JPH0931646A

JPH0931646A - 大面積マグネトロンスパッタ装置

Info

Publication number: JPH0931646A
Application number: JP7187275A
Authority: JP
Inventors: Tomoyuki Kiyono; 知之清野; Mitsuhiro Kamei; 光浩亀井; Satoshi Umehara; 諭梅原
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1995-07-24
Filing date: 1995-07-24
Publication date: 1997-02-04
Anticipated expiration: 2015-07-24
Also published as: KR970007417A; JP3324907B2

Abstract

(57)【要約】【目的】厚肉にしなくとも、バッキングプレートの強
度を充分維持すること。【構成】バッキングプレート１５上を移動する各磁石
１１，１１が、上述の如く、その移動方向と直交する方
向に沿って二分割に形成され、バッキングプレート１５
に二分割形成された各磁石１１，１１の間に配置される
補強リブ１５ａが突設されているので、補強リブ１５ａ
により、バッキングプレート１５の剛性を高めることが
できるので、バッキングプレート１５自体の厚みを薄く
形成することができ、そのため、バッキングプレート１
５を薄型化かつ軽量化してもその剛性を保つことができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、マグネトロンスパッタ
法により大面積の基板に薄膜を成膜する大面積マグネト
ロンスパッタ装置に係り、特に、ターゲットを冷却する
バッキングプレートの構造改良に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、ガラス基板にマグネトロンスパ
ッタ法により成膜されるもの、例えば、液晶ディスプレ
イにあっては、コンピュータやテレビジョン等の画面表
示用に使用されている。液晶ディスプレイの基本構造
は、ガラス基板に液晶を挟み込んだものである。そのガ
ラス基板には、成膜，エッチング，フォトリソグラフィ
などの微細加工技術を用いることにより、電極やトラン
ジスタが形成される。そして、成膜に際しては、通常ス
パッタリング装置やＣＶＤ（化学気相成長）装置が用い
られている。

【０００３】ところで、スパッタリング装置において
は、膜特性や低発塵，稼働率の面から有利な枚葉式スパ
ッタリング装置が多く使用されてきている傾向にある。
この枚葉式スパッタ装置は、処理室に搬送されたガラス
基板を固定（静止）させ、その状態でガラス基板の表面
に処理するので、ターゲットとしてはガラス基板によ一
回り大きいサイズのものを用いることが必要となる。

【０００４】また、膜厚分布を均一にするため、放電中
に磁石を移動させることも行われている。磁石を移動さ
せる従来技術のものとしては、例えば特開昭６０−１１
４５６８号公報（以下、第一の従来技術と云う），特願
平６−２３９６０号（以下、第二の従来技術と云う）に
記載された技術のものがある。これら、第一，第二の従
来技術のものは何れも、基板及びターゲットに対し、マ
グネットが直線的に往復移動することにより、ターゲッ
トの使用効率を高め得たり、膜厚分布の均一化を図るこ
とが記載されている。これ以外にマグネットが回動する
ものも提案されている。

【０００５】一方、今日の液晶ディスプレイは、大画面
化と高生産性との双方を図るため、成膜やエッチングな
どの処理をすべきガラス基板のサイズが大型化しつつあ
るが、ガラス基板の大型化に伴い、ターゲットも大型化
する必要がある。ターゲットは、通常、バッキングプレ
ートと云う平板に導電性の接着剤によって取付けられて
いる。その従来技術（以下、第三の従来技術と云う）
は、図９及び図１０に示すように構成されている。

【０００６】即ち、図９に示すように、真空容器１内に
はガラス基板２が配置され、ガラス基板２と対向する位
置にはバッキングプレート４に取付けられたターゲット
３が配置されている。また、バッキングプレート４の上
には磁石部５が設けられ、該磁石部５が駆動機構６，７
によりターゲット３及びガラス基板２と平行に移動する
ことにより、ターゲット３上に所定のマグネトロン磁場
を形成するようにしている。磁石部５は図９，図１０に
示すように、長尺状の箱形に形成された第一マグネット
５ａと、その内部に直線状に配置された第二のマグネト
ロン５ｂと、これらを装着したヨーク５ｃとを有してい
る。なお、８は直流電源、９はヒータ部である。

