JPH09291361A - 光学窓交替装置が備えられた光化学気相蒸着装置および光学窓交替方法 - Google Patents

光学窓交替装置が備えられた光化学気相蒸着装置および光学窓交替方法

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JPH09291361A
JPH09291361A JP8053492A JP5349296A JPH09291361A JP H09291361 A JPH09291361 A JP H09291361A JP 8053492 A JP8053492 A JP 8053492A JP 5349296 A JP5349296 A JP 5349296A JP H09291361 A JPH09291361 A JP H09291361A
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chamber
fixing
optical
gate plate
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Young Chang Eom
ヤン・チャン・ウォム
In Ho Hwang
イン・ホー・ホワン
Koeng Su Lim
ケン・スー・リム
Chang Hyun Lee
チャン・ヒュン・リー
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Korea Electric Power Corp
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/48Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating by irradiation, e.g. photolysis, radiolysis, particle radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光化学気相蒸着装置において、反応室の内部
を半永久的に大気に露出させることなく、曇った光学窓
を洗浄された光学窓に交換することのできる光化学気相
蒸着装置を提供する。 【解決手段】 この発明に基づく光化学気相蒸着装置に
おいては、ゲートバルブ109を閉鎖して光学窓交換室
119と光学窓固定室118を隔離した後、光学窓交換
室119を大気圧に保持し、開閉口129を開放して光
学窓交換孔117を通じて曇った光学窓を洗浄された光
学窓に交換する。このとき、光学窓固定室118と光学
窓交換室119はゲートバルブ109によって完全に遮
断隔離された状態に、反応室101と光学窓固定室11
8は継続的に高真空に保持される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、光学窓交替装置
が備えられた光化学気相蒸着装置および光学窓交替方法
に関するものであり、より特定的には、光化学気相蒸着
装置の反応室の内で光化学気相蒸着反応時、反応ガスの
分解によって生成された物質あるいは蒸着に用いられた
物質の付着によって曇った光学窓を反応室の内部を大気
に露出させることなく、洗浄された光学窓に交替できる
光学窓交替装置が備えられた光化学気相蒸着装置(以
下、光CVD装置と称する。)および前記光化学窓交替
装置を使用して光CVD装置の光学窓を交替する方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】光CVD装置は紫外線、赤外線、可視光
線または位相が並んでいる(コヒーレント)レーザ発生
源から放出される高エネルギの光子を用いて、光化学気
相蒸着反応のため、必要な真空状態で保持された反応室
のうちに位置した基板表面を加熱したり、反応ガスを励
起させ、基板表面に気相蒸着を遂行するのに使用される
装置として、上記光CVD装置は、取気口と排気口が備
えられた反応室と、反応室の外部上段に位置した光源
と、反応室のうちの基板を加熱するための加熱ヒーター
および加熱支持台と、反応室の上段に付着されて上記光
源から放出された光を反応室の内部へ入射させると同時
に、反応室を密閉できるように合成石英などで形成され
た光学窓と、反応室を高真空に排気させるための真空ポ
ンプなどの真空排気手段からなる。
【0003】上記通常的な光CVD装置においては、薄
膜蒸着時、光化学気相蒸着反応により生成された反応生
成物および蒸着に使用された反応ガスが、反応室の内壁
ばかりでなく、光源と反応室内の基板の間に位置した光
学窓に付着され、光学窓が曇ったことになる。その結
果、反応室内への光透過率が低下され、蒸着反応の効率
が低下されるばかりでなく、蒸着反応の再現性が落ちる
ので、光学窓を洗浄することなくては、光CVD工程を
連続的に遂行することができないという問題点を持って
いた。
【0004】したがって、上記問題点を解決するため、
蒸着反応によって、曇った光学窓を洗浄するための洗浄
手段が備えられた光CVD装置を開発するための多様な
試みが行なわれてきたし、これと関連された、従来技術
に対しては次のような文献に開示されている。
【0005】日本特許公開JP62−190833Aに
は光学窓を洗浄するため、プラズマエッチングを使用す
る光CVD装置が開示されているように、図1に図示さ
れたように、上記光CVD装置は取気口5、排気口6、
加熱ヒータ4および加熱支持台3が備えられた反応室の
中央に、ゲートバルブ7を設け、反応室を反応室1と光
導入室11で両分し、光導入室11の上段には光学窓1
2が付設され、取気口8および排気口9が側設され、光
導入室11の内部には、プラズマ電極10が形成されて
構成される。
【0006】上記光CVD装置では、光CVD工程によ
り、光学窓が曇ればゲートバルブ7を閉めて反応室1と
光導入室11を隔離し、NF4 などのようなエッチング
ガスを光導入室11に導入した後、プラズマ電極10に
高周波電圧を印加することとして、プラズマを発生さ
せ、光学窓12および光導入室11の内壁に付着された
反応生成物および反応ガス膜をエッチングして光学窓1
2を洗浄することになる。以後、光学窓12の洗浄が完
了すれば、光導入室11のガスを排気口9を通じて高真
空で排気した後、ゲートバルブ7を開放して再び光CV
D工程を遂行する。
【0007】上記従来の光CVD装置は光学窓を光CV
D装置から分離することなく、すなわち、反応室の内部
を大気に露出させずに、光学窓を洗浄できるので、大気
中の酸素、窒素および水分などの汚染源から反応室を隔
離させ、半永久的に反応室を高純度で保持することがで
きるし、装置の稼動効率を向上させることができる。
【0008】しかしながら、上記従来技術による光CV
D装置はプラズマエッチングのため、用いられたエッチ
ングガスにより反応室が汚染されることになるし、光学
窓の一面は、高真空の反応室の内部に位置する反面、反
対面は大気に露出させるように構成され、蒸着反応のた
め、必要な真空状態に保持された反応室の内外の圧力差
に耐えるためには、光学窓の厚さを厚く形成すべきであ
るという問題点を有していた。
【0009】特に、大面積の薄膜を形成するときは、光
学窓を大面積に形成すべきなので、これによって光学窓
の厚さが厚くなって光源から放出された光エネルギの光
学窓による吸収損失が増加することになる。その結果、
上記光CVD装置は、大面積の薄膜蒸着には効果的に使
用されることができないという限界を持っていた。
【0010】日本特許公開JP63−77111Aに
は、取気口、排気口、加熱ヒータおよび加熱支持台が備
えられた反応室の上段に、光学窓が付設され、光学窓を
通じて入射される光に、平行に光学窓の内面に、不活性
ガスを導入するための手段を反応室の上側端に付設して
構成することとして、不活性ガスの流れによって光学窓
の曇り援助を防止する光CVD装置に対して開示されて
いる。
【0011】しかしながら、上記従来技術では、不活性
ガスの流れによって蒸着工程中の反応ガスの流れが影響
を受け、薄膜蒸着に悪影響を及ぼすし、光学窓に対する
反応生成物および反応ガスの付着を効果的に防止できな
いので、光学窓が曇って連続的な蒸着工程の遂行が不可
能であるという問題点を持っていた。
【0012】また、日本特許公開JP62−26682
2Aには、機械的な方式で光学窓を交替できる光学窓交
替装置が備えられた光CVD装置に対して、開示されて
いる。上記従来の光CVD装置は、図2に図示されたよ
うに、取気口25、排気口26、加熱ヒータ22および
加熱支持台24が備えられた反応室21の上部に開口3
2が形成され、反応室21の開口32の面積の2倍以上
の面積を有し、光学窓28が中央に付着された蓋29が
反応室21の外部に位置したローラ30上から、両方に
移動できるように形成され、蓋29と反応室21はOリ
ング31によって密閉形成される。
【0013】上記従来の光CVD装置では、基板23を
加熱支持台24上に載せ、光源27によって光を照射し
て蒸着工程を遂行した後、光学窓28に反応生成物およ
