JPH0931202A - ポリシラザン組成物、ポリシラザン溶液の調製方法及び該組成物を用いたコーティング用組成物 - Google Patents

ポリシラザン組成物、ポリシラザン溶液の調製方法及び該組成物を用いたコーティング用組成物

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JPH0931202A
JPH0931202A JP20058595A JP20058595A JPH0931202A JP H0931202 A JPH0931202 A JP H0931202A JP 20058595 A JP20058595 A JP 20058595A JP 20058595 A JP20058595 A JP 20058595A JP H0931202 A JPH0931202 A JP H0931202A
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polysilazane
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JP20058595A
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Yasuo Shimizu
泰雄 清水
Hideki Matsuo
英樹 松尾
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Tonen General Sekiyu KK
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Tonen Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポリシラザンと反応せずに安定にポリシラザ
ンを溶解し、人体への悪影響がなく且つ取り扱い性の優
れた溶媒を用いたポリシラザン組成物、ポリシラザン溶
液の調製方法及び該組成物を用いたコーティング用組成
物を提供する。 【解決手段】 ポリシラザンを下記一般式(II)又は(II
I) R4COOR5 (II) (R4OOC)2A (III) で表されるエステル類に溶解させてなるポリシラザン組
成物、ポリシラザンを上記エステル類に添加し溶解させ
るポリシラザン溶液の調製方法及び該組成物を用いたコ
ーティング用組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はセラミックス前駆体とし
て有用な組成物、ポリシラザン溶液の調製方法及びポリ
シラザンを基材に塗布するためのコーティング用組成物
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、シリカ、窒化珪素、酸窒化珪素の
前駆体ポリマーであるポリシラザンは、耐熱性、耐摩耗
性、耐蝕性等に優れたセラミックコーティング膜が得ら
れるため、注目されている。このポリシラザンを基材に
塗布する場合、あるいは安定に保存する場合には、適当
な溶媒に溶解する必要がある。ポリシラザンは一般の有
機ポリマーと比較して反応性が高いため、ポリシラザン
と反応させずに安定に溶解することが確認されている溶
媒は少ない。ポリシラザンの溶媒としては、従来はベン
ゼン、キシレン、トルエン等の芳香族炭化水素が主に用
いられてきたが、より人体への悪影響が少なく且つ取り
扱い性の良い溶媒が望まれている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
従来技術の実状に鑑みてなされたものであって、人体へ
の悪影響が少なく且つ取り扱い性の良い溶媒を用いたポ
リシラザン組成物、ポリシラザン溶液の調製方法及びポ
リシラザンコーティング用組成物を提供することを、そ
の目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究を
重ねた結果、ポリシラザン用溶媒として特定のエステル
類が前記要求を満足するものであることを見い出し、本
発明に到達した。
【0005】すなわち、本発明によれば、第一に、主と
して下記一般式(I)
【化1】 (式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原
子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
