JPH09297008A

JPH09297008A - レーザ非接触伸び計

Info

Publication number: JPH09297008A
Application number: JP11271496A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Kamegawa; 正之亀川
Original assignee: Shimadzu Corp
Current assignee: Shimadzu Corp
Priority date: 1996-05-07
Filing date: 1996-05-07
Publication date: 1997-11-18

Abstract

(57)【要約】【課題】伸びの進行が遅くて高分解能の測定を要する
場合や、伸びの進行が速くその全ての伸びをリアルタイ
ムでの測定を要する場合等、それぞれの測定目的に叶っ
た計測を１台でこなすことのできるレーザ非接触伸び計
を提供する。【解決手段】レーザビームを２つの光路に分岐させて
試料Ｗの表面に所定の角度をもって重ね合わせて照射す
る照射光学系１を設け、試料Ｗによる散乱光をイメージ
センサ２１で受光し、そのセンサ出力を、スペックル干
渉法に基づく第１の演算部４１と、スペックル相関法に
基づく第２の演算部４２の双方の演算に供することで、
同じ光学系を用いて２種の方法に基づく伸びの計測を可
能とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被測定試料にレー
ザ光を照射して得られるスペックルパターンを利用し
て、その試料の伸びを非接触のもとに計測することので
きるレーザ非接触伸び計に関する。

【０００２】

【従来の技術】物体にレーザビームを照射したときの散
乱光に含まれるスペックルパターンを利用して、その物
体の伸び等の面内歪みを計測する方法として、スペック
ル干渉法が知られている。スペックル干渉法には幾つか
の方法があるが、最も実用的な方法として二光束法を用
いたスペックル干渉法を挙げることができる。

【０００３】二光束法を用いたスペックル干渉法では、
レーザビームをビームスプリッタによって２つの光路に
分岐させた後、被測定試料の表面に対して歪みの計測方
向に角度を持たせて重ね合わせて照射する。そして、そ
のレーザビームの被測定試料による散乱光を２次元イメ
ージセンサによって画像化する。このようにして得られ
る画像データを、試料の変形前後で得られたものどうし
加減算しすると、散乱光に含まれるスペックルパターン
が試料の変形前後で移動することに起因して、加減算後
の画像に干渉縞が生じる。この干渉縞は試料の歪み分布
が等高線の形で現れたものであるが、この干渉縞の１周
期に相当する歪み量は、レーザビームの波長と２つのビ
ームの角度によって決まり、従ってその干渉縞の位相を
求めることで、試料の面内歪み分布を求めることができ
る。

【０００４】このようなスペックル干渉法によれば、干
渉縞の１周期に相当する歪み量がサブミクロンオーダー
と小さいため、高い分解能のもとに試料の歪みを計測す
ることができるという利点がある。

【０００５】一方、同じく物体にレーザビームを照射し
たときの散乱光に含まれるスペックルパターンを利用し
て、その物体の変位情報を得る方法として、スペックル
相関法が知られている。スペックル相関法は、被測定試
料にレーザ光を照射して得られる散乱光をイメージセン
サで受光し、試料の変位前後におけるイメージセンサ出
力（スペックル画像情報）の相互相関関数を演算し、そ
の相関ピーク位置からスペックルパターンの移動量を求
め、その移動量から試料の変位情報を得る。なお、この
スペックル相関法では、スペックル画像情報は１次元で
十分であり、イメージセンサとしては１次元のものを用
いることができる。

【０００６】このスペックル相関法を応用することによ
り、試料の２箇所（標点）間の伸びを非接触のもとに測
定することができる（例えば特開平８−４３０６号）。
すなわち、試料からの散乱光を結像光学系によってイメ
ージセンサの受光面上に結像させ、そのイメージセンサ
の各チャンネル出力のうち、試料表面上にあらかじめ設
定された２箇所（標点）に対応する各複数チャンネルず
つの出力を用いて、それぞれの箇所におけるスペックル
パターンの移動量を個別に求めるとともに、その差を算
出することによって、試料上の２標点間の伸びを求める
ことができる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】スペックルパターンを
利用した上記２つの方法のうち、二光束法を用いたスペ
ックル干渉法は、前記したように高い分解能のもとに試
料の面内歪み分布を計測することができるものの、次の
ような欠点がある。