び反応ガスが付着されて光学窓28が曇ると、光学窓2
8が付着された蓋29を、右側に移動させて光学窓28
の半分を洗浄して、再び蓋29を左側に移動させて光学
窓28の残り半分を洗浄した後、光学窓28を本来の位
置に復帰させ、再び蒸着工程を遂行する。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術による光CVD装置は、蓋29がローラ30上で
左右に移動されるため、ローラ30およびOリング31
と光学窓28の摩擦による粉塵発生はむろん、光学窓2
8が汚染あるいは損傷されるおそれがあるし、ローラ3
0およびOリング31と光学窓28の摩擦により、反応
室21のガスが漏出されるところが発生し、反応室の真
空密閉を保持するのに困難であるばかりでなく、光学窓
28の一面が大気に露出されているため、大面積の蒸着
を蒸着できる光CVD装置の製造が、不可能であるとい
う問題点を持っていた。
【0015】したがって、本発明は上記従来技術の問題
点を回避するためなされたもので、本発明の1つの目的
は光CVD装置の蒸着工程中、反応生成物および反応ガ
スの付着によって曇った光学窓を反応室の内部を半永久
的に大気に露出させることなく、機械的な方式によって
洗浄された光学窓に交替できるし、粉塵発生のおそれが
ないので、反応室の清浄状態を保持できるし、光学窓と
反応室との真空密閉を効果的に保持できるし、付加的な
エッチングガスの使用による反応室の汚染および反応ガ
スに対する悪影響を防止できるばかりでなく、大面積の
薄膜蒸着にも効果的に使用されることができる光学窓交
替装置が備えられた光CVD装置を提供することにあ
る。
【0016】また、本発明の他の目的は、上記光学窓交
替装置を使用して、光CVD装置の蒸着工程中、反応生
成物および反応ガスの付着により、曇った光学窓を反応
室の内部を半永久的に大気に露出されることなく、洗浄
された光学窓に簡単に交替できる光学窓交替方法を提供
することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明の一面に従って、
上記目的を達成する本発明の光学窓交替装置が備えられ
た光化学気相蒸着装置は、取気口、排気口、基板加熱支
持台および加熱ヒータが備えられ、上段に光学孔が形成
され、蒸着反応を遂行するための反応室と、上記反応室
の上部に形成され、取気口および排気口と上段に光通過
口が備えられ、光学窓移送手段によって移送された光学
窓の脱装着が遂行される光学窓固定室と、上記光学窓固
定室の光通過口の上部に付設され、光化学気相蒸着反応
のため必要なエネルギを有した光を、上記光通過口に装
着されたビューポートを通じて反応室の内部へ照射する
ための光源と、上記光学窓固定室と横方向に一体に延長
形成され、取気口および排気口と下段に光学窓の交替の
ための開閉口が備えられ、光学窓移送手段によって移送
された曇った光学窓と、洗浄された光学窓の交替が遂行
される光学窓交替室と、上記光学窓固定室と光学窓交替
室の間に設けられ、光学窓固定室と光学窓交替室を連通
または隔離させるための開閉手段と、光学窓が装着さ
れ、前記光学窓交替室と光学窓固定室を往復しながら光
学窓を移送し、反応室の光学孔の上に光学窓を脱装着す
るための光学窓移送手段と、上記光学窓移送手段と連結
され、光学窓移送手段が光学窓交替室と光学窓固定室内
で往復するように、駆動力を提供するための駆動手段と
を含んでいる。
【0018】このとき、上記光源を光学窓固定室と同様
な環境にするため、上記光学窓固定室の光通過口の上部
には、光学窓固定室と連通され、中央部に光源が付設さ
れる光源室を追加に形成することが好ましい。
【0019】さらに、上記光学窓移送手段は、光源から
放出された光が追加されるように、光通過窓が中央に貫
通形成され、光学窓を固定するための固定手段が付設さ
れ、光学窓固定室の一側壁と接触し、ゲート板の水平位
置を固定するためのゲート板の水平位置固定手段が一側
面に付設されたゲート板と、上記ゲート板の上部に位置
し、光源から放出された光が通過されるように光通過孔
が中央に貫通形成され、運搬用輪が両側に付設され、上
記駆動手段と連結され、上記ゲート板を光学窓交替室と
光学窓固定室に往復移送させるための光学窓運搬板と、
上記ゲート板と光学窓運搬板に連結され、ゲート板を上
昇および下降させ、ゲート板に固定された光学窓を反応
室の光学孔の周囲に押しおよび分離させるためのゲート
板の押し手段とを含んでいる。
【0020】このとき、上記ゲート板に付設された光学
窓固定手段としては、ゲート板の下部に形成された光学
窓を固定するための円形の溝と、円形の溝の側壁に付設
されて、縁に真空密閉手段が備えられた光学窓を中央に
押す光学窓固定スプリングで構成された固定手段を使用
することもできるし、リング形状に形成され、真空密閉
手段が上下面にそれぞれ付着され、側面にリングが付設
された光学窓固定具の上板および、上記上板のリングに
連結される突出部が付設された光学窓固定具の下板から
なり、その間に光学窓を収納するためのカセット式光学
窓固定具と、ゲート板の下部に形成され、上記カセット
式光学窓固定具の下板の突出部が挿入されるように、光
学窓固定具の装着用の溝が側壁の上段に形成され、上記
カセット式光学窓固定具をゲート板に固定させるための
円形の溝から構成された固定手段を使用することもでき
る。
【0021】本発明の他の局面においては、本発明の光
学窓交替装置が備えられた光化学気相蒸着装置は、取気
口、排気口、基板加熱支持台および加熱ヒータが備えら
れ、上段に光学孔が形成され、蒸着反応を遂行するため
の反応室と、上記反応室の上部に形成され、上段に光通
過口が備えられ、光学窓移送手段によって移送された光
学窓の脱装着が遂行される光学窓固定室と、上記光学窓
固定室の光化学気相蒸着反応のため必要なエネルギを有
した光を上記光通過口に装着されたビューポートを通
じ、反応室の内部へ照射するための光源と、上記光学窓
固定室と横方向に一体に延長形成され、取気口および排
気口と下段に光学窓交替孔が形成され、光学窓移送手段
によって移送された曇った光学窓と洗浄された光学窓の
交替が遂行される光学窓交替室と、上記光学窓交替室の
交替孔を通じ、下向きに光学窓交替室と連通されるよう
に延長形成され、取気口および排気口と側面に光学窓交
替のための開閉口が備えられ、光学窓を光学窓移送手段
に脱装着するための光学窓上下移動手段が形成された光
学窓収去および装着室と、上記光学窓交替室と光学窓収
去および装着室の間に設けられ、光学窓交替室と光学窓
収去および装着室を連通または隔離させるための開閉手
段と、上記光学窓収去および装着室の光学窓の上下移動
手段によって光学窓が装着され、上記光学窓交替室と光
学窓固定室を往復しながら光学窓を移送し、反応室の光
学孔上に光学窓を脱装着するための光学窓移送手段と、
上記光学窓移送手段と連結され、光学窓移送手段が光学
窓交替室と光学窓固定室内で往復するように駆動力を提
供するための駆動手段とを含んでいる。
【0022】このとき、上記光源を光学窓固定室と同様
な環境にするため、上記光学窓固定室の光通過口の上部
には、光学窓固定室と連通されて中央部に光源が付設さ
れる光学室を追加で形成することが好ましいのである。
【0023】本発明のさらに他の局面においては、本発
明の光学窓交替装置が備えられた光化学気相蒸着装置
は、取気口、排気口、基板加熱支持台および加熱ヒータ
が備えらえ、上段に光学孔が形成され、蒸着反応を遂行
するための反応室と、前記反応室の上部に形成され、上
段に光通過口が備えらえ、光学窓移送手段によって移送
された光学窓の脱装着が遂行される光学窓固定室と、上
記光学窓固定室の光通過口の上部に付設され、光化学気
相蒸着反応のため、必要なエネルギを有した光を上記光
通過口に装着されたビューポートを通じ、反応室の内部
へ照射するための光源と、上記光学窓固定室と横方向に
一体に延長形成され、取気口および排気口と下段に光学
窓交替孔が形成され、光学窓移送手段によって移送され
た曇った光学窓と洗浄された光学窓の交替が遂行される
光学窓交替室と、上記光学窓交替室の光学窓交替孔を通
じて下向きに光学窓交替室と連通されるように延長形成
され、取気口および排気口と下段に光学窓交替のための
開閉口が備えられ、光学窓を光学窓移送手段に脱装着す
るための光学窓収去および装着室と、光源から放射され
た光が通過するように光通過孔が中央に貫通形成され、
光学窓を固定するための固定手段が付設され、光学窓固
定室の一側壁あるいはゲート板の水平位置固定用支持手
段と接触し、ゲート板の水平位置を固定するためのゲー
ト板の水平位置固定手段が一側面に付設されたゲート板
と、上記ゲート板の上部に位置し、光源から放出された
光が通過されるように光通過孔が中央に貫通形成され、
運搬用輪が両側に付設され、駆動手段と連結されて、上
記ゲート板を光学窓交替室と光学窓固定室へ往復移送さ
せるための光学窓運搬板と、上記ゲート板と光学窓運搬
板に連結され、ゲート板を上昇および下降させるための
ゲート板押し手段で構成され、光学窓が装着され、上記
