JPH0929149A - 枚葉型塗布装置 - Google Patents
枚葉型塗布装置Info
- Publication number
- JPH0929149A JPH0929149A JP18368995A JP18368995A JPH0929149A JP H0929149 A JPH0929149 A JP H0929149A JP 18368995 A JP18368995 A JP 18368995A JP 18368995 A JP18368995 A JP 18368995A JP H0929149 A JPH0929149 A JP H0929149A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- liquid
- applicator roll
- substrate
- applicator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 乾燥後の膜厚が２μｍ程度の薄膜から２５０
μｍ程度の厚膜までを表面平滑性良く、高精度、無欠陥
で形成でき、かつ高い生産性で塗工できる枚葉型塗布装
置を提供する。 【解決手段】 上面に基板Ａを吸着して水平方向に移動
するステージ１と、このステージ１の上方に配置され、
基板Ａの進行方向に対して逆回転するアプリケーターロ
ール２と、このアプリケーターロール２の斜め上方の位
置で平行に且つギャップを有して配置され、アプリケー
ターロール２と同じ方向に回転するメタリングロールと
を備え、両ロール２，３のロール面の間を塗工液Ｂの液
溜めに利用する。塗工液Ｂは液溜め内で絶えず流動しな
がらギャップから一定の割合で送り出され、アプリケー
ターロール２のロール面上に一定膜厚の液膜が形成さ
れ、アプリケーターロール２はそのロール面上の液膜を
基板Ａに転写する。
μｍ程度の厚膜までを表面平滑性良く、高精度、無欠陥
で形成でき、かつ高い生産性で塗工できる枚葉型塗布装
置を提供する。 【解決手段】 上面に基板Ａを吸着して水平方向に移動
するステージ１と、このステージ１の上方に配置され、
基板Ａの進行方向に対して逆回転するアプリケーターロ
ール２と、このアプリケーターロール２の斜め上方の位
置で平行に且つギャップを有して配置され、アプリケー
ターロール２と同じ方向に回転するメタリングロールと
を備え、両ロール２，３のロール面の間を塗工液Ｂの液
溜めに利用する。塗工液Ｂは液溜め内で絶えず流動しな
がらギャップから一定の割合で送り出され、アプリケー
ターロール２のロール面上に一定膜厚の液膜が形成さ
れ、アプリケーターロール２はそのロール面上の液膜を
基板Ａに転写する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高粘度の塗工液を
ガラス、セラミック、複合材シートなどの基板上に高精
度で塗布する装置に係り、特に、プラズマディスプレイ
パネル、蛍光表示管などを製造する際に行われるガラス
基板上への厚膜材料層の形成工程、セラミック基板への
グレージング処理工程、混成集積回路を製造する際に行
われるセラミック基板上への厚膜材料層の形成工程など
に有効に利用できる枚葉型塗布装置に関するものであ
る。
ガラス、セラミック、複合材シートなどの基板上に高精
度で塗布する装置に係り、特に、プラズマディスプレイ
パネル、蛍光表示管などを製造する際に行われるガラス
基板上への厚膜材料層の形成工程、セラミック基板への
グレージング処理工程、混成集積回路を製造する際に行
われるセラミック基板上への厚膜材料層の形成工程など
に有効に利用できる枚葉型塗布装置に関するものであ
る。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】従来より、ガラス基板
やセラミック基板などの片面にガラスペーストや導体ペ
ーストをベタ膜で形成する工程は種々の分野で行われて
いる。例えば、サーマルヘッドや蛍光表示管などの導体
パターンは、導体ペーストのベタ膜を形成してこれをエ
ッチングすることで形成されている。この場合に形成さ
れるベタ膜の膜厚は乾燥後で２．５〜１０μｍ程度の比
較的薄い膜であるが、厚膜エッチング法で高解像度の導