【０００８】すなわち、この方法では、互いに異なる時
点における２つの画像を加減算することによって得られ
る干渉縞パターンを基に歪み分布を算出するが、試料の
歪みが大きい場合には干渉縞の間隔が細かくなり、縞の
検索が不可能となる。つまり、２つの画像を用いて計測
可能な歪みには量的な上限がある。従って、この方法に
よって引張試験時における試験片の伸びを計測するよう
な場合、試験片の伸びの速度が速い場合には、連続して
サンプリングした２つの画像の間での伸びが上記した上
限を越えてしまい、計測不能となってしまう。

【０００９】一方、スペックル相関法では、異なる時点
で得られたイメージセンサ出力の相互相関関数のピーク
位置さえ判別できれば変位情報を得ることができるた
め、この方法を利用して伸びを計測する場合において、
２つの画像情報を得る間に生じる伸びの測定可能な上限
値はより大きなものとなり、引張試験時における試験片
の伸びの計測のような用途には、その速度が速くても十
分に計測可能である。しかし、このスペックル相関法
は、スペックル干渉法に比して分解能は劣る。

【００１０】従って、引張試験等の材料試験時における
試験片の伸びを非接触のもとに計測する必要がある場
合、ユーザーは、その伸びの速度や必要とする精度に応
じて、上記した２つの方法に基づく２種の非接触伸び計
を用意する必要があり、非経済的であるばかりでなく、
いずれかの伸び計を選択的にセットする必要があって、
その労力も要する。

【００１１】また、前記したスペックル干渉法において
は、実際に試料が変形しないと干渉縞が生成されないこ
とから、この方法を用いた伸び計ではシステムそのもの
の検定をすることが極めて困難または不可能である。す
なわち、理論式からは干渉縞１本がどれだけの歪みに相
当するかを知ることができるが、それには正確にビーム
の角度を知っておく必要があり、この角度をも含めて検
定するためには、物体を再現性よく既知量だけ変形させ
る必要があるが、これを実現させることは極めて困難で
あるという問題もある。

【００１２】本発明の第１の目的は、１つのレーザ非接
触伸び計により、進行が遅くて高分解能の測定を要する
場合でも、進行の速い伸びでも計測することのできるレ
ーザ非接触伸び計を提供することにある。

【００１３】また、本発明の第２の目的は、例えば鋼の
引張試験において荷重制御で試験を行う場合等のよう
に、引張負荷を与えた後に材料の比例弾性限までの領域
においては伸びの進行が遅く、かつ、その領域を越えた
後は伸びが速い速度で進行するとともに、比例弾性限内
においてはその伸びを高精度に測定必要があり、かつ、
最大荷重や破断伸びを知るためにその全領域にわたって
リアルタイムでの伸びを測定する必要があるような測定
に対して、十分にその要求を満足し得るレーザ非接触伸
び計を提供することにある。

【００１４】更に、本発明の第３の目的は、スペックル
干渉法に基づく伸びの計測機能を持つ伸び計において、
そのシステム全体の検定を容易に行うことのできるレー
ザ非接触伸び計を提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明のレーザ非接触伸
び計は、レーザビームをビームスプリッタによって２つ
の光路に分岐させた後、被測定試料Ｗの表面に伸びの計
測方向に所定の角度を持たせて重ね合わせて照射する照
射光学系１と、そのレーザビームの試料Ｗによる散乱光
に含まれるスペックルパターンを検出するためのイメー
ジセンサ２１と、そのイメージセンサ２１からの出力を
用い、互いに異なる時点で得られた２つの画像によって
できる干渉縞パターンから試料の歪み分布を算出して、
あらかじめ設定された試料の２点間の伸びを算出する第
１の演算手段と、上記イメージセンサ２１からの出力を
用い、互いに異なる時点で得られた画像間の相互相関関
数を演算し、その演算結果に基づいてあらかじめ設定さ
れた試料の２点における変位情報を個別に求めるととも
に、その各変位情報の差からその２点間の伸びを算出す
る第２の演算手段４２を備える、という構成を採用して
いる（図１参照）。