【０００７】そして、真空容器１が所定のガス雰囲気状
態にあって、かつ真空容器１内に所定のマイクロトロン
磁場が形成された状態にあるとき、該容器１内のガラス
基板２が所定の温度に達すると共に、ターゲット３に直
流電源８によって負の電位が印加されると、ターゲット
３の内部表面上に放電が起こってプラズマを発生させ、
発生したプラズマ中のイオンがターゲット３に衝突して
該ターゲット３の金属粒子を飛散させ、その飛散粒子が
大画面のガラス基板２の表面に所望の膜厚で成膜され
る。

【０００８】このスパッタ処理時、バッキングプレート
４は、上述の如く、ターゲット３を取付けていることか
ら、ターゲット３を冷却する機能と、大気圧によるター
ゲット３の変形をも抑える機能とを有していなければな
らず、その材質としては熱電導率の点から銅系の金属材
料から構成されている。そして、このバッキングプレー
ト４は大気圧によるターゲット３の変形を抑える必要か
ら、ある程度板厚を厚くしなければならない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の如
く、液晶ディスプレイの大画面化のため、ガラス基板を
大型化しようとすると、ターゲット及びこれを取付ける
バッキングプレートも大面積化する必要があるが、上記
に示す第一〜第三の従来技術のものは何れも、大面積化
することに伴う問題について配慮していない。

【００１０】即ち、バッキングプレート４を大面積化す
る場合、大気圧による応力がそれだけ大きくなるので、
変形量を減らすためにバッキングプレート４をより厚肉
にしなければならない。そのため、ターゲット３及びバ
ッキングプレート４は消耗品であり、頻繁に交換を行う
ので、特に、バッキングプレート４のように重量が極め
て大きくなってしまうと、その取扱いが困難となる問題
がある。

【００１１】本発明の目的は、上記従来技術の問題点に
鑑み、バッキングプレートを厚肉にしなくとも、該バッ
キングプレートの強度を充分維持することができる大面
積化マグネトロンスパッタ装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明では、内部に成膜
すべき基板を配置した真空容器と、基板と対向する位置
に配置されたターゲットと、ターゲットを取付けたバッ
キングプレートと、該バッキングプレート上で基板及び
ターゲットと平行に移動可能に支持され、かつその移動
方向と直交する方向に沿って各々分割形成された磁石部
と、該各々の磁石部を移動させる駆動機構とを有してい
る。そしてさらに、バッキングプレート自体の剛性を高
め得る補強手段をも有していることを特徴とするもので
ある。

【００１３】

【作用】本発明では、上述の如く、真空容器，ターゲッ
ト，バッキングプレート，磁石部，駆動機構を有すると
共に、バッキングプレート自体の剛性を高め得る補強手
段を有しているので、該補強手段により、バッキングプ
レートの剛性を高めることができ、バッキングプレート
自体の厚みを薄く形成することができる。従って、バッ
キングプレートを薄型化かつ軽量化してもその剛性を保
つことができる結果、ターゲット及びバッキングプレー
トを大画面対応の大きさとなっても、容易に対処するこ
とができ、大画面用としてのスパッタ処理を確実に実現
し得る効果がある。

【００１４】

【実施例】以下、本発明の実施例を図１乃至図８により
説明する。図１乃至図は本発明の第一の実施例を示す全
体構成図、図２は全体の外観斜視図、図３はマグネット
を示す斜視図である。

【００１５】実施例の装置は、真空容器２１が所定のガ
ス雰囲気状態にあって、かつ真空容器２１内に所定のマ
グネトロン磁場が形成された状態にあるとき、該容器２
１内のガラス基板１０が所定の温度に達し、かつターゲ
ット１６に直流電源２７によって負の電位が印加される
と、ターゲット１６の内部表面に放電が起こってプラズ
マを発生させ、発生したプラズマ中のイオンがターゲッ
ト１６に衝突して該ターゲット１６の金属粒子を飛散さ
せ、その飛散粒子がガラス基板１０の表面に所望の膜厚
で成膜されるように構成している。