リール基、若しくはこれらの基以外でフルオロアルキル
基等のケイ素に直結する基が炭素である基、アルキルシ
リル基、アルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。但
し、R1、R2及びR3の少なくとも1つは水素原子であ
る。)で表される構造単位からなる骨格を有する数平均
分子量が約100〜50,000のポリシラザン又はそ
の変性物を、下記一般式(II)又は(III) R4COOR5 (II) (R4OOC)2A (III) (式中、R4及びR5はそれぞれ独立に炭素数20以下の
アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、シ
クロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基又はア
ルキルアミノ基であり、またAは2価の飽和若しくは不
飽和の炭化水素基である。)で表されるエステル類に溶
解させてなることを特徴とするポリシラザン組成物が提
供される。第二に、主として下記一般式(I)
【化1】 (式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原
子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
リール基、若しくはこれらの基以外でフルオロアルキル
基等のケイ素に直結する基が炭素である基、アルキルシ
リル基、アルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。但
し、R1、R2及びR3の少なくとも1つは水素原子であ
る。)で表される構造単位からなる骨格を有する数平均
分子量が約100〜50,000のポリシラザン又はそ
の変性物を、下記一般式(II)又は(III) R4COOR5 (II) (R4OOC)2A (III) (式中、R4及びR5はそれぞれ独立に炭素数20以下の
アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、シ
クロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基又はア
ルキルアミノ基であり、またAは2価の飽和若しくは不
飽和の炭化水素基である。)で表されるエステル類に添
加し溶解させることを特徴とするポリシラザン溶液の調
製方法が提供される。第三に、上記第一に記載したポリ
シラザン組成物を用いたことを特徴とするコーティング
用組成物が提供される。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明
する。本発明で用いるポリシラザンは、分子内に少なく
ともSi−H結合、あるいはN−H結合を有するポリシ
ラザンであればよく、ポリシラザン単独は勿論のこと、
ポリシラザンと他のポリマーとの共重合体やポリシラザ
ンと他の化合物との混合物でも利用できる。用いるポリ
シラザンには、鎖状、環状、あるいは架橋構造を有する
もの、あるいは分子内にこれら複数の構造を同時に有す
るものがあり、これら単独でもあるいは混合物でも利用
できる。
【0007】用いるポリシラザンの代表例としては下記
のようなものがあるが、これらに限定されるものではな
い。一般式(I)でR1、R2及びR3に水素原子を有す
るものは、ペルヒドロポリシラザンであり、その製造方
法は例えば特開昭60−145903号公報、D.Se
yferthらCommunication of A
m.Cer.Soc.,C−13,January 1
983.に報告されている。これらの方法で得られるも
のは、種々の構造を有するポリマーの混合物であるが、
基本的には分子内に鎖状部分と環状部分を含み、
【化2】 の化学式で表すことができる。
【0008】ペルヒドロポリシラザンの構造の一例を示
すと下記の如くである。
【化3】
【0009】一般式(I)でR1及びR2に水素原子、R
3にメチル基を有するポリシラザンの製造方法は、D.
SeyferthらPolym.Prepr.Am.C
hem.Soc.,Div.Polym.Chem,.
25,10(1984)に報告されている。この方法に
より得られるポリシラザンは、繰り返し単位が−(Si
2NCH3)−の鎖状ポリマーと環状ポリマーであり、
いずれも架橋構造をもたない。
【0010】一般式(I)でR1及びR2に水素原子、R