【００１６】また、本発明は、上記の構成に加えて、第
１または第２の演算手段４１または４２による伸びの算
出結果が、あらかじめ設定された値αに達していない状
態では第１の演算手段４１による伸びの算出結果を出力
し、かつ、その値αに達した後には出力を第２の演算手
段４２による伸びの算出結果に自動的に切り換える出力
自動切り換え手段４３を設けた構成を採用することがで
きる。

【００１７】更に、本発明における第２の演算手段４２
に、イメージセンサからの出力を用いて、試料の１点の
変位情報を出力する機能を併せ持たせることにより、第
３の目的を達成することができる。

【００１８】本発明は、スペックル干渉法において用い
られる照射光学系、つまりレーザビーム２つの光路に分
岐させた後に、所定角度で試料の表面に重ね合わせて照
射する光学系を用いた場合における散乱光をそのまま用
いても、スペックル相関法に基づく変位情報を得ること
が可能であることを見いだしたことに関連してなされた
ものである。

【００１９】すなわち、スペックル相関法では、１本の
ビームを試料の表面に照射して得られる散乱光に含まれ
るスペックルパターンの移動量を求めるのであるが、ス
ペックル干渉法における照射方法のように、所定角度で
２本のビームを重ね合わせて試料表面に照射して得られ
る散乱光を用いても、相関法に基づいてスペックルパタ
ーンの移動量を算出することが可能であることが判明し
た。

【００２０】従って本発明の構成によれば、１つの照射
光学系１と１つのイメージセンサ２１を用いて、システ
ムに書き込むべき演算プログラムさえ干渉法および相関
法それぞれに基づく２種のプログラムを用意すること
で、互いに一長一短の機能を有するスペックル干渉法お
よびスペックル相関法に基づく計測を選択することが可
能となる。

【００２１】ここで、鋼等の引張試験における本発明の
使用方法としては、比例弾性限を越えるまではスペック
ル干渉法を選択するとともに、それを越えた後、伸びの
速度が余り速くなっていない適宜の時点で、スペックル
相関法に切り換えることで第２の目的を達成することが
できる。しかし、このような用途にあっては、上記した
出力自動切り換え手段４３を設けることにより、比例弾
性限を包含する比較的伸びの進行の遅い領域ではスペッ
クル干渉法に基づく高精度の伸びの計測結果が出力され
るとともに、その領域を越えて伸びの速度が速くなった
ときに自動的にスペックル相関法に基づく伸びの計測結
果が出力されることになり、必要とする領域のみ高精度
の伸びの計測結果を得ると同時に、伸びの進行の速い領
域でもリアルタイムでの伸びの計測結果を得ることが可
能となる。

【００２２】また、スペックル相関法においては、スペ
ックルパターンの移動量から試料の変位情報を得る関係
上、試料を変形させることなく、単に移動させることに
よってその移動量を求めることができる。スペックル相
関法に基づく第２の演算手段４２に、試料の２点におけ
るそれぞれの変位情報から伸びを算出する機能に加え
て、その過程で得られる試料の１点での変位情報を直接
的に出力する機能を持たせると、試料を既知量だけ移動
させたときにこの第２の演算手段４２により得られる試
料の変位情報と、その既知の移動量とから、この第２の
演算手段４２によるスペックル相関法を用いた検定が可
能である。ここで、本発明では、スペックル相関法とス
ペックル干渉法に基づく測定を、全く同じ光学系を用い
て行っているため、相関法の検定によって結果的に干渉
法の検定を行ったことになり、第３の目的を達成するこ
とができる。

【００２３】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の形態の構成
図で、光学的構成を示す模式図と、電気的構成を示すブ
ロック図とを併記して示す図である。

【００２４】被測定試料Ｗには図中上下方向（ｘ方向）
への引張負荷が付与され、試料Ｗはそのｘ方向に伸び
る。このような試料Ｗの表面に対し、レーザビーム照射
光学系１からのレーザビームが照射され、そのレーザビ
ームの試料表面からの散乱光が２次元イメージセンサを
撮像素子とするカメラにによって計測されるようになっ
ている。

【００２５】レーザビーム照射光学系１は、半導体レー
ザ１１、ビーム形成光学系１２、ハーフミラー１３、お
よび２つのミラー１４，１５によって構成されている。
半導体レーザ１１からの出力光は、ビーム成形光学系１
２によって所定の広がりを持つレーザビームに成形され
た後、ハーフミラー１３によって２つのビームに分離さ
れ、その各ビームはミラー１４，１５によって被測定試
料Ｗの表面に互いに異なる光路を経由して導かれ、試料
表面上でｘ方向に一定の角度をもって互いに重なり合う
ように照射される。

