JPH09294977A - 純水製造装置 - Google Patents
純水製造装置Info
- Publication number
- JPH09294977A JPH09294977A JP8111556A JP11155696A JPH09294977A JP H09294977 A JPH09294977 A JP H09294977A JP 8111556 A JP8111556 A JP 8111556A JP 11155696 A JP11155696 A JP 11155696A JP H09294977 A JPH09294977 A JP H09294977A
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- Japan
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- water
- sterilizer
- treated
- membrane
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 RO濃縮水から高水質の純水を効率的に製造
する。 【解決手段】 RO濃縮水に酸と分散剤を注入した後、
UV殺菌装置2、RO装置3で処理し、RO透過水を膜
式脱気装置4で脱気した後、電気脱イオン装置6等で脱
イオン処理する。 【効果】 RO濃縮水に酸及び分散剤を添加してスケ−
ルを防止し、UV殺菌装置で生菌の増殖を抑制すること
により、RO膜の閉塞を防止する。この水をRO処理し
て脱塩し、RO透過水を膜脱気することにより、生菌を
増殖させることなく脱炭酸することができ、この脱気処
理水を脱イオン処理することにより、高水質の純水を得
ることができる。
する。 【解決手段】 RO濃縮水に酸と分散剤を注入した後、
UV殺菌装置2、RO装置3で処理し、RO透過水を膜
式脱気装置4で脱気した後、電気脱イオン装置6等で脱
イオン処理する。 【効果】 RO濃縮水に酸及び分散剤を添加してスケ−
ルを防止し、UV殺菌装置で生菌の増殖を抑制すること
により、RO膜の閉塞を防止する。この水をRO処理し
て脱塩し、RO透過水を膜脱気することにより、生菌を
増殖させることなく脱炭酸することができ、この脱気処
理水を脱イオン処理することにより、高水質の純水を得
ることができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は純水製造装置に係
り、特に、上水を薬剤無添加で逆浸透膜分離処理(RO
処理)して得られる濃縮水(以下「RO濃縮水]と称
す。)を原水として、高水質の純水を効率的に製造する
ための装置に関する。
り、特に、上水を薬剤無添加で逆浸透膜分離処理(RO
処理)して得られる濃縮水(以下「RO濃縮水]と称
す。)を原水として、高水質の純水を効率的に製造する
ための装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、上水から純水を製造するための装
置として、上水に薬剤を添加することなくRO装置(逆
浸透膜分離装置)で処理し、透過水をイオン交換樹脂塔
又は電気脱イオン装置で処理するものが多用されてい
る。この装置において、RO装置から排出されるRO濃
縮水を系外へ排出すると、水の回収率は高々60%程度
であるため、水資源の有効利用及び排水処理の負荷軽減
等の面からは、このRO濃縮水を回収処理して純水を製
造することで、RO濃縮水を再利用することが望まれ
る。
置として、上水に薬剤を添加することなくRO装置(逆
浸透膜分離装置)で処理し、透過水をイオン交換樹脂塔
又は電気脱イオン装置で処理するものが多用されてい
る。この装置において、RO装置から排出されるRO濃
縮水を系外へ排出すると、水の回収率は高々60%程度
であるため、水資源の有効利用及び排水処理の負荷軽減
等の面からは、このRO濃縮水を回収処理して純水を製
造することで、RO濃縮水を再利用することが望まれ
る。
【0003】従来、RO濃縮水を処理する場合、酢酸セ
ルロ−ス系のRO膜(CA膜)を用いて再度RO処理を
行っているが、この場合において、回収率を高めるため
にRO濃縮水に酸や分散剤を添加してRO装置に通水す
ることでRO膜のスケ−ル防止を図っている。