3に有機基を有するポリオルガノ(ヒドロ)シラザンの
製造法は、D.SeyferthらPolym.Pre
pr.Am.Chem.Soc.,Div.Poly
m.Chem,.25,10(1984)、特開昭61
−89230号公報に報告されている。これら方法によ
り得られるポリシラザンには、−(R2SiHNH)−
を繰り返し単位として、主として重合度が3〜5の環状
構造を有するものや(R3SiHNH)x〔(R2SiH)
1.5N〕1-X(0.4<X<1)の化学式で示される分子
内に鎖状構造と環状構造を同時に有するものがある。
【0011】一般式(I)でR1に水素原子、R2、R3
に有機基を有するポリシラザン、またR1及びR2に有機
基、R3に水素原子を有するものは−(R12SiN
3)−を繰り返し単位として、主に重合度が3〜5の
環状構造を有している。
【0012】次に、用いるポリシラザンの内、一般式
(I)以外のものの代表例を挙げる。ポリオルガノ(ヒ
ドロ)シラザンの中には、D.SeyferthらCo
mmunication of Am.Cer.So
c.C−132,July 1984.が報告されてい
る様な分子内に架橋構造を有するものもある。一例を示
すと下記の如くである。
【化4】
【0013】また、特開昭49−69717号公報に報
告されている様なR1SiX3(X:ハロゲン)のアンモ
ニア分解によって得られる架橋構造を有するポリシラザ
ンR1Si(NH)x、あるいはR1SiX3及びR2 2Si
2の共アンモニア分解によって得られる下記の構造を
有するポリシラザンも出発材料として用いることができ
る。
【化5】
【0014】用いるポリシラザンは、上記の如く一般式
(I)で表される単位からなる主骨格を有するが、一般
式(I)表される単位は、上記にも明らかな如く環状化
することがあり、その場合にはその環状部分が末端基と
なり、このような環状化がされない場合には、主骨格の
末端はR1、R2、R3と同様の基又は水素原子であるこ
とができる。
【0015】また、ポリシラザン変性物として、例えば
下記の構造(式中、側鎖の金属原子であるMは架橋をな
していてもよい)のように金属原子を含むポリメタロシ
ラザンも出発材料として用いることができる。
【化6】
【0016】その他、特開昭62−195024号公報
に報告されているような繰り返し単位が〔(SiH2n
(NH)m〕及び〔(SiH2rO〕(これら式中、
n、m、rはそれぞれ1、2又は3である)で表される
ポリシロキサザン、特開平2−84437号公報に報告
されているようなポリシラザンにボロン化合物を反応さ
せて製造する耐熱性に優れたポリボロシラザン、特開昭
63−81122号、同63−191832号、特開平
2−77427号各公報に報告されているようなポリシ
ラザンとメタルアルコキシドとを反応させて製造するポ
リメタロシラザン、特開平1−138108号、同1−
138107号、同1−203429号、同1−203
430号、同4−63833号、同3−320167号
各公報に報告されているような分子量を増加させたり
(上記公報の前4者)、耐加水分解性を向上させた(後
2者)、無機シラザン高重合体や改質ポリシラザン、特
開平2−175726号、同5−86200号、同5−
331293号、同3−31326号各公報に報告され
ているようなポリシラザンに有機成分を導入した厚膜化
に有利な共重合シラザン、特開平5−238827号公
報、特願平4−272020号、同5−93275号、
同5−214268号、同5−30750号、同5−3
38524号に報告されているようなポリシラザンにセ
ラミックス化を促進するための触媒的化合物を付加又は
添加したプラスチックスやアルミニウムなどの金属への
施工が可能で、より低温でセラミックス化する低温セラ
ミックス化ポリシラザンなども同様に使用できる。
【0017】本発明では、更に、以下のような低温セラ
ミックス化ポリシラザンを使用することできる。例え
ば、本願出願人による特願平4−39595号明細書に
記載されているケイ素アルコキシド付加ポリシラザンが
挙げられる。この変性ポリシラザンは、前記一般式
(I)で表されるポリシラザンと、下記一般式(IV): Si(OR44 (IV) (式中、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原
子、炭素原子数1〜20個を有するアルキル基又はアリ
