JPH09305392A - 制御プログラム及び/又はデータ更新方法 - Google Patents

制御プログラム及び/又はデータ更新方法

Info

Publication number
JPH09305392A
JPH09305392A JP8121186A JP12118696A JPH09305392A JP H09305392 A JPH09305392 A JP H09305392A JP 8121186 A JP8121186 A JP 8121186A JP 12118696 A JP12118696 A JP 12118696A JP H09305392 A JPH09305392 A JP H09305392A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
control
exposure apparatus
data
directory
computer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8121186A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshinobu Morioka
利伸 森岡
Muneyasu Yokota
宗泰 横田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP8121186A priority Critical patent/JPH09305392A/ja
Publication of JPH09305392A publication Critical patent/JPH09305392A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Stored Programmes (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光装置制御用コンピュータの制御プログラ
ムや制御データの更新を簡便に行う。 【解決手段】 露光装置の制御用コンピュータ33a〜
33dを管理用コンピュータ60にネットワーク61で
接続し、管理用コンピュータから制御用コンピュータの
装置制御に使用されていないディレクトリに更新すべき
制御プログラムやデータを転送する。この転送処理の優
先度は露光装置制御の優先度より低く設定する。転送
後、露光装置の運転を止め、更新すべき制御プログラム
やデータが転送されたディレクトリの名称を更新前の制
御プログラムやデータが入っていたディレクトリの名称
に変更する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置の制御用
コンピュータの制御プログラムやデータの更新方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスや液晶デバイスの製造工
程では、フォトレジスト等の感光剤を塗布した半導体ウ
エハやガラスプレート等の感光基板にレチクルやフォト
マスク(以下、マスクという)のパターンを露光するた
めに露光装置が使用される。露光装置では、マスクステ
ージへのマスクの搬送・固定、基板ステージへの感光基
板の搬送・固定、フォーカシング制御、マスク及び感光
基板に形成されたアライメントマークを検出することに
よるマスクと感光基板のアライメント制御、投影レンズ
の倍率補正制御、ショットデータの算出、基板ステージ
のステッピング制御、マスク上の露光光照明領域を制限
するブラインドの制御、露光制御など、パターン露光の
各段階における装置制御及びシーケンス制御を制御用コ
ンピュータによって行っている。
【0003】また、量産性を高めるために、製造ライン
では複数台の露光装置を並列的に使用することがある。
この場合、各露光装置毎に稼働率を高める必要があるた
め、ラインを組む複数台の露光装置は、各露光装置の制
御用コンピュータに対して上位の関係にある管理用コン
ピュータにネットワークで接続され、各露光装置の制御
用コンピュータは上位の管理用コンピュータによって統
括的に制御される。露光装置の制御用コンピュータは、
そのメモリに格納されている制御プログラムに従い、同
じくメモリに格納されている制御データを用いて装置各
部の設定を行い露光装置をシーケンス制御する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで制御用コンピ
ュータの制御プログラムや制御データは、感光基板の規
格の変更、機能の追加、動作順序の変更などのため更新
が必要とされる場合がある。従来、この更新は、露光装
置を停止させた後、作業員がフロッピーディスクや磁気
テープなど更新後の制御プログラムや制御データが入っ
ている記憶媒体を用いて、各制御用コンピュータに付き
きりで行っていた。しかしながら、この従来の更新方法
は露光装置を停止させないと更新ができないため、格納
すべきプログラムやデータのサイズが大きい場合には長
時間露光装置が停止してしまうという問題点があった。
また、更新のための作業要員が必要であり、コスト的に
も問題があった。
