JPH09298155A5 - - Google Patents

Claims (7)

1. 第１層に露光する露光パターンを複数の単位パターンとしてマスクに形成し、前記単位パターンの継ぎ部を介して、感光基板上に前記第１層の露光パターンを形成するステツプと、
   第２層に露光する露光パターンを複数の単位パターンとしてマスクに形成し、前記単位パターンの継ぎ部を介して、前記第１層が形成された前記感光基板に前記第２層の露光パターンを形成するステツプと、を含む露光方法において、
   前記第２層の露光パターンを形成するときに、前記第１層の継ぎ部と前記第２層の継ぎ部とをずらして露光することを特徴とする露光方法。
2. 前記露光方法は、
   前記第１層の単位パターンの継ぎ部と前記第２層の単位パターンの継ぎ部とを少なくとも 1.5〔mm〕以上ずらして露光することを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
3. 前記露光方法は、
   前記第１層によつて液晶パネル内の薄膜トランジスタのゲート電極を形成し、
   前記第２層によつて前記薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極を形成することを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
4. 前記露光方法は、
   前記第１層用のマスクに形成された単位パターンに対して前記第２層用のマスクの単位パターンを異なる大きさで形成し、
   前記第１層の単位パターンの継ぎ部に対して前記第２層の単位パターンの継ぎ部をずらすことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
5. 継ぎ部を有する複数の分割パターンが形成されたマスクに光源からの光束を照明する照明光学系と、
   前記照明光学系による前記マスクの照明領域の大きさを変更する変更手段と、
   前記マスクを透過した光束を感光基板に投影する投影光学系とを備えた露光装置において、
   第１層に露光する前記分割パターンの大きさと、第２層に露光する前記分割パターンの大きさとが異なるときに、前記変更手段を介して前記照明領域を変えるとともに、前記第１層の継ぎ部と前記第２層の継ぎ部とがずれるように制御する制御手段を設けたことを特徴とする露光装置。
6. 所定領域ごとに分割してなる各分割領域を継いで感光基板上に第１層を露光形成した後、所定領域ごとに分割してなる各分割領域を継いで前記第１層上に第２層を露光形成する露光装置の前記各分割領域に対応した各単位パターンが形成されたマスクにおいて、
   前記第１層の前記各分割領域に対してそれぞれ異なる大きさで分割してなる前記第２層の前記各分割領域に対応した単位パターンを前記第２の層用として形成したことを特徴とするマスク。
7. 第１層に露光する露光パターンを複数の単位パターンとしてマスクに形成し、前記単位パターンの継ぎ部を介して、感光基板上に前記第１層の露光パターンを形成するステツプと、
   第２層に露光する露光パターンを複数の単位パターンとしてマスクに形成し、前記単位パターンの継ぎ部を介して、前記第１層が形成された前記感光基板に前記第２層の露光パターンを形成するステツプと、を含む露光方法において、
   前記第２層の露光パターンを形成する際に、前記第 1 層で露光された単位パターンの大きさと異なる大きさの該第２層の単位パターンを露光すると共に、前記第１層の継ぎ部と前記第２層の継ぎ部との境界どうしをずらして露光することを特徴とする露光方法。