JPH09295184A - 半田およびこの半田を用いて電子部品が実装された回路基板,ならびに半田ペースト - Google Patents
半田およびこの半田を用いて電子部品が実装された回路基板,ならびに半田ペーストInfo
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- JPH09295184A JPH09295184A JP8137744A JP13774496A JPH09295184A JP H09295184 A JPH09295184 A JP H09295184A JP 8137744 A JP8137744 A JP 8137744A JP 13774496 A JP13774496 A JP 13774496A JP H09295184 A JPH09295184 A JP H09295184A
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/341—Surface mounted components
- H05K3/3431—Leadless components
- H05K3/3442—Leadless components having edge contacts, e.g. leadless chip capacitors, chip carriers
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- H05K3/3465—Application of solder
- H05K3/3485—Application of solder paste, slurry or powder
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子部品3を回路基板1に実装するための鉛
フリー半田10に生じるクラックの進行を阻止するまたは
遅らせることにより,鉛フリー半田10の破断を防止す
る。 【構成】 金属薄膜によりコーティングされた繊維状フ
ィラ11を混入させた半田10を用いて,電子部品3の端子
3aと,回路基板1の上面に設けられた配線パターンの
ランド2とが接続される。鉛フリー半田10にクラックが
生じたとき,クラックが繊維状フィラ11によって阻止さ
れる。
フリー半田10に生じるクラックの進行を阻止するまたは
遅らせることにより,鉛フリー半田10の破断を防止す
る。 【構成】 金属薄膜によりコーティングされた繊維状フ
ィラ11を混入させた半田10を用いて,電子部品3の端子
3aと,回路基板1の上面に設けられた配線パターンの
ランド2とが接続される。鉛フリー半田10にクラックが
生じたとき,クラックが繊維状フィラ11によって阻止さ
れる。
Description
【0001】
【技術分野】この発明は,半田およびこの半田を用いて
電子部品が実装された回路基板,ならびに半田ペースト
に関する。
電子部品が実装された回路基板,ならびに半田ペースト
に関する。
【0002】
【背景技術】一般に,電子部品を回路基板に実装する場
合には半田が用いられる。図6は,電子部品(チップ部
品)3の端子3aが回路基板1に設けられた配線パター
ンのランド2に半田4を用いて接続された様子を示して
いる。一般に,半田4は鉛Pbと錫Snの合金であり,
たとえば共晶半田の組成(重量比率)は鉛Pb:37%,
錫Sn:73%である。
合には半田が用いられる。図6は,電子部品(チップ部
品)3の端子3aが回路基板1に設けられた配線パター
ンのランド2に半田4を用いて接続された様子を示して
いる。一般に,半田4は鉛Pbと錫Snの合金であり,
たとえば共晶半田の組成(重量比率)は鉛Pb:37%,
錫Sn:73%である。
【0003】半田4はクリープ(creep )性が強い材料で
ある。このため,電子部品3が実装された回路基板1が
長時間高温にさらされると,半田4のランド3との境界
付近または半田4の端子3aとの境界付近がクリープに
より破断することがある。
ある。このため,電子部品3が実装された回路基板1が
長時間高温にさらされると,半田4のランド3との境界
付近または半田4の端子3aとの境界付近がクリープに
より破断することがある。
【0004】また半田4に熱的ストレスまたは機械的ス
トレスが繰返し加わると,または急激に加わると,材料
強度の最も弱い箇所にクラック(crack )が生じる。半田
4にクラックが生じた後,さらにストレスが加わるとク
ラックが進行し,最終的に半田4は破断する。
トレスが繰返し加わると,または急激に加わると,材料
強度の最も弱い箇所にクラック(crack )が生じる。半田
4にクラックが生じた後,さらにストレスが加わるとク
ラックが進行し,最終的に半田4は破断する。
【0005】さらに,周囲の温度が大きく変動すること
により,半田4の結晶粒が経時的に粗大化する。このた
め,ストレス等により結晶粒の境界に沿ってクラックが
生じやすく,そのクラックの進行も速い。したがって,
半田4が早期に破断する。結晶粒の粗大化は,半田4の
寿命を短くする要因となっている。
により,半田4の結晶粒が経時的に粗大化する。このた
め,ストレス等により結晶粒の境界に沿ってクラックが
生じやすく,そのクラックの進行も速い。したがって,
半田4が早期に破断する。結晶粒の粗大化は,半田4の