【0005】本発明はこのような従来技術の問題点に鑑
みてなされたもので、露光装置の制御用コンピュータの
制御プログラムや制御データの更新を簡便に行うことの
できる方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明では、露光装置の
制御用コンピュータを管理用コンピュータとネットワー
クで接続するとともに、制御用コンピュータのメモリに
更新後のプログラムやデータを格納するための専用ディ
レクトリを設け、管理用コンピュータからそのディレク
トリに更新後の制御プログラムや制御データを転送する
ことで前記目的を達成する。
【0007】すなわち、本発明は、複数台の露光装置を
統括的に制御する管理用コンピュータにネットワークで
接続された各露光装置の制御用コンピュータの制御プロ
グラム及び/又はデータを更新する方法において、管理
用コンピュータから露光装置制御用コンピュータのそれ
ぞれのメモリの未使用のディレクトリに更新すべき制御
プログラム及び/又はデータを転送し、露光装置の運転
を止めた後、更新すべき制御プログラム及び/又はデー
タが転送されたディレクトリの名称を更新前の制御プロ
グラム及び/又はデータが入っていたディレクトリの名
称に変更することを特徴とするものである。
【0008】本発明によると、露光装置の制御用コンピ
ュータは更新すべき制御プログラム及び/又はデータを
マルチ・タスク処理により露光装置の制御用コンピュー
タの動作をさまたげないディレクトリに格納するので、
更新のための作業員を必要とすることなく、露光装置の
稼働中においても更新を効率的に行うことができる。
【0009】また、更新すべき制御プログラム及び/又
はデータの転送処理の優先度を露光装置制御の優先度よ
り低く設定することにより、更新操作によって露光装置
の稼働率が低下することがない。ディレクトリの名称変
更は、装置点検等のため露光装置が運転停止している時
間を利用して行えばよい。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図1は、本発明による露光装置の
概略図である。超高圧水銀ランプ等の光源1から発生さ
れた照明光は、楕円鏡2で集光され、波長フィルター4
に入射する。波長フィルター4は、露光に必要な波長の
光のみを透過させるもので、波長フィルター4を透過し
た照明光はフライアイインテグレータ5で均一な照度分
布の光束にされてブラインド6に到達する。ブラインド
6は、ブラインド駆動装置6aによってその開口の大き
さや形状を変化させることができる。ブラインド6の開
口を通過した照明光は、反射ミラー7で反射されてレン
ズ8に入射する。レンズ8によってブラインド6の開口
の像がマスク12上で結像され、マスク12の所望範囲
が照明される。マスク12の照明範囲に存在するパター
ンの像は、投影レンズ13により基板ステージ14に載
置された感光基板15上に結像し、ウエハ15の特定領
域(ショット領域)がマスク12のパターンによって露
光される。感光基板15は、フォトレジスト等の感光剤
が塗布されたウエハもしくはガラスプレートである。
【0011】基板ステージ14は2次元方向に移動可能
であり、基板ステージ14に固定された移動鏡21との
間の距離をレーザ干渉計22で計測することで基板ステ
ージ14の位置が検出される。制御用コンピュータの制
御下におかれたステージ制御系31は、レーザ干渉計2
2の出力により基板ステージ14の位置をモニターしな
がらモータ等の駆動手段23を駆動制御することで基板
ステージ14を所定の位置に移動させる。マスク12を
保持するマスクステージ11にも移動鏡25が固定され
ており、レーザ干渉計26で移動鏡25との間の距離を
計測することでマスクステージの位置が検出される。ス
テージ制御系31は、レーザ干渉計26の出力をモニタ
ーしてモータ等の駆動機構27を制御することで、マス
クステージ11の位置を制御することができる。
【0012】マスク12のパターンは、感光基板15上
にすでに形成されているパターンに重ね合わせて露光す
る必要がある。そのため、感光基板15上には投影光学
系の露光視野に対して感光基板を位置決めするためのア
ライメントマークが形成されている。そのアライメント
マークを検出するために、投影光学系には例えばオフ・
アクシス方式の基板アライメント系41が付設されてい
る。マスク12の上方には、マスク12に形成されたア
ライメントマークを検出するためのマスクアライメント
系42が設置されている。そして、投影光学系13の投
影視野に対する基板アライメント系41の検出視野のオ
フセット(ベースラインオフセット)を検出し、また、
マスクアライメント系で検出されたマスク12の位置を
基板ステージ上の座標系に写像するために、基板ステー
ジ14上には基準マーク43が設けられている。
【0013】基板アライメント系41及びマスクアライ
メント系42を用いたアライメントマークや基準マーク
43の検出、及びその検出値に基づく感光基板の回転誤
差、基板の伸縮に起因するスケーリング補正値、オフセ
ット等の算出は、アライメント制御系32で行われる。