体パターンを得るためには、平滑性が高くピンホールの
ないベタ膜を形成する必要がある。通常、このベタ膜は
スクリーン印刷により形成されており、粘度やチクソト
ロピー性を小さくしたペーストを用いてレベリングを促
進したり、多数回印刷してピンホールを回避する工夫が
されているが、メッシュ目や目詰まりなどの影響を完全
になくすことは困難であった。このため歩留りが悪くな
る問題が生じている。
やセラミック基板などの片面にガラスペーストや導体ペ
ーストをベタ膜で形成する工程は種々の分野で行われて
いる。例えば、サーマルヘッドや蛍光表示管などの導体
パターンは、導体ペーストのベタ膜を形成してこれをエ
ッチングすることで形成されている。この場合に形成さ
れるベタ膜の膜厚は乾燥後で２．５〜１０μｍ程度の比
較的薄い膜であるが、厚膜エッチング法で高解像度の導
体パターンを得るためには、平滑性が高くピンホールの
ないベタ膜を形成する必要がある。通常、このベタ膜は
スクリーン印刷により形成されており、粘度やチクソト
ロピー性を小さくしたペーストを用いてレベリングを促
進したり、多数回印刷してピンホールを回避する工夫が
されているが、メッシュ目や目詰まりなどの影響を完全
になくすことは困難であった。このため歩留りが悪くな
る問題が生じている。
【０００３】一方、近年プラズマディスプレイパネルの
障壁をサンドブラスト加工などのサブトラクティブ法に
より形成することが行われているが、この場合には、乾
燥後の膜厚が１５０〜２５０μｍもの厚い障壁形成層を
ベタ膜で形成する必要がある。この工程も通常はスクリ
ーン印刷によって行われているが、所定の膜厚を得るた
めには１０回程度もの重ね塗りが必要とされるので生産
性が極めて悪い。また、メッシュ目による凹凸をなくす
こともできない。このため、表面を平滑にするために研
磨するといった工程も必要となることがある。そこで、
スクリーン印刷を多数回繰り返す代わりに、枚葉型ブレ
ードコーターやコンマコーターを用いて一回で塗布する
ことも行われているが、これらの塗布方式では被塗基板
の端縁部や裏側への液の付着を避けることができないた
め、量産機としては使用できないという問題がある。
障壁をサンドブラスト加工などのサブトラクティブ法に
より形成することが行われているが、この場合には、乾
燥後の膜厚が１５０〜２５０μｍもの厚い障壁形成層を
ベタ膜で形成する必要がある。この工程も通常はスクリ
ーン印刷によって行われているが、所定の膜厚を得るた
めには１０回程度もの重ね塗りが必要とされるので生産
性が極めて悪い。また、メッシュ目による凹凸をなくす
こともできない。このため、表面を平滑にするために研
磨するといった工程も必要となることがある。そこで、
スクリーン印刷を多数回繰り返す代わりに、枚葉型ブレ
ードコーターやコンマコーターを用いて一回で塗布する
ことも行われているが、これらの塗布方式では被塗基板
の端縁部や裏側への液の付着を避けることができないた
め、量産機としては使用できないという問題がある。
【０００４】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、その目的とするところは、乾燥後の膜厚が
２μｍ程度の薄膜から２５０μｍ程度の超厚膜までを表
面平滑性良く、高精度、無欠陥で形成でき、かつ高い生
産性で塗工できる枚葉型塗布装置を提供するものであ
る。
ものであり、その目的とするところは、乾燥後の膜厚が
２μｍ程度の薄膜から２５０μｍ程度の超厚膜までを表
面平滑性良く、高精度、無欠陥で形成でき、かつ高い生
産性で塗工できる枚葉型塗布装置を提供するものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の枚葉型塗布装置は、上面に基板を吸着して
水平方向に移動するステージと、該ステージの上方に配
置され、前記基板の進行方向に対して逆回転しながらそ
のロール面上から前記基板に液膜を転写するアプリケー
ターロールと、該アプリケーターロールの斜め上方の位
置で該アプリケーターロールに平行に且つギャップを有
して配置され、アプリケーターロールと同じ方向に回転
しながらアプリケーターロールのロール面上に液膜を形