寿命を短くする要因となっている。
【0006】近年,各種工業製品の自然環境に与える影
響が問題となっており,半田に含まれる鉛Pbの人体に
与える影響が強く懸念されている。このため,鉛Pbを
含ない半田(鉛フリー半田,鉛レス半田と呼ばれる。こ
の明細書においては,以下「鉛フリー半田」という)の
開発が進められている。この鉛フリー半田には,鉛Pb
の代替材料として,銀Ag,ビスマスBi,インジウム
In,銅Cu,アンチモンSb等を用いたものが開発さ
れている。
響が問題となっており,半田に含まれる鉛Pbの人体に
与える影響が強く懸念されている。このため,鉛Pbを
含ない半田(鉛フリー半田,鉛レス半田と呼ばれる。こ
の明細書においては,以下「鉛フリー半田」という)の
開発が進められている。この鉛フリー半田には,鉛Pb
の代替材料として,銀Ag,ビスマスBi,インジウム
In,銅Cu,アンチモンSb等を用いたものが開発さ
れている。
【0007】鉛フリー半田においては,その融点が従来
の共晶半田の融点(摂氏 183度)よりも高いものが多
い。鉛フリー半田の融点を共晶半田の融点に近づけるた
め,融点の低いビスマスBiを鉛フリー半田に混入させ
ることが行われている。これにより,鉛フリー半田の融
点は従来の共晶半田の融点に近づく。
の共晶半田の融点(摂氏 183度)よりも高いものが多
い。鉛フリー半田の融点を共晶半田の融点に近づけるた
め,融点の低いビスマスBiを鉛フリー半田に混入させ
ることが行われている。これにより,鉛フリー半田の融
点は従来の共晶半田の融点に近づく。
【0008】しかしながら,ビスマスBiを混入した鉛
フリー半田は,ビスマスBiを混入しない鉛フリー半田
に比べて硬くなる,すなわちヤング率が高くなる。ヤン
グ率が高くなることによって熱応力が大きくなり,ソル
ダリング工程中に生じた熱応力が大きい残留応力として
残る。さらに,使用環境の温度変化によって生じる熱応
力も大きくなる。したがって,鉛フリー半田にはクラッ
クが発生しやすく,鉛フリー半田は破断しやすい。
フリー半田は,ビスマスBiを混入しない鉛フリー半田
に比べて硬くなる,すなわちヤング率が高くなる。ヤン
グ率が高くなることによって熱応力が大きくなり,ソル
ダリング工程中に生じた熱応力が大きい残留応力として
残る。さらに,使用環境の温度変化によって生じる熱応
力も大きくなる。したがって,鉛フリー半田にはクラッ
クが発生しやすく,鉛フリー半田は破断しやすい。
【0009】
【発明の開示】この発明は,半田にクラックが生じるの
を防止するとともに,半田にクラックが生じたとしても
そのクラックの進行を阻止するまたは遅らせることによ
り,半田の耐久性を向上させることを目的とする。
を防止するとともに,半田にクラックが生じたとしても
そのクラックの進行を阻止するまたは遅らせることによ
り,半田の耐久性を向上させることを目的とする。
【0010】半田は少なくとも錫Snからなり,鉛Pb
と錫Snとからなる合金,鉛Pbを全く含まず銀Ag,
ビスマスBi,インジウムIn,銅Cu,アンチモンS
b等と錫Snとからなる合金である鉛フリー半田があ
る。
と錫Snとからなる合金,鉛Pbを全く含まず銀Ag,
ビスマスBi,インジウムIn,銅Cu,アンチモンS
b等と錫Snとからなる合金である鉛フリー半田があ
る。
【0011】この発明による半田は,少なくとも錫を含
む半田において,フィラを混入させたことを特徴とす
る。
む半田において,フィラを混入させたことを特徴とす
る。
【0012】この発明による半田を用いて,電子部品が
回路基板に実装される。すなわち,電子部品の端子が回
路基板に設けられた配線パターンのランドに半田によっ
て接続される。回路基板に実装される電子部品には,挿
入部品(リード部品,DIP,PGA等),表面実装部
品(チップ部品,SOP,QFP等),ベアチップ部品
(TAB等)がある。ジャンパ線,リード線,コネクタ
等の部品も回路基板に実装される。またこの発明による
半田は,コネクタとリード線との接続等にも用いられ
る。
回路基板に実装される。すなわち,電子部品の端子が回
路基板に設けられた配線パターンのランドに半田によっ
て接続される。回路基板に実装される電子部品には,挿
入部品(リード部品,DIP,PGA等),表面実装部
品(チップ部品,SOP,QFP等),ベアチップ部品
(TAB等)がある。ジャンパ線,リード線,コネクタ
等の部品も回路基板に実装される。またこの発明による
半田は,コネクタとリード線との接続等にも用いられ
る。
【0013】この発明による半田ペーストは,少なくと
も錫を含む半田の粉末と,フラックスと,フィラとを含
むを特徴とする。
も錫を含む半田の粉末と,フラックスと,フィラとを含
むを特徴とする。
【0014】この発明による半田ペーストは,回路基板
に設けられた配線パターンのランドに,印刷用スクリー
ン,ステンシル等を用いて印刷される。半田ペーストが
印刷された回路基板上に電子部品が搭載され加熱され
る。これにより,半田ペーストは溶融し,フィラを含む
半田によって電子部品の端子が回路基板のランドに接続
される。
に設けられた配線パターンのランドに,印刷用スクリー
ン,ステンシル等を用いて印刷される。半田ペーストが
印刷された回路基板上に電子部品が搭載され加熱され
る。これにより,半田ペーストは溶融し,フィラを含む