ール基を表し、少なくとも1個のR4は上記アルキル基
又はアリール基である)で表されるケイ素アルコキシド
を加熱反応させて得られる、アルコキシド由来ケイ素/
ポリシラザン由来ケイ素原子比が0.001〜3の範囲
内且つ数平均分子量が約200〜50万のケイ素アルコ
キシド付加ポリシラザンである。
【0018】低温セラミックス化ポリシラザンの別の例
として、本出願人による特開平6−122852号公報
に記載されているグリシドール付加ポリシラザンが挙げ
られる。この変性ポリシラザンは、前記一般式(I)で
表されるポリシラザンとグリシドールを反応させて得ら
れる、グリシドール/ポリシラザン重量比が0.001
〜2の範囲内且つ数平均分子量が約200〜50万のグ
リシドール付加ポリシラザンである。
【0019】低温セラミックス化ポリシラザンの更に別
の例として、本願出願人による特願平5−35604号
明細書に記載されているアセチルアセトナト錯体付加ポ
リシラザンが挙げられる。この変性ポリシラザンは、前
記一般式(I)で表されるポリシラザンと、金属として
ニッケル、白金、パラジウム又はアルミニウムを含むア
セチルアセトナト錯体を反応させて得られる、アセチル
アセトナト錯体/ポリシラザン重量比が0.00000
1〜2の範囲内且つ数平均分子量が約200〜50万の
アセチルアセトナト錯体付加ポリシラザンである。前記
の金属を含むアセチルアセトナト錯体は、アセチルアセ
トン(2,4−ペンタジオン)から酸解離により生じた
陰イオンacac-が金属原子に配位した錯体であり、
一般に式(CH3COCHCOCH3nM〔式中、Mは
n価の金属を表す〕で表される。
【0020】低温セラミックス化ポリシラザンのまた別
の例として、本願出願人による特願平5−93275号
明細書に記載されている金属カルボン酸塩付加ポリシラ
ザンが挙げられる。この変性ポリシラザンは、前記一般
式(I)で表されるポリシラザンと、ニッケル、チタ
ン、白金、ロジウム、コバルト、鉄、ルテニウム、オス
ミウム、パラジウム、イリジウム、アルミニウムの群か
ら選択される少なくとも1種の金属を含む金属カルボン
酸塩を反応させて得られる、金属カルボン酸塩//ポリ
シラザン重量比が0.000001〜2の範囲内且つ数
平均分子量が約200〜50万の金属カルボン酸塩付加
ポリシラザンである。上記金属カルボン酸塩は、式(R
COO)nM〔式中、Rは炭素原子数1〜22個の脂肪
族基又は脂環式基であり、Mは上記金属群から選択され
る少なくとも1種の金属を表し、そしてnは金属Mの原
子価である〕で表される化合物である。上記金属カルボ
ン酸塩は無水物であっても水和物であってもよい。ま
た、金属カルボン酸塩/ポリシラザン重量比は好ましく
は0.001〜1、より好ましくは0.01〜0.5で
ある。金属カルボン酸塩付加ポリシラザンの調製につい
ては、上記特願平5−93275号明細書を参照された
い。
【0021】更に、本発明においては、前記一般式
(I)で表される構成単位からなる主骨格を有するポリ
シラザン又はその変性物に、アミン類又は/及び酸類を
添加した組成物を出発原料として用いることもできる。
このアミン類/酸類添加ポリシラザンは低温且つ高速で
シリカ系セラミックスに転化し得るという利点を有す
る。添加されるアミン類としては、一般式R678
(式中R6〜R8はアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルア
ミノ基、アルコキシ基又は水素原子を表す。)で表され
る第一、第二、第三アミン類の他に、ピリジン類やDB
U、DBN等があり、また添加される酸類には、酢酸、
プロピオン酸、マレイン酸等の有機酸や塩酸、硝酸、硫
酸等の無機酸がある。なお、これらのアミン類又は/及
び酸類は、後記するエステル系溶媒に原料ポリシラザン
を溶解後、添加してもよい。
【0022】このようなポリシラザンあるいはポリシラ
ザン変成物は、その形態は任意である。従って、繊維、
バルク、粉末などのいずれでもよい。
【0023】本発明においては、ポリシラザンを溶解す
る溶媒として、前記一般式(II)及び(III)で表され
るエステル類が用いられる。その具体例としては、一般
式(II)で表されるものとして、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブ
チル、酢酸i−ブチル、酢酸n−アミル、酢酸i−アミ