成するメタリングロールとを備えてなり、前記アプリケ
ーターロールのロール面と前記メタリングロールのロー
ル面との間を塗工液の液溜めに利用したことを要旨とす
るものである。
め、本発明の枚葉型塗布装置は、上面に基板を吸着して
水平方向に移動するステージと、該ステージの上方に配
置され、前記基板の進行方向に対して逆回転しながらそ
のロール面上から前記基板に液膜を転写するアプリケー
ターロールと、該アプリケーターロールの斜め上方の位
置で該アプリケーターロールに平行に且つギャップを有
して配置され、アプリケーターロールと同じ方向に回転
しながらアプリケーターロールのロール面上に液膜を形
成するメタリングロールとを備えてなり、前記アプリケ
ーターロールのロール面と前記メタリングロールのロー
ル面との間を塗工液の液溜めに利用したことを要旨とす
るものである。
【０００６】そして、上記アプリケーターロールのロー
ル面の少なくとも表層部分に弾性を持たせるのが好まし
い。また、上記アプリケーターロール及びメタリングロ
ールにそれぞれロール面の長が等しい段付きロールを使
用し、これら段付きロールにおけるロール面と段差部分
の境界端面に密着して塗工液をせき止めるためのせき板
を設けるように構成するのが好ましい。また、上記液溜
め中の液面の位置を検出するセンサーを設け、当該セン
サーからの信号により所定量の塗工液を供給し、上記液
溜め中の液量を一定に保つ機構を設けた構成にするのが
好ましい。移動中の上記ステージが所定位置に達した時
点で、上記アプリケーターロール及びメタリングロール
を降下させる昇降機構を設けた構成にしてもよい。
ル面の少なくとも表層部分に弾性を持たせるのが好まし
い。また、上記アプリケーターロール及びメタリングロ
ールにそれぞれロール面の長が等しい段付きロールを使
用し、これら段付きロールにおけるロール面と段差部分
の境界端面に密着して塗工液をせき止めるためのせき板
を設けるように構成するのが好ましい。また、上記液溜
め中の液面の位置を検出するセンサーを設け、当該セン
サーからの信号により所定量の塗工液を供給し、上記液
溜め中の液量を一定に保つ機構を設けた構成にするのが
好ましい。移動中の上記ステージが所定位置に達した時
点で、上記アプリケーターロール及びメタリングロール
を降下させる昇降機構を設けた構成にしてもよい。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係る枚葉型塗布装
置の基本構成を示す概略図であり、同図ではロールの配
置状態が分かるようにフレームを除いて図示している。
置の基本構成を示す概略図であり、同図ではロールの配
置状態が分かるようにフレームを除いて図示している。
【０００８】図中１は水平方向に移動可能なステージで
あり、その上面に載置した基板Ａを真空吸着して固定す
るように構成されている。２はステージ１の上方に配置
されたアプリケーターロール、３はアプリケーターロー
ル２の斜め上方の位置でアプリケーターロール２に平行
に且つギャップを有して配置されたメタリングロールで
あり、図示のようにアプリケーターロール２のロール面
とメタリングロール３のロール面の間が塗工液Ｂの液溜
めを構成している。そして、アプリケーターロール２は
基板Ａの進行方向に対して逆回転するように、メタリン
グロール３はアプリケーターロール２と同じ方向に回転
するように構成されている。また、図中４はメタリング
ロール３に接して配置されたドクターであり、塗工液Ｂ
の供給パイプ５がこのドクター４に取り付けられてい
る。なお、アプリケーターロール２には周囲にゴム（Ｎ
ＢＲ、例えば硬度６０°又は９０°）を巻き付けたもの
を使用するのが好ましい。
あり、その上面に載置した基板Ａを真空吸着して固定す
るように構成されている。２はステージ１の上方に配置
されたアプリケーターロール、３はアプリケーターロー
ル２の斜め上方の位置でアプリケーターロール２に平行
に且つギャップを有して配置されたメタリングロールで
あり、図示のようにアプリケーターロール２のロール面
とメタリングロール３のロール面の間が塗工液Ｂの液溜
めを構成している。そして、アプリケーターロール２は
基板Ａの進行方向に対して逆回転するように、メタリン