半田によって電子部品の端子が回路基板のランドに接続
される。
【0015】この発明によると,半田にフィラを混入さ
せることにより,熱的ストレスまたは機械的ストレスに
よって生じるクラックを防止することができる。また半
田にクラックが生じても,クラックの進行をフィラによ
って阻止する,または遅らせることができる。したがっ
て,半田の耐久性が増す。
せることにより,熱的ストレスまたは機械的ストレスに
よって生じるクラックを防止することができる。また半
田にクラックが生じても,クラックの進行をフィラによ
って阻止する,または遅らせることができる。したがっ
て,半田の耐久性が増す。
【0016】また,半田の結晶粒が粗大化したときにも
クラックの発生およびクラックの進行をフィラによって
阻止する,または遅らせることができる。
クラックの発生およびクラックの進行をフィラによって
阻止する,または遅らせることができる。
【0017】フィラのヤング率が半田のヤング率よりも
十分に小さい場合,フィラを混入させた半田全体のヤン
グ率が小さくなるので,半田に生じる熱応力が小さくな
る。これにより,電子部品と回路基板との熱膨張差が,
フィラが混入した半田によって吸収されるので,クラッ
クが発生しにくくなる。
十分に小さい場合,フィラを混入させた半田全体のヤン
グ率が小さくなるので,半田に生じる熱応力が小さくな
る。これにより,電子部品と回路基板との熱膨張差が,
フィラが混入した半田によって吸収されるので,クラッ
クが発生しにくくなる。
【0018】この発明の好ましい実施態様において,上
記フィラが金属膜によってコーティングされている。フ
ィラをコートする金属は,ソルダリングするときに溶融
しないように,金属の融点が半田の融点より高いもの,
たとえば金Auが用いられる。
記フィラが金属膜によってコーティングされている。フ
ィラをコートする金属は,ソルダリングするときに溶融
しないように,金属の融点が半田の融点より高いもの,
たとえば金Auが用いられる。
【0019】フィラを金属膜によってコーティングする
ことにより,フィラと半田との濡れ性が向上する。した
がって,フィラと半田が一体化する。
ことにより,フィラと半田との濡れ性が向上する。した
がって,フィラと半田が一体化する。
【0020】この発明の第1の実施態様において,上記
フィラが繊維状である。
フィラが繊維状である。
【0021】繊維状フィラは,クラックの進行を線で阻
止することができるので,より大きい熱応力を受ける電
子部品を回路基板に実装する場合に有利である。
止することができるので,より大きい熱応力を受ける電
子部品を回路基板に実装する場合に有利である。
【0022】この発明の第2の実施態様において,上記
フィラが粒子状である。
フィラが粒子状である。
【0023】粒子状フィラは,回路基板に設けられた配
線パターンのランドの広さが微小または狭ピッチである
場合,電子部品の端子が微小である場合等のように,半
田を少量使用する場合に有利である。とくに,電子部品
の端子が微小である場合には,その端子の大きさに応じ
てフィラの粒子を小さくするとよい。
線パターンのランドの広さが微小または狭ピッチである
場合,電子部品の端子が微小である場合等のように,半
田を少量使用する場合に有利である。とくに,電子部品
の端子が微小である場合には,その端子の大きさに応じ
てフィラの粒子を小さくするとよい。
【0024】第2の実施態様において好ましくは,上記
フィラの大きさは上記半田粉末の粒子と同程度の大きさ
またはそれ以下である。
フィラの大きさは上記半田粉末の粒子と同程度の大きさ
またはそれ以下である。
【0025】粒子状フィラの大きさが半田粉末と同程度
またはそれ以下であるから,この発明による半田ペース
トは従来のフィラを含まない半田ペーストと同様に取扱
うことができる。
またはそれ以下であるから,この発明による半田ペース
トは従来のフィラを含まない半田ペーストと同様に取扱
うことができる。
【0026】
【実施例】図1は電子部品が回路基板上に実装された様
子を示している。
子を示している。
【0027】電子部品3の端子3aと,回路基板1の上
面に設けられた配線パターンのランド2とが繊維状フィ
ラ11を含む鉛フリー半田10により接続されている。電子
部品3はチップ部品である。
面に設けられた配線パターンのランド2とが繊維状フィ
ラ11を含む鉛フリー半田10により接続されている。電子
部品3はチップ部品である。
【0028】回路基板1に実装される電子部品には,挿
入部品(リード部品,DIP,PGA等),表面実装部
品(チップ部品,SOP,QFP等),ベアチップ部品
(TAB等)がある。ジャンパ線,リード線,コネクタ
等の部品も回路基板1に実装される。繊維状フィラ11を
含む鉛フリー半田10はまた,コネクタとリード線との接
続等にも用いてよい。
入部品(リード部品,DIP,PGA等),表面実装部
品(チップ部品,SOP,QFP等),ベアチップ部品
(TAB等)がある。ジャンパ線,リード線,コネクタ
等の部品も回路基板1に実装される。繊維状フィラ11を
含む鉛フリー半田10はまた,コネクタとリード線との接
続等にも用いてよい。
【0029】鉛フリー半田10は,鉛Pbを全く含まず,
鉛Pbの代わりに,銀Ag,ビスマスBi,銅Cu,イ
ンジウムIn等が用いられたものである。その組成(重
