JPH09320120A - Recording disk processing apparatus and processing method, and recording disk manufacturing method - Google Patents

Recording disk processing apparatus and processing method, and recording disk manufacturing method

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JPH09320120A
JPH09320120A JP13333996A JP13333996A JPH09320120A JP H09320120 A JPH09320120 A JP H09320120A JP 13333996 A JP13333996 A JP 13333996A JP 13333996 A JP13333996 A JP 13333996A JP H09320120 A JPH09320120 A JP H09320120A
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JP
Japan
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energy
recording disk
processing
disk
recording
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JP13333996A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Tamura
佳弘 田村
Toshinaka Nonaka
敏央 野中
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make enable processing an output of processing energy at high speed by controlling the processing energy output, so that when an energy giving position exists in an inner peripheral part of a recording disk, it is controlled to be smaller than the case when the position exists in the outer peripheral part. SOLUTION: A rotating device 7 holding an optical disk 1 to initialized is started to be rotated uniform speed at respective speeds Wo(rad/sec). Then, an exposure unit is moved, so that the position r of the energy giving position 10 in the disk radial direction of the exposure unit 2 on the optical disk 1 becomes the r imm, corresponding to the innermost peripheral part of the recording area of the optical disk 1. Simultaneously, a traverse motor 3 is rotated until the position r of the energy-giving position 10 ion the disk radial direction becomes the rf mm, corresponding to the outermost peripheral part of the recording area of the optical disk 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、、レーザ光等の光
エネルギーや磁気エネルギーを付与しながら磁気ディス
ク、光磁気ディスクまたは相変化型光ディスク等の記録
用ディスクに所定の処理を行う装置および方法ならびに
かかる記録用ディスクの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus and method for performing a predetermined process on a recording disk such as a magnetic disk, a magneto-optical disk or a phase change type optical disk while applying optical energy such as laser light or magnetic energy. It also relates to a method for manufacturing such a recording disc.

【0002】[0002]

【従来の技術】記録用ディスクとして磁気ディスク、光
磁気ディスクまたは相変化型光ディスク等が広く用いら
れている。これらの記録ディスクを製造するに際して
は、いずれも樹脂、金属、ガラスなどのディスク基板上
に磁性体からなる記録膜、カー効果を有する記録膜、加
熱および冷却により結晶相と非晶相との間で変化しうる
記録膜などを形成し、この記録膜を所定の処理によりあ
る程度均質な一定の状態にしておくことが多い。このよ
うな処理の一部または全部あるいはこの処理を含む一連
の処理を初期化処理と呼ぶ場合がある。
2. Description of the Related Art Magnetic disks, magneto-optical disks, phase change optical disks, etc. are widely used as recording disks. When manufacturing these recording disks, the recording film made of a magnetic material on a disk substrate made of resin, metal, glass, etc., the recording film having the Kerr effect, or a layer between the crystalline phase and the amorphous phase by heating and cooling is used. It is often the case that a recording film or the like that can be changed is formed, and this recording film is kept in a uniform state to some extent by a predetermined process. A part or all of such processing or a series of processing including this processing may be referred to as initialization processing.

【0003】以下、こうした記録用ディスクとして相変
化型光ディスクを例にとり、上記処理について説明す
る。相変化型光ディスクは、たとえば、ポリカーボネー
トなどの透明な樹脂製のディスク基板に、第1 保護層、
記録層、第2 保護層、反射層をこの順に形成して成膜済
みディスクとし、これを2 枚貼り合せ、あるいは単独
で、記録用ディスクとする。さらにこれをカートリッジ
等に備える場合もある。
The above process will be described below by taking a phase change type optical disc as an example of such a recording disc. The phase change type optical disc is, for example, a disc substrate made of a transparent resin such as polycarbonate, a first protective layer,
A recording layer, a second protective layer, and a reflective layer are formed in this order to form a film-formed disc, and two discs are adhered together or individually to form a recording disc. Further, this may be provided in a cartridge or the like.