グロール３はアプリケーターロール２と同じ方向に回転
するように構成されている。また、図中４はメタリング
ロール３に接して配置されたドクターであり、塗工液Ｂ
の供給パイプ５がこのドクター４に取り付けられてい
る。なお、アプリケーターロール２には周囲にゴム（Ｎ
ＢＲ、例えば硬度６０°又は９０°）を巻き付けたもの
を使用するのが好ましい。
【０００９】上記の構成において、供給パイプ５から液
溜め内に塗工液Ｂが供給され、アプリケーターロール２
とメタリングロール３がそれぞれ回転動作を行うと、塗
工液Ｂは液溜め内で絶えず流動しながら、アプリケータ
ーロール２とメタリングロール３のギャップから一定の
割合で送り出され、一方メタリングロール３のロール面
に付着した塗工液Ｂはドクター４にて掻き落とされて液
溜め内に戻る。この動作によりアプリケーターロール２
のロール面上には一定膜厚の液膜が形成され、基板Ａを
吸着固定したステージ１が図の矢印方向に移動すると、
アプリケーターロール２はそのロール面上の液膜を基板
Ａに転写する。
溜め内に塗工液Ｂが供給され、アプリケーターロール２
とメタリングロール３がそれぞれ回転動作を行うと、塗
工液Ｂは液溜め内で絶えず流動しながら、アプリケータ
ーロール２とメタリングロール３のギャップから一定の
割合で送り出され、一方メタリングロール３のロール面
に付着した塗工液Ｂはドクター４にて掻き落とされて液
溜め内に戻る。この動作によりアプリケーターロール２
のロール面上には一定膜厚の液膜が形成され、基板Ａを
吸着固定したステージ１が図の矢印方向に移動すると、
アプリケーターロール２はそのロール面上の液膜を基板
Ａに転写する。
【００１０】このように基板Ａをステージ１上に吸着固
定して搬送することにより、基板Ａの反りを矯正して塗
布を行うことができる。また、液溜め中の塗工液Ｂは液
溜め内で絶えず流動するため、チクソトロピー性の高い
塗工液を用いても、塗布後にはその粘性が低下してお
り、気泡の抜けが促進される。このため、泡抜け不良に
よるクレーターやひび割れの発生を回避できる。また、
周囲にゴムを巻き付けて表層部分に弾性を持たせたアプ
リケーターロール２を使用することにより、そのロール
面を基板Ａに密着させて液膜を転写でき、基板Ａの板厚
ムラの影響を回避することができる。
定して搬送することにより、基板Ａの反りを矯正して塗
布を行うことができる。また、液溜め中の塗工液Ｂは液
溜め内で絶えず流動するため、チクソトロピー性の高い
塗工液を用いても、塗布後にはその粘性が低下してお
り、気泡の抜けが促進される。このため、泡抜け不良に
よるクレーターやひび割れの発生を回避できる。また、
周囲にゴムを巻き付けて表層部分に弾性を持たせたアプ
リケーターロール２を使用することにより、そのロール
面を基板Ａに密着させて液膜を転写でき、基板Ａの板厚
ムラの影響を回避することができる。
【００１１】上記のアプリケーターロール２とメタリン
グロール３に使用されるロールＲの一般的な形状は図２
（ｂ）のようであるが、図２（ａ）に示すようにロール
面ａの左右両サイドに段差部分ｂを有する段付きロール
Ｒａを使用してもよい。この場合、両ロール２，３にそ
れぞれロール面ａの長さが等しいものを使用するととも
に、図３及び図４に示すように、せき板６、サイドドク
ター７、液受けパン８を両側にそれぞれ配置する。せき
板６は、アプリケーターロール２及びメタリングロール
３の段差部分ｂの形状に合わせた樹脂板で構成し、ロー
ル面ａと段差部分ｂの境界端面に密着するように且つ液
溜めの両サイドを閉じるようにして取り付ける。サイド
ドクター７は、ロール面ａと段差部分ｂの境界端面にお
けるせき板６のない部分にドクター刃を平行に押し当て
るように取り付け、せき板６で押さえきれない塗工液Ｂ
をサイドドクター７で掻き取るようにする。また、液受
けパン８は、サイドドクター７で掻き取った塗工液Ｂを
ステージ１や基板Ａに垂らさないように取り付ける。こ
のように構成することで、ロール端面からの液垂れを防
止し、塗布面の両端において良好な塗布を行うことがで
き、したがって幅方向に選択性のある塗布を行うことが
できる。また、液溜めの液量によってアプリケーターロ
ール２上に形成される液膜の膜質が影響を受けてしまう