ルロ−ス系のRO膜(CA膜)を用いて再度RO処理を
行っているが、この場合において、回収率を高めるため
にRO濃縮水に酸や分散剤を添加してRO装置に通水す
ることでRO膜のスケ−ル防止を図っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】RO膜のスケ−ル防止
のために、RO濃縮水に酸や分散剤を添加してRO処理
した場合、作られる透過水(以下「RO透過水」と称
す。)はpH4〜5.5の酸性となる。従って、このR
O透過水は、水中の重炭酸イオン(HCO3 -) が炭酸ガ
ス(CO2 )として溶存した水となるため、電気脱イオ
ン装置やイオン交換樹脂塔に対しては負荷が大き過ぎ、
電気脱イオン装置やイオン交換樹脂塔により処理するこ
とができない。
のために、RO濃縮水に酸や分散剤を添加してRO処理
した場合、作られる透過水(以下「RO透過水」と称
す。)はpH4〜5.5の酸性となる。従って、このR
O透過水は、水中の重炭酸イオン(HCO3 -) が炭酸ガ
ス(CO2 )として溶存した水となるため、電気脱イオ
ン装置やイオン交換樹脂塔に対しては負荷が大き過ぎ、
電気脱イオン装置やイオン交換樹脂塔により処理するこ
とができない。
【0005】この問題を解決するために、種々の脱炭酸
装置を用いてRO透過水中の炭酸ガスを除去することが
行われているが、従来の脱炭酸装置では、次のような問
題があった。即ち、真空脱気塔や窒素脱気塔は高価であ
り、また、ネットリング(ラシヒリング)充填式の脱炭
酸塔は安価ではあるが、塔内の滞留水中で生菌が増殖し
易い。
装置を用いてRO透過水中の炭酸ガスを除去することが
行われているが、従来の脱炭酸装置では、次のような問
題があった。即ち、真空脱気塔や窒素脱気塔は高価であ
り、また、ネットリング(ラシヒリング)充填式の脱炭
酸塔は安価ではあるが、塔内の滞留水中で生菌が増殖し
易い。
【0006】また、従来、RO装置に使用されているC
A膜は、比較的耐酸化性が高く、残留塩素に対する許容
濃度が高い反面、系内に塩素が存在しないと生菌が増殖
し易く、しかも、イオン除去率、特にシリカ除去率が十
分でないという欠点がある。
A膜は、比較的耐酸化性が高く、残留塩素に対する許容
濃度が高い反面、系内に塩素が存在しないと生菌が増殖
し易く、しかも、イオン除去率、特にシリカ除去率が十
分でないという欠点がある。
【0007】本発明は上記従来の問題点を解決し、RO
濃縮水を原水として、スケ−ル生成や生菌の増殖を防止
して高水質の純水を効率的に製造することができる純水
製造装置を提供することを目的とする。
濃縮水を原水として、スケ−ル生成や生菌の増殖を防止
して高水質の純水を効率的に製造することができる純水
製造装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の純水製造装置
は、逆浸透膜分離処理で生じた濃縮水を原水とする純水
製造装置において、該原水に酸及び分散剤を注入する手
段と、該注入手段の前段又は後段に設けられた紫外線
(UV)殺菌装置と、該紫外線殺菌装置の流出水を処理
する逆浸透膜分離装置と、該逆浸透膜分離装置の透過水
を処理する膜式脱気装置と、該膜式脱気装置の流出水を
脱イオン処理する脱イオン手段とを備えてなることを特
徴とする。
は、逆浸透膜分離処理で生じた濃縮水を原水とする純水
製造装置において、該原水に酸及び分散剤を注入する手
段と、該注入手段の前段又は後段に設けられた紫外線
(UV)殺菌装置と、該紫外線殺菌装置の流出水を処理
する逆浸透膜分離装置と、該逆浸透膜分離装置の透過水
を処理する膜式脱気装置と、該膜式脱気装置の流出水を
脱イオン処理する脱イオン手段とを備えてなることを特
徴とする。
【0009】本発明の純水製造装置では、RO濃縮水に
酸及び分散剤を添加してスケ−ルを防止し、UV殺菌装
置で生菌の増殖を抑制することにより、RO膜の閉塞を
防止する。この水をRO処理して脱塩し、RO透過水を
膜脱気することにより、生菌を増殖させることなく脱炭
酸することができ、この脱気処理水を脱イオン処理する
ことにより、高水質の純水を得ることができる。
酸及び分散剤を添加してスケ−ルを防止し、UV殺菌装
置で生菌の増殖を抑制することにより、RO膜の閉塞を
