JPH09293265A - 光ヘッド及びこの光ヘッドを用いた光情報処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ディスク装置の基本機能ごとに作り分けを
せず、設計コストや製造コストの低減を可能とする光ヘ
ッドの提供。 【解決手段】 入射された平行光ビームをビームサイズ
のみが異なる平行光ビームに変換して出射する平行光ビ
ーム変換手段２０と、この平行光ビーム変換手段２０を
対物レンズへ供給される平行光ビームの光路中へ着脱可
能な状態に支持する手段６４と、を有する光ヘッドとす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクや光カ
ードなどの光情報記録媒体に対して情報の記録や再生を
行う光情報処理装置、及びこの光情報処理装置の一部を
構成し、光情報記録媒体との光ビームの授受を担う光ヘ
ッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクや光カードなどの光情報記録
媒体（以下、光ディスクによって総称する）に対して情
報の記録や再生を行う光情報処理装置（以下、光ディス
ク装置によって総称する）は、光ディスクに記録された
情報の再生のみを行う再生専用タイプと、再生に加え
て、光ディスクへの情報の記録も可能とする記録再生用
タイプの２つに大別される。一方現在では、より高密度
に情報を記録する光ディスクに対して情報の記録や再生
を行う光ディスク装置の開発に期待が高まっている。

【０００３】このような光ディスク装置における光ヘッ
ドでは、それぞれのタイプで、光ビームの集光スポット
及びその利用効率が最適となるように、光ビームのビー
ム充填率が設計される。

【０００４】ビーム充填率とは、対物レンズに入射させ
る光ビームのビームサイズに対する対物レンズ開口の径
との比をいう。したがって小さい集光スポットを得よう
とすれば、ビーム充填率は小さい値（例えば、０．６以
下）に設計する必要がある。また半導体レーザから出射
された光ビームをより有効に利用しようとすれば、ビー
ム充填率は大きい値（例えば、０．８以上）に設計する
必要がある。

【０００５】例えば、高密度に情報が記録された光ディ
スクから情報の再生を行う再生専用光ディスク装置の光
ヘッドにおいては、高い解像力と分解能が得られるよう
に集光スポットを小さくする必要がある。そのためにビ
ーム充填率は小さめに設計される。

【０００６】また光ディスクに対して情報の記録及び再
生を行う記録再生用光ディスク装置の光ヘッドにおいて
は、情報の記録を行う際に高いパワーの集光スポットが
必要となる。高いパワーの集光スポットを得るためには
最大定格出力の大きい半導体レーザを使用することが考
えられる。しかしながら高密度に情報を記録する場合に
必要とされる短波長の光ビームを発生する半導体レーザ
に関しては、最大定格出力などの諸特性に優れたものの
安定的な入手は困難というのが現状である。したがって
現状では、ビーム充填率を大きめに設計することで光の
利用効率を高めて、集光スポットのパワーを高く確保し
ている。このように従来は、光ディスク装置の基本機能
によって最適となるビーム充填率が異なるため、光ヘッ
ドの設計・製造は個別に行っていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、基
本機能の異なる光ディスク装置ごとに最適なビーム充填
率を有する光ヘッドを作り分けることは光ヘッドの種類
の増大を招く。その結果として、それらの光ヘッドの設
計、製造及び管理にかかるコストの増加という不都合を
生じる。

【０００８】本発明はこのような問題を解決するために
なされたものであり、設計、製造及び管理にかかるコス
トの低減を可能とする光ヘッド並びにこの光ヘッドを用
いた光ディスク装置の提供を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ため、本発明による光ヘッドは、平行光ビームを供給す
る平行光ビーム供給手段と、この平行光ビーム供給手段
から供給された平行光ビームを集束光ビームに変換して
光ディスクに照射する集束照射手段と、この集束照射手
段による光ディスクへの集束光ビームの照射によって光
ディスクから反射した反射光ビームの強度変化または偏
光方向の変化を電気信号の強度変化に変換する光電変換
手段と、を有する光ヘッドにおいて、入射された平行光
ビームをビームサイズのみが異なる平行光ビームに変換
して出射する平行光ビーム変換手段と、平行光ビーム供
給手段から供給されて集束照射手段によって集束される
平行光ビームの光路中に、上記の平行光ビーム変換手段
を着脱可能に支持する手段と、から成ることを特徴とす
る。