【００１６】そして、この装置は、大別すると図１に示
すように、真空容器２１と、スパッタすべき金属粒子を
飛散させるターゲット１６と、分割形成された磁石部１
１，１１と、該磁石部１１，１１を移動させる駆動機構
４０とを有している。

【００１７】真空容器２１は、上部を開口した箱形形状
をなしており、その内部にヒータ部２４の上にセットさ
れたガラス基板１０が配置されている。ヒータ部２４は
ヒータ移動シャフト２５に支持され、該シャフト２５が
上下方向に進退移動することにより、ガラス基板１０を
所望位置に位置決めする。また、真空容器２１内にはア
ースシールド２２が取付けられると共に、該絶縁材から
なる防着板２３が取付けられている。該防着板２３は、
内径側の先端が基板１０の外周まで延設されており、ス
パッタ処理時、ターゲット１６からの飛散粒子がガラス
基板１０の必要以外の部分に付着するのを防止する。

【００１８】ターゲット１６は、スパッタ粒子を飛散さ
せる成膜金属材料からなるものであって、真空容器２１
の開口部とほぼ同じ大きさをなし、その外表面がバッキ
ングプレート１５に取付けられている。

【００１９】バッキングプレート１５は、その内面に導
電性の接着剤によりターゲット１６を取付けており、そ
の外周部が絶縁シール２６を介し真空容器２１の開口端
部に装着されている。このバッキングプレート１５の材
質としては、ターゲット１６の支持強度及び冷却効率を
考慮し、例えば銅材で形成されている。従って、バッキ
ングプレート１５は、大気圧によるターゲット１６の変
形を抑えなければならず、そのための剛性をもつ必要が
ある。

【００２０】そこで、実施例においては、図１及び図２
に示すように、バッキングプレート１５の外表面の中央
部に補強リブ１５ａが突設されている。この補強リブ１
５ａは、分割形成された各磁石部１１の間に配置される
如く、バッキングプレート１５の外表面中央部に一様の
厚みをもつと共に、適宜の高さをもって形成されてい
る。従って、このバッキングプレート１５はＴ字状をな
している。なお、ターゲット１６には負の電位を印加す
ると共に、真空容器２１及アースシールド２２に正の電
位を印加するための直流電源２７が設置されている。

【００２１】一方、前記磁石部１１，１１は、上述の如
く、これら両者の間にバッキングプレート１５の補強リ
ブ１５ａが配置されることから、該補強リブ１５ａを挟
み、長手方向に沿って二分割に形成されている。これら
二組の磁石部１１，１１は相互の磁力により、ターゲッ
ト１６上に対し該ターゲットの長さ方向に沿った大きさ
のレーストラック状のプラズマを発生させ、これによっ
てターゲット１６上に所望のマグネトロン磁場を形成し
得るようにしている。そのため、各磁石部１１は図１乃
至図３に示すように、永久磁石からなる第一マグネット
１２と、その間に配置された第二マグネット１３と、こ
れらと組み付けられるヨーク１４とを有して構成され、
従って、一方の第一マグネット１２の分割端部と他方の
第一マグネットの分割端部との間のギャップｄが、分割
補強リブ１５ａより若干大きめの寸法になっている。

【００２２】駆動機構３０は、図２に示すように、モー
タ部３１と、このモータ部３１及び分割形成された各磁
石部１１，１１を連結する連結部３４と、各磁石部１
１，１１の移動をガイドするガイド部材（符示せず）と
を有している。

【００２３】詳しく述べると、モータ部３１は、バッキ
ングプレート１５の一端の側面部に設置されており、そ
の出力軸３２が例えば外周に螺旋状のネジ部を設けたス
クリュー軸などで形成され、かつ該出力軸３２の先端
が、バッキングプレート１５の他端の側面部に設置され
た軸保持具３３に対し軸周りに回転可能に保持されてい
る。連結部３４は、前記バッキングプレート１５の補強
リブ１５ａを跨げるようにコ字形をなしており、その中
央部が出力軸３２と係合すると共に該出力軸３２を挿通
し、しかもその両端に各磁石部１１，１１の一端部が連
結されている。前記ガイド部材は、各磁石部１１の他端
部に夫々装着された保持具３５と、該夫々の保持具３５
を挿通する二本のガイド棒３６と、各ガイド棒３６の両
端を保持し、かつバッキングプレート１５の両端の側面
部に設置された棒保持具３７とを有している。