防止する。この水をRO処理して脱塩し、RO透過水を
膜脱気することにより、生菌を増殖させることなく脱炭
酸することができ、この脱気処理水を脱イオン処理する
ことにより、高水質の純水を得ることができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について詳細に説明する。
施の形態について詳細に説明する。
【0011】図1は本発明の純水製造装置の実施例装置
を示す系統図である。
を示す系統図である。
【0012】本実施例の純水製造装置においては、上水
を無薬注でRO処理をして得られるRO濃縮水を原水と
して原水タンク1に受け、このRO濃縮水をポンプP1
で抜き出し、酸及び分散剤を注入してUV殺菌装置2に
送水する。
を無薬注でRO処理をして得られるRO濃縮水を原水と
して原水タンク1に受け、このRO濃縮水をポンプP1
で抜き出し、酸及び分散剤を注入してUV殺菌装置2に
送水する。
【0013】酸としては、HCl、H2 SO4 、H3 P
O4 等を用いることができ、酸注入後のpHが4.5〜
5.0程度となるように注入するのが好ましい。また、
分散剤としては、ホスホン酸系薬剤等を用いることがで
き、その注入量はSiO2 濃度に依存し、SiO2 濃度
の1/20程度が適当である。
O4 等を用いることができ、酸注入後のpHが4.5〜
5.0程度となるように注入するのが好ましい。また、
分散剤としては、ホスホン酸系薬剤等を用いることがで
き、その注入量はSiO2 濃度に依存し、SiO2 濃度
の1/20程度が適当である。
【0014】UV殺菌装置2では、1.0m3 /Hr当
たり0.01〜0.2kwでUV照射して殺菌処理し、
このUV殺菌処理装置2の処理水は次いでRO装置3で
RO処理する。
たり0.01〜0.2kwでUV照射して殺菌処理し、
このUV殺菌処理装置2の処理水は次いでRO装置3で
RO処理する。
【0015】本発明において、RO装置3のRO膜とし
ては、従来一般に用いられているCA膜でも良いが、好
ましくはポリアミド系高分子複合膜(PA膜)、より好
ましくはスパイラル型PA膜を用いるのが処理効率の面
で有利である。PA膜によれば、CA膜を用いた場合に
比べて、得られる処理水の水質を5〜10%程度向上さ
せることができる。
ては、従来一般に用いられているCA膜でも良いが、好
ましくはポリアミド系高分子複合膜(PA膜)、より好
ましくはスパイラル型PA膜を用いるのが処理効率の面
で有利である。PA膜によれば、CA膜を用いた場合に
比べて、得られる処理水の水質を5〜10%程度向上さ
せることができる。
【0016】このRO装置3では、水回収率、即ち、R
O装置3の流入水量に対する採水するRO透過水の水量
を75〜85%で処理を行うのが、水回収率と得られる
処理水の水質とのバランスの面で好適である。
O装置3の流入水量に対する採水するRO透過水の水量
を75〜85%で処理を行うのが、水回収率と得られる
処理水の水質とのバランスの面で好適である。
【0017】RO装置3の濃縮水は一部を原水タンクに
循環し、残部を系外へ排出し、透過水は次いで膜式脱気
装置4で脱炭酸処理する。この膜式脱気装置4の脱気膜
としては外圧式中空系膜が好適であり、膜面積1m2 当
たり0.05〜0.2m2 /Hrで処理を行うのが好ま
しい。
循環し、残部を系外へ排出し、透過水は次いで膜式脱気
装置4で脱炭酸処理する。この膜式脱気装置4の脱気膜
としては外圧式中空系膜が好適であり、膜面積1m2 当
たり0.05〜0.2m2 /Hrで処理を行うのが好ま
しい。
【0018】本発明においては、この膜式脱気装置4に
おける処理により、導電率2.0mS/m以下、特に
1.2mS/m以下、CO2 濃度10mg/L以下、特
に5mg/L以下の水が得られるように処理を行うのが
好ましい。
おける処理により、導電率2.0mS/m以下、特に
1.2mS/m以下、CO2 濃度10mg/L以下、特
に5mg/L以下の水が得られるように処理を行うのが
好ましい。
【0019】膜式脱気装置4の処理水は、次いで、UV
殺菌装置5で1.0m3 /Hr当たり0.01〜0.2
kwでUV照射して更に殺菌処理した後、脱イオン手段
6で脱イオン処理する。
殺菌装置5で1.0m3 /Hr当たり0.01〜0.2