量比率)の一例は銀Ag:2%,ビスマスBi: 7.5
%,銅Cu: 0.5%および錫Sn:90%である。
鉛Pbの代わりに,銀Ag,ビスマスBi,銅Cu,イ
ンジウムIn等が用いられたものである。その組成(重
量比率)の一例は銀Ag:2%,ビスマスBi: 7.5
%,銅Cu: 0.5%および錫Sn:90%である。
【0030】一般に半田は鉛Pbと錫Snとを含む合金
である。たとえばその組成(重量比率)は鉛Pb:37
%,錫Sn:73%である。
である。たとえばその組成(重量比率)は鉛Pb:37
%,錫Sn:73%である。
【0031】繊維状フィラ11には,ガラス繊維,耐熱樹
脂繊維等が用いられる。耐熱樹脂にはたとえば,ポリイ
ミド等がある。
脂繊維等が用いられる。耐熱樹脂にはたとえば,ポリイ
ミド等がある。
【0032】繊維状フィラ11は,そのヤング率が鉛フリ
ー半田10のヤング率に比べて十分に小さいものがよい。
ヤング率が小さい繊維状フィラ11をヤング率が大きい鉛
フリー半田10に混入させると,後述するように,繊維状
フィラ11を含む鉛フリー半田10全体のヤング率が小さく
なり,鉛フリー半田10に生じる熱応力が小さくなるから
である。
ー半田10のヤング率に比べて十分に小さいものがよい。
ヤング率が小さい繊維状フィラ11をヤング率が大きい鉛
フリー半田10に混入させると,後述するように,繊維状
フィラ11を含む鉛フリー半田10全体のヤング率が小さく
なり,鉛フリー半田10に生じる熱応力が小さくなるから
である。
【0033】繊維状フィラ11の大きさはたとえば,直径
20〜50μmであり,長さ20〜 100μmである。
20〜50μmであり,長さ20〜 100μmである。
【0034】繊維状フィラ11と鉛フリー半田10との濡れ
性を高めるために,繊維状フィラ11の表面を金属薄膜に
よりコートするとよい。これにより,繊維状フィラ11と
鉛フリー半田10とが一体化する。コートする金属には,
ソルダリングのときに溶けないように,鉛フリー半田10
よりも融点が高いもの,たとえば金Auが用いられる。
性を高めるために,繊維状フィラ11の表面を金属薄膜に
よりコートするとよい。これにより,繊維状フィラ11と
鉛フリー半田10とが一体化する。コートする金属には,
ソルダリングのときに溶けないように,鉛フリー半田10
よりも融点が高いもの,たとえば金Auが用いられる。
【0035】鉛フリー半田10は,ビスマスBiを含むこ
とにより硬くかつもろくなるので,ストレス等によって
クラックが発生しやすく,破断しやすい。繊維状フィラ
11を鉛フリー半田10に混入させることにより,繊維状フ
ィラ11を含む鉛フリー半田10にクラックが生じても,図
2に示すように,クラックが繊維状フィラ11によって阻
止される。
とにより硬くかつもろくなるので,ストレス等によって
クラックが発生しやすく,破断しやすい。繊維状フィラ
11を鉛フリー半田10に混入させることにより,繊維状フ
ィラ11を含む鉛フリー半田10にクラックが生じても,図
2に示すように,クラックが繊維状フィラ11によって阻
止される。
【0036】繊維状フィラ11は,その他の半田,たとえ
ばビスマスBiを含まない鉛フリー半田,鉛Pbを含む
通常の半田に混入させてもよい。
ばビスマスBiを含まない鉛フリー半田,鉛Pbを含む
通常の半田に混入させてもよい。
【0037】鉛フリー半田10に混入させる繊維状フィラ
11の量は,鉛フリー半田10の種類と,繊維状フィラ11の
種類とによって異なる。とくに鉛フリー半田10のヤング
率と繊維状フィラ11のヤング率とによって繊維状フィラ
11の量が決まる。
11の量は,鉛フリー半田10の種類と,繊維状フィラ11の
種類とによって異なる。とくに鉛フリー半田10のヤング
率と繊維状フィラ11のヤング率とによって繊維状フィラ
11の量が決まる。
【0038】たとえば,繊維状フィラ11として直径40μ
mおよび長さ 100μmのポリイミド繊維を,鉛フリー半
田(組成;銀Ag:2%,ビスマスBi: 7.5%,銅C
u:0.5%および錫Sn:90%)10に混入させる場合に
ついて以下に説明する。
mおよび長さ 100μmのポリイミド繊維を,鉛フリー半
田(組成;銀Ag:2%,ビスマスBi: 7.5%,銅C
u:0.5%および錫Sn:90%)10に混入させる場合に
ついて以下に説明する。
【0039】鉛フリー半田10のヤング率Ea は42.4kgf/
cm2 であり,繊維状フィラ11(ポリイミド繊維)のヤン
グ率Eb は2.1kgf/cm2である。
cm2 であり,繊維状フィラ11(ポリイミド繊維)のヤン
グ率Eb は2.1kgf/cm2である。
【0040】鉛フリー半田10の体積比率をaとし,繊維
状フィラ11の体積比率をbとすると,鉛フリー半田10と
繊維状フィラ11とによって形成される複合材料のヤング
率Eはおおよそ次式によって表される。
状フィラ11の体積比率をbとすると,鉛フリー半田10と
繊維状フィラ11とによって形成される複合材料のヤング
率Eはおおよそ次式によって表される。
【0041】 E=a×Ea +b×Eb …(1) b=1−a …(2)
【0042】一例として,鉛フリー半田10と繊維状フィ
ラ11の複合材料のヤングEが共晶半田のヤング率Ee
(=27.7kgf/cm2 )になるように,鉛フリー半田10およ
び繊維状フィラ11の体積比率を算出すると次のようにな