【００１０】このような構造から成る本発明の光ヘッド
は、平行光ビーム供給手段から供給されて集束照射手段
によって集束される平行光ビームの光路中に、平行光ビ
ーム変換手段が設置された場合、次のようにして光ディ
スクに集束光ビームの照射を行う。

【００１１】まず、平行光ビーム供給手段が平行光ビー
ムの供給を行う。供給された平行光ビームは、その平行
光ビームの光路中に設置された平行光ビーム変換手段に
入射される。平行光ビーム変換手段は、入射された平行
光ビームをこの平行光ビームとはビームサイズのみが異
なる平行光ビームに変換し、変換された平行光ビームの
出射を行う。平行光ビーム変換手段から出射された平行
光ビームは集束照射手段に入射される。集束照射手段
は、入射された平行光ビームを集束光ビームに変換し、
変換された集束光ビームを光ディスクに照射する。

【００１２】一方、前記構造から成る本発明の光ヘッド
が、平行光ビーム供給手段から供給されて集束照射手段
によって集束される平行光ビームの光路中に、平行光ビ
ーム変換手段を設置していない場合、次のようにして光
ディスクに集束光ビームの照射を行う。

【００１３】まず、平行光ビーム供給手段が平行光ビー
ムの供給を行う。供給された平行光ビームは集束照射手
段に入射される。平行光ビームが入射された集束照射手
段は、その平行光ビームを集束光ビームに変換し、変換
された集束光ビームを光ディスクに照射する。ここで、
この光ヘッドには平行光ビーム変換手段が設置されてい
ないため、集束照射手段に入射される平行光ビームは平
行光ビーム変換手段によるビームサイズの変換を受けて
いない。そのため、上記の平行光ビーム変換手段を設置
している光ヘッドの場合とは異なるビーム充填率を有す
る集束光ビームによって、光ディスクに集束光ビームの
照射を行う。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照しながら本発明
の実施の形態について説明を行う。図１に、本発明の光
ヘッドによって一部が構成されている光ディスク装置を
示す。また図２及び図３に、本発明による光ヘッドの実
施の形態における第一の使用状態として、前記の平行光
ビーム変換手段を設置した光ヘッドを示す。

【００１５】図１に示す光ディスク装置３０は、光ヘッ
ド３と、信号処理系３１と、制御系３２と、ディスクモ
ータ３３と、から成る。光ヘッド３は、光ディスク５０
の近傍に設けられると伴に信号処理系３１及び制御系３
２と電気的に接続され、制御系３２からの制御信号によ
って光ディスク５０に照射する光ビーム照射位置制御を
受けながら、信号処理系３１との電気信号の授受に伴っ
て光ディスク５０との間で光ビームの授受を行う。

【００１６】信号処理系３１は光ヘッド３、制御系３２
及び外部装置６０と電気的に接続され、光ディスク５０
に対する情報信号の再生（若しくは記録）を行うための
命令信号を外部装置６０から受け、光ヘッド３から光デ
ィスク５０に照射が行われる光ビームの照射位置制御及
びディスクモータ３３によって回転される光ディスク５
０の回転速度制御を制御系３２によって行うように指示
信号を制御系３２に伝送すると伴に、光ヘッド３が光デ
ィスク５０との間で光ビームの授受を行うように光ヘッ
ド３に対して電気信号の授受を行い、光ディスク５０か
ら得た光ヘッド３からの情報信号に基づいて、光ビーム
の照射位置制御及びディスクモータ３３による光ディス
ク５０の回転制御をさらに行うように制御系３２に指示
信号を出すと伴に光ディスク５０からの情報信号に復号
等の所定の信号処理を施した後に外部装置６０へ伝送す
る。