光学窓交替室と光学窓固定室を往復しながら光学窓を移
送し、反応室の光学孔上に光学窓を脱装着するための光
学窓移送手段と、上記光学窓移送手段と連結され、光学
窓移送手段が光学窓交替室と光学窓固定室内で往復する
ように駆動力を提供するための駆動手段と、上記光学窓
運搬板の光通過孔の直径より小さく、上記ゲート板の光
通過孔より直径が大きな円板と上記円板に付着されて円
板を上下運動させるためのゲート板の真空密閉用支持台
で構成され、下向き運動によってゲート板の光通過孔を
真空密閉するためのゲート板の真空密閉手段が上段に付
着形成され、ゲート板の真空密閉手段を収納するための
収納室と、上記光学窓固定室と光学窓交替室の間の下段
に形成され、上下移動が可能し、上記光学窓移送手段が
光学窓交替室に位置したとき、上記駆動手段による移動
によって接触して上記ゲート板の水平位置固定手段を支
持するためのゲート板の水平位置固定用支持手段とを含
んでいる。
【0024】このとき、上記光源を、光学窓固定室と同
様な環境にするため、上記光学窓固定室の光通過口の上
部には、光学窓固定室と連通されて中央部に光源が付設
される光源室を追加で形成することが好ましい。
【0025】また、本は発明の1つの局面に従って、上
記目的を達成する本発明の光化学気相蒸着装置の光学窓
交替方法は、反応室と光学窓固定室および光学窓交替室
と高真空に排気する段階と、光化学気相蒸着装置の蒸着
工程中、反応生成物および反応ガスの付着によって曇っ
た光学窓を反応室から分離し、光学窓移送手段によって
光学窓交替室へ移送させる段階と、光学窓固定室と光学
窓交替室を開閉手段によって隔離させる段階と、隔離さ
れた光学窓交替室を大気圧に保持させる段階と、開閉口
を開放させて曇った光学窓を洗浄された光学窓に交替す
る段階と、開閉口を閉鎖させて光学窓交替室を高真空に
排気させる段階と、開閉手段を開放させて光学窓を光学
窓移送手段によって光学窓固定室へ移送させる段階と、
光学窓を垂直移動させて反応室に装着する段階とを含ん
でいる。
【0026】また、本発明の他の局面においては、上記
目的を達成する本発明の光化学気相蒸着装置の光学窓交
替方法は、反応室と光学窓固定室および光学窓交替室と
光学窓収去および装着室を高真空に排気する段階と、光
化学気相蒸着装置の蒸着工程中、反応生成物および反応
ガスの付着によって曇った光学窓を反応室から分離し、
光学窓移送手段によって光学窓交替室へ移動させる段階
と、開閉手段を開放させて光学窓の上下移動手段を上昇
させ、曇った光学窓を収去する手段と、光学窓固定室と
光学窓交替室を開閉手段によって光学窓収去および装着
室と隔離させる段階と、隔離された光学窓収去および装
着室を大気圧に保持させる段階と、開閉口を開放させて
曇った光学窓を収去して、洗浄された光学窓を光学窓の
上下移動手段に装着する段階と、開閉口を開閉させて光
学窓収去および装着室を高真空に排気させる段階と、開
閉手段を開放させて光学窓の上下移動手段を上昇させ、
光学窓移送手段に光学窓を装着する段階と、光学窓移送
手段を下降させて開閉手段を閉鎖する段階と、光学窓を
光学窓移送手段によって光学窓固定室へ移送させる段階
と、光学窓を垂直移動させて反応室に装着する段階とを
含んでいる。
【0027】さらに、本発明の他の局面においては、上
記目的を達成する本発明の光化学気相蒸着装置の光学窓
交替方法は、反応室と光学窓固定室、光学窓交替室、収
納室と光学窓収去および装着室を高真空に排気する段階
と、光化学気相蒸着装置の蒸着工程中、反応生成物およ
び反応ガスの付着によって曇った光学窓を反応室から分
離し、光学窓移送手段によって光学窓交替室へ移動させ
る段階と、ゲート板の水平位置固定用支持手段を上昇さ
せ、駆動手段を押し、光学窓移動手段のゲート板を光学
窓交替孔の周囲に密着させる段階と、ゲート板の真空密
着手段を光学窓移送手段の運搬板に形成された光通過孔
を通じて下降させ、光学窓固定室、光学窓交替室および
収納室を光学窓収去および装着室と隔離させる段階と、
隔離された光学窓収去および装着室を大気圧に保持させ
る段階と、開閉口を開放させて曇った光学窓を洗浄され
た光学窓に交替する段階と、開閉口を閉鎖させて光学窓
収去および装着室を高真空に排気させる段階と、ゲート
板の真空密閉手段を上昇させてゲート板の真空密閉手段
を収納室に収納する段階と、駆動手段を引っ張って光学
窓移送手段のゲート板を解け状態に復帰させ、ゲート板
の水平位置固定用支持手段を下降させる段階と、光学窓
を光学窓移送手段によって光学窓固定室へ移送させる段
階と、光学窓を垂直移動させて反応室に装着する段階と
を含んでいる。
【0028】上記構成よりなる本発明の光学窓交替装置
が備えられた光化学気相蒸着装置は、光化学気相蒸着装
置による蒸着工程中、反応生成物および反応ガスの付着
によって曇った光学窓を反応室の内部を半永久的に大気
に露出させることなく、機械的な方式により、洗浄され
た光学窓に交替できるし、粉塵発生のおそれがないの
で、反応室の清掃状態を保持できるし、光学窓と反応室
との真空密閉を効果的に保持できるし、付加的なエッチ
ングガスの使用による反応室の汚染および反応ガスに対
する悪影響を防止できるばかりでなく、大面積の薄膜蒸
着にも、効果的に使用されることができる。かつ、本発
明の光学窓交替装置は、上記光学窓交替装置を使用し
て、光化学気相蒸着装置の蒸着工程中、反応生成物およ
び反応ガスの付着によって曇った光学窓を反応室の内部
を半永久的に大気に露出させることなく、洗浄された光
学窓に簡単に交替できる。
【0029】上記本発明の光化学気相蒸着装置に用いら
れた光学窓交替装置および交替方法は、光化学気相蒸着
装置ばかりでなく、光エネルギを熱源で利用するランプ
加熱式の熱化学気相蒸着装置、光励起エッチング装置お
よび光学窓が備えられた後記のすべての真空蒸着装置あ
るいは成長装置において、反応室の内で反応ガスの分解
によって生成された物質または蒸着や成長に用いられた
物質の付着によって曇った光学窓を洗浄された光学膜に
交替するのに効果的に使用されることができる。
【0030】
【発明の実施の形態】以下、本発明による光学窓交替装
置が備えられた光化学気相蒸着装置(以下、光CVD装
置と称す。)および光学窓交替方法に対する好ましい実
施の形態を図面を参照してより詳細に説明する。
【0031】図3は、本発明の光CVD装置の光学窓交
替方法に対する概念図として、光CVD装置の蒸着工程
中、反応生成物および反応ガスの付着によって曇った光
学窓を交替するためには、図3に図示されたように、取
気口103と排気口102、基板108を加熱および支
持するための加熱支持台107が備えられた反応室10
1と光学窓交替室119および光学窓固定室118を排
気口102,102a,102,102bを通じて高真
空に排気した後、光学窓固定室118の下段に開けられ
た光学孔116上に密閉装着された光学窓105を光学
窓移送手段(図示せず)を使用し、光学窓交替室119
へ移動させる。その後、開閉手段であるゲートバルブ1
09を閉鎖して光学窓交替室119と光学窓固定室11
8を隔離した後、光学窓交替室119を大気圧に保持
し、開閉口129を開放して光学窓交替孔117を通じ
て曇った光学窓を洗浄された光学窓に交替する。このと
き、光学窓固定室118と光学窓交替室119はゲート
バルブ19によって完全に遮断隔離された状態に、反応
室101と光学窓固定室118は継続的に高真空に保持
される。
【0032】その後、排気口102aを通じて再び光学
窓交替室119を高真空に排気した後、ゲートバルブ1
09を開放させて、光学窓移送手段によって光学窓10
5を光学窓固定室118へ移送させる。反応室の光学孔
116の中心と光学窓105の中心が一致することにな
れば、光学窓105を垂直移動させて反応室101の光
学孔116上に光学窓105を密閉装着する。
【0033】以後には、通常的な光CVD工程に従っ
て、光源106から放出された光用基板108上に照射
させながら、基板108上に薄膜を形成する。
【0034】このとき、基板108上に薄膜を形成する
ときには、光学窓固定室118および光学窓交替室11
9の内部に取気口103a,103bを通じて窒素ある
いは不活性ガスを導入することとして、光学窓固定室1
18および光学窓交替室119の内部の圧力を反応室1
01の工程ガス圧力と同一に保持する。
【0035】上記本実施の形態における光学窓交替方法
では、光学窓105の交替過程が反応室101の真空を
破ることなく、機械的な方式からなるため、反応室10
1を半永久的に大気中に露出させないことになるため、
反応室101内部の不純物の流入防止はむろんであり、
連続的な光CVD工程が可能となり、光CVD装置の可
動効率が向上されることとして、光CVD工程の実用化
を早めることができる。
【0036】かつ、基板108上に薄膜を形成すると
き、光学窓固定室および光学窓交替室119の内部に取
気口103a,103bを通じて窒素あるいは不活性ガ
スを導入することとして、反応室101の上部に密着さ
れた光学窓105の両面に加える圧力差をなくすことが