る。
ラ11の複合材料のヤングEが共晶半田のヤング率Ee
(=27.7kgf/cm2 )になるように,鉛フリー半田10およ
び繊維状フィラ11の体積比率を算出すると次のようにな
る。
【0043】式(1) に式(2) を代入して体積比率aにつ
いて整理すると式(3) が得られ,体積比率a,bはそれ
ぞれ,式(3) ,(2) にしたがって次のように算出され
る。
いて整理すると式(3) が得られ,体積比率a,bはそれ
ぞれ,式(3) ,(2) にしたがって次のように算出され
る。
【0044】 a=(Ee −Eb )/(Ea −Eb ) …(3) =(27.7−2.1 )/(42.4−2.1 ) ≒0.63 b=1−a =1−0.63 =0.37 ただし,Ee =27.7kgf/cm2 ,Ea =42.4kgf/cm2 およ
びEb =2.1kgf/cm2である。
びEb =2.1kgf/cm2である。
【0045】このように,鉛フリー半田10と繊維状フィ
ラ11の複合材料のヤング率を共晶半田のヤング率と同じ
にしたとすると,鉛フリー半田10の体積比率は63%であ
り,繊維状フィラ11の体積比率は37%となる。
ラ11の複合材料のヤング率を共晶半田のヤング率と同じ
にしたとすると,鉛フリー半田10の体積比率は63%であ
り,繊維状フィラ11の体積比率は37%となる。
【0046】繊維状フィラ11の製造にはコストがかかる
ため,体積比率37%を上限として少ない量の繊維状フィ
ラ11を鉛フリー半田10に混入させるとよい。たとえば鉛
フリー半田10に繊維状フィラ11を体積比率10%混入させ
る。
ため,体積比率37%を上限として少ない量の繊維状フィ
ラ11を鉛フリー半田10に混入させるとよい。たとえば鉛
フリー半田10に繊維状フィラ11を体積比率10%混入させ
る。
【0047】繊維状フィラ11が鉛フリー半田10中に均等
に分散すると仮定すると,繊維状フィラ11は鉛フリー半
田10中に約 0.1mmピッチで存在することになる。このと
き,鉛フリー半田10にクラックが生じたとしても,クラ
ックが約 0.1mm進むごとに繊維状フィラ11によって阻止
されることになるであろう。
に分散すると仮定すると,繊維状フィラ11は鉛フリー半
田10中に約 0.1mmピッチで存在することになる。このと
き,鉛フリー半田10にクラックが生じたとしても,クラ
ックが約 0.1mm進むごとに繊維状フィラ11によって阻止
されることになるであろう。
【0048】このように,鉛フリー半田10に混入させる
繊維状フィラ11の量は,繊維状フィラ11を鉛フリー半田
10中にどの程度のピッチで存在させるかどうかに応じて
決めてもよい。
繊維状フィラ11の量は,繊維状フィラ11を鉛フリー半田
10中にどの程度のピッチで存在させるかどうかに応じて
決めてもよい。
【0049】また,繊維状フィラ11を鉛フリー半田10に
混入させることによって,繊維状フィラ11を含む鉛フリ
ー半田10全体のヤング率が小さくなる(すなわちヤング
率が42.4kgf/cm2 から38.4kgf/cm2 になる)ので,クラ
ックが生じにくくなる。
混入させることによって,繊維状フィラ11を含む鉛フリ
ー半田10全体のヤング率が小さくなる(すなわちヤング
率が42.4kgf/cm2 から38.4kgf/cm2 になる)ので,クラ
ックが生じにくくなる。
【0050】図3は,図1に示す繊維状フィラ11に代え
て,粒子状フィラ12を用いた例を示している。図3にお
いて,図1に示すものと同一のものには同一符号を付
し,重複説明を避ける。
て,粒子状フィラ12を用いた例を示している。図3にお
いて,図1に示すものと同一のものには同一符号を付
し,重複説明を避ける。
【0051】粒子状フィラ12には,繊維状フィラ11と同
様に,ガラス粒子,耐熱樹脂(ポリイミド等)粒子,等
が用いられ,そのヤング率が鉛フリー半田10のヤング率
に比べて十分に小さいものがよい。
様に,ガラス粒子,耐熱樹脂(ポリイミド等)粒子,等
が用いられ,そのヤング率が鉛フリー半田10のヤング率
に比べて十分に小さいものがよい。
【0052】粒子状フィラ12の形状は,粒子状(球状)
に限られず,楕円体状,立方体状,その他の形状であっ
てもよい,また粒子状フィラ12の表面には凹凸があって
もなくてもよい。粒子状フィラ12の大きさはたとえば,
後述する印刷方式によるソルダリングに用いられる半田
ペースト(半田クリームと呼ばれることもある)の鉛フ
リー半田10の粉末の粒子と同程度またはそれよりも小さ
い。粒子状フィラ12の大きさはたとえば,直径20〜50μ
m 程度である。
に限られず,楕円体状,立方体状,その他の形状であっ
てもよい,また粒子状フィラ12の表面には凹凸があって
もなくてもよい。粒子状フィラ12の大きさはたとえば,
後述する印刷方式によるソルダリングに用いられる半田
ペースト(半田クリームと呼ばれることもある)の鉛フ
リー半田10の粉末の粒子と同程度またはそれよりも小さ
い。粒子状フィラ12の大きさはたとえば,直径20〜50μ
m 程度である。
【0053】粒子状フィラ12は,繊維状フィラ11と同様
に,濡れ性を高めるために,たとえば金Au等により金
属コートされる。
に,濡れ性を高めるために,たとえば金Au等により金
属コートされる。
【0054】電子部品には,フリップ・チップ等のよう
