかも半
田耐熱性を左右する耐熱性、接着強度の強弱に起因する
スルホール、パンチング等の加工性、メッキ液の染み込
みの信頼性も優れたものとなる。
媒を介して樹脂ワニスとし、この樹脂ワニスをガラスク
ロス等の基材に含浸乾燥してプリプレグとしての使用例
に限るものではなく、たとえばキャスチィング法により
基材を含まないシートを作成し、このシートをプリプレ
グに代用することもできる。このキャステング法に依る
ときは、例えばワニスをワニスの溶媒に不溶のポリエス
テルフィルム、ポリイミドフィルムなどの離型シートに
5〜700μmの厚みに塗布し、十分に乾燥させると、
ブレンドした樹脂を熱溶融する押出成形によるのと比較
すると比較的低温でより容易にシ−卜を造ることができ
る点で優れている。ワニスをキャステングする前記シー
トは、離型剤で表面処理したシートを用いると剥離が容
易になるので実際的である。
具体的に説明する。
分子PPO(日本G.E.プラスチック(株)製)10
0重量部(以下、部と記す)、ベンゾイルパーオキサイ
ド6部、及びフェノール性化合物のビスフェノ−ルA6
部にトルエン100部を添加し90℃にて60分間攪拌
し、再分配反応させて末端にフェノール性化合物のフェ
ノール性水酸基を有する低分子のフェノール変性PPO
の溶液を得た。この溶液をゲル浸透クロマトグラフ(カ
ラム構成:東ソー(株)製 SuperHM-M(1本)+SuperH
M −H (1本))にて分子量分布を測定した結果、数平
均分子量は2300であった。
リン8部と水酸化ナトリューム水溶液(50%)8部を
加えて100℃で4時間攪拌した後に室温まで冷却しメ
タノール1リットルを加えて末端にエポキシ基を導入し
た変性PPOを沈殿させた。この沈殿物を濾別し、メタ
ノール1リットルと水1リットルで2回洗浄し、最後に
メタノール1リットルで洗浄し、70℃で減圧乾燥し、
変成ポリフェニレンオキサイド(変成PPO(A))を
精製した。
ンとの反応率は91%であった。この反応率は、PPO
の1.5重量%の四塩化炭素溶液を光路長10mmの石
英セルを用いて赤外線スペクトルを測定し、反応前後の
フェノール性水酸基の吸光度(3622cm-1)の値に
より求めた。
フェノール変成PPOの溶液を用い、(表1)に示す配
合に基づき実施例1と同一の条件でエピクロルヒドリン
を反応させ、エポキシ基を導入した本発明の変性ポリフ
ェニレンオキサイド(変成PPO(B))、(変成PP
O(C)を得た。
O100部、ベンゾイルパーオキサイド4部、及びフェ
ノール性化合物のビスフェノ−ルA4部にトルエン10
0部を添加し、実施例1と同一の反応条件で再分配反応
させて末端にフェノール性化合物のフェノール性水酸基
を有する低分子のフェノール変性PPOの溶液を得た。
数平均分子量は2800であった。
リン4部と水酸化ナトリューム水溶液(50%)24部
を加えて実施例1と同一の条件で反応させて末端にエポ
キシ基を導入した変性PPOを沈殿させた。この沈殿物
を濾別し、メタノール1リットルと水1リットルで2回
洗浄し、最後にメタノール1リットルで洗浄し、70℃
で減圧乾燥し、変成ポリフェニレンオキサイド(変成P
PO(D))を精製した。
O100部、ベンゾイルパーオキサイド10部、及びフ
ェノール性化合物のビスフェノ−ルA10部にトルエン
100部を添加し、実施例1と同一の反応条件で再分配
反応させて末端にフェノール性化合物のフェノール性水
酸基を有する低分子のフェノール変性PPOの溶液を得
た。数平均分子量は1300であった。
リン24部と水酸化ナトリューム水溶液(50%)24
部を加えて実施例1と同一の条件で反応させて末端にエ
ポキシ基を導入した変性PPOを沈殿させた。この沈殿
物を濾別し、メタノール1リットルと水1リットルで2
回洗浄し、最後にメタノール1リットルで洗浄し、70
℃で減圧乾燥し、変成ポリフェニレンオキサイド(変成
PPO(E))を精製した。
PO(A)、(B)、(C)、(D)、(E)を製造し
たPPO、エピクロルヒドリン、水酸化ナトリウムの配
合比率を示した。
施例5で得た変成PPO(A)、(B)、(C)を用い
て (表2)に示した成分の配合割合に従いセパラブル
フラスコに入れ、室温で30分間攪拌し空冷を行い25
℃のワニスを得た。このワニスは初期の粘度も小さく、