ル、酢酸n−ヘキシル、酢酸i−ヘキシル、酢酸−シク
ロヘキシル、酢酸フェニル等の酢酸エステル類や同様の
プロピオン酸エステル類、酪酸エステル類、吉草酸エス
テル類などが挙げられる。また、一般式(III)で表さ
れるものとしては、マレイン酸ジメチル、マロン酸ジメ
チル、シュウ酸ジメチル、シュウ酸ジエチル、フタル酸
ジメチル、フタル酸ジエチルなどが挙げられる。
【0024】ポリシラザンを上記エステル類に溶解する
方法は、任意の方法を採用することができるが、一般に
は次の方法が採用される。 (1)ポリシラザンに上記エステル類を添加し、単純に
撹拌する。 (2)ポリシラザン溶液をロータリーエバポレーター等
の蒸留機器を用いて沸点の高い上記エステル類に徐々に
置換する。 なお、ポリシラザンは水分と容易に反応するため、上記
エステル類は使用前にモレキュラシーブ等の添加により
水分を除去しておく必要がある。上記エステル類の水分
含有量は、100ppm以下とすることが好ましい。ま
た、ポリシラザンを上記エステル類に溶解する際の温度
は、特に限定されるものではないが、一般的には上記エ
ステル類の凝固点以上沸点以下が採用される。なお、溶
解を実施する雰囲気も、特に限定されるものではない
が、ポリシラザンは水分と反応しやすいため乾燥空気、
乾燥窒素雰囲気が好ましい。
【0025】ポリシラザン又はその変性物を上記エステ
ル類に溶解させた組成物は、そのままコーティング用組
成物として使用できる。本発明のコーティング用組成物
において、必要に応じて適当な充填剤及び/又は増量剤
を加えることができる。充填剤の添加量はポリシラザン
1重量部に対し、0.05〜10重量部の範囲であり、
特に好ましい添加量は0.2〜3重量部の範囲である。
コーティング用組成物には、更に必要に応じて各種顔
料、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、紫外線吸収
剤、pH調整剤、分散剤、表面改質剤、可塑剤、乾燥促
進剤、流れ止め剤、等を加えてもよい。ポリシラザン溶
解後の濃度は特に限定されるものではないが、コーティ
ング用組成物の場合は、通常0.01〜80重量%、好
ましくは0.1〜50重量%である。
【0026】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明の技術的範囲がこれらにより限定される
ものではない。
【0027】参考例1[ペルヒドロポリシラザンの合
成] 内容積1lの四つ口フラスコにガス吹き込み管、メカニ
カルスターラー、ジュワーコンデンサーを装着した。反
応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つ口フ
ラスコに脱気した乾燥ピリジンを490ml入れ、これ
を氷冷した。次に、ジクロロシラン51.9gを加える
と、白色固体状のアダクト(SiH2Cl2・2C5
5N)が生成した。反応混合物を氷冷し、撹拌しながら
水酸化ナトリウム管及び活性炭管を通して精製したアン
モニア51.0gを吹き込んだ後、100℃で加熱し
た。
【0028】反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾
燥ピリジンを用いて洗浄した後、更に乾燥窒素雰囲気下
で濾過して濾液850mlを得た。濾液5mlから溶媒
を減圧除去すると、樹脂状固体ペルヒドロポリシラザン
0.102gが得られた。
【0029】得られたポリマーの数平均分子量は、凝固
点降下法で(溶媒:乾燥ベンゼン)により測定したとこ
ろ、1120であった。IR(赤外吸収)スペクトル
(溶媒:乾燥o−キシレン;ペルヒドロポリシラザンの
濃度:10.2g/l)は、波数(cm-1)3390、
及び1180のN−Hに基づく吸収:2170のSi−
Hに基づく吸収:1040〜800のSi−N−Siに
基づく吸収を示した。IRスペクトルを図1に示す。
【0030】参考例2[ポリメチル(ヒドロ)シラザン
の合成] 内容積500mlの四つ口フラスコにガス吹き込み管、
メカニカルスターラー、ジュワーコンデンサーを装着し
た。反応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四
つ口フラスコにメチルジクロロシラン(CH3SiHC
2、24.3g,0.221mol)と乾燥ジクロロ
メタン300mlを入れた。反応混合物を氷冷し、撹拌
しながら乾燥アンモニア20.5g(1.20mol)