kwでUV照射して更に殺菌処理した後、脱イオン手段
6で脱イオン処理する。
【0020】このUV殺菌装置5は必ずしも必要とされ
ないが、これを設けることにより、水中の生菌の増殖を
より一層高度に抑制して、後段の脱イオン手段6の閉塞
を確実に防止することができる。
ないが、これを設けることにより、水中の生菌の増殖を
より一層高度に抑制して、後段の脱イオン手段6の閉塞
を確実に防止することができる。
【0021】本発明において、脱イオン手段6として
は、イオン交換膜とその外側のイオン交換樹脂と埋め込
まれた電極とから構成され、電気的に脱イオンする電気
脱イオン装置又はイオン交換樹脂塔等を用いることがで
きる。電気脱イオン装置であれば、再生等を行うことな
く、長期にわたり脱イオン処理を行うことができる。な
お、この電気脱イオン装置の濃縮水は回収率を上げるた
めに、原水タンクに循環するのが好ましい。
は、イオン交換膜とその外側のイオン交換樹脂と埋め込
まれた電極とから構成され、電気的に脱イオンする電気
脱イオン装置又はイオン交換樹脂塔等を用いることがで
きる。電気脱イオン装置であれば、再生等を行うことな
く、長期にわたり脱イオン処理を行うことができる。な
お、この電気脱イオン装置の濃縮水は回収率を上げるた
めに、原水タンクに循環するのが好ましい。
【0022】一方、イオン交換樹脂塔であれば、再生を
行う必要があるが、本発明の純水製造装置では、RO装
置及び膜式脱気装置で処理し、ある程度水質が高められ
た水を処理するため、その再生頻度は水道水を処理する
場合に比べて著しく低減される。
行う必要があるが、本発明の純水製造装置では、RO装
置及び膜式脱気装置で処理し、ある程度水質が高められ
た水を処理するため、その再生頻度は水道水を処理する
場合に比べて著しく低減される。
【0023】このような本発明の純水製造装置によれ
ば、RO濃縮水を回収し、RO装置及び脱イオン手段で
処理して純水を製造するに当り、スケ−ルの生成、生菌
の増殖を抑制することができ、従って、RO装置や脱イ
オン手段の閉塞を防止して、長期に亙りメンテナンスを
必要とすることなく、高純度水を効率的に製造すること
ができる。
ば、RO濃縮水を回収し、RO装置及び脱イオン手段で
処理して純水を製造するに当り、スケ−ルの生成、生菌
の増殖を抑制することができ、従って、RO装置や脱イ
オン手段の閉塞を防止して、長期に亙りメンテナンスを
必要とすることなく、高純度水を効率的に製造すること
ができる。
【0024】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【0025】実施例1 図1に示す本発明の純水製造装置により、上水を薬剤無
添加でRO処理して得られるRO濃縮水(1.2m3 /
hr,水質は表1に示す通り。)を全量回収して処理し
た。
添加でRO処理して得られるRO濃縮水(1.2m3 /
hr,水質は表1に示す通り。)を全量回収して処理し
た。
【0026】酸としてはHClを注入し、また、分散剤
としては栗田工業株式会社製クリフロートD−170を
27.5mg/L注入してpH4.5〜5に調整し、こ
れをUV殺菌装置で処理した後、RO処理し、RO透過
水を膜式脱気装置で脱気し、次いで電気脱イオン装置で
処理した。
としては栗田工業株式会社製クリフロートD−170を
27.5mg/L注入してpH4.5〜5に調整し、こ
れをUV殺菌装置で処理した後、RO処理し、RO透過
水を膜式脱気装置で脱気し、次いで電気脱イオン装置で
処理した。
【0027】用いた装置の仕様及び処理条件は次の通り
である。なお、電気脱イオン装置の濃縮水は原水タンク
に循環した。
である。なお、電気脱イオン装置の濃縮水は原水タンク
に循環した。
【0028】UV殺菌装置:2機 日本フォトサイエンス製 NPX1:0.15kwRO装置 RO膜:スパイラル型PA膜(FILMTEC製、BW
30−4040:6本) 透過水水量:1.0m3 /hr 濃縮水水量:0.2m3 /hr 回収率:83%膜式脱気装置 脱気膜:外圧式中空糸膜(ヘキストセラニーズ製、Li
qui−Cel(登録商標)5PCM−122:2本直