析出現象もなく保存性に優れていた。24時間後に樹脂
ワニスを0.1mmのEガラスクロスに含浸し、140
℃で4分間乾燥し、樹脂含有率53重量%のプリプレグ
を得た。このプリプレグは、(表3)に示す如く、表面
が平滑で樹脂の含浸ムラもなく、このワニスの良好な含
浸性を裏付けるものであった。
浸性について評価した結果を(表3)に示した。
その両面に18μmの銅箔を配置して被圧体とし、19
0℃で圧力20kg/cm2 で100分加熱加圧し両面
に銅箔が積層された銅張り積層板を得た。この積層板に
ついて銅箔引き剥し強さ、PCT半田耐熱性、誘電率、
及び誘電正接を測定し、測定結果を(表3)に示した。
なお、誘電率、及び誘電正接はMILに規定する測定条
件によった。
イルパーオキサイド1部、及びフェノール性化合物のビ
スフェノ−ルA1部にトルエン100部を添加し90℃
にて60分間攪拌し、再分配反応させてフェノール変成
PPOの溶液を得た。このフェノール変性PPOの数平
均分子量は17000であった。
と水酸化ナトリューム水溶液(50%)2部を加え、実
施例1と同一の反応条件、処理条件で変性ポリフェニレ
ンオキサイド(変成PPO(F)を精製した。反応率は
92%であった。
1部、ベンゾイルパーオキサイド30部、及びフェノー
ル性化合物のビスフェノ−ルA30部にトルエン100
部を添加し比較例1と同一の条件で再分配反応させてフ
ェノール変成PPOの溶液を得た。このフェノール変性
PPOの数平均分子量は700であった。
と水酸化ナトリューム水溶液(50%)2部を加え、実
施例1と同一の反応条件、処理条件で変性ポリフェニレ
ンオキサイド(変成PPO(G)を精製した。
1部、ベンゾイルパーオキサイド2部、及びフェノール
性化合物のビスフェノ−ルA2部にトルエン100部を
添加し比較例1と同一の条件で再分配反応させてフェノ
ール変成PPOの溶液を得た。このフェノール変性PP
Oの数平均分子量は3400であった。
と水酸化ナトリューム水溶液(50%)2部を加え、実
施例1と同一の反応条件、処理条件で変性ポリフェニレ
ンオキサイド(変成PPO(H)を精製した。
較例3の変成PPO(F)、(G)、(H)を用いて、
(表2)に示した成分の配合割合に従い実施例6乃至実
施例10と同一の条件でワニスを得た。このワニスを実
施例と同一のEガラスクロスに同一条件で含浸乾燥しプ
リプレグを得た。このプリプレグを用いて実施例と同一
の条件で銅張り積層板を得た。
レグ特性、積層板特性を対比すると、銅箔引き剥がし強
さ、半田耐熱性、メッキ染み込み性並びに高周波特性の
指標である誘電率、誘電正接特性に優れていることが明
白で、これは樹脂ワニスの含浸性が高まり、且つ本発明
の変成ポリフェニレンオキサイドがエポキシ樹脂の硬化
物を構成する架橋構造に関与していることによるもので
ある。
さ、半田耐熱性、メッキ染み込み性並びに高周波特性の
指標である誘電率、誘電正接特性に優れた積層板を与え
ることができる。
Claims (6)
- 【請求項1】 数平均分子量が10000〜30000
の高分子量のポリフェニレンオキサイドをポリフェノー
ル性化合物とラジカル開始剤の存在下で再分配反応させ
て得られた数平均分子量が1000〜3000のフェノ
ール変成ポリフェニレンオキサイド、及びエピクロルヒ
ドリンとを反応させることを特徴とする末端をエポキシ
化した変成ポリフェニレンオキサイドの製法。 - 【請求項2】 上記ラジカル開始剤がベンゾイルパーオ
キサイドである請求項1の変成ポリフェニレンオキサイ
ドの製法。 - 【請求項3】 上記フェノール変成ポリフェニレンオキ
サイドにエピクロルヒドリンを反応させる際に触媒とし
てアルカリ金属の水酸化物を用いる請求項1又は請求項
2の変成ポリフェニレンオキサイドの製法。 - 【請求項4】 エポキシ樹脂、請求項1ないし請求項3
いずれかの製法によって得られた変成ポリフェニレンオ
キサイド、及びエポキシ樹脂の硬化剤からなるエポキシ
樹脂組成物。 - 【請求項5】 請求項4のエポキシ樹脂を基材に含浸し
たプリプレグ。 - 【請求項6】 請求項5のプリプレグを加熱加圧した積
層板。
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