【００２４】そして、モータ部３１により出力軸３２が
軸周りに回転すると、その回転により連結部３４が移動
すると共に、該連結部３４と共に各磁石部１１，１１が
図２に示す如き矢印方向に移動し、その際、各磁石部１
１，１１が、ガイド棒３６を挿通する保持具３５によっ
てガイドされることにより、双方の磁石部１１，１１が
同時にバッキングプレート１５上を直線移動できるよう
に、即ち、各磁石部１１，１１を共に補強リブ１５ａに
沿って移動させるようにしている。

【００２５】実施例の装置は、バッキングプレート１５
上を移動する各磁石１１，１１が、上述の如く、その移
動方向と直交する方向に沿って二分割に形成され、バッ
キングプレート１５に二分割形成された各磁石１１，１
１の間に配置される補強リブ１５ａが突設されているの
で、補強リブ１５ａにより、バッキングプレート１５の
剛性を高めることができるので、バッキングプレート１
５自体の厚みを薄く形成することができ、そのため、バ
ッキングプレート１５を薄型化かつ軽量化してもその剛
性を保つことができる。

【００２６】実験によれば、バッキングプレートとして
９７０ｍｍ×９７０ｍｍのものを用いた場合、第三の従
来技術ではその重量が２９０ｋｇであったが、上述の如
き実施例のバッキングプレート１５を同寸法で用いたと
ころ、２１０ｋｇの重量となることが確認できた。この
ような重量差は、補強リブ１５ａの大きさ（厚さ，高
さ）によって若干相違するものの、大幅な重量軽減を図
ることが確実に行える。

【００２７】また、各磁石１１は分割形成されているも
のの、それらが駆動機構３０によって共に移動するの
で、ターゲット１６上に形成されるプラズマを従来技術
とほぼ同様にレーストラック状に発生させることがで
き、これにより所望のマグネトロン共鳴磁場を形成する
ことができる。その結果、ターゲット１６及びバッキン
グプレート１５を大画面対応の大きさに形成しても、容
易に対処することができ、大画面用としてのスパッタ処
理を実現し得る。

【００２８】なお、実験では、ガラス基板１０として６
００ｍｍ×７００ｍｍのものを、またアルミニウム製の
ターゲット１６を夫々用い、スパッタガス圧力０．３Ｐ
ａ，スパッタパワー２２ｋＷでスパッタ処理を行ったと
ころ、１分間のスパッタ時間で膜厚２５０ｎｍのアルミ
ニウム薄膜を形成することができ、また膜厚分布に関し
てはガラス基板１０の面内で±５％程度の範囲に収まる
均一なものが得られた。

【００２９】さらに、磁石部１１が二個に分割形成され
ても、それらが駆動機構３０により共に同期的に移動で
きるので、ターゲット１６上においてトラックレース状
のプラズマを確実に発生させることができ、成膜の均一
化が損なわれるおそれがない。しかも駆動機構３０がモ
ータ部３１，連結部３４，ガイド部材を有して構成され
ているので、双方の磁石部１１を互いに連結すると云う
簡単な連結構造で済むことができる。

【００３０】図４は本発明の第二の実施例を示してい
る。この実施例において前記第一の実施例と異なるの
は、磁石部１１を三分割に形成する一方、バッキングプ
レート１５に、その三分割した各磁石部１１の間に突設
する補強リブ１５ａ，１５ｂを突設したものである。

【００３１】即ち、磁石部１１は、その長手方向に沿っ
て三分割形成されており、これらが共に駆動機構３０に
連結されている。この場合、駆動機構３０の連結部３４
は、ヨの字形に形成されており、その中央部３４ａが第
一の実施例と同様、モータ部３１の出力軸３２と係合す
ると共に、これを挿通している。そして、連結部３４の
両端部３４ｂ，３４ｃが二本のガイド棒３６を挿通する
ように構成されている。