【0004】上記記録層は、たとえば、カルコゲナイト
系であるGeSbTe系、InSbTe系、AgInSbTe系、InSe系、In
Te系、AsTeGe系、TeOx-GeSn 系、FeSeSn系、SbSeBi系、
BiSeGe系、TeGeSbPd系、TeGeSbPdNb系、NbGeSbTe系、Pt
GeSbTe系、NiGeSbTe系、CoGeSbTe系などの合金またはこ
れらを主成分とする合金などをスパッタリング、イオン
プレーティングまたは真空蒸着等により第1 保護層形成
済みのディスク基板に堆積させることにより形成され
る。その後、第2 保護層、反射層等を積層形成して成膜
済みディスクとする。
The recording layer is, for example, chalcogenite-based GeSbTe-based, InSbTe-based, AgInSbTe-based, InSe-based, In
Te series, AsTeGe series, TeOx-GeSn series, FeSeSn series, SbSeBi series,
BiSeGe system, TeGeSbPd system, TeGeSbPdNb system, NbGeSbTe system, Pt
It is formed by depositing an alloy such as GeSbTe-based, NiGeSbTe-based, CoGeSbTe-based or an alloy containing these as a main component on the disk substrate on which the first protective layer has been formed by sputtering, ion plating or vacuum deposition. After that, a second protective layer, a reflective layer, and the like are laminated to form a film-formed disc.

【0005】第1 および第2 保護層は、記録層の機械的
保護や耐湿熱性付与のために用いられ、たとえば、ZnS
、SiO 2 、Ta2 O 5 、ITO 、ZrC 、TiC 、MgF 2 、C
などの無機物またはその混合物により形成される。反射
層は、たとえば、Zr、Cr、Ta、Mo、Si、Al、Au、Pd、Hf
などの金属やこれらの合金からなる。これらの膜も、記
録膜と同様の方法により形成されることが多い。
The first and second protective layers are used for mechanical protection of the recording layer and for imparting resistance to moist heat, for example, ZnS.
, SiO 2 , Ta 2 O 5 , ITO, ZrC, TiC, MgF 2 , C
And the like, or a mixture thereof. The reflective layer is, for example, Zr, Cr, Ta, Mo, Si, Al, Au, Pd, Hf.
It consists of such metals and their alloys. These films are often formed by the same method as the recording film.

【0006】このような記録膜を初期化する方法とし
て、特開平4-366424号公報には、光ディスクを回転させ
ながら1 本のレーザ光ビームを光ディスクに照射してそ
の部位の記録膜の温度を結晶化温度以上に昇温し、レー
ザ光ビームが通過した後にその部位を放冷することによ
りこれを均質な結晶相とし、これにより初期化する方法
が開示されている。
As a method for initializing such a recording film, Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-366424 discloses a method of irradiating a single laser light beam on the optical disk while rotating the optical disk to measure the temperature of the recording film at that portion. A method is disclosed in which the temperature is raised to the crystallization temperature or higher, and after the laser light beam has passed, the site is allowed to cool to form a homogeneous crystal phase, and the initialization is thereby performed.

【0007】しかしながら、このような方法では、光デ
ィスクをレーザ光照射部位の半径方向の位置に応じて角
速度を変化させながら回転させながら、レーザ光ビーム
が光ディスクの記録領域の全面を走査するようにビーム
位置を制御する必要があり、動作が複雑となる上に、初
期化に要する時間が、数10秒から数分と長くならざるを
えなかった。
However, in such a method, while the optical disc is rotated while changing the angular velocity according to the radial position of the laser light irradiation portion, the laser light beam is scanned so as to scan the entire recording area of the optical disc. Since it is necessary to control the position, the operation becomes complicated, and the time required for the initialization is inevitably long, from several tens of seconds to several minutes.

【0008】こうした処理の問題点は、ディスクを用い
るほかの記録媒体に共通する問題点であり、磁気ディス
クでも、光磁気ディスクの場合でも発生しうる問題であ
った。
[0008] Such a problem of processing is a problem common to other recording media using a disk, and has been a problem that can occur in both magnetic disks and magneto-optical disks.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、上記問題点を解決し、記録用ディスクの記録部位に
所定の処理を施すに際し、簡単な制御で、高速に上記処
理を施しうる記録用ディスクの処理装置、処理方法及び
記録用ディスクの製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and perform a predetermined process on a recording portion of a recording disk by a simple control and a high-speed recording process. An object of the present invention is to provide a processing apparatus, a processing method, and a recording disk manufacturing method for a recording disk.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、記録用ディス
クを保持しながら等速回転させる回転保持手段と、該回
転保持手段により保持された記録用ディスク面に処理用
エネルギーを付与する処理ユニットと、該処理ユニット
によるエネルギー付与部位を記録用ディスクの半径方向
に移動させるエネルギー付与部位の移動手段と、前記エ
ネルギー付与部位が記録用ディスクの内周部にある場合
の処理用エネルギー出力を、外周部にある場合よりも小
さくするように前記処理ユニットを制御するエネルギー
制御手段とを備えてなる記録用ディスクの処理装置を提
供する。
According to the present invention, there is provided a rotation holding means for rotating a recording disk at a constant speed while holding the recording disk, and a processing unit for applying processing energy to the surface of the recording disk held by the rotation holding means. An energy applying part moving means for moving the energy applying part by the processing unit in the radial direction of the recording disc, and a processing energy output when the energy applying part is on the inner peripheral part of the recording disc. There is provided a recording disk processing apparatus comprising energy control means for controlling the processing unit so as to make the size smaller than that of the recording disk.