にその端子が小さいものがある。たとえばフリップ・チ
ップの端子の大きさは 100μm 程度のものがある。この
ような端子の小さい電子部品には粒子の大きさが数μm
程度の粒子状フィラ12を用いるとよい。粒子状フィラ12
の粒子の大きさは,電子部品の端子の大きさ,配線パタ
ーンのランドの広さ等に応じて変えるとよい。
にその端子が小さいものがある。たとえばフリップ・チ
ップの端子の大きさは 100μm 程度のものがある。この
ような端子の小さい電子部品には粒子の大きさが数μm
程度の粒子状フィラ12を用いるとよい。粒子状フィラ12
の粒子の大きさは,電子部品の端子の大きさ,配線パタ
ーンのランドの広さ等に応じて変えるとよい。
【0055】繊維状フィラ11または粒子状フィラ12を含
む鉛フリー半田10によるソルダリングは,従来のソルダ
リングと同様に行うことができる。
む鉛フリー半田10によるソルダリングは,従来のソルダ
リングと同様に行うことができる。
【0056】図4は印刷方式による電子部品3を回路基
板1にソルダリングする工程を示している。
板1にソルダリングする工程を示している。
【0057】ソルダリングには,少なくとも,鉛フリー
半田10の粉末と,フラックスとを含む半田ペーストに,
繊維状フィラ11または粒子状フィラ12を混ぜた半田ペー
スト9が用いられる。
半田10の粉末と,フラックスとを含む半田ペーストに,
繊維状フィラ11または粒子状フィラ12を混ぜた半田ペー
スト9が用いられる。
【0058】ソルダリングされる回路基板1には,その
上面に配線パターンが設けられている(図4(A) )。図
4において,配線パターンは配線パターンのランド2の
みが図示されている。
上面に配線パターンが設けられている(図4(A) )。図
4において,配線パターンは配線パターンのランド2の
みが図示されている。
【0059】半田ペースト9がランド2上に印刷用スク
リーン,ステンシル等を用いて印刷される(図4(B)
)。ランド2上に印刷される半田ペースト9の厚さは
たとえば, 100〜 200μm 程度である。
リーン,ステンシル等を用いて印刷される(図4(B)
)。ランド2上に印刷される半田ペースト9の厚さは
たとえば, 100〜 200μm 程度である。
【0060】ランド2に印刷された半田ペースト9の上
に電子部品3が搭載され,この電子部品3が搭載された
回路基板1がヒータ20によって加熱される(図4(C)
)。半田ペースト9はヒータ20によって加熱される
と,フラックスと鉛フリー半田10とが溶融し,繊維状フ
ィラ11または粒子状フィラ12を含む溶融した鉛フリー半
田10によってランド2と電子部品3の端子3aとがつな
がる。その後,電子部品3が実装された回路基板1は冷
却される。
に電子部品3が搭載され,この電子部品3が搭載された
回路基板1がヒータ20によって加熱される(図4(C)
)。半田ペースト9はヒータ20によって加熱される
と,フラックスと鉛フリー半田10とが溶融し,繊維状フ
ィラ11または粒子状フィラ12を含む溶融した鉛フリー半
田10によってランド2と電子部品3の端子3aとがつな
がる。その後,電子部品3が実装された回路基板1は冷
却される。
【0061】図5は,半田供給方式により電子部品3を
回路基板1にソルダリングする様子を示している。
回路基板1にソルダリングする様子を示している。
【0062】ディスペンサ30内には,繊維状フィラ11ま
たは粒子状フィラ12を含む溶融した鉛フリー半田10が充
填されている。
たは粒子状フィラ12を含む溶融した鉛フリー半田10が充
填されている。
【0063】回路基板1のランド2上に電子部品3が搭
載され,ランド2の上面と電子部品3の端子3aの側面
とにフラックス5が塗布されている。ディスペンサ30内
に圧搾空気が流入することによってディスペンサ30のノ
ズル31から,フィラ11または12を含む溶融した鉛フリー
半田10が吐出する。この吐出した鉛フリー半田10がフラ
ックス5が塗布された箇所に供給される。供給された鉛
フリー半田20の熱でフラックス5が溶け,フィラ11また
は12を含む鉛フリー半田10によってランド2と電子部品
3の端子3aとがつながる。その後,電子部品3が実装
された回路基板1は冷却される。
載され,ランド2の上面と電子部品3の端子3aの側面
とにフラックス5が塗布されている。ディスペンサ30内
に圧搾空気が流入することによってディスペンサ30のノ
ズル31から,フィラ11または12を含む溶融した鉛フリー
半田10が吐出する。この吐出した鉛フリー半田10がフラ
ックス5が塗布された箇所に供給される。供給された鉛
フリー半田20の熱でフラックス5が溶け,フィラ11また
は12を含む鉛フリー半田10によってランド2と電子部品
3の端子3aとがつながる。その後,電子部品3が実装
された回路基板1は冷却される。
【0064】印刷方式,半田供給方式以外の他の方式に
よるソルダリングにも,繊維状フィラ11または粒子状フ
ィラ12を含む半田ペースト9または鉛フリー半田10を用
いることができる。
よるソルダリングにも,繊維状フィラ11または粒子状フ
ィラ12を含む半田ペースト9または鉛フリー半田10を用
いることができる。
【0065】一般に回路基板1にはフラット・パッケー
ジ等の大型電子部品とフリップ・チップ等の小型電子部
品とが多数混載される表面実装の場合には,通常,印刷