【００３２】そのため、連結部３４の両端部３４ｂ，３
４ｃは三分割された磁石１１のうち、両側に配置された
二組の磁石１１の上部中央部に夫々取付けられると共
に、二本のガイド棒３６を挿通している。ガイド棒３６
のバッキングプレート１５に対する取付けは第一の実施
例と同様である。

【００３３】従って、この連結部３０は、モータ部３１
によって出力軸３２が軸周りに回転すると、連結部３４
により、中央に位置する磁石部１１が出力軸３２に沿っ
て移動すると共に、両側に位置する二組の磁石部１１，
１１がガイド棒３６にガイドされるので、三組の磁石部
１１が同時に移動することとなる。

【００３４】一方、バッキングプレート１５の外表面に
は、一端側の磁石１１と中央に配置される磁石１１との
間に向かって突出する第一の補強リブ１５ａと、中央の
磁石１１と他端に配置された磁石１１との間に向かって
突出する第二の補強リブ１５ｂとを有している。

【００３５】この実施例によれば、ターゲット１６のよ
り大面積化に伴いバッキングプレート１５がいっそう大
型しても、上述の如く、磁石１１の分割個数を増やすと
共に補強リブ１５ａ，１５ｂの数を増やすと、補強リブ
の分だけバッキングプレート１５の剛性を保つことがで
きるので、バッキングプレート１５がより厚くなること
によって重量化するのを低減することができる。

【００３６】また実施例では、磁石部１１が三分割され
ても、その駆動機構が第一の実施例と概略的ては同様の
形態となり、一つの駆動部だけで全ての磁石部１１を共
に駆動できるので、磁石部１１の分割個数の増加に伴っ
て構成が複雑になったり、駆動部が複数となるなどのお
それがなく、構成の簡素化を図ることもできる。

【００３７】なお、これまで前述した第一，第二の実施
例では、補強リブ１５ａ（或いは１５ａと１５ｂ）がバ
ッキングプレート１５と一体的に形成された例を示した
が、バッキングプレート本体１５と別個に形成して溶接
などにより取付けても良く、何れにしろ、バッキングプ
レート本体１５の厚みが増加しない程度に該プレート自
体の剛性を高め得る程度の大きさ，形状であればよい。
また、補強リブがバッキングプレート１５において磁石
部１１の分割された間にのみ突設された例を示したが、
バッキングプレート１５の両端部に形成すれば、それだ
けより補強することができるので、いっそうの剛性アッ
プを図ることもできる。

【００３８】図５乃至図８は本発明の他の実施例を夫々
示している。前述したこれまでの実施例では、磁石部１
１が長手方向に複数に分割され、ギャップｄを有するよ
うに構成したが、このように、ギャップｄを有するよう
に分割形成すると、図７に示すように、ターゲット１６
上に発生するプラズマ９１がレーストラック状に発生す
るものの、そのプラズマ９１は、ギャップｄに相当する
部分９１ａが若干ながら幅のせまい状態となるので、タ
ーゲット１６の表面上におけるマグネトロン磁場の強度
が、磁石部を分割しない場合よりすこし小さくなってし
まう。

【００３９】このギャップｄの大きさとターゲット１６
の表面における平行磁場強度との関係について図８によ
り説明する。図８において、横軸は磁石部間のギャップ
ｄを、縦軸はターゲット表面における平行磁場強度を夫
々示し、実線Ａにより、ギャップｄの大きさに伴い平行
磁場強度が小さくなることを表している。

【００４０】図８によれば、磁石部１１間のギャップｄ
が０ｍｍのとき、即ち、磁石部が分割されていない場
合、平行磁場強度は約４０ｍＴである。一方、磁石部が
第一の実施例の如く二分割され、そのギャップｄが１０
ｍｍとした場合、平行磁場強度は約３５ｍＴの大きさと
なり、若干小さくなる。但し、これはマグネトロンスパ
ッタにおける放電としては、充分な磁場強度である。

【００４１】しかしながら、充分な磁場強度であって
も、図７に示すように、プラズマ９１のギャップｄに相
当する部分９１ａの幅が若干でも違い、この形状のプラ
ズマ９１が磁石部１１によって矢印方向９２に移動する
と、ターゲット１６からの飛散粒子の均一性がその分劣
るので、膜厚分布のより均一化が図り難い。