【００１７】制御系３２は、信号処理系３１、光ヘッド
３及びディスクモータ３３と電気的に接続され、信号処
理系３１から受ける指示信号に基づいて光ヘッド３及び
ディスクモータ３３に制御信号を伝送し、光ヘッド３か
ら光ディスク５０に照射される光ビームの照射位置制御
及びディスクモータ３３による光ディスク５０の回転速
度制御を行う。ディスクモータ３３は制御系３２と電気
的に接続され、制御系３２からの制御信号に基づいて光
ディスク５０を所定の回転速度で回転させる。

【００１８】このような構成から成る光ディスク装置３
０は以下のように動作する。まず、信号処理系３１が外
部装置６０からの光ディスク５０に対する情報の再生
（若しくは記録）について命令信号を受ける。この命令
信号に基づいて、信号処理系３１は光ヘッド３との間で
電気信号をやり取りすると伴に、制御系３２に制御信号
を伝送する。この伝送された制御信号をもとに、制御系
３２は光ヘッド３の制御によって照射が行われる光ディ
スク５０に対する光ビームの照射位置を、またディスク
モータ３３の制御によって光ディスク５０の回転速度を
制御する。このような制御系３２から制御を受けなが
ら、光ヘッド３は信号処理系３１との間でやり取りされ
る電気信号に基づいて光ディスク５０との間で光ビーム
を授受することによって情報の再生（若しくは記録）を
行う。

【００１９】この情報の再生（若しくは記録）に伴っ
て、光ヘッド３は光ディスク５０に記録されていた情報
及び光ビーム照射位置に関する情報に対応した電気信号
を得て、この電気信号を信号処理系３１に伝送する。信
号処理系３１は、この電気信号から光ビーム照射位置に
関する情報に対応した電気信号に基づいて制御系３２を
制御し直す制御信号を制御系に送ると伴に、光ディスク
５０に記録されていた情報に対応した電気信号に復号な
どの処理を施した後にこの処理済みの電気信号を外部装
置６０へ伝送する。光ディスク５０に記録された情報に
対応した電気信号を信号処理系３１から受けた外部装置
６０はこの電気信号に基づいて、光ディスク装置３０に
必要な指示を促して動作させるように信号処理系３１へ
指示信号を再び伝送する。以上のような一連の動作の繰
り返しによって、光ディスク装置３０は光ディスク５０
に対して情報の再生（若しくは記録）を行う。

【００２０】図２に、光ヘッド３の構造を示す。光ヘッ
ド３は、ベース４上に固定された固定光学系２と、ベー
ス４上を移動する移動光学系５によって構成される。固
定光学系２は移動光学系５に対して光ビームＲの授受を
行うものであり、その詳細な説明は後述する。移動光学
系５は、ミラー４１、ミラー支軸４２、対物レンズ４
３、絞り４４、フォーカス制御手段４６及び移動光学系
移動手段５８によって構成される。

【００２１】ミラー支軸４２とこのミラー支軸４２によ
って光反射面に平行な位置で軸支されたミラー４１は全
体としてガルバノミラーを構成しており、光ディスク５
０に照射する光ビームのトラッキング方向の照射位置制
御を行う。ミラー４１は固定光学系２から送られた光ビ
ームが対物レンズ４３に入射するようにその光ビームの
光路を変換すると伴に、対物レンズ４３による光ビーム
の照射が光ディスク５０上の所定の位置においてなされ
るように光ディスク５０のトラッキング方向へ光ビーム
の照射位置を制御するように、例えば電磁駆動力によっ
て、ミラー支軸４２を中心として回動する。