列) 通水流量:1.0m3 /Hr 真空度:2.7kPa電気脱イオン装置 イオンピュア(栗田工業株式会社製) 通水流量:0.8m3 /Hr 排水量:0.2m3 /Hr RO透過水、膜式脱気装置出口水、電気脱イオン装置の
出口水(処理水)の水質を表1に示す。
30−4040:6本) 透過水水量:1.0m3 /hr 濃縮水水量:0.2m3 /hr 回収率:83%膜式脱気装置 脱気膜:外圧式中空糸膜(ヘキストセラニーズ製、Li
qui−Cel(登録商標)5PCM−122:2本直
列) 通水流量:1.0m3 /Hr 真空度:2.7kPa電気脱イオン装置 イオンピュア(栗田工業株式会社製) 通水流量:0.8m3 /Hr 排水量:0.2m3 /Hr RO透過水、膜式脱気装置出口水、電気脱イオン装置の
出口水(処理水)の水質を表1に示す。
【0029】
【表1】
【0030】表1より、本発明の純水製造装置によれ
ば、RO濃縮水から高水質の純水を得ることができ、排
水量は従来の1.2m3 /hrから0.2m3 /hr
へ、1/6に低減できることがわかる。
ば、RO濃縮水から高水質の純水を得ることができ、排
水量は従来の1.2m3 /hrから0.2m3 /hr
へ、1/6に低減できることがわかる。
【0031】比較例1 実施例1において、膜式脱気装置を設置せずにRO透過
水(CO2 濃度;44.7mg/L)を直接電気脱イオ
ン装置に通水したこと以外は同様にして処理を行ったと
ころ、得られた処理水(電気脱イオン装置の出口水)の
比抵抗は、0.8MΩ・cmであった。
水(CO2 濃度;44.7mg/L)を直接電気脱イオ
ン装置に通水したこと以外は同様にして処理を行ったと
ころ、得られた処理水(電気脱イオン装置の出口水)の
比抵抗は、0.8MΩ・cmであった。
【0032】比較例2 実施例1において、RO装置の前段にUV殺菌装置を設
置しなかったこと以外は同様にして処理を行ったとこ
ろ、得られた処理水(電気脱イオン装置の出口水)の比
抵抗は0.8MΩ・cmであった。
置しなかったこと以外は同様にして処理を行ったとこ
ろ、得られた処理水(電気脱イオン装置の出口水)の比
抵抗は0.8MΩ・cmであった。
【0033】実施例2 実施例1において、電気脱イオン装置の前段にUV殺菌
装置を設置しなかったこと以外は同様にして処理を行っ
たところ、得られた処理水(電気脱イオン装置の出口
水)の初期比抵抗は14MΩ・cmであった。
装置を設置しなかったこと以外は同様にして処理を行っ
たところ、得られた処理水(電気脱イオン装置の出口
水)の初期比抵抗は14MΩ・cmであった。
【0034】しかし、この場合には、電気脱イオン装置
が有機物で汚染され、徐々に水質が低下していった。
が有機物で汚染され、徐々に水質が低下していった。
【0035】この結果から、電気脱イオン装置の前段に
もUV殺菌装置を設けることにより、水質が長期間安定
することがわかる。
もUV殺菌装置を設けることにより、水質が長期間安定
することがわかる。
【0036】実施例3 実施例1において、RO装置のRO膜として、CA膜
(東レ株式会社製、SC−2100)を用いたこと以外
は同様にして処理を行ったところ、膜式脱気装置の出口
水の水質は、導電率:2.4mS/m、シリカ濃度:8
mg/L、Ca硬度5mg/L、CO2 濃度6.9mg
/Lであり、得られた処理水(電気脱イオン装置の出口
水)の比抵抗は8MΩ・cmであった。
(東レ株式会社製、SC−2100)を用いたこと以外
は同様にして処理を行ったところ、膜式脱気装置の出口
水の水質は、導電率:2.4mS/m、シリカ濃度:8
mg/L、Ca硬度5mg/L、CO2 濃度6.9mg
/Lであり、得られた処理水(電気脱イオン装置の出口
水)の比抵抗は8MΩ・cmであった。
【0037】実施例1の結果と実施例3の結果から、R
O膜としてはPA膜の方が処理効果が高いことがわか
る。
O膜としてはPA膜の方が処理効果が高いことがわか
る。
【0038】実施例4 実施例1において、電気脱イオン装置の代わりに下記仕
様のイオン交換樹脂塔を設けたこと以外は同様にして処
理を行ったところ、得られた処理水(イオン交換樹脂塔
出口水)の比抵抗は5MΩ・cmであった。
様のイオン交換樹脂塔を設けたこと以外は同様にして処
理を行ったところ、得られた処理水(イオン交換樹脂塔
出口水)の比抵抗は5MΩ・cmであった。