方式によるソルダリングが行われる。すなわち,繊維状
フィラ11または粒子状フィラ12を含む半田ペースト9を
用いてソルダリングが行われる。
ジ等の大型電子部品とフリップ・チップ等の小型電子部
品とが多数混載される表面実装の場合には,通常,印刷
方式によるソルダリングが行われる。すなわち,繊維状
フィラ11または粒子状フィラ12を含む半田ペースト9を
用いてソルダリングが行われる。
【0066】配線パターンが狭ピッチのとき,またはラ
ンドの広さが微小のとき,繊維状フィラ11を用いると,
印刷用スクリーン,ステンシル等に目詰まりすることが
起こりうる。このようなときには,粒子状フィラ12を用
いるとよい。
ンドの広さが微小のとき,繊維状フィラ11を用いると,
印刷用スクリーン,ステンシル等に目詰まりすることが
起こりうる。このようなときには,粒子状フィラ12を用
いるとよい。
【0067】先に説明したように,端子が微小な小型電
子部品には,その端子の大きさに応じた大きさの粒子状
フィラ12を用いるのとよいので,回路基板1に実装する
電子部品の端子が最も小さいものを基準にして粒子状フ
ィラ12の大きさを選定するとよい。
子部品には,その端子の大きさに応じた大きさの粒子状
フィラ12を用いるのとよいので,回路基板1に実装する
電子部品の端子が最も小さいものを基準にして粒子状フ
ィラ12の大きさを選定するとよい。
【0068】とくに大きな熱応力が発生する大型電子部
品を実装する場合には,粒子状フィラ12に比べてクラッ
クを阻止する繊維状フィラ11を用い,この繊維状フィラ
11を含む鉛フリー半田10をによって大型電子部品を半田
供給方式等により局部的にソルダリングするとよい。
品を実装する場合には,粒子状フィラ12に比べてクラッ
クを阻止する繊維状フィラ11を用い,この繊維状フィラ
11を含む鉛フリー半田10をによって大型電子部品を半田
供給方式等により局部的にソルダリングするとよい。
【図1】繊維状フィラを混入させた鉛フリー半田を用い
て電子部品を実装した回路基板を示している。
て電子部品を実装した回路基板を示している。
【図2】繊維状フィラによりクラックの進行が阻止され
た様子を示す図である。
た様子を示す図である。
【図3】粒子状フィラを混入させた鉛フリー半田を用い
て電子部品を実装した回路基板を示している。
て電子部品を実装した回路基板を示している。
【図4】印刷方式によるソルダリングの様子を示す図で
あり, (A)は回路基板を示し,(B)は回路基板上のラン
ドに半田ペーストが印刷された様子を示し, (C)は回路
基板上に電子部品が搭載され加熱されている様子を示
す。
あり, (A)は回路基板を示し,(B)は回路基板上のラン
ドに半田ペーストが印刷された様子を示し, (C)は回路
基板上に電子部品が搭載され加熱されている様子を示
す。
【図5】半田供給方式によるソルダリングの様子を示す
図である。
図である。
【図6】従来の半田にクラックが生じた様子を示す図で
ある。
ある。
1 回路基板 2 ランド 3 電子部品 3a 端子 4 半田 5 フラックス 9 半田ペースト 10 鉛フリー半田 11 繊維状フィラ 12 粒子状フィラ 20 ヒータ 30 ディスペンサ 31 ノズル
Claims (10)
- 【請求項1】 少なくとも錫を含む半田において,フィ
ラを混入させたことを特徴とする半田。 - 【請求項2】 上記フィラが繊維状である請求項1に記
載の半田。 - 【請求項3】 上記フィラが粒子状である請求項1に記
載の半田。 - 【請求項4】 上記フィラが金属膜によってコーティン
グされている請求項1から3のいずれか一項に記載の半
田。 - 【請求項5】 請求項1から4のいずれかに記載の半田
を用いて,電子部品が実装されたことを特徴とする回路
基板。 - 【請求項6】 少なくとも錫を含む半田の粉末と,フラ
ックスと,フィラとを含む半田ペースト。 - 【請求項7】 上記フィラが繊維状である請求項6に記
載の半田ペースト。 - 【請求項8】 上記フィラが粒子状である請求項6に記
載の半田ペースト。 - 【請求項9】 上記フィラが金属膜によってコーティン
グされている請求項6から8のいずれか一項に記載の半
田ペースト。 - 【請求項10】 上記フィラの大きさが上記半田の粉末
の粒子と同程度の大きさまたはそれ以下である請求項8
に記載の半田ペースト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8137744A JPH09295184A (ja) | 1996-05-09 | 1996-05-09 | 半田およびこの半田を用いて電子部品が実装された回路基板,ならびに半田ペースト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8137744A JPH09295184A (ja) | 1996-05-09 | 1996-05-09 | 半田およびこの半田を用いて電子部品が実装された回路基板,ならびに半田ペースト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09295184A true JPH09295184A (ja) | 1997-11-18 |
Family