を窒素ガスと共に吹き込んでアンモニア分解を行った。
【0031】反応終了後、反応混合物を遠心分離した
後、濾過した。濾液から溶媒を減圧除去し、ポリメチル
(ヒドロ)シラザンを無色の液体として8.79g得
た。生成物の数平均分子量を凝固点降下法で(溶媒:乾
燥ベンゼン)により測定したところ、310であった。
【0032】内容積100mlの四つ口フラスコにガス
導入管、温度計、コンデンサー及び滴下ロートを装着
し、反応系内をアルゴンガスで置換した。四つ口フラス
コにテトラヒドロフラン12ml及び水酸化カリウム
0.189g(4.71mol)を入れ、磁気撹拌を開
始した。滴下ロートに上述のポリメチル(ヒドロ)シラ
ザン5.00g及び乾燥テトラヒドロフラン50mlを
入れ、これを水酸化カリウムに滴下した。室温で1時間
反応させた後、滴下ロートにヨウ化メタン1.60g
(11.3mmol)、及び乾燥テトラヒドロフラン1
mlを入れ、これを反応溶液に滴下した。室温で3時間
反応させた後、反応混合物の溶媒を減圧除去し、乾燥n
−ヘキサン40mlを加えて遠心分離し、濾過した。濾
液の溶媒を減圧除去すると、ポリメチル(ヒドロ)シラ
ザンが白色粉末として4.85g得られた。
【0033】生成したポリマーの数平均分子量は106
0であった。IR(赤外吸収)スペクトル〔溶媒:乾燥
o−キシレン;ポリメチル(ヒドロ)シラザンの濃度:
43.2g/l〕は、波数(cm-1)3380、及び1
170のN−Hに基づく吸収:2140のSi−Hに基
づく吸収:1250のSi−CH3に基づく吸収を示し
た。IRスペクトルを図2に示す。
【0034】実施例1 4A型モレキュラーシーブ10gを150℃の真空乾燥
機で12時間乾燥させた後、酢酸イソブチル50gに添
加し乾燥窒素雰囲気で48時間放置して脱水した。乾燥
させた酢酸イソブチル40gに参考例1で合成したペル
ヒドロポリシラザン10gを、乾燥窒素雰囲気で撹拌し
ながら溶解した。これを乾燥窒素雰囲気で十分に乾燥さ
せた容量500mlのガラス瓶に入れて密栓し、温度2
5℃で30日間放置した。
【0035】放置後のポリマーの数平均分子量は、凝固
点降下法で(溶媒:乾燥ベンゼン)により測定したとこ
ろ、1160であり、参考例1の合成後のペルヒドロポ
リシラザンの分子量とほぼ等しかった。また、放置後の
IRスペクトルを図3に示す。波数(cm-1)337
0、及び1170のN−Hに基づく吸収:2150のS
i−Hに基づく吸収:1040〜780のSi−N−S
iに基づく吸収を示し、図1と比較して変化は見られな
かった。
【0036】実施例2 4A型モレキュラーシーブ10gを150℃の真空乾燥
機で12時間乾燥させた後、酢酸イソブチル50gに添
加し乾燥窒素雰囲気で48時間放置して脱水した。乾燥
させた酢酸イソブチル40gに参考例2で合成したポリ
メチル(ヒドロ)シラザン10gを、乾燥窒素雰囲気で
撹拌しながら溶解した。これを乾燥窒素雰囲気で十分に
乾燥させた容量500mlのガラス瓶に入れて密栓し、
温度25℃で30日間放置した。
【0037】放置後のポリマーの数平均分子量は、凝固
点降下法で(溶媒:乾燥ベンゼン)により測定したとこ
ろ、1010であり、参考例2の合成後のポリメチル
(ヒドロ)シラザンの分子量とほぼ等しかった。また、
放置後のIRスペクトルを図4に示す。波数(cm-1
3380、及び1170のN−Hに基づく吸収:214
0のSi−Hに基づく吸収:1250のSi−CH3
基づく吸収を示し、図2と比較して変化は見られなかっ
た。
【0038】実施例3 4A型モレキュラーシーブ10gを150℃の真空乾燥
機で12時間乾燥させた後、酢酸シクロヘキシル50g
に添加し乾燥窒素雰囲気で48時間放置して脱水した。
乾燥させた酢酸シクロヘキシル40gに参考例1で合成
したペルヒドロポリシラザン10gを、乾燥窒素雰囲気
で撹拌しながら溶解した。これを乾燥窒素雰囲気で十分
に乾燥させた容量500mlのガラス瓶に入れて密栓
し、温度25℃で30日間放置した。
【0039】放置後のポリマーの数平均分子量は、凝固
点降下法で(溶媒:乾燥ベンゼン)により測定したとこ
ろ、1100であり、参考例1の合成後のペルヒドロポ
リシラザンの分子量とほぼ等しかった。また、放置後の
IRスペクトルを図5に示す。波数(cm-1)338
0、及び1180のN−Hに基づく吸収:2150のS
i−Hに基づく吸収:1040〜770のSi−N−S