【００４２】そこで、本実施例では、磁石部１１が分割
することによってギャップｄを有していても、そのギャ
ップｄに相当する部分の平行磁場強度が減少するのを防
ぐようにしたものである。

【００４３】即ち、図５に示す実施例では、二個に分割
形成された各磁石部１１において、第一マグネット１
２，第二マグネット１３の互いに分割された分割端部に
磁束補強突起１２ａ，１３ａが夫々突設されている。こ
の磁束補強突起１２ａ，１３ａは、第一マグネット１
２，第二マグネット１３と同様の材質から成る永久磁石
を、第一マグネット１２，第二マグネット１３の分割端
部に突設させ、これにより、夫々のマグネットの分割端
部の面積が増大するようにしている。

【００４４】このように、第一，第二マグネット１２，
１３の分割端部にこれらと全く同様の磁束密度からなる
磁束補強突起１２ａ，１３ａを突設し、分割端部の面積
を増大させるので、ギャップｄ部分における平行磁場強
度が減少するのをそれだけ抑えることができる。

【００４５】実験によれば、実施例１の場合と同様、６
００ｍｍ×７００ｍｍのガラス基板１０、アルミニウム
製のターゲット１６を夫々用い、スパッタガス圧力０．
３Ｐａ，スパッタパワー２２ｋＷでスパッタ処理を行っ
たところ、１分間のスパッタ時間で膜厚２５０ｎｍのア
ルミニウム薄膜を形成できた。そして、膜厚分布に関し
てはガラス基板１０の面内で±４％以内の範囲に収まる
ことができた。従って、この膜厚分布は、磁束補強突起
１２ａ，１３ａの突出する割合によっても変わるが、第
一の実施例に比較し、より均一な膜厚を得ることができ
る結果、特に大面積化した場合でも、高品質を維持し得
る。

【００４６】図６に示す実施例において、図５に示す実
施例と異なるのは、第一マグネット１２，第二マグネッ
ト１３の分割端部１２ｂ，１３ｂそのものを、残留磁束
密度の大きい材質で形成したものである。

【００４７】即ち、本実施例において、第一マグネット
１２の分割端部１２ｂは、残留磁束密度が第一マグネッ
ト１２の材質より大きいものを用いており、第二マグネ
ット１３の分割端部１３ｂも、残留磁束密度が第二マグ
ネット１３の材質より大きいものを用い、これによって
夫々の分割端部１２ｂ，１３ｂにおけるギャップｄ部分
の平行磁場強度が減少するのを抑えるようにしている。
この場合、分割端部１２ｂ，１３ｂは、第一，第二マグ
ネット１２，１３を構成する材質自体を変えてもよい
が、変えなくともよい。

【００４８】実験では、第一，第二マグネット１２，１
３自体が残留磁束密度Ｂｒとして０．９ＴからなるＳｍ
−Ｃｏで形成されたとき、残留磁束密度Ｂｒとして１．
１ＴのＳｍ−Ｃｏで形成された分割端部１２ｂ，１３ｂ
を用い、第一の実施例と同様にしてスパッタ処理を行っ
たところ、６００ｍｍ×７００ｍｍのガラス基板１０に
おいて膜厚分布が±４％以内になることが確認された。

【００４９】従って、図５及び図６に示す実施例によれ
ば、磁石部１１が分割形成されても、第一，第二マグネ
ットの分割端部によって平行磁場強度が減少するのを抑
え、より均一な膜厚を得ることができるので、大面積化
した場合でも、高品質を維持し得る。

【００５０】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の請求項１〜
３によれば、バッキングプレートが有する補強手段によ
り、バッキングプレートの剛性を高めることができ、バ
ッキングプレート自体の厚みを薄く形成することがで
き、従って、バッキングプレートを薄型化かつ軽量化し
てもその剛性を保つことができる結果、ターゲット及び
バッキングプレートを大画面対応の大きさとなっても、
容易に対処することができ、大画面用としてのスパッタ
処理を確実に実現し得る効果がある。