できるため、従来の技術と違い、薄い光学窓を使用する
ことができるし、その結果、光学窓での光吸収を減少さ
れることができるため、大面積の薄膜蒸着を遂行できる
大型光CVD装置の製作が可能となる。
【0037】図4に、本発明に基づいた一実施の形態に
よる光学窓交替装置が備えられた光CVD装置の断面図
を示す。図示したように、本発明の光学窓交替装置が備
えられた光CVD装置は、取気口103、排気口10
2、基板加熱支持台107および加熱ヒータ(図示せ
ず)が備えられ、上段に光学孔116が形成され、蒸着
反応を遂行するための反応室101と、上記反応室10
1の上部に形成され、取気口103bおよび排気口10
2bと上段に光通過口147が備えられ、ゲート板11
1、光学窓運搬板110およびゲート板押し手段である
ゲート板の連結ピン113、ゲート板の連結リンク11
2とスプリング114から構成される光学窓移送手段1
48によって移送された光学窓105の脱装着が遂行さ
れる光学窓固定室118と、上記光学窓固定室118の
光通過口147上に装着されたビューポート123を通
じて、光化学気相蒸着反応に必要なエネルギを有した光
を反応室101の内部へ照射するための光源106と、
上記光学窓固定室118と横方向に一体に延長形成さ
れ、取気口103aおよび排気口102aと下段に光学
窓交替のための開閉口129が備えられ、光学窓移送手
段148によって移送された曇った光学窓と洗浄された
光学窓の交替が遂行される光学窓交替室19と、上記光
学窓固定室118と光学窓交替室119の間に設けら
れ、光学窓固定室118と光学窓交替室119を連通ま
たは隔離させるための視覚ゲートバルブ109のような
開閉手段と、光学窓105が装着され、上記光学窓交替
室118と光学窓固定室119を往復しながら、光学窓
105を移送し、反応室101の光学孔116上に光学
窓105を脱装着するための光学窓移送手段148と、
上記光学窓移送手段148と連結され、光学窓移送手段
148が光学窓交替室119と光学窓固定室118のう
ちで往復するように駆動力を提供するための駆動手段で
ある運搬棒115とを含んでいる。
【0038】図5(a)および図5(b)は、本発明の
光CVD装置に用いられた光学窓移送手段148の構成
要素中、光学窓105が装着された状態のゲート板11
1の平面図および側面図であり、図6(a)および図6
(b)は、光学窓移送手段148の構成要素中、光学窓
運搬板110の平面図および側面図である。図4ないし
図6に示されたように、上記光学窓移送手段148は、
光源106から放出された光が通過されるように光通過
孔149が中央に貫通形成され、光学窓105を固定す
るための固定手段である光学窓工程スプリング125が
付設され、光学窓固定室118の一側壁と接触し、ゲー
ト板の水平位置を固定するためのゲート板の水平位置固
定手段であるゲート板の水平位置固定用ベアリング12
1が一側面に付設されたゲート板111と、上記ゲート
板111の上部に位置し、光源106から放出された光
が通過されるように光通過孔105が中央に貫通形成さ
れ、運搬用輪120が両側に付設され、上記運搬棒11
5と連結され、上記ゲート板111を光学窓交替室11
9と光学窓固定室118へ往復移送させるための光学窓
運搬板110と、上記ゲート板111と光学窓運搬板1
10に連結され、ゲート板111を上昇および下降さ
せ、ゲート板111に固定された光学窓105を反応室
101の光学孔116の周期に押しおよび分離させるた
めのゲート板の連結リンク112、ゲート板の連結ピン
113およびスプリング114からなるゲート板押し手
段から構成される。
【0039】以下、上記構成を有した本発明の光学窓交
替装置が備えられた光CVD装置の動作に対して詳細に
説明する。
【0040】光CVD工程が完了された後、反応室10
1を窒素あるいは不活性ガスで十分に洗浄して真空排気
させた後、蒸着工程中、反応生成物および反応ガスの付
着によって曇った光学窓105を交替するため、光学窓
運搬板110に連結された運搬棒115を左側に引っ張
ると、運搬板110および運搬板110と連結されたゲ
ート板111が光学窓固定室118から光学窓交替室1
19へ移送される。光学窓移送手段148が光学窓交替
室119へ移送された後、ゲートバルブ109を閉鎖さ
せて光学窓固定室118および反応室101と光学窓交
替室119を隔離させる。このとき、光学窓交替室11
9と光学窓固定室118および反応室101はすべて高
真空状態に保持される。
【0041】窒素あるいは不活性洗浄ガスを光学窓交替
室119の取気口103aに注入して光学窓交替室11
9のみを大気圧で保持し、開閉口129を開けてゲート
板111の所定の円形の溝151に装着されている曇っ
た光学窓105を光学窓交替孔117を通じて除去した
後、洗浄された光学窓105をゲート板111の円形の
溝151に装着する。
【0042】このとき、上記ゲート板111には、光学
窓105をゲート板111に固定するため、図5に図示
されたように、ゲート板111の下部には、光学窓10
5を固定するための円形の溝151が形成され、円形の
溝151の側壁には、真空密閉手段であるOリング12
2が縁に備えられた光学窓105を中央に押すための光
学窓固定スプリング125が付設される。したがって、
光学窓105をゲート板111に装着するときには、ゲ
ート板111の円形の溝151の側壁に形成されたスプ
リング125を円形の溝151の外方に押して光学窓1
05が挿入される余分の空間を形成した後、光学窓10
5をゲート板111の円形の溝151に装着する。この
とき、ゲート板111から除去された曇った光学窓10
5は光CVD装置の外部から別途で有機溶媒などを使用
して洗浄することになる。
【0043】洗浄された光学窓105をゲート板111
に装着した後には、排気口102aを開けて排気し、再
び取気と排気過程を3〜5回繰返し、光学窓交替室11
9を十分に洗浄した後、光学窓交替室119を高真空に
排気させる。その後、ゲートバルブ109を開けてゲー
ト板111に付着された光学窓運搬板110を運搬棒1
15を使用して光学窓固定室118へ移送し、ゲート板
111に固定された光学窓105が反応室101の光学
孔116上に到達するまでゲート板111を移動させ
る。
【0044】図7(a)〜図7(c)は、本発明による
光学窓移送手段148でのゲート板111の上昇および
下降動作を示すゲート板111の作動状態図である。反
応室101の光学孔116上に到達された光学窓移送手
段148の運搬板110を運搬棒115で続いて押すよ
うになれば、ゲート板111の一側面に付設されたゲー
ト板の水平位置固定手段であるベアリング121は光学
窓固定室118の一側壁と接触され、ゲート板111の
水平位置が固定される。このとき、図7(a)に示すよ
うに、続いて運搬板111を押すようになれば、運搬板
110とゲート板111の間のゲート板の連結リンク1
12が、ゲート板111の連結ピン113を中心として
回転することとして、ゲート板111が垂直下方向に下
降され、図7(b)に示すように、運搬板110とゲー
ト板111が隔離されることになる。
【0045】ゲート板の連結リンク112がゲート板1
11に対して垂直となった状態では、光学窓運搬板11
0が最大の力で固定室118の側壁を押付けるため、ゲ
ート板111に固定された光学窓105に付設されたコ
の字形状の断面を有したOリング122が反応室101
の光学孔116の入口周辺を最大に押し、反応室101
の密閉度が高くなるが、この状態では、伸びたスプリン
グ111の復元力によってゲート板111が図7(a)
に示すように、原位置に復帰されやすい。
【0046】したがって、図7(b)に示すように、ゲ
ート板の連結リンク112が垂直である状態で、運搬板
110を右側へ少し押すようになれば、図7(c)に図
示されたように、連結リンク112が締め状態の位置に
固定されることになる。この状態では、伸びたスプリン
グ114が連結リンクに復元力を加えることになるが、
この連結リンク112が図7(b)に図示された状態を
経て、図7(a)に図示された状態に復帰されないよう
に適当な弾性係数を有したスプリング114を使用する
ことになると、連結リンク112は図7(c)に図示さ
れた状態、すなわち締め状態を継続的に保持することに
なる。
【0047】このように、ゲート板111に固定された
光学窓105が反応室101の光学孔116上に押され
ると、光学窓交替室119および光学窓固定室118に
窒素あるいは不活性ガスを流入させて、反応室101に
は光CVD工程のための反応ガスを流した後、光源10
6によって加熱支持台107上の基板108に光を照射
しながら、光CVD工程によって基板108に薄膜を形
成することになる。
【0048】その後、光CVD工程によって光学窓10
5が曇れば、反応室101と光学窓固定室118および
光学窓交替室119を再び高真空に排気した後、光学運
搬板110に付着された運搬棒115を引っ張ると、運
搬板110とゲート板111の連結リンク112が締め