アライメント制御系32で得られた回転誤差は制御用コ
ンピュータ33に渡され、制御用コンピュータ33はス
テージ制御系31に指令して、その回転誤差を解消する
ようにマスクステージ11又は基板ステージ14を回転
させる。スケーリング補正値やオフセットの値は、同様
に制御用コンピュータを介してステージ制御系に渡さ
れ、基板ステージのステッピング移動の際の移動量及び
オフセットに反映される。
【0014】マスクステージ11の近くには、種々のパ
ターンを描画したマスクMが複数個収納されたマスクカ
セット51が配置されている。例えば、昇降手段52に
よってマスクカセット51を上下方向に所定量移動さ
せ、マスクステージ11上のマスク12をロボット53
で取り外してカセット51の空の棚に戻し、その後再び
マスクカセット51を上下動させて別の棚に納められて
いるマスクをロボットハンド53で取り出し、マスクス
テージ11上に載置することで、マスクの交換が行われ
る。同様に、基板ステージ14の近くには、基板カセッ
ト55とロボット57が配置されており、ロボット57
は全面にわたって露光の終了した感光基板15を基板ス
テージ14から基板カセット55の空の棚に戻し、カセ
ット中の未露光の基板Pを基板ステージ14上に搬入す
ることで、感光基板を交換しながら連続して露光動作を
行うことができる。昇降手段52,56及びロボット5
3,57の動作は、制御用コンピュータ33によって制
御される。
【0015】なお、照明光の光路中にはシャッター3が
配置され、ステージ制御系31からの指令でシャッター
駆動手段3aがシャッター3aを開閉制御することで露
光量の制御が行われる。
【0016】図2は、図1に示した露光装置を複数台ネ
ットワーク接続したシステムの模式図である。露光装置
は便宜上、制御用コンピュータ33a〜33dと、制御
用コンピュータで制御される他の装置部分34a〜34
dで代表して示してある。
【0017】個々の露光装置の制御用コンピュータ33
a〜33dは、ネットワークすなわちLAN61によっ
て管理用コンピュータ60に接続されている。管理用コ
ンピュータ60は、各露光装置における露光処理の制御
データを作成し、それぞれの露光装置の制御用コンピュ
ータ33a〜33dに送る。また、制御用コンピュータ
33a〜33dは、管理用コンピュータ60からの指令
に従って、各露光装置の処理動作を最適化するように管
理する。
【0018】続いて、各露光装置の制御用コンピュータ
の制御プログラムや制御データの更新方法について説明
する。例えば、基板の厚さについての規格が変更になる
と、新しい規格の基板に対応して基板の搬送動作を見直
し、シーケンスや装置定数の一部を変更する必要が生じ
る。装置のスループットを改善するために、動作順序や
待ち時間を見直し、その一部を変更することが必要にな
ることもある。また、アライメント時のアライメント検
出のチェック機能を強化したり、ソフト的に新しい機能
を追加したい場合もある。このようなシーケンスの変更
や新機能の追加は、以下に説明する手順に従って各露光
装置の制御用コンピュータの制御プログラムやデータを
新しい制御プログラムや新しいデータで置き換えること
によって行われる。
【0019】管理用コンピュータ60の更新用プログラ
ムや更新用データ(以下、更新用プログラムと更新用デ
ータを総称して更新用キットという)の内容を格納する
ためのメモリ中のディレクトリを、例えば[VERUP
KIT]とする。また、制御用のコンピュータ33a〜
33dのメモリのうち、露光装置を制御しているプログ
ラム及びデータが格納されているディレクトリを例えば
[EXEC]とし、さらに更新用キットを入れるディレ
クトリを例えば[NEWVER]とする。ディレクトリ
[VERUPKIT]や[NEWVER]は、あらかじ
め作成しておいてもよいが、プログラムやデータの更新
時のみに使用するものであるので、その時に作成しても
よい。
【0020】まず、更新用キットを管理用コンピュータ
60のメモリのディレクトリ[VERUPKIT]にコ
ピーする。この時、露光装置を止めなくてもよいのは明
らかである。何故なら、作業を行っているのは管理用コ
ンピュータ60に対してであり、露光装置の制御用コン
ピュータ33a〜33dに対しては何も動作をさまたげ
ることはしていないからである。このディレクトリにコ
ピーされた更新用キットを、さらにLAN61を介して
制御用コンピュータ33a〜33dのディレクトリ[N
EWVER]に転送する。
【0021】この時も露光装置の運転を止めないように
する。そのためには、露光装置の制御用コンピュータの
メモリ中で、現在使用中の制御プログラムやデータが格
納されているディレクトリ内のファイルを不用意に書き
換えてしまってはならない。逆に言えば、露光装置の制
御用コンピュータの制御プログラムが現在使用していな
いディレクトリに対して新たなプログラムやデータを入
れても露光装置をそのま運転し続けることができる。上
述のディレクトリ[NEWVER]は、そのようなディ
レクトリの例である。
【0022】また、LAN61を介して更新キットを転
送するが、この通信処理の優先度は露光装置を制御する