【００５１】また、請求項４によれば、分割された磁石
部の分割端部に磁束補強突起を突設し、請求項５によれ
ば、磁石部の分割端部そのものを磁束密度の高い材質で
形成したので、膜厚分布のより均一化を図ることがで
き、高品質の成膜を得ることができると云う効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一の実施例を示す全体構成の断面
図。

【図２】同じく全体の外観斜視図。

【図３】分割形成された磁石部のマグネットを示す斜視
図。

【図４】本発明の第二の実施例を示す全体構成の断面
図。

【図５】本発明の他の実施例を示す磁石部のマグネット
の斜視図。

【図６】本発明のさらに他の実施例を示す磁石部のマグ
ネットの斜視図。

【図７】ターゲット上に発生するプラズマを示す説明
図。

【図８】各磁石部間のギャップの大きさとターゲット表
面における平行磁場強度の大きさとの関係を示す説明
図。

【図９】第三の従来技術の一構成例を示す全体構成の説
明図。

【図１０】第三の従来技術における磁石部のマグネット
を示す斜視図。

【符号の説明】

１０…ガラス基板、１１…分割形成された磁石部、１２
…第一マグネット、１２ａ…磁束補強突起、１２ｂ…第
一マグネットの分割端部、１３…第二マグネット、１３
ａ…磁束補強突起、１３ｂ…第二マグネットの分割端
部、２１…真空容器、１５…バッキングプレート、１５
ａ，１５ｂ…補強リブ、１６…ターゲット、３０…駆動
機構。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】内部に配置された基板を有する真空容器
と、金属粒子を飛散させて基板表面に成膜するターゲッ
トと、該ターゲットを取付けたバッキングプレートと、
該ターゲットの表面上に所望のマグネトロン磁場を形成
する磁石部と、磁石部を基板及びターゲットに沿って移
動させる駆動機構とを有するマグネトロンスパッタ装置
において、バッキングプレートが磁石部の移動を許容す
ると共に、バッキングプレート自体の強度を保つ形状に
形成したことを特徴とする大面積マグネトロンスパッタ
装置。
【請求項２】内部に成膜すべき基板を配置した真空容
器と、基板と対向する位置に配置されたターゲットと、
ターゲットを取付けたバッキングプレートと、該バッキ
ングプレート上で基板及びターゲットと平行に移動可能
に支持され、かつその移動方向と直交する方向に沿って
各々分割形成された磁石部と、該各々の磁石部を移動さ
せる駆動機構と、バッキングプレート自体の剛性を高め
得る補強手段とを有することを特徴とする大面積マグネ
トロンスパッタ装置。
【請求項３】内部に成膜すべき基板を配置した真空容
器と、基板と対向する位置に配置されたターゲットと、
該ターゲットを取付けたバッキングプレートと、該バッ
キングプレート上で基板及びターゲットと平行に移動可
能に支持され、かつその移動方向と直交する方向に沿っ
て各々分割形成された磁石部と、該各々の磁石部を駆動
する駆動機構とを有し、前記バッキングプレートは、少
なくとも各磁石部間に配置され、かつバッキングプレー
ト自体の剛性を高め得る補強手段を有し、該補強手段
は、バッキングプレートの外表面に夫々の磁石部の間に
配置されかつ一体的に突設された補強リブからなり、前
記駆動機構は、分割形成された各磁石部を共に補強リブ
に沿って移動させることを特徴とする大面積マグネトロ
ンスパッタ装置。
【請求項４】前記分割形成された各磁石部は、第一マ
グネットと第二マグネットとを有し、第一マグネットと
第二マグネットとの分割端部に第一，第二マグネットの
夫々と同様の磁束密度を有する材質からなる磁束補強突
起を突設したことを特徴とする請求項２または３の何れ
か一項に記載の大面積マグネトロンスパッタ装置。
【請求項５】前記分割形成された各磁石部は、第一マ
グネットと第二マグネットとを有し、第一マグネット第
二マグネットとの分割端部を、第一，第二マグネットの
夫々より大きい磁束密度を有する材質で形成したことを
特徴とする請求項２または３の何れか一項に記載の大面
積マグネトロンスパッタ装置。