が、これを防ぐためには、せき板６を設けるとともに、
液溜めの液面の位置を検出するセンサーをせき板６に取
り付けておき、液溜め内の塗工液Ｂの量が所定量より下
がった時にセンサーがこれを検知し、塗工液Ｂを供給パ
イプ５から自動供給するように構成しておくとよい。
グロール３に使用されるロールＲの一般的な形状は図２
（ｂ）のようであるが、図２（ａ）に示すようにロール
面ａの左右両サイドに段差部分ｂを有する段付きロール
Ｒａを使用してもよい。この場合、両ロール２，３にそ
れぞれロール面ａの長さが等しいものを使用するととも
に、図３及び図４に示すように、せき板６、サイドドク
ター７、液受けパン８を両側にそれぞれ配置する。せき
板６は、アプリケーターロール２及びメタリングロール
３の段差部分ｂの形状に合わせた樹脂板で構成し、ロー
ル面ａと段差部分ｂの境界端面に密着するように且つ液
溜めの両サイドを閉じるようにして取り付ける。サイド
ドクター７は、ロール面ａと段差部分ｂの境界端面にお
けるせき板６のない部分にドクター刃を平行に押し当て
るように取り付け、せき板６で押さえきれない塗工液Ｂ
をサイドドクター７で掻き取るようにする。また、液受
けパン８は、サイドドクター７で掻き取った塗工液Ｂを
ステージ１や基板Ａに垂らさないように取り付ける。こ
のように構成することで、ロール端面からの液垂れを防
止し、塗布面の両端において良好な塗布を行うことがで
き、したがって幅方向に選択性のある塗布を行うことが
できる。また、液溜めの液量によってアプリケーターロ
ール２上に形成される液膜の膜質が影響を受けてしまう
が、これを防ぐためには、せき板６を設けるとともに、
液溜めの液面の位置を検出するセンサーをせき板６に取
り付けておき、液溜め内の塗工液Ｂの量が所定量より下
がった時にセンサーがこれを検知し、塗工液Ｂを供給パ
イプ５から自動供給するように構成しておくとよい。
【００１２】図５に示す実施形態では、アプリケーター
ロール２とメタリングロール３をユニット化してこれに
昇降機構を設けている。この実施形態においては次のよ
うにして塗布が行われる。まず、（ａ）に示す位置にて
ステージ１上に基板Ａが吸着固定され、この支持状態で
ステージ１が右方向に水平移動する。この移動時におい
て（ｂ）に示す如くロールユニットの手前にあるセンサ
ー９のところで基板Ａの厚さ及び長さが計測される。こ
のセンサー９としては例えばレーザーフォーカス変位計
が使用される。そして、（ｃ）に示すように基板Ａがコ
ーティング開始点に入ると、ロールユニットが下降して
塗布を開始する。ステージ１がさらに移動して基板Ａが
コーティング終了点にくると、（ｄ）に示すようにロー
ルユニットが上昇して塗布を終了する。このように構成
することで、ステージ１の搬送方向に選択性のある塗布
を行うことができる。また、基板Ａの先端縁部やステー
ジ１上への液付着を避けることができる。
ロール２とメタリングロール３をユニット化してこれに
昇降機構を設けている。この実施形態においては次のよ
うにして塗布が行われる。まず、（ａ）に示す位置にて
ステージ１上に基板Ａが吸着固定され、この支持状態で
ステージ１が右方向に水平移動する。この移動時におい
て（ｂ）に示す如くロールユニットの手前にあるセンサ
ー９のところで基板Ａの厚さ及び長さが計測される。こ
のセンサー９としては例えばレーザーフォーカス変位計
が使用される。そして、（ｃ）に示すように基板Ａがコ
ーティング開始点に入ると、ロールユニットが下降して
塗布を開始する。ステージ１がさらに移動して基板Ａが
コーティング終了点にくると、（ｄ）に示すようにロー
ルユニットが上昇して塗布を終了する。このように構成
することで、ステージ１の搬送方向に選択性のある塗布
を行うことができる。また、基板Ａの先端縁部やステー
ジ１上への液付着を避けることができる。
【００１３】
【実施例】本実施例では、サンドブラスト法によりプラ
ズマディスプレイパネル用の障壁を形成するための厚膜
をガラス基板上に形成した。なお、ここでは上記の実施
形態で述べた全ての構成を備えた塗布装置を使用した。
ズマディスプレイパネル用の障壁を形成するための厚膜
をガラス基板上に形成した。なお、ここでは上記の実施
形態で述べた全ての構成を備えた塗布装置を使用した。