状態(図7(c)参照)から解け状態(図7(a))へ
位置変換が起こることになる。すなわち運搬板110と
ゲート板111の間に連結されたスプリング114の復
元力と運搬棒115の引っ張る力によってゲート板11
1が運搬板110に付着されながら光学窓105が反応
室101の光学孔116から分離される。
【0049】その後、上述した過程と同様な過程を経な
がら、曇った光学窓は洗浄された光学窓に交替される。
【0050】図8は、本発明の他の実施の形態における
光学窓交替装置が備えられた光CVD装置の断面図であ
る。図8に示す光CVD装置で、図4の光CVD装置と
同様な部分に対しては、同一の図面符号を使用してい
る。
【0051】図8に図示された光CVD装置は、図4に
図示された光CVD装置で、光源106を光学窓固定室
118と同様な環境にするため、上述した光学窓固定室
118の光通過口147の上部に、光学窓固定室118
と連通されて中央部に光源106が付設された光源室1
24を光学窓固定室118の上部に追加で形成したこと
を除いては、図4に図示した光CVD装置と同様な構成
を有する。
【0052】本実施の形態における光CVD装置では、
光源106と反応室101のうちの基板108の間の距
離が狭くなり、光源106によって放出された光エネル
ギを効率的に使用できるし、図4に図示した、光源10
6と光学窓固定室118の間に形成されたビューポート
123の除去によって、反応室101のうちの光透過率
が増大されるという長所を持つことになる。
【0053】さらに、図4に示した光CVD装置では、
光源106と光学窓固定室118の間に設置装着された
ビューポート123の一面が大気に露出されるため、光
学窓固定室118を真空に排気したとき、ビューポート
の上下面にかかる圧力差のため、大型の光CVD装置を
製造し難い短所があったが、本実施の形態においては、
光学窓固定室118と光源室124のうちの光源106
が同様な環境を有することとして、大型の光CVD装置
を製造することができるので、基板108上に大面積の
薄膜を蒸着することができる。
【0054】本実施の形態における光学窓交替装置が備
えられた光CVD装置の動作は、図4に図示された光C
VD装置の場合と同様なので、これに対する詳細名説明
は省略する。
【0055】図9は、本発明のさらに他の実施の形態に
おける光学窓交替装置が備えられた光CVD装置の断面
図である。図9の光CVD装置では、図8の光CVD装
置と同様な部分に対しては、同様な図面符号を使用し
た。
【0056】本実施の形態における光学窓交替装置が備
えられた光CVD装置は、図9に示すように、取気口1
03、排気口102、基板加熱支持台107および加熱
ヒータが備えられ、上段に光学孔116が形成され、蒸
着反応を遂行するための反応室101と、上記反応室1
01の上部に形成され、光通過具147が備えられ、光
学窓移送手段148によって移送された光学窓105の
脱装着が遂行される光学窓固定室118と上記光学窓固
定室118の光通過具147の上部に光学窓固定室11
8さと連通形成され、中央部に光源106が付設され、
光化学気相蒸着反応のため必要なエネルギを有した光を
反応室101の内部へ照射するための光源室124と、
上記光学窓固定室118と横方向に一体に延長形成さ
れ、取気口103aおよび排気口102aと下段に光学
窓交替孔117が形成され、光学窓移送手段148によ
って移送された曇った光学窓と洗浄された光学窓の交替
が遂行される光学窓交替室119と、上記光学窓交替室
119の光学窓交替孔117を通じ、下向きに光学窓交
替室119と連通されるように延長形成され、取気口1
03cおよび排気口102cと側面に光学窓交替のため
の開閉口129が備えられ、光学窓105を光学窓移送
手段148に脱装着するための光学窓の上下移動手段1
28が形成された光学窓の収去および装着室126と、
上記光学窓交替室119と光学収去および装着室126
の間に設けられ、光学窓交替室119と光学窓収去およ
び装着室126を連通あるいは隔離させるための開閉手
段である円形ゲートバルブ127と、上記光学窓収去お
よび装着室126の光学窓の上下移動手段128によっ
て光学窓105が装着され、上記光学窓交替室119と
光学窓固定室118を往復しながら光学窓105を移送
し、反応室101の光学孔116上に光学窓105を脱
装着するための光学窓移送手段148と、上記光学窓移
送手段148と連結され、光学窓移送手段148が光学
窓交替室119と光学窓固定室118のうちで往復する
ように駆動力を提供するための駆動手段である運搬棒1
15とを含んでいる。
【0057】本実施の形態における光学窓交替装置が備
えられた光CVD装置は、光学窓の交替をさらに容易に
なせるように光学窓の収去および装着を自動化できる構
成を有している。
【0058】以下、上記構成を有する本発明の光学窓交
替装置が備えられた光CVD装置の動作に対して詳細に
説明する。
【0059】光学窓移送手段148から曇った光学窓1
05を除去した後、光学窓収去および装着室126のう
ちに形成され、上下移動が可能な運搬台128で構成さ
れた光学窓の上下移動手段の上に洗浄された光学窓10
5を装着した後、光学窓収去および装着室126を高真
空に排気する。その後、光学窓交替室119と光学窓収
去および装着室126の間に位置した円形のゲートバル
ブ127を開放し、光学窓の上下移動手段である運搬台
128を上昇させ、光学窓移送手段148のゲート板1
12に光学窓105を装着した後、運搬段128を下降
させて、円形のゲートバルブ127を閉鎖する。
【0060】その後、上記実施の形態と同様な方法で、
光学窓固定室118で光学窓105を移動させて反応室
101の光学孔116上に洗浄された光学窓105を固
定させる。光CVD工程の後、曇った光学窓105は再
び光学窓交替室119へ移送した後、円形のゲートバル
ブ127を開放させ、運搬台128を上昇させて光学窓
105を収去する。
【0061】その後、再び円形のゲートバルブ127を
閉鎖し、窒素あるいは不活性ガスを光学窓収去および装
着室126の排気口103cで注入し、光学窓収去およ
び装着室126を大気圧の状態に保持した後、開閉口1
29を開けて光学窓105を収去する。
【0062】再び、洗浄された光学窓105を運搬台1
28に装着し、窒素あるいは不活性洗浄ガスで光学窓収
去および装着室126を3〜4回十分に洗浄した後、排
気口102cを通じて排気させ、高真空にした後上述し
た過程によって、洗浄された光学窓105を光学窓移送
手段148のゲート板111に装着する。
【0063】本実施の形態においては、光CVD装置内
に光学窓収去および装着室126を追加で形成すること
として、光学窓収去および装着時、光学窓交替室119
と固定室118の大気に対する露出を防止できるため、
半永久的に光学窓交替室119と固定室118の内部を
正相に保持できるし、光学窓105の収去および装着を
自動化できるため、光学窓105の交替作業をさらに容
易に達成することができる。
【0064】図10は、本発明のさらに他の実施の形態
における光学窓交替装置が備えられた光CVD装置の断
面図である。図10の光CVD装置で、図9の光CVD
装置と同様な部分に対しては同様な図面符号を使用し
た。
【0065】本実施の形態における光学窓交替装置が備
えられた光CVD装置は、図9に図示されたように、取
気口103、排気口102、基板加熱支持台107およ
び加熱ヒータが備えられ、上段に光学孔116が形成さ
れ、蒸着反応を遂行するための反応室101と、上記反
応室101の上部に形成され、上段に光通過口147が
備えられ、光学窓移送手段148によって移送された光
学窓105の脱装着が遂行される光学窓固定室118
と、上記光学窓固定室118の光通過口147の上部に
光学窓固定室118と連通形成され、中央部に光源10
6が付設され、光化学気相蒸着反応のため、必要なエネ
ルギを有した光を反応室101の内部へ照射するための
光源室124と、上記光学窓固定室118と横方向に一
体に延長形成され、取気口103aおよび排気口102
aと下段に光学窓交替孔117が形成され、光学窓移送
手段148によって移送された曇った光学窓と洗浄され
た光学窓の交替が遂行される光学窓交替室119と、上
記光学窓交替室119の光学窓交替孔117を通じて、
下向きに光学窓交替室119と連通されるように延長形
成され、取気口103cおよび排気口102cと下段に
光学窓交替のための開閉口129が備えられ、光学窓1
05を光学窓移送手段148に脱装着するための光学窓
収去および装着室126aと、光源106から放出され
た光が通過されるように、光通過孔149が中央に貫通
形成され、光学窓105を固定するための固定手段が付
設され、光学窓固定室118の一側壁またはゲート板の
水平位置固定用支持手段131と接触して、ゲート板の
水平位置を固定するためのゲート板の水平位置固定手段
121が一側面に付設されたゲート板111aと、上記
ゲート板の上部に位置し、光源106から放出された光