プログラムによる処理の優先度よりも低く設定する必要
がある。何故なら通信処理が露光装置の制御よりも優先
されると、露光装置のパフォーマンスが下がるためであ
る。こうして、制御用コンピュータ33a〜33dのC
PUの空き時間を利用して、露光装置の運転を中断する
ことなく、メモリの未使用ディレクトリ[NEWVE
R]に更新キットを転送する。
【0023】転送が完了した後、露光装置を停止させ、
制御用コンピュータ33a〜33dのメモリのディレク
トリ名を変更する。すなわち、例えばディレクトリ[E
XEC]をディレクトリ[OLDVER]に変更し、デ
ィレクトリ[NEWVER]をディレクトリ[EXE
C]に変更すれば、ディレクトリ[EXEC]の中の露
光装置の制御プログラムやデータは更新キットで置き換
えられ、更新が完了することになる。本発明の更新方法
によると、更新キットを露光装置に入れこむ時間をカッ
トすることができる。
【0024】上の例では、制御用コンピュータ33a〜
33dのメモリ中で、露光装置を制御しているプログラ
ム及びデータの格納されているディレクトリを[EXE
C]とし、このディレクトリ中のファイルだけで制御で
きる場合について説明した。しかし、プログラムが格納
されているディレクトリ[EXECPRG]とそのプロ
グラムが参照するデータファイルが格納されているディ
レクトリ[EXECDAT]の2つのディレクトリを用
いて、制御プログラムが露光装置の制御を行っている場
合も同様である。この場合には、管理用コンピュータ6
0のメモリと各露光装置を制御する制御用コンピュータ
33a〜33dのメモリそれぞれに2つのディレクトリ
を設ける。
【0025】例えば、管理用コンピュータ60のメモリ
にディレクトリ[VERUPPRG]と[VERUPD
AT]を設け、制御用コンピュータ33a〜33dのメ
モリにディレクトリ[NEWPRG]と[NEWDA
T]を設ける。更新用キットのファイルを[EXECP
RG]で使用するファイルと、[EXECDAT]で使
用するファイルに分け、それぞれ[VERUPPRG]
[VERUPDAT]にコピーする。その後、管理用コ
ンピュータ60のメモリのディレクトリ[VERUPP
RG]及び[VERUPDAT]に格納されているファ
イルを、LAN61を通して制御用コンピュータ33a
〜33dのメモリ中のディレクトリ[NEWPRG]及
び[NEWDAT]にそれぞれ転送する。転送が完了し
たら、適当な時間に露光装置の運転を止め、制御用コン
ピュータのメモリ中のディレクトリ名[NEWPRG]
を[EXECPRG]に変更し、ディレクトリ名[NE
WDAT]を[EXECDAT]に変更すれば、更新が
終了する。
【0026】本発明は、ネットワーク機能をそなえたマ
ルチ・タスク・コンピュータを露光装置の制御コンピュ
ータとして用いた場合、露光装置の制御プログラムによ
らず適用することができる。さらにネットワークに露光
装置をつなげれば、1台の管理用コンピュータからの指
令で複数台の露光装置の制御プログラムや制御データを
更新することができる。本発明は、露光装置以外の生産
装置にも適用可能である。
【0027】
【発明の効果】本発明によれば、露光装置の運転をほと
んど中断することなく制御プログラムや制御データの更
新を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による露光装置の概略図。
【図2】図1に示した露光装置を複数台ネットワーク接
続したシステムの模式図。
【符号の説明】 1…光源、2…楕円鏡、3…シャッター、5…フライア
イインテグレータ、6…ブラインド、12…マスク、1
3…投影レンズ、14…基板ステージ、15…感光基
板、22,26…レーザ干渉計、23,27…駆動手
段、31…ステージ制御系、32…アライメント制御
系、33…制御用コンピュータ、51…マスクカセッ
ト、52,56…昇降手段、53,57…ロボット、5
5…基板カセット、60…管理用コンピュータ、61…
LAN

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数台の露光装置を統括的に制御する管
    理用コンピュータにネットワークで接続された各露光装
    置の制御用コンピュータの制御プログラム及び/又はデ
    ータを更新する方法において、 前記管理用コンピュータから前記露光装置制御用コンピ
    ュータのそれぞれの装置制御に使用されていないディレ
    クトリに更新すべき制御プログラム及び/又はデータを
    転送し、前記露光装置の運転を止めた後、前記更新すべ
    き制御プログラム及び/又はデータが転送されたディレ
    クトリの名称を更新前の制御プログラム及び/又はデー
    タが入っていたディレクトリの名称に変更することを特
    徴とする更新方法。
  2. 【請求項2】 前記更新すべき制御プログラム及び/又
    はデータの転送処理の優先度を前記露光装置制御の優先
    度より低く設定することを特徴とする請求項1記載の更
    新方法。