【００１４】基板Ａとしては、３５０×４８８ｍｍサイ
ズで厚さが２ｍｍのフロート法により形成された無研磨
のソーダライムガラスを使用した。この基板Ａは面内に
おいて板厚のバラツキが最大３５μｍであった。塗工液
Ｂとしては、奥野製薬工業製のプラズマディスプレイパ
ネル障壁用ガラスペースト（Ｇ３−０４１４）を用い
た。この塗工液の粘度はＢＬ型回転粘度計（３号ロータ
ー、６ｒｐｍ）にて計測して１０３００ｃｐｓであっ
た。
ズで厚さが２ｍｍのフロート法により形成された無研磨
のソーダライムガラスを使用した。この基板Ａは面内に
おいて板厚のバラツキが最大３５μｍであった。塗工液
Ｂとしては、奥野製薬工業製のプラズマディスプレイパ
ネル障壁用ガラスペースト（Ｇ３−０４１４）を用い
た。この塗工液の粘度はＢＬ型回転粘度計（３号ロータ
ー、６ｒｐｍ）にて計測して１０３００ｃｐｓであっ
た。
【００１５】メタリングロール２の速度０．７８ｍ／
分、アプリケーターロール３の回転速度３．３７ｍ／
分、ステージ１の搬送速度１．５１ｍ／分、アプリケー
ターロール２とメタリングロール３のギャップ２００μ
ｍ、アプリケーターロール２の基板Ａへの押込み量２０
〜６０μｍの条件にて塗布を行った。
分、アプリケーターロール３の回転速度３．３７ｍ／
分、ステージ１の搬送速度１．５１ｍ／分、アプリケー
ターロール２とメタリングロール３のギャップ２００μ
ｍ、アプリケーターロール２の基板Ａへの押込み量２０
〜６０μｍの条件にて塗布を行った。
【００１６】塗布後の乾燥は、遠赤外線セラミックパネ
ルヒーターを使用し、設定温度１２０℃で１５分間、続
いて設定温度１７０℃で１０分間加熱することで行っ
た。これにより、基板Ａの外縁から１５ｍｍ内側の矩形
状領域に膜厚１６０±８μｍの均一性の高い塗膜が形成
された。
ルヒーターを使用し、設定温度１２０℃で１５分間、続
いて設定温度１７０℃で１０分間加熱することで行っ
た。これにより、基板Ａの外縁から１５ｍｍ内側の矩形
状領域に膜厚１６０±８μｍの均一性の高い塗膜が形成
された。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る枚葉型塗布装置の基本構成を示す
概略図である。
概略図である。
【図２】アプリケーターロールとメタリングロールに使
用するロールの形状を示す図である。
用するロールの形状を示す図である。
【図３】段付きロールを使用したアプリケーターロール
とメタリングロールにせき板を設けた状態を示す正面図
である。
とメタリングロールにせき板を設けた状態を示す正面図
である。
【図４】同じく側面図である。
【図５】昇降機構を設けた塗布装置の動作を説明するた
めの図である。
めの図である。
１ ステージ ２ アプリケーターロール ３ メタリングロール ４ ドクター ５ 供給パイプ ６ せき板 ７ サイドドクター ８ 液受けパン ９ センサー Ａ 基板 Ｂ 塗工液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 羽鳥 桜子 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 上面に基板を吸着して水平方向に移動す
るステージと、該ステージの上方に配置され、前記基板
の進行方向に対して逆回転しながらそのロール面上から
前記基板に液膜を転写するアプリケーターロールと、該
アプリケーターロールの斜め上方の位置で該アプリケー
ターロールに平行に且つギャップを有して配置され、ア
プリケーターロールと同じ方向に回転しながらアプリケ
ーターロールのロール面上に液膜を形成するメタリング
ロールとを備えてなり、前記アプリケーターロールのロ
ール面と前記メタリングロールのロール面との間を塗工
液の液溜めに利用したことを特徴とする枚葉型塗布装
置。 - 【請求項２】 前記アプリケーターロールのロール面の
少なくとも表層部分に弾性を持たせた請求項１に記載の
枚葉型塗布装置。 - 【請求項３】 前記アプリケーターロール及びメタリン
グロールにそれぞれロール面の長が等しい段付きロール
を使用し、これら段付きロールにおけるロール面と段差
部分の境界端面に密着して塗工液をせき止めるためのせ