が通過されるように光通過孔150が中央に貫通形成さ
れ、運搬用輪120が両側に付設され、駆動手段である
運搬棒115と連結され、上記ゲート板111aを光学
窓交替室119と光学窓固定室118へ往復移送させる
ための光学窓運搬板110と上記ゲート板111aを光
学窓運搬板110に連結され、ゲート板111aを上昇
および下降させるためのゲート板の連結リンク112、
ゲート板の連結ピン113およびスプリングからなった
ゲート板押し手段で構成され、光学窓105が装着され
て上記光学窓交替室119と光学窓固定室118を往復
しながら光学窓105を移送し、反応室101の光学孔
116上に光学窓105を脱装着するための光学窓移送
手段148と、上記光学窓移送手段148と連結され、
光学窓移送手段148が光学窓交替室119と光学窓固
定室118のうちで往復するように駆動力を提供するた
めの駆動手段115と、上記光学窓運搬板110の光通
過孔150の直径より小さく、上記ゲート板111aの
光通過孔149より直径が大きな円板144と上記円板
144に付着され、円板144を上下運動させるための
ゲート板の真空密閉用支持台130で構成され、下向き
運動によってゲート板118aの光通過孔149を真空
密閉するためのゲート板の真空密閉手段が上段に付設さ
れ、ゲート板の真空密閉手段を収納するための収納室1
45と、上記光学窓固定室118と光学窓交替室119
の間の下段部に形成され、上下移動が可能し、上記光学
窓移送手段148が光学窓交替室119に一致したと
き、上記駆動手段115による移動によって接触して、
上記ゲート板の水平位置固定手段121を支持するため
のゲート板の水平位置固定用支持手段131とを含んで
いる。
【0066】図11は、本実施の形態において、光学窓
105をゲート板111aに固定したとき、光学窓を収
納するためのカセット式光学窓固定具の分解斜視図であ
り、図12(a)および図12(b)は、図11のカセ
ット式光学窓固定具によって光学窓105がゲート板1
11aに固定された状態を示す平面図および側面図であ
る。
【0067】図11〜図12に図示されたように、上記
ゲート板111aに付設された光学窓固定手段は、リン
グ形状に形成され、真空密閉手段であるOリング13
8、139が上下面にそれぞれ付着され、側面にリング
142が付設された光学窓固定具の上板137および上
記上板137のリング142に連結される突出部143
が付設された光学窓固定具の下板136からなり、その
間に光学窓105を収納するためのカセット式光学窓固
定具136、137と、ゲート板の下部に形成され、上
記光学窓固定具の下板136の突出部143が挿入され
るようにL字形状の光学窓固定具装着用溝135が側壁
に上段に形成され、上記カセット式光学窓固定具13
6,137をゲート板111aに固定させるための円形
の溝151aで構成される。上記光学窓固定手段は本発
明の他の実施例でも、光学窓105をゲート板111に
固定するため使用されることができる。
【0068】以下、上記構成を有する本発明の光学窓交
替装置が備えられた光CVD装置の動作に対して詳細に
説明する。
【0069】本実施の形態において、洗浄された光学窓
105を光学窓移送手段148により、光学窓固定室1
18へ移送して、光学孔116上に光学窓105を固定
させる動作は上記実施の形態と同様であるので、これに
対する詳細な説明は省略する。
【0070】光CVD工程によって曇った光学窓105
が装着された光学窓移送手段148に連結された運搬棒
115を引っ張って、光学窓移送手段148を光学窓交
替室119へ移送した後、ゲート板の水平位置固定用支
持手段131を上昇させた後、運搬棒115を再び押す
と、ゲート板111aの側面に付設されたゲート板の水
平位置固定手段であるベアリング121がゲート板の水
平位置固定用支持手段131と接触され、図7に示すよ
うに、ゲート板111aが下降することとして、光学窓
105が装着されたゲート板111aに付着されたOリ
ング132(図12(b)参照)が光学窓交替用孔11
7の周囲に密着される。
【0071】しかしながら、このときには、光学窓交替
孔117の直径が光学窓105が装着されたカセット式
光学窓固定具136,137の外径より大きいため、光
学窓収去および装着室126aを大気圧に保持するに
は、カセット式光学窓固定部136,137の上下面に
付着されたOリング138,139,140,141で
は、光学窓固定室118および交替室119の真空密閉
を保持し難くなる。したがって、光学窓固定室118お
よび交替室119の真空状態を保持しながら、光学窓収
去および装着室126aの開閉口129を通じて光学窓
105を交替するためには、ゲート板111aに形成さ
れた光通過孔149を密閉し、光学窓交替室119およ
び固定室118と光学窓収去および装着室126aを隔
離させるべきである。
【0072】このため、Oリング146が付着された円
板144が付設されたゲート板の真空密閉用支持台13
0を下降させ、光学窓運搬板110の光通過孔150を
通過して降下させることとして、円板144がゲート板
111aの光通過孔149を真空密閉させるようにす
る。
【0073】その後、空気、窒素または不活性ガスを取
気口103cで注入し、光学窓収去および装着室126
aを大気圧に保持した後、開閉口129を開けて曇った
光学窓を収去し、洗浄された光学窓に交替する。
【0074】このとき、洗浄された光学窓105を交替
するためには、図11に図示されたように、光学窓10
5を光学窓固定具の下板136の上に載せて、光学窓固
定具の上板137を光学窓105の上に位置させた後、
光学窓固定具の上板137のリング位置142に光学窓
固定具の下板136の突出部143を挿入し、光学窓固
定具の上板137を少し回転して光学窓105をカセッ
ト式光学窓固定具136,137に固定させる。その
後、光学窓105が収納されたカセット式光学窓固定具
の下板136の突出部143をゲート板111aの円形
の溝151aに形成されたL字型溝135へ押込んで少
し回転させ、図12に図示されるように、カセット式光
学窓固定具136,137をゲート板111aに固定さ
せる。
【0075】上記過程により、光学窓105の交替が完
了すれば、大気に露出された光学窓収去および装着室1
26aを窒素または不活性ガスを使用し、取気と排気過
程を3〜4回繰返した後、排気口102cを通じて光学
窓収去および装着室126aを高真空に排気する。その
後、ゲート板の真空密閉用支持台130を上昇させて支
持台130と円板144を収納室145に収納した後、
運搬棒115を引っ張ってゲート板111aを解け状態
で復帰させ、ゲート板の水平位置固定用支持手段131
を下降させた後、カセット式光学窓105が装着された
光学窓移送手段148を光学窓固定室118へ移送し、
上記過程と同一な過程によって光CVD工程を遂行す
る。
【0076】たとえば、図9および図10に図示した実
施の形態においては、光源106を別途光源室124の
うちに設けた場合を例に挙げて説明したが、本発明で
は、光源室124を形成することなく、図4に図示され
たように、光学窓固定室118の光通過口147上に装
着されたビューポート123を通じて光化学気相蒸着反
応に必要なエネルギを有した光を反応室101の内部へ
照射するように光源106を配置することもむろん可能
である。
【0077】以上、今回開示した実施の形態はすべての
点で提示であって制限的なものではないと考えられるべ
きである。本願発明の範囲は上記した説明ではなく、特
許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の
意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意
図される。
【0078】
【発明の効果】本発明の光学窓交替装置が備えられた光
化学気相蒸着装置は、従来の技術と違い、光化学気相蒸
着装置の蒸着工程中、反応生成物および反応ガスの付着
により、曇った光学窓を反応室の内部を半永久的に大気
に露出させることなく、機械的方式によって洗浄された
光学窓を交替することができる。
【0079】さらに、本発明の光学窓交替装置が備えら
れた光化学気相蒸着装置は、粉塵発生のおそれがないの
で、反応室の正相状態を保持することができるし、光学
窓と反応室との真空密閉を効果的に保持することができ
るし、付加的なエッチングガスによる反応室の汚染およ
び反応ガスに対する悪影響を防止することができる。
【0080】さらに、本発明の光学窓交替装置が備えら
れた光化学気相蒸着装置は、光学窓が光化学気相蒸着工
程の内部に位置して、光学窓の上下の圧力を同一に保持
できるため、厚みが薄い光学窓を採用することができる
ので、その結果、光源から放出された光エネルギの光学
窓による吸収損失を減少させることができるし、大面積
の薄膜を蒸着することができる大型の光化学気相蒸着装
置を製造することができる。
【0081】また、本発明の光学窓交替方法により、光
化学気相蒸着装置の蒸着工程中、反応生成物および反応