【００２２】また対物レンズ４３は固定光学系２から供
給されてミラー４１による反射によって曲げられた光路
中に設けられ、固定光学系２から供給される平行光の光
ビームを集束光となして光ディスク５０に照射するとと
もに、光ディスク５０からの反射光を受けて、発散光で
ある反射光を平行光の光ビームに変換して固定光学系２
の方向へ導く。絞り４４は、ミラー４１によって光路が
曲げられ、且つ対物レンズ４３によって集束光とされる
平行光ビームの光路中に設けられ、固定光学系２から対
物レンズ４３に送られる平行光ビームの透過光量を調節
する。またフォーカス制御手段４６は、対物レンズ４３
に入射される平行光ビームの光軸方向に対物レンズ４３
を可動可能とするように対物レンズ４３に設けられ、光
ディスク５０に照射される光ビームのフォーカス制御を
行う。移動光学系移動手段５８は、ベース４上の移動光
学系５を光ディスク５０の半径方向に粗動させ、光ディ
スク５０に照射する光ビームの照射位置を粗く変化させ
る。

【００２３】次に、このような構成から成る光ヘッド３
の動作について説明を行う。光ディスク装置３０が外部
装置６０から光ディスク５０に対する情報信号の再生
（若しくは記録）の命令を受けると、光ヘッド３は光デ
ィスク５０と光ビームの授受を開始する。まず、光ヘッ
ドの固定光学系２が、後述する所定の手順で光ビームを
発生し、発生した光ビームを移動光学系５に供給する。

【００２４】移動光学系５に供給された光ビームは、ミ
ラー４１によって光路が対物レンズ４３の方向に変更さ
れ、絞り４４によって光ビームの通過量が制限された
後、対物レンズ４３に入射する。対物レンズ４３は光ビ
ームを集束し、集束した光ビームを光ディスク５０に照
射する。光ディスク５０への光ビームの照射によって、
光ディスク５０において光ビームが反射される。反射し
た光ビームは、上記の光路を逆走し、移動光学系５から
出射して固定光学系２に入射する。固定光学系２では、
後述する所定の手順によって、入射した反射光ビームの
強度が電気信号の強度に変換され、変換された電気信号
は信号処理系３１へ伝送される。

【００２５】図３に、本発明の実施の形態による第一の
使用状態における光ヘッドの固定光学系を示す。固定光
学系２は、斜線部で示す筐体と、この筐体に設けられた
半導体レーザ１１、コリメートレンズ１２、ビームスプ
リッタ１３及び１７、平行光ビーム変換手段２０、防塵
カバーガラス１０、１／２波長板１５、集束レンズ１
６、光検出器１８及び１９によって構成され、それらは
固定光学系２の筐体に紫外線硬化樹脂などによる接着に
よって固定されている。また、上記の筐体は、平行光ビ
ーム変換手段２０を後述する所定位置に必要に応じて設
けることが出来るように、平行光ビーム変換手段２０を
着脱可能に支持する手段として、被係合部６４を有する
構造から成る。

【００２６】固定光学系２の筐体には、光ビームを伝導
するために形成された溝部が設けられている。この溝部
の一端から光ビームが供給されるように、放射光ビーム
を発生する半導体レーザ１１が固定光学系２の筐体に固
定されている。

【００２７】コリメートレンズ１２は放射光ビームを平
行光ビームに変換するもので、半導体レーザ１１から発
生した放射光ビームの光路中に設けられるように固定光
学系２の筐体に接着されている。

【００２８】ビームスプリッタ１３は入射された光を異
なる方向へ進行する２つの光に一定の分配比によって分
離するもので、コリメートレンズ１２から出射された平
行光ビームの光路中に設けられ、コリメートレンズ１２
の方向から入射した楕円断面形状の平行光ビームを略円
形断面形状の平行光ビームにするとともに対物レンズ４
３の方向から入射した平行光ビームを、その偏光状態を
保ちながら略１００％の割合で、光検出器１８及び１９
の方向へ出射するものである。

【００２９】１／２波長板１５は光ディスク５０で反射
された反射光の光路中に設けられ、この入射した光ディ
スク反射光を有している異なる偏光成分が後述するビー
ムスプリッタ１７によって感度良く分離されるように、
入射した光ディスク反射光の光軸を中心に回転させるこ
とによって調整が行われるものである。