き板を設けたことを特徴とする請求項１又は２に記載の
枚葉型塗布装置。 - 【請求項４】 前記液溜め中の液面の位置を検出するセ
ンサーを設け、当該センサーからの信号により所定量の
塗工液を供給し、前記液溜め中の液量を一定に保つ機構
を設けたことを特徴とする請求項１，２又は３に記載の
枚葉型塗布装置。 - 【請求項５】 移動中の前記ステージが所定位置に達し
た時点で、前記アプリケーターロール及びメタリングロ
ールを降下させる昇降機構を設けたことを特徴とする請
求項１，２，３又は４に記載の枚葉型塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18368995A JPH0929149A (ja) | 1995-07-20 | 1995-07-20 | 枚葉型塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18368995A JPH0929149A (ja) | 1995-07-20 | 1995-07-20 | 枚葉型塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0929149A true JPH0929149A (ja) | 1997-02-04 |
Family
ID=16140219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18368995A Pending JPH0929149A (ja) | 1995-07-20 | 1995-07-20 | 枚葉型塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0929149A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0878245A3 (en) * | 1997-05-15 | 2000-11-02 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Thin film-forming method and apparatus therefor |
| JP2010158609A (ja) * | 2009-01-06 | 2010-07-22 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP2015098009A (ja) * | 2013-11-20 | 2015-05-28 | セントラル硝子株式会社 | ロールコート装置及び塗布液の塗布方法 |
| JP2021118997A (ja) * | 2020-01-14 | 2021-08-12 | ラトーレ， イエズス フランシスコ バルベラン | ローラー及び塗布システムによる生産物の塗布方法 |
-
1995
- 1995-07-20 JP JP18368995A patent/JPH0929149A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0878245A3 (en) * | 1997-05-15 | 2000-11-02 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Thin film-forming method and apparatus therefor |
| JP2010158609A (ja) * | 2009-01-06 | 2010-07-22 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP2015098009A (ja) * | 2013-11-20 | 2015-05-28 | セントラル硝子株式会社 | ロールコート装置及び塗布液の塗布方法 |
| JP2021118997A (ja) * | 2020-01-14 | 2021-08-12 | ラトーレ， イエズス フランシスコ バルベラン | ローラー及び塗布システムによる生産物の塗布方法 |
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