JP8121186A 1996-05-16 1996-05-16 制御プログラム及び/又はデータ更新方法 Pending JPH09305392A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8121186A JPH09305392A (ja) 1996-05-16 1996-05-16 制御プログラム及び/又はデータ更新方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8121186A JPH09305392A (ja) 1996-05-16 1996-05-16 制御プログラム及び/又はデータ更新方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09305392A true JPH09305392A (ja) 1997-11-28

Family

ID=14804994

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8121186A Pending JPH09305392A (ja) 1996-05-16 1996-05-16 制御プログラム及び/又はデータ更新方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09305392A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002217182A (ja) * 2001-01-22 2002-08-02 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体製造装置の制御プログラム提供システム
JP2020124682A (ja) * 2019-02-05 2020-08-20 アンリツインフィビス株式会社 物品検査装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002217182A (ja) * 2001-01-22 2002-08-02 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体製造装置の制御プログラム提供システム
JP2020124682A (ja) * 2019-02-05 2020-08-20 アンリツインフィビス株式会社 物品検査装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4844835B2 (ja) 補正方法及び露光装置
JP3174863B2 (ja) 露光方法及びリソグラフィシステム
JP4304169B2 (ja) リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
JPH0263285B2 (ja)
JPH09115800A (ja) 露光装置
JPH09305392A (ja) 制御プログラム及び/又はデータ更新方法
JP6808041B2 (ja) メトロロジツール及びメトロロジツールを使用する方法
US20100266968A1 (en) Exposure apparatus, device manufacturing system, and method of manufacturing device
JP2004228474A (ja) 原版搬送装置
JP2010192593A (ja) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造システム
JP2006128447A (ja) 基板処理装置及び方法並びに情報管理方法
US20110032506A1 (en) Exposure apparatus, system, updating method, and device manufacturing method
JPH104047A (ja) 半導体製造装置及びコマンド設定方法
JP2001077009A (ja) 基板処理システム
US6256085B1 (en) Exposure apparatus
JP4522158B2 (ja) 露光装置およびデバイス製造方法
JPH11176726A (ja) 露光方法、該方法を使用するリソグラフィシステム、及び前記方法を用いるデバイスの製造方法
JPH11214296A (ja) 回路パターン製造方法および装置
US7990518B2 (en) Immersion exposure apparatus and device manufacturing method
JP2009076581A (ja) 物体処理システム、物体処理方法、処理装置、基板処理方法及びデバイス製造方法
JP2003059815A (ja) 基板処理方法及び装置
JP3235623B2 (ja) 露光方法、露光装置、投影露光システム、及び前記方法を用いた半導体素子の製造方法
JP2001052992A (ja) 露光装置および露光方法
JP2009076579A (ja) 物体処理システム、物体処理方法、露光装置、露光方法、塗布現像装置、塗布現像方法及びデバイス製造方法
JPH11162827A (ja) 露光装置