ID=15205822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8137744A Pending JPH09295184A (ja) | 1996-05-09 | 1996-05-09 | 半田およびこの半田を用いて電子部品が実装された回路基板,ならびに半田ペースト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09295184A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006320943A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Sony Corp | はんだペースト及びはんだ印刷方法 |
| JP2008036691A (ja) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Toyota Motor Corp | 鉛フリーはんだ材料及びその製造方法、接合構造、並びに電子部品実装構造 |
| JP2011025287A (ja) * | 2009-07-27 | 2011-02-10 | Fujitsu Ltd | 鉛フリーはんだ材料及び電子部品実装構造並びに鉛フリーはんだ材料の製造方法 |
| JP2012246536A (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-13 | Nippon Steel Corp | 太陽電池用インターコネクタ及びその製造方法、並びに太陽電池モジュール |
| CN104577704A (zh) * | 2015-01-29 | 2015-04-29 | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 | 纤维网增强高纯铟复合焊料及其应用方法 |
| CN104668808A (zh) * | 2015-01-29 | 2015-06-03 | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 | 一种高纯铟纤维复合增强焊料及其制备方法 |
| CN104708224A (zh) * | 2015-01-29 | 2015-06-17 | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 | 短纤维丝增强高纯铟复合焊料及其制备方法 |
| US9831199B2 (en) | 2015-11-02 | 2017-11-28 | Fujitsu Limited | Electronic device, electronic part, and solder |
| JP2022129553A (ja) * | 2021-02-25 | 2022-09-06 | セイコーエプソン株式会社 | センサーモジュール |
-
1996
- 1996-05-09 JP JP8137744A patent/JPH09295184A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006320943A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Sony Corp | はんだペースト及びはんだ印刷方法 |
| JP2008036691A (ja) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Toyota Motor Corp | 鉛フリーはんだ材料及びその製造方法、接合構造、並びに電子部品実装構造 |
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| CN104577704A (zh) * | 2015-01-29 | 2015-04-29 | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 | 纤维网增强高纯铟复合焊料及其应用方法 |
| CN104668808A (zh) * | 2015-01-29 | 2015-06-03 | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 | 一种高纯铟纤维复合增强焊料及其制备方法 |
| CN104708224A (zh) * | 2015-01-29 | 2015-06-17 | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 | 短纤维丝增强高纯铟复合焊料及其制备方法 |
| US9831199B2 (en) | 2015-11-02 | 2017-11-28 | Fujitsu Limited | Electronic device, electronic part, and solder |
| JP2022129553A (ja) * | 2021-02-25 | 2022-09-06 | セイコーエプソン株式会社 | センサーモジュール |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040928 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050301 |