iに基づく吸収を示し、図1と比較して変化は見られな
かった。
【0040】実施例4 4A型モレキュラーシーブ10gを150℃の真空乾燥
機で12時間乾燥させた後、プロピオン酸イソブチル5
0gに添加し乾燥窒素雰囲気で48時間放置して脱水し
た。乾燥させたプロピオン酸イソブチル40gに参考例
1で合成したペルヒドロポリシラザン10gを、乾燥窒
素雰囲気で撹拌しながら溶解した。これを乾燥窒素雰囲
気で十分に乾燥させた容量500mlのガラス瓶に入れ
て密栓し、温度25℃で30日間放置した。
【0041】放置後のポリマーの数平均分子量は、凝固
点降下法で(溶媒:乾燥ベンゼン)により測定したとこ
ろ、1200であり、参考例1の合成後のペルヒドロポ
リシラザンの分子量とほぼ等しかった。また、放置後の
IRスペクトルを図6に示す。波数(cm-1)338
0、及び1180のN−Hに基づく吸収:2160のS
i−Hに基づく吸収:1040〜780のSi−N−S
iに基づく吸収を示し、図1と比較して変化は見られな
かった。
【0042】比較例 4A型モレキュラーシーブ10gを150℃の真空乾燥
機で12時間乾燥させた後、MIBK(メチルイソブチ
ルケトン)50gに添加し乾燥窒素雰囲気で48時間放
置して脱水した。乾燥させたMIBK(メチルイソブチ
ルケトン)40gに参考例1で合成したペルヒドロポリ
シラザン10gを、乾燥窒素雰囲気で撹拌しながら溶解
した。これを乾燥窒素雰囲気で十分に乾燥させた容量5
00mlのガラス瓶に入れて密栓し、温度25℃で30
日間放置した。
【0043】放置後のポリマーの数平均分子量は、凝固
点降下法で(溶媒:乾燥ベンゼン)により測定したとこ
ろ、3000であり、参考例1の合成後のペルヒドロポ
リシラザンの分子量よりも大幅に上昇した。また、放置
後のIRスペクトルを図7に示す。波数(cm-1)34
00、及び1200のN−Hに基づく吸収:2200の
Si−Hに基づく吸収:1050〜800のSi−N−
Siに基づく吸収とともに波数(cm-1)1100のS
i−O−Siに基づく吸収を示した。
【0044】
【発明の効果】請求項1のポリシラザン組成物は、主と
して前記一般式(I)で表される構造単位からなる骨格
を有する数平均分子量が約100〜50,000のポリ
シラザン又はその変性物を、前記一般式(II)又は(II
I)で表されるエステル類に溶解させてなるものとした
ことから、人体への悪影響がなく、且つ取り扱い性の良
好な組成物である。
【0045】請求項2のポリシラザン溶液の調製方法
は、主として前記一般式(I)で表される構造単位から
なる骨格を有する数平均分子量が約100〜50,00
0のポリシラザン又はその変性物を、前記一般式(II)
又は(III)で表されるエステル類に添加し溶解させる
という構成としたことから、人体への悪影響なしに且つ
容易にポリシラザン溶液を得ることができる。
【0046】請求項3のコーティング用組成物は請求項
1のポリシラザン組成物を用いたことから、人体への悪
影響がなく、且つ取扱い性の良好なものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】参考例1で得られたペルヒドロポリシラザンの
IRスペクトル図である。
【図2】参考例2で得られたポリメチル(ヒドロ)シラ
ザンのIRスペクトル図である。
【図3】実施例1で得られたペルヒドロポリシラザンの
IRスペクトル図である。
【図4】実施例2で得られたポリメチル(ヒドロ)シラ
ザンのIRスペクトル図である。
【図5】実施例3で得られたペルヒドロポリシラザンの
IRスペクトル図である。
【図6】実施例4で得られたペルヒドロポリシラザンの
IRスペクトル図である。
【図7】比較例で得られたペルヒドロポリシラザンのI
Rスペクトル図である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 主として下記一般式(I) 【化1】 (式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原
    子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
    リール基、若しくはこれらの基以外でフルオロアルキル
    基等のケイ素に直結する基が炭素である基、アルキルシ
    リル基、アルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。但