【００３０】集束レンズ１６は１／２波長板１５とビー
ムスプリッタ１７との間の光ディスク５０によって反射
された反射光の光路中に設けられ、この入射した反射光
を平行光ビームから集束光ビームに変換する。

【００３１】ビームスプリッタ１７は集束レンズ１６か
ら出射された集束光ビームの光路中に設けられ、入射さ
れた集束レンズ１６からの集束光ビームを異なる偏光成
分の光に分離して光検出器１８及び１９が設けられてい
る異なる方向へ出射するものである。

【００３２】光検出器１８及び１９はビームスプリッタ
１７から出射される集束光ビームの光路中に、かつこの
集束光ビームの焦点距離を挟んで等間隔だけ離れた位置
にそれぞれ設けられ、所定の光感受部に入射されるビー
ムスプリッタ１７からの集束光ビームの強度変化を電気
信号の強度変化に変換し、光ディスク５０によって反射
された反射光ビームの強度変化を検出すると伴に光ディ
スク５０に照射される光ビームの照射位置検出を行うも
のである。情報信号に対応する反射光ビームの強度変化
は光検出器１８及び１９によって検出される電気信号強
度を加算することによって得られる。また光ディスク５
０に照射される光ビームの照射位置検出のうち、光ディ
スク５０に照射される光ビームのフォーカス位置検出に
ついては、この光検出器１８及び１９、集束レンズ１６
並びにビームスプリッタ１７で構成される光学系によっ
て、いわゆるビームサイズ法を用いることで行われる。
トラッキング方向への光ビーム照射位置の検出は光検出
器１８若しくは１９の何れかを用いてプッシュプル法に
より行う。

【００３３】防塵カバーガラス１０は固定光学系２から
移動光学系５へ伝送される光ビームの出射口に設けら
れ、固定光学系２の内部へ塵が進入するのを防ぐ。平行
光ビーム変換手段２０は、光ビームの伝搬経路として固
定光学系２の筐体に設けられた溝部のうちのビームスプ
リッタ１３と防塵カバーガラス１０との間となる所定位
置に設けられ、ビームスプリッタ１３を透過して伝送さ
れたコリメータレンズ１２から出射された平行光ビーム
をその平行光ビームとはビームサイズのみが異なる平行
光ビームに変換した後に、防塵カバーカラス１０を介し
て対物レンズ４３を有する固定光学系５へ出射するもの
である。この平行光ビーム変換手段２０は、後述する複
数のレンズによって構成されるような光学的部品であっ
て、その光学的な光軸中心とこの平行光ビーム変換手段
２０を透過する平行光ビームの強度中心が一致するよう
に、必要に応じて接着などによって固定光学系２の筐体
に設けられる。

【００３４】図４に、本発明の実施の形態で用いた平行
光ビーム変換手段の一例を示す。この図に示される平行
光ビーム変換手段２０は、インプットレンズ２１、アウ
トプットレンズ２２、及びこれら２つの光学レンズを固
定するためのレンズホルダー２３から構成される。

【００３５】インプットレンズ２１は、厚み２ｍｍの硝
材ＢＫ−７（光学ガラス）を使用した、入射側の曲率半
径が∞、出射側の曲率半径が約１０ｍｍの平凹レンズで
ある。一方、アウトプットレンズ２２は、同じく厚み２
ｍｍの硝材ＢＫ−７（光学ガラス）を使用しているが、
入射側の曲率半径が約１１．５ｍｍ、出射側の曲率半径
が∞の平凸レンズである。

【００３６】レンズホルダー２３はアルミニウム材料な
どから成り、上記インプットレンズ２１及びアウトプッ
トレンズ２２を装着可能な穴１２１及び１２２を有し、
この穴１２１及び１２２に設けられたインプットレンズ
２１及びアウトプットレンズ２２と紫外線硬化型接着剤
などによって接合が行われる。この接合の際、インプッ
トレンズ２１とアウトプットレンズ２２は、約５ｍｍの
間隔をもって、各レンズの曲面が向かい合うように設け
られる。