【００２６】カメラ２は、例えば５００チャンネル×５
００チャンネルのＣＣＤ２次元イメージセンサ２１と、
そのイメージセンサ２１の受光面に試料Ｗからの散乱光
を集光して、そこに含まれるスペックルパターンを結像
させるための結像光学系２２によって構成されている。

【００２７】イメージセンサ２１の出力は、増幅器３１
で増幅された後、Ａ−Ｄ変換器３２によってデジタル化
され、２次元画像データとして刻々とメモリ３３に格納
されるが、この画像データは、後述する演算に供された
後、不要なものについては直ちに捨てられる。

【００２８】メモリ３３内に１つの画像データがサンプ
リングされるごとに、そのデータは演算装置４０によっ
て後述の演算に供される。演算装置４０には、試料Ｗの
２つの標点を設定するための設定器５１と、スペックル
干渉法とスペックル相関法のいずれの方法に基づく計測
をするのか、および、これらの各方法に基づく計測を伸
びの計測中に自動的に切り換えるのか、の合計３つの計
測方法のいずれかを選択するための選択スイッチ５２が
接続されている。

【００２９】演算装置４０は、実際にはＣＰＵまたはＤ
ＳＰを主体としてその周辺機器によって構成され、プロ
グラムに従った動作を実行するのであるが、図ではその
機能別にブロック図で示している。すなわち、この演算
装置４０は、メモリ３３にサンプリングされた画像デー
タを用いてスペックル干渉法に基づく伸びの計算を行う
第１の演算部４１と、同じくメモリ３３にサンプリング
された画像データを用いてスペックル相関法に基づく伸
びの計算を行う第２の演算部４２と、これらの各演算部
４１，４２による伸びの計算結果のうち、いずれか一方
を自動的に選択して伸びの計測値として出力するための
出力自動切り換え部４３を備えている。

【００３０】第１の演算部４１においては、メモリ３３
に刻々とサンプリングされる各画像データを用いて、互
いに異なる時点でサンプリングされた画像データを相互
に加算もしくは減算する。これにより、干渉縞が生成さ
れた画像データが得られるが、この加減算後の画像デー
タについて、スムージング処理を施した後、ｘ方向に直
交する方向の画素データを相互にたし込み、干渉縞の位
相情報を得た後、位相の連続化処理を行い、試料Ｗの歪
み分布を算出する。この演算は公知のスペックル干渉法
に基づく演算である。次に、その歪み分布情報から、設
定器５１によって設定された２つの標点間の伸びを求め
る。これは、例えば２つの標点間の歪み分布をｘ方向に
積分する等によって容易に行うことができる。このよう
な演算を新たな画像データがサンプリングされるごとに
繰り返すことにより、第１の演算部４１からスペックル
干渉法に基づく試料Ｗの刻々の伸びｘ₁が出力される。

【００３１】なお、第１の演算部４１において、互いに
異なる時点の画像を用いて以上のような演算を行うに際
し、ある時点でサンプリングされた画像を基準画像と
し、その基準画像と以後の刻々のサンプリング画像との
間で上記の演算を施すとともに、干渉縞の間隔がある一
定の間隔にまで狭くなった時点で、基準画像を適宜の時
点におけるサンプリング画像と更新する、という方法を
採用することもできる。

【００３２】一方、第２の演算部４２においては、メモ
リ３３に刻々とサンプリングされる２次元画像データの
うち、ｘ方向に伸びる例えば１本のチャンネル列のデー
タ、つまり１次元の画像データを用いる。そして、試験
開始当初にサンプリングされた１次元画像データのう
ち、設定器５１によって設定された２つの標点の位置に
対応する各複数チャンネルずつのデータを、それぞれの
標点の基準データとしてメモリ３３の特定のエリアに記
憶する。そして、試験開始後に刻々とサンプリングされ
る２次元画像データのうち、上記した各複数チャンネル
ずつのデータを各標点のサンプリングデータとし、その
各サンプリングデータと対応する基準データとの間でそ
れぞれに相互相関関数を演算する。この相互相関関数の
ピーク位置は、基準データのサンプリング時点と新たな
サンプリング時点との間におけるスペックルパターンの
移動量を表し、これによって各標点の変位情報が得られ
る。そして、各標点の変位量の差を求めることによっ
て、標点間の伸びを求める。各基準データは、例えば各
標点の変位量が増大してサンプリングデータとの間の相
互相関関数のピーク位置の識別が困難となる前の適宜の
時点で、新たなサンプリングデータに更新され、このよ
うな演算の繰り返しにより、第２の演算部４２からスペ
ックル相関法に基づく試料Ｗの刻々の伸びｘ₂が出力さ
れる。