ガスの付着により、曇った光学窓を反応室の内部を半永
久的に大気に露出させることなく、洗浄された光学窓に
簡単に交替することができる。
【0082】一方、本発明の光光学気相蒸着装置に用い
られた光学窓交替装置および交替方法は、光化学気相蒸
着装置ばかりでなく、光エネルギを熱源で利用するラン
プ加熱式の熱化学気相蒸着装置、光励起エッチング装置
および光学窓が備えられた広義のすべての真空蒸着装置
あるいは成長装置において、反応室のうちで反応ガスの
分解によって生成された物質や、蒸着や成長に用いられ
た物質の付着によって曇った光学窓を洗浄された光学窓
に交替するのに効果的に用いられることができるという
ことは、本発明が属する技術分野の当業者において自明
であろう。
【0083】以上詳細に説明したように、本発明の光学
窓交替装置が備えられた光化学気相蒸着装置および光学
窓交替方法は光化学気相蒸着装置の蒸着工程中、反応生
成物および反応ガスの付着により、曇った光学窓を反応
室の内部を繁栄強敵に大気に露出させることなく、機械
的な方式によって洗浄された光学窓に交替することがで
きるし、粉塵発生のおそれがないので、反応室の正相状
態を保持することができるし、光学窓と反応室との真空
密閉を効果的に保持することができるし、付加的である
エッチングガスによる反応室の汚染および反応ガスに対
する悪影響を防止することができるばかりでなく、大面
積の薄膜蒸着にも効果的で用いることができるというこ
とが確認された。
【図面の簡単な説明】
【図1】光学窓を洗浄するためプラズマのエッチングを
使用する従来の技術による光CVD装置の概略的な構成
図である。
【図2】ローラを使用して光学窓を交替する光学窓交替
装置が備えられた従来の技術による光CVD装置の概略
的な構成図である。
【図3】本発明の光CVD装置の光学窓交替方法に関す
る概念図である。
【図4】本発明の一実施の形態における光学窓交替装置
が備えられた光CVD装置の断面図である。
【図5】(a)および(b)は、本発明の光CVD装置
に用いられた光学窓移送手段の構成要素の中、光学窓が
装着された状態のゲート板の平面図および側面図であ
る。
【図6】(a)および(b)は、光学窓移送手段の構成
要素の中、光学窓運搬板の平面図および側面図である。
【図7】(a)、(b)、および(c)は、本発明によ
る光学窓移送手段でのゲート板の上昇および下降動作を
示すゲート板の動作状態図である。
【図8】本発明の他の実施の形態による光学窓交替装置
が備えられた光CVD装置の断面図である。
【図9】本発明のさらに他の実施の形態による光学窓交
替装置が備えられた光CVD装置の断面図である。
【図10】本発明のさらに他の実施の形態による光学窓
交替装置が備えられた光CVD装置の断面図である。
【図11】図10に示す光CVD装置で光学窓をゲート
板に固定したとき、光学窓を収納するためのカセット式
光学窓固定具の分解斜視図である。
【図12】(a)、(b)は、図11のカセット式の光
学窓固定具による光学窓がゲート板に固定された状態を
示した平面図および側面図である。
【符号の説明】 101 反応室 102、102a、102b、102c 排気口 103、103a、103b、103c 成長ガスの取
気口 105 光学窓 106 光源 107 加熱支持台 108 基板 109 四角ゲートバルブ 110 光学窓運搬板 111,111a ゲート板 112 ゲート板の連結リンク 113 ゲート板連結ピン 114 スプリング 115 運搬棒 116 光学孔 117 光学窓交替孔 118 光学窓固定室 119 光学窓交替室 120 運搬用輪 121 水平位置の固定用ベアリング 122 Oリング 123 ビューポート 124 光源室 125 スプリング 126 光学窓収去および装着室 127 円形のゲートバルブ 128 運搬台 129 開閉口 130 ゲート板の真空密閉用支持台 131 ゲート位置の水平位置固定用支持手段 132 Oリング 135 円形の溝 136 光学窓固定具の下板 137 光学窓固定具の上板 138,139,140,141 Oリング 142 リング 143 突出部 144 円板 145 収納室 146 Oリング 147 光通過口 148 光学窓移送手段 149,150 光通過孔 151,151a 円形の溝
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 イン・ホー・ホワン 大韓民国、テジョン・ドン−ク、パナム− ドン ジュゴン・アパートメント、505− 1301 (72)発明者 ケン・スー・リム 大韓民国、テジョン、ユソン−ク、ウォウ ン−ドン、ハンビット・アパートメント、 122−1004 (72)発明者 チャン・ヒュン・リー 大韓民国、テジョン、ナム−ク、ムンヒュ ン−ドン、114−4

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 取気口、排気口、基板加熱支持台および
    加熱ヒータが備えられ、上段に光学孔が形成され、蒸着
    反応を遂行するための反応室と、 前記反応室の上部に形成され、取気口および排気口と上
    段に光通過口が備えられ、光学窓移送手段によって移送
    された光学窓の脱装着が遂行される光学窓固定室と、 前記光学窓固定室の光通過口の上部に付設されて光化学
    気相蒸着反応のため必要なエネルギを有した光を前記光
    通過口に装着されたビューポートを通じて反応室の内部
    へ照射するための光源と、 前記光学窓固定室と横方向に一体に延長形成され、取気
    口および排気口と下段に光学窓の交替のための開閉口が
    備えられ、光学窓移送手段によって移送された曇った光
    学窓と洗浄された光学窓の交替が遂行される光学窓交替
    室と、 前記光学窓固定室と光学窓交替室の間に設けられ、光学
    窓固定室と光学窓交替室を連通または隔離させるための
    開閉手段と、 光学窓が装着され、前記光学窓交替室と光学窓固定室を
    往復しながら光学窓を移送し、反応室の光学孔上に光学
    窓を脱装着するための光学窓移送手段と、 前記光学窓移送手段と連結され、光学窓移送手段が光学
    窓交替室と光学窓固定室のうちで往復するように駆動力
    を提供するための駆動手段とを含む光学窓交替装置が備
    えられた光化学気相蒸着装置。
  2. 【請求項2】 上記光学窓固定室の光通過口の上部に、
    光学窓固定室と連通され、中央部に光源が付設される光
    源室が追加で形成されることを特徴とする、請求項1に
    記載の光学窓交替装置が備えられた光化学気相蒸着装
    置。
  3. 【請求項3】 上記光学窓移送手段は、 光源から放出された光が追加されるように光通過窓が中
    央に貫通形成され、光学窓を固定するための固定手段が
    付設され、光学窓固定室の一側壁と接触してゲート板の
    水平位置を固定するためのゲート板の水平位置固定手段
    が一側面に付設されたゲート板と、 前記ゲート板の上部に位置し、光源から放出された光が
    通過されるように光通過孔が中央に貫通形成され、運搬
    用輪が両側に付設され、前記駆動手段と連結され、前記
    ゲート板を光学窓交替室と光学窓固定室へ往復移送させ
    るための光学窓運搬板と、 前記ゲート板と光学窓運搬板に連結され、ゲート板を上
    昇および下降させ、ゲート板に固定された光学窓を反応
    室の光学孔の周囲に押しおよび分離させるためのゲート
    板の押し手段とを含むことを特徴とする、請求項1に記
    載の光学窓交替装置が備えられた光化学気相蒸着装置。
  4. 【請求項4】 上記ゲート板に付設された光学窓固定手
    段はゲート板の下部に形成された光学窓を固定するため
    の円形の溝と、円形の溝の側壁に付設された縁に真空密
    閉手段が備えられた光学窓を中央に押す光学窓固定スプ
    リングで構成されたことを特徴とする、請求項3に記載
    の光学窓交替装置が備えられた光化学気相蒸着装置。
  5. 【請求項5】 上記ゲート板に付設された光学窓固定手
    段はリング形状に形成された真空密閉手段が上下面にそ
    れぞれ付着され、側面にリングが付設された光学窓固定
    具の上板および前記上板のリングに連結される突出部が
    付設された光学窓固定具の下板からなり、その間に光学
    窓を収納するためのカセット式光学窓固定具と、ゲート
    板の下部に形成されて前記光学窓固定具の下板の突出部
    が挿入されるように光学窓固定具の装着用の溝が側壁の
    上段に形成され、前記光学窓固定具をゲート板に固定さ
    せるための円形の溝で構成されたことを特徴とする、請
    求項3に記載の光学窓交替装置が備えられた光化学気相
    蒸着装置。
  6. 【請求項6】 取気口、排気口、基板加熱支持台および
    加熱ヒータが備えられ、上段に光学孔が形成され、蒸着
    反応を遂行するための反応室と、 前記反応室の上部に形成され、上段に光通過口が備えら