【００３７】上記の構造から成る平行光ビーム変換手段
は、図５（ａ）に示すようなガリレオ型のビームエキス
パンダーを構成している。平凹レンズ２４の平面側から
入射された平行光ビームは出射側の凹面によって発散光
ビームとして出射される。この発散光ビームは平凸レン
ズ２５の凸面に入射される。この凸面によって発散光ビ
ームは平行光ビームに変換されて平面側から出射され
る。これら２つのレンズの作用によって平行光ビームの
ビームサイズを拡大することが可能である。

【００３８】上記した設計条件を満たすインプットレン
ズ２１とアウトプットレンズ２２によって構成される平
行光ビーム変換手段２０は入射した平行光ビームのビー
ムサイズを約１．３倍の拡大率で拡大する。この拡大率
については、平行光ビーム変換手段における光学系の設
計条件を変えることによって、所望の拡大率（若しくは
縮小率）を得ることが可能である。

【００３９】なお、平行光ビーム変換手段は上記したガ
リレオ型のビームエキスパンダーに限るものではない。
例えば、図５（ｂ）に示すようなケプラー型のビームエ
キスパンダーであっても構わない。平凸レンズ２６の平
面側から入射された平行光ビームは出射側の凸面によっ
て集束光ビームとして出射される。この集束光ビームは
一旦集束された後に発散光ビームとなる。この発散光ビ
ームは平凸レンズ２７の凸面に入射される。この凸面に
よって発散光ビームは平行光ビームに変換されて平面側
から出射される。このように、これら２つのレンズの作
用によって平行光ビームのビームサイズを拡大すること
が可能である。

【００４０】ガリレオ型のビームエキスパンダーは、全
長を比較的短くし得るという長所がある反面、不要な反
射光や回折光を除去するための各種フィルタをインプッ
トレンズ２１とアウトプットレンズ２２の間に挿入しづ
らいという欠点がある。一方、ケプラー型のビームエキ
スパンダーは、上記のフィルタを楽に挿入し得る構造と
なっている反面、その全長が長くなってしまうという欠
点を有している。平行光ビーム変換手段としてどのよう
なものを使用するかは、個々の設計状況に応じて選択す
ればよい。

【００４１】また、第一の使用状態においては平行光ビ
ーム変換手段２０をビームスプリッタ１３と防塵カバー
ガラス１０の間に設置したが、平行光ビーム変換手段２
０を設置する位置はこれに限るものではない。平行光ビ
ーム変換手段２０は、対物レンズ４３によって集束光ビ
ームに変換される平行光ビームのビームサイズを異なる
ものに変換するものである。よって、この平行光ビーム
の光路中、即ち、コリメートレンズ１２と対物レンズ４
３の間の何れかの位置にあれば良い。さらに、そのよう
な位置に設置される平行光ビーム変換手段の数も１つと
は限らず、固定光学系２の構造を複数の平行光ビーム変
換手段が設置される構造としておいても良い。

【００４２】図６に、本発明の第二の使用状態として、
上記の平行光ビーム変換手段が所定の位置に設置されて
いない構成から成る光ヘッドの固定光学系を示す。図６
に示される固定光学系２は、図３に示される固定光学系
２から平行光ビーム変換手段２０のみを取り外した構成
から成る。また、この第二の使用状態による固定光学系
２を使用した場合の光ヘッドは、第一の使用状態に対し
て固定光学系２のみが異なる構成から成るものであっ
て、移動光学系５などの他の構成は、第一の使用状態と
全く同一である。即ち、第一の使用状態と第二の使用状
態は、平行光ビーム変換手段２０の有無のみが異なる。

【００４３】第二の使用状態による光ヘッドの動作に関
しても、第一の使用状態とほぼ同一である。第二の使用
状態において第一の使用状態とただ一つ異なる点は、平
行光ビーム変換手段２０を着脱可能に支持にする被係合
部６４に平行光ビーム変換手段２０が設けられていない
ことによって、平行光ビームのビームサイズが異なるも
のに変換されないという点である。