    し、R1、R2及びR3の少なくとも1つは水素原子であ
    る。)で表される構造単位からなる骨格を有する数平均
    分子量が約100〜50,000のポリシラザン又はそ
    の変性物を、下記一般式(II)又は(III) R4COOR5 (II) (R4OOC)2A (III) (式中、R4及びR5はそれぞれ独立に炭素数20以下の
    アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、シ
    クロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基又はア
    ルキルアミノ基であり、またAは2価の飽和若しくは不
    飽和の炭化水素基である。)で表されるエステル類に溶
    解させてなることを特徴とするポリシラザン組成物。
  2. 【請求項2】 主として下記一般式(I) 【化1】 (式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原
    子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
    リール基、若しくはこれらの基以外でフルオロアルキル
    基等のケイ素に直結する基が炭素である基、アルキルシ
    リル基、アルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。但
    し、R1、R2及びR3の少なくとも1つは水素原子であ
    る。)で表される構造単位からなる骨格を有する数平均
    分子量が約100〜50,000のポリシラザン又はそ
    の変性物を、下記一般式(II)又は(III) R4COOR5 (II) (R4OOC)2A (III) (式中、R4及びR5はそれぞれ独立に炭素数20以下の
    アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、シ
    クロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基又はア
    ルキルアミノ基であり、またAは2価の飽和若しくは不
    飽和の炭化水素基である。)で表されるエステル類に添
    加し溶解させることを特徴とするポリシラザン溶液の調
    製方法。
  3. 【請求項3】 請求項1記載のポリシラザン組成物を用
    いたことを特徴とするコーティング用組成物。
JP20058595A 1995-07-13 1995-07-13 ポリシラザン組成物、ポリシラザン溶液の調製方法及び該組成物を用いたコーティング用組成物 Pending JPH0931202A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09157528A (ja) * 1995-12-11 1997-06-17 Tonen Corp ポリシラザン組成物、ポリシラザン溶液の調製方法、該組成物を用いたコーティング用組成物及び該コーティング用組成物を用いて得られるセラミックス被膜付プラスチック
JP2008088224A (ja) * 2006-09-29 2008-04-17 Toshiba Corp ポリシラザンまたはポリシラザン溶液の取り扱い方法、ポリシラザンまたはポリシラザン溶液、半導体装置の製造方法
JP2012184378A (ja) * 2011-03-08 2012-09-27 Fukugo Shizai Kk 噴射式密閉容器入ポリシラザンコーティング液およびポリシラザンコーティング方法
WO2017007010A1 (ja) * 2015-07-09 2017-01-12 東京応化工業株式会社 ケイ素含有樹脂組成物
US10767017B2 (en) 2016-12-28 2020-09-08 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resin composition, method for producing resin composition, film formation method, and cured product

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