【００３３】出力自動切り換え部４３は、選択スイッチ
５２によって出力自動切り換え状態が選択されている状
態で動作し、第２の演算部４２による伸びの計測結果ｘ
₂を刻々と監視して、その値があらかじめ設定されたα
に達するまでは第１の演算部４１の出力ｘ₁を選択し
て、伸びの計測値として出力するとともに、αに達した
後は第２の演算部４２の出力を選択して、伸びの計測値
として出力する。なお、このαの値は自由に選択できる
ようにしておくことが望ましい。

【００３４】以上の本発明の実施の形態を用いる当た
り、伸びが緩やかに進行して、しかも高精度の伸びの計
測結果が必要な場合には、選択スイッチ５２によって第
１の演算部４１によるスペックル干渉法に基づく伸びの
計測結果ｘ₁を選択して出力させるとともに、伸びの速
度が速い試料の計測に際しては、選択スイッチ５２によ
って第２の演算部４２によるスペックル相関法に基づく
伸びの計測結果ｘ₂を計測値として出力させる。これに
より、１つの伸び計を用いて、計測目的に叶った最適な
方法に基づく計測が可能となる。

【００３５】また、鋼の引張試験等を荷重制御で行うよ
うな場合には、選択スイッチ５２により出力の自動切り
換えを選択する。この場合、αの値を、材料の予想され
る比例弾性限における伸びよりもある程度大きな値とし
ておく。これにより、試験開始当初は第１の演算部４１
によるスペックル干渉法に基づく高精度の伸びの計測結
果ｘ₁が出力されるとともに、試験が進行して材料の比
例弾性限をある程度越えた時点で、その出力は自動的に
第２の演算部４２によるスペックル相関法に基づく伸び
の計測結果ｘ₂に切り換わる。従って、この場合には、
比例弾性限を含む伸びの進行の遅い領域では高精度の伸
びの計測結果が得られると同時に、その後、速い速度で
伸びが進行してもその全領域にわたってリアルタイムで
伸びの計測結果を得ることができ、直ちに最大荷重や破
断伸びを求めることができる。

【００３６】さて、以上の本発明の実施の形態におい
て、第２の演算部４２では設定された２つの標点に対応
する各複数のチャンネル群からのデータを用いて、それ
ぞれの標点の変位情報を得て、その差から標点間の伸び
を算出しているが、このような演算過程において得られ
る変位情報を出力する機能を持たせることによって、シ
ステムの検定を行うことができる。

【００３７】すなわち、図２に本発明の他の実施の形態
の要部構成を示すように、検定動作選択用のスイッチ６
１を設け、このスイッチ６１の操作によって、第２の演
算部４２から、設定器５１で設定された試料Ｗ上の１点
の変位情報を出力するように構成する。この変位情報
は、前記した第２の演算部４２による伸びの計測時にお
ける各標点に対応するそれぞれのスペックルパターンの
移動量の計算を、単に１点について行うことによって得
られ、その結果を出力すればよい。

【００３８】このような試料Ｗの１点の変位情報を用い
ることにより、次の手順で全システムの検定を行うこと
ができる。すなわち、試料Ｗを測定部位にセットして、
レーザビーム照射光学系１からのレーザビームを照射し
ながら、その照射領域内の任意の１点を設定器５１で設
定した後、その試料Ｗを既知量だけ移動させる。これに
より、第２の演算部４２はスペックル相関法に基づい
て、設定された１点の変位情報を算出して出力するが、
その出力結果と試料Ｗの既知の移動量とを比較すれば、
スペックル相関法に基づく伸びの計測システムを検定す
ることができる。ここで、本発明の実施の形態において
は、相関法と干渉法とを、同一の光学系を用いているた
め、その検定結果は干渉法にも等しく適用できる。