【００４４】このように、平行光ビーム変換手段２０の
設置の有無のみによって、異なるビームサイズの平行光
ビームを対物レンズ４３に入射させることが可能であ
る。前記したように、ビーム充填率は平行光ビームのビ
ームサイズに対する対物レンズ開口の比である。したが
って、平行光ビーム変換手段２０は設置されていないが
設置可能な構造を有する光ヘッドへ平行光ビーム変換手
段２０の設置を行うか行わないかの選択のみによって、
異なるビーム充填率を有する光ビームを光ディスクに対
して照射する光ヘッドを得ることが可能となる。

【００４５】例えば、平行光ビーム変換手段２０を設け
ていない第二の使用状態による光ヘッドが、約０．６の
ビーム充填率を有する光ビームを光ディスクに対して照
射するように設計されていたとする。このような比較的
小さい値のビーム充填率を有する光ビームの照射を行う
光ヘッドは、高密度再生専用光ヘッドとして使用可能で
ある。次に、このような第二の使用状態による光ヘッド
の所定の位置に平行光ビーム変換手段２０を設置し、第
一の使用状態による光ヘッドを作製したとする。第一の
使用状態では、平行光ビーム変換手段による平行光ビー
ムのビームサイズ拡大率は約１．３倍であった。そのた
め、この光ヘッドによって照射される光ビームのビーム
充填率は、約０．８となる。このような比較的大きい値
のビーム充填率を有する光ビームの照射を行う光ヘッド
は、高密度記録再生用光ヘッドとして使用可能である。

【００４６】このような、基本機能の異なる光ヘッド
（異なるビーム充填率を有する光ビームによって光ディ
スクへの照射を行う光ヘッド）の製造方法としては、ま
ず平行光ビーム変換手段を所定の位置に設置可能な構造
を有する光ヘッドを製造し、次に平行光ビーム変換手段
を設置するかしないかを選択（若しくは、平行光ビーム
のビームサイズ拡大率が異なる平行光ビーム変換手段を
設置）し、ビーム充填率の異なる集束光ビームを光ディ
スクに照射することが可能な光ヘッドを製造するという
方法を採る。

【００４７】上記のような方法によって製造される、前
記した高密度記録再生用光ヘッドと高密度再生専用光ヘ
ッドとの違いは平行光ビーム変換手段の有無のみであ
り、これら２種類の光ヘッドの設計、製造及び管理を行
う際には両者を全く個別に扱う必要はない。したがっ
て、設計にかかるコスト、部材や製造工程を管理するた
めの管理コスト及び実際の製造に関わる製造コストを、
大幅に低減することが可能となる。

【００４８】

【発明の効果】本発明は以上説明したような構成から成
り、平行光ビーム変換手段の有無や種類の相違のみによ
って、異なるビーム充填率で光ディスクに光ビームを照
射する光ヘッドの提供が可能となるため、光ヘッドの設
計、製造及び管理にかかるコストの低減が実現される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による光ヘッドを用いた光ディスク装置
を示す図。

【図２】本発明の実施の形態における第一の使用状態に
よる光ヘッドを示す図。

【図３】本発明の実施の形態における第一の使用状態に
よる光ヘッドの固定光学系を示す図。

【図４】本発明の実施の形態における第一の使用状態に
用いた平行光ビーム変換手段を示す図。

【図５】平行光ビーム変換手段に使用可能な各種のビー
ムエキスパンダーを示す図。

【図６】本発明の第二の使用状態による光ヘッドの固定
光学系を示す図。

【符号の説明】

２ 固定光学系 ３ 光ヘッド ４ ベース ５ 移動光学系 １１ 半導体レーザ １２ コリメートレンズ １３ ビームスプリッタ ２０ 平行光ビーム変換手段 ２１ インプットレンズ ２２ アウトプットレンズ ２３ レンズホルダー ３０ 光ディスク装置 ３１ 信号処理系 ３２ 制御系 ３３ ディスクモータ ４３ 対物レンズ ５０ 光ディスク ６０ 外部装置 ６４ 被係合部