【0039】イオン交換樹脂塔 アニオン交換樹脂(三菱化学株式会社製、SA−20A
B)とカチオン交換樹脂(三菱化学株式会社製、SK−
1B)との35:65の混床塔(樹脂量:100L) このイオン交換樹脂塔の再生頻度は10〜12日に1回
であり(10〜12日/サイクル)、水道水(導電率:
12.0〜18.0mS/m)を処理する場合の再生頻
度(1.5〜2日に1回(1.5〜2日/サイクル))
に比べて、再生頻度は約1/5に低減された。
B)とカチオン交換樹脂(三菱化学株式会社製、SK−
1B)との35:65の混床塔(樹脂量:100L) このイオン交換樹脂塔の再生頻度は10〜12日に1回
であり(10〜12日/サイクル)、水道水(導電率:
12.0〜18.0mS/m)を処理する場合の再生頻
度(1.5〜2日に1回(1.5〜2日/サイクル))
に比べて、再生頻度は約1/5に低減された。
【0040】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の純水製造装
置によれば、RO濃縮水を回収、処理して高水質の純水
を効率的に製造することができる。
置によれば、RO濃縮水を回収、処理して高水質の純水
を効率的に製造することができる。
【0041】本発明の純水製造装置によれば、従来、無
薬注で純水を製造するシステムから排出されていたRO
濃縮水を回収して高純度水を製造して再使用することが
できるため、水回収率の向上、排水処理の負荷軽減を図
ることができる。
薬注で純水を製造するシステムから排出されていたRO
濃縮水を回収して高純度水を製造して再使用することが
できるため、水回収率の向上、排水処理の負荷軽減を図
ることができる。
【図1】本発明の純水製造装置の一実施例を示す系統図
である。
である。
1 原水タンク 2、5 UV殺菌装置 3 RO装置 4 膜式脱気装置 6 脱イオン手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中司 辰郎 東京都新宿区西新宿3丁目4番7号 栗田 工業株式会社内
Claims (1)
- 【請求項1】 逆浸透膜分離処理で生じた濃縮水を原水
とする純水製造装置において、 該原水に酸及び分散剤を注入する手段と、該注入手段の
前段又は後段に設けられた紫外線殺菌装置と、該紫外線
殺菌装置の流出水を処理する逆浸透膜分離装置と、該逆
浸透膜分離装置の透過水を処理する膜式脱気装置と、該
膜式脱気装置の流出水を脱イオン処理する脱イオン手段
とを備えてなる純水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8111556A JPH09294977A (ja) | 1996-05-02 | 1996-05-02 | 純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8111556A JPH09294977A (ja) | 1996-05-02 | 1996-05-02 | 純水製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09294977A true JPH09294977A (ja) | 1997-11-18 |
Family
ID=14564390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8111556A Pending JPH09294977A (ja) | 1996-05-02 | 1996-05-02 | 純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09294977A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007289887A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| JP2013511391A (ja) * | 2009-11-24 | 2013-04-04 | ゲア ウエストファリア セパレイター グループ ゲーエムベーハー | 液体を処理する装置 |
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