【００３９】なお、本発明においては、スペックル干渉
法に基づく第１の演算部４１と、スペックル相関法に基
づく第２の演算部４２とは、必ずしも同時に動作させる
必要はなく、選択されたもののみを動作させてもよい。
ただし、計測の途中で手動または出力自動切り換え部４
３によって出力を切り換える場合には、計測出力の接続
のために、少なくとも、スペックル相関法に基づく第２
の演算部４２は計測中全期間において動作させることが
望ましい。

【００４０】また、スペックル相関法を選択している場
合には、この方法は元来的に１本のレーザビームを試料
表面に照射することから、レーザビーム照射光学系１か
らの２本のレーザビームのうち、いずれか一方をシャッ
ター等で遮蔽して、試料Ｗの表面に到達しないように構
成してもよいことは勿論である。

【００４１】更に、図１の実施の形態では、出力自動切
り換え手段４３において、出力の切り換え判定のために
第２の演算部４２の出力を監視したが、第１の演算部４
１の出力を監視してもよい。

【００４２】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、１つの
照射光学系と１つのイメージセンサを用いて、スペック
ル干渉法とスペックル相関法の双方に基づく伸びの計測
を選択できるため、１台の伸び計を用いて多くの計測目
的をこなすことができ、経済的であると同時に、伸び計
の交換作業を不要とすることができる。

【００４３】また、各方法による計測結果を、試料の伸
びの状況に応じて自動的に切り換えて出力する機能を付
加することによって、例えば鋼材の引張試験等におい
て、比例弾性限までの領域の伸びを常に高精度に計測
し、しかも、その後の伸びの速い領域でも材料の破断に
到るまで高い応答速度でリアルタイムでの計測が可能と
なる。

【００４４】更に、スペックル相関法に基づく演算の過
程で得られる試料の変位情報を出力する機能を持たせる
ことにより、試料を移動させるだけで、干渉法と共用す
る光学系を含めて、システムの検定が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の構成図で、光学系の構成
を示す模式図と、電気的構成を示すブロック図とを併記
して示す図

【図２】本発明の他の実施の形態の要部構成を示すブロ
ック図

【符号の説明】

１レーザビーム照射光学系１１半導体レーザ１２ビーム形成光学系１３ハーフミラー１４，１５ミラー２カメラ２１２次元イメージセンサ２２結像光学系３３メモリ４０演算装置４１第１の演算部４２第２の演算部４３出力自動切り換え部５１設定器５２選択スイッチ６１検定用スイッチＷ被測定試料

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザビームをビームスプリッタによっ
て２つの光路に分岐させた後、被測定試料の表面上に伸
びの計測方向に所定の角度を持たせて重ね合わせて照射
する照射光学系と、そのレーザビームの試料による散乱
光に含まれるスペックルパターンを検出するためのイメ
ージセンサと、そのイメージセンサからの出力を用い、
互いに異なる時点で得られた２つの画像によってできる
干渉縞パターンから試料の歪み分布を算出して、あらか
じめ設定された試料の２点間の伸びを算出する第１の演
算手段と、上記イメージセンサからの出力を用い、互い
に異なる時点で得られた画像間の相互相関関数を演算
し、その演算結果に基づいてあらかじめ設定された試料
の２点における変位情報を個別に求めるとともに、その
各変位情報の差からその２点間の伸びを算出する第２の
演算手段を備えていることを特徴とするレーザ非接触伸
び計。
【請求項２】上記第１または第２の演算手段による伸
びの算出結果が、あらかじめ設定された値に達していな
い状態では第１の演算手段による伸びの算出結果を出力
し、かつ、上記値に達した以後には、その出力を第２の
演算手段による伸びの算出結果に自動的に切り換える出
力自動切り換え手段を備えていることを特徴とする、請
求項１に記載のレーザ非接触伸び計。
【請求項３】上記第２の演算手段が、上記イメージセ
ンサからの出力を用いて、試料の１点の変位情報を出力
する機能を併せ持っていることを特徴とする、請求項１
または２に記載のレーザ非接触伸び計。