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平行光ビームを供給する平行光ビーム供
   給手段と、この平行光ビーム供給手段から供給された平
   行光ビームを集束光ビームに変換して光情報記録媒体に
   照射する集束照射手段と、この集束照射手段による光情
   報記録媒体への集束光ビームの照射によって光情報記録
   媒体から反射した反射光ビームの強度変化または偏光方
   向の変化を電気信号の強度変化に変換する光電変換手段
   と、を有する光ヘッドにおいて、前記平行光ビーム供給
   手段から供給された平行光ビームをビームサイズのみが
   異なる平行光ビームに変換して前記集束照射手段へ出射
   する平行光ビーム変換手段と、平行光ビーム供給手段か
   ら供給されて集束照射手段によって集束される前記平行
   光ビームの光路中に、前記平行光ビーム変換手段を着脱
   可能に支持する手段と、から成ることを特徴とする光ヘ
   ッド。
2. 【請求項２】 前記平行光ビーム変換手段が、ガリレオ
   型のビームエキスパンダーを構成する光学レンズによっ
   て成るものであることを特徴とする請求項１記載の光ヘ
   ッド。
3. 【請求項３】 前記平行光ビーム変換手段が、ケプラー
   型のビームエキスパンダーを構成する光学レンズによっ
   て成るものであることを特徴とする請求項１記載の光ヘ
   ッド。
4. 【請求項４】 前記平行光ビーム供給手段が、放射光ビ
   ームを供給する放射光ビーム供給手段と、この放射光ビ
   ーム供給手段から供給された放射光ビームを平行光ビー
   ムに変換するコリメート手段と、から成ることを特徴と
   する請求項１記載の光ヘッド。
5. 【請求項５】 放射光ビームを供給する半導体レーザ
   と、この半導体レーザから供給された放射光ビームを平
   行光ビームに変換するコリメートレンズと、このコリメ
   ートレンズによって変換された平行光ビームを集束光ビ
   ームに変換して光情報記録媒体に照射する対物レンズ
   と、この対物レンズによる光情報記録媒体への集束光ビ
   ームの照射によって光情報記録媒体から反射した反射光
   ビームの強度変化または偏光方向の変化を電気信号の強
   度変化に変換する光検出器と、を有する光ヘッドにおい
   て、ガリレオ型のビームエキスパンダーを構成する光学
   レンズから成り、前記コリメートレンズによって変換さ
   れた平行光ビームをビームサイズのみが異なる平行光ビ
   ームに変換して前記対物レンズへ出射する平行光ビーム
   変換手段と、コリメートレンズによって変換されて対物
   レンズによって集束される前記平行光ビームの光路中
   に、前記平行光ビーム変換手段を着脱可能に支持する手
   段と、から成ることを特徴とする光ヘッド。
6. 【請求項６】 光情報記録媒体と光ビームの授受を行な
   う光ヘッドを有し、この光ヘッドによる光情報記録媒体
   との光ビームの授受によって光情報記録媒体から得られ
   た情報の処理を行う光情報処理装置において、前記光ヘ
   ッドが、平行光ビームを供給する平行光ビーム供給手段
   と、この平行光ビーム供給手段から供給された平行光ビ
   ームを集束光ビームに変換して光情報記録媒体に照射す
   る集束照射手段と、この集束照射手段による光情報記録
   媒体への集束光ビームの照射によって光情報記録媒体か
   ら反射した反射光ビームの強度変化または偏光方向の変
   化を電気信号の強度変化に変換する光電変換手段と、を
   有し、前記平行光ビーム供給手段から供給された平行光
   ビームをビームサイズのみが異なる平行光ビームに変換
   して前記集束照射手段へ出射する平行光ビーム変換手段
   と、平行光ビーム供給手段から供給されて集束照射手段
   によって集束される前記平行光ビームの光路中に、前記
   平行光ビーム変換手段を着脱可能に支持する手段と、か
   ら成ることを特徴とする光情報処理装置。