    れ、光学窓移送手段によって移送された光学窓の脱装着
    が遂行される光学窓固定室と、 前記光学窓固定室の光通過口の上部に付設され、光化学
    気相蒸着反応のため必要なエネルギを有した光を前記光
    通過口に装着されたビューポートを通じて反応室の内部
    へ照射するための光源と、 前記光学窓固定室と横方向に一体に延長形成され、取気
    口および排気口と下段に光学窓交替孔が形成され、光学
    窓移送手段によって移送された曇った光学窓と洗浄され
    た光学窓の交替が遂行される光学窓交替室と、 前記光学窓交替室の光学孔を通じて下向きに光学窓交替
    室と連通されるように延長形成され、取気口および排気
    口と側面に光学窓の交替のための開閉口が備えられ、光
    学窓を光学窓移送手段に脱装着するための光学窓の上下
    移動手段が形成された光学窓収去および装着室と、 前記光学窓交替室と光学窓収去および装着室の間に設け
    られ、光学窓交替室と光学窓収去および装着室を連通ま
    たは隔離させるための開閉手段と、 前記光学窓収去および装着室の光学窓の上下移動手段に
    よって光学窓が装着され、前記光学窓交替室と光学窓固
    定室を往復しながら光学窓を移送し、反応室の光学孔上
    に光学窓を脱装着するための光学窓移送手段と、 前記光学窓移送手段と連結され、光学窓移送手段が光学
    窓交替室と光学窓固定室の内で往復するように駆動力を
    提供するための駆動手段とを含む光学窓交替装置が備え
    られた光化学気相蒸着装置。
  7. 【請求項7】 上記光学窓固定室の光通過口の上部に、
    光学窓固定室と連通され、中央部に光源が付設される光
    学室が追加で形成されることを特徴とする、請求項6に
    記載の光学窓交替装置が備えられた光化学気相蒸着装
    置。
  8. 【請求項8】 取気口、排気口、基板加熱支持台および
    加熱ヒータが備えらえ、上段に光学孔が形成され、蒸着
    反応を遂行するための反応室と、 前記反応室の上部に形成され、上段に光通過口が備えら
    え、光学窓移送手段によって移送された光学窓の脱装着
    が遂行される光学窓固定室と、 前記光学窓固定室の光通過口の上部に付設され、光化学
    気相蒸着反応のため、必要なエネルギを有した光を前記
    光通過口に装着されたビューポートを通じて反応室の内
    部へ照射するための光源と、 前記光学窓固定室と横方向に一体に延長形成され、取気
    口および排気口と下段に光学窓交替孔が形成され、光学
    窓移送手段によって移送された曇った光学窓と洗浄され
    た光学窓の交替が遂行される光学窓交替室と、 前記光学窓交替室の光学窓交替孔を通じて下向きに光学
    窓交替室と連通されるように延長形成され、取気口およ
    び排気口と下段に光学窓交替のための開閉口が備えら
    れ、光学窓を光学窓移送手段に脱装着するための光学窓
    収去および装着室と、 光源から放射された光が通過するように光通過孔が中央
    に貫通形成され、光学窓を固定するための固定手段が付
    設され、光学窓固定室の一側壁またはゲート板の水平位
    置固定用支持手段と接触し、ゲート板の水平位置を固定
    するためのゲート板の水平位置固定手段が一側面に付設
    されたゲート板と、前記ゲート板の上部に位置し、光源
    から放出された光が通過されるように光通過孔が中央に
    貫通形成され、運搬用輪が両側に付設され、駆動手段と
    連結されて前記ゲート板を光学窓交替室と光学窓固定室
    へ往復移送させるための光学窓運搬板と、前記ゲート板
    と光学窓運搬板に連結され、ゲート板を上昇および下降
    させるためのゲート板押し手段で構成され、光学窓が装
    着されて前記光学窓交替室と光学窓固定室を往復しなが
    ら光学窓を移送し、反応室の光学孔上に光学窓を脱装着
    するための光学窓移送手段と、 前記光学窓移送手段と連結され、光学窓移送手段が光学
    窓交替室と光学窓固定室の内で往復するように駆動力を
    提供するための駆動手段と、 前記光学窓運搬板の光通過孔の直径より小さく、前記ゲ
    ート板の光通過孔より直径が大きな円板と前記円板に付
    着されて円板を上下運動させるためのゲート板の真空密
    閉用支持台で構成され、下向き運動によってゲート板の
    光通過孔を真空密閉するためのゲート板の真空密閉手段
    が上段に付着形成され、ゲート板の真空密閉手段を収納
    するための収納室と、 前記光学窓固定室と光学窓交替室の間の下段に形成さ
    れ、上下移動が可能し、前記光学窓移送手段が光学窓交
    替室に位置したとき、前記駆動手段による移動によって
    接触して前記ゲート板の水平位置固定手段を支持するた
    めのゲート板の水平位置固定用支持手段とを含む、光学
    窓交替装置が備えられた光化学気相蒸着装置。
  9. 【請求項9】 上記光学窓固定室の光通過口の上部に、
    光学窓固定室と連通され、中央部に光源が付設される光
    源室が追加で形成されることを特徴とする、請求項8に
    記載の光学窓交替装置が備えられた光化学気相蒸着装
    置。
  10. 【請求項10】 反応室と光学窓固定室および光学窓交
    替室と高真空に排気する段階と、 光化学気相蒸着装置の蒸着工程中、反応生成物および反
    応ガスの付着によって曇った光学窓を反応室から分離し
    て光学窓移送手段によって光学窓交替室へ移送させる段
    階と、 光学窓固定室と光学窓交替室を開閉手段によって隔離さ
    せる段階と、 隔離された光学窓交替室を大気圧に保持させる段階と、 開閉口を開放させて曇った光学窓を洗浄された光学窓に
    交替する段階と、 開閉口を閉鎖させて光学窓交替室を高真空に排気させる
    段階と、 開閉手段を開放させて光学窓を光学窓移送手段によって
    光学窓固定室へ移送させる段階と、 光学窓を垂直移動させて反応室に装着する段階とを含
    む、光化学気相蒸着装置の光学窓交替方法。
  11. 【請求項11】 反応室と光学窓固定室および光学窓交
    替室と光学窓収去および装着室を高真空に排気する段階
    と、 光化学気相蒸着装置の蒸着工程中、反応生成物および反
    応ガスの付着によって曇った光学窓を反応室から分離し
    て光学窓移送手段によって光学窓交替室へ移送させる段
    階と、 開閉手段を開放させて光学窓の上下移動手段を上昇させ
    て曇った光学窓を収去する手段と、 光学窓固定室と光学窓交替室を開閉手段によって光学窓
    収去および装着室と隔離させる段階と、 隔離された光学窓収去および装着室を大気圧に保持させ
    る段階と、 開閉口を開放させて曇った光学窓を収去し、洗浄された
    光学窓を光学窓の上下移動手段に装着する段階と、 開閉口を開閉させて光学窓収去および装着室を高真空に
    排気させる段階と、 開閉手段を開放させて光学窓の上下移動手段を上昇させ
    て光学窓移送手段に光学窓を装着する段階と、 光学窓移送手段を下降させて開閉手段を閉鎖する段階
    と、 光学窓を光学窓移送手段によって光学窓固定室へ移送さ
    せる段階と、 光学窓を垂直移動させて反応室に装着する段階とを含
    む、光化学気相蒸着装置の光学窓交替方法。
  12. 【請求項12】 反応室と光学窓固定室、光学窓交替
    室、収納室と光学窓収去および装着室を高真空に排気す
    る段階と、 光化学気相蒸着装置の蒸着工程中、反応生成物および反
    応ガスの付着によって曇った光学窓を反応室から分離し
    て光学窓移送手段によって光学窓交替室へ移送させる段
    階と、 ゲート板の水平位置固定用支持手段を上昇させて駆動手
    段を押し、光学窓移送手段のゲート板を光学窓交替孔の
    周囲に密着させる段階と、 ゲート板の真空密着手段を光学窓移送手段の運搬板に形
    成された光通過孔を通じて下降させ、光学窓固定室、光
    学窓交替室および収納室を光学窓収去および装着室と隔
    離させる段階と、 隔離された光学窓収去および装着室を大気圧に保持させ
    る段階と、 開閉口を開放させて曇った光学窓を洗浄された光学窓に
    交替する段階と、 開閉口を閉鎖させて光学窓収去および装着室を高真空に
    排気させる段階と、 ゲート板の真空密閉手段を上昇させてゲート板の真空密
    閉手段を収納室に収納する段階と、 駆動手段を引っ張って光学窓移送手段のゲート板を解け
    状態で復帰させてゲート板の水平位置固定用支持手段を
    下降させる段階と、 光学窓を光学窓移送手段によって光学窓固定室へ移送さ
    せる段階と、 光学窓を垂直移動させて反応室に装着する段階とを含
    む、光化学気相蒸着装置の光学窓交替方法。
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