【0011】また、本発明の別の態様は、記録用ディス
クを保持しながら等速回転させる回転保持手段と、該回
転保持手段により保持された記録用ディスク面上の半径
方向に広がりを有するエネルギー付与部位に処理用エネ
ルギーを付与する処理ユニットと、前記エネルギー付与
部位のうち前記記録用ディスクの内周部にあるエネルギ
ー付与部位における処理用エネルギー出力を、外周部の
エネルギー付与部位よりも小さくするように前記処理ユ
ニットを制御するエネルギー制御手段とを備えてなる記
録用ディスクの処理装置を提供する。
Another aspect of the present invention is a rotation holding means for rotating the recording disk at a constant speed while holding it, and energy having a radial spread on the surface of the recording disk held by the rotation holding means. A processing unit that applies processing energy to the application site and a processing energy output in the energy application site in the inner peripheral portion of the recording disk among the energy application sites are set to be smaller than the energy application site in the outer peripheral portion. Further, there is provided an apparatus for processing a recording disk, comprising: an energy control means for controlling the processing unit.

【0012】また、本発明の好ましい態様は、前記エネ
ルギー付与部位は、記録用ディスクの半径方向に異なる
複数の部位を含む、記録用ディスクの処理装置を提供す
る。
Further, a preferred aspect of the present invention provides the recording disk processing apparatus, wherein the energy applying area includes a plurality of areas different in the radial direction of the recording disk.

【0013】また、本発明の好ましい態様は、前記処理
ユニットは、複数のエネルギー発生手段を含み、前記複
数の部位は、それぞれ、前記複数のエネルギー発生手段
の各々に対応している、記録用ディスクの処理装置を提
供する。
Further, in a preferred aspect of the present invention, the processing unit includes a plurality of energy generating means, and the plurality of parts respectively correspond to the plurality of energy generating means, respectively. The processing device is provided.

【0014】また、本発明の好ましい態様は、前記エネ
ルギー付与部位は、長径方向が記録用ディスクの半径方
向と実質的に同一である楕円形状である、記録用ディス
クの処理装置を提供する。
A preferred embodiment of the present invention provides the recording disk processing apparatus, wherein the energy applying portion has an elliptical shape whose major axis direction is substantially the same as the radial direction of the recording disk.

【0015】また、本発明の好ましい態様は、前記エネ
ルギー制御手段は、処理用エネルギーが前記エネルギー
付与部位の記録ディスク中心からの距離に実質的に比例
するように処理ユニットを制御するものである、記録用
ディスクの処理装置を提供する。
Further, in a preferred aspect of the present invention, the energy control means controls the processing unit so that the processing energy is substantially proportional to the distance from the center of the recording disk to the energy application site. A recording disk processing device is provided.

【0016】また、本発明の好ましい態様は、前記エネ
ルギー制御手段は、処理用エネルギー出力が前記エネル
ギー付与部位の記録ディスク中心からの距離について実
質的にオフセット付き比例関係を保持するように処理ユ
ニットを制御するものである、請求項1 〜6 のいずれか
に記載の記録用ディスクの処理装置を提供する。
Further, in a preferred aspect of the present invention, the energy control means includes a processing unit so that the processing energy output substantially maintains a proportional relationship with an offset with respect to a distance from the recording disk center of the energy applying portion. A processing device for a recording disk according to any one of claims 1 to 6, which is for controlling.

【0017】また、本発明の好ましい態様は、前記処理
ユニットは、光ビームの発生手段および/ または磁気の
発生手段を含むものである、記録用ディスクの処理装置
を提供する。
Further, a preferred aspect of the present invention provides a processing apparatus for a recording disk, wherein the processing unit includes a light beam generating means and / or a magnetic generating means.

【0018】また、本発明は、記録用ディスクを等速回
転させながら該記録用ディスク面に処理用エネルギーを
付与するに際し、前記記録用ディスク面上のエネルギー
付与部位が前記記録用ディスクの内周部にある場合の前
記処理用エネルギーを、外周部にある場合よりも小さく
するように前記処理エネルギーを制御する記録用ディス
クの処理方法を提供する。
Further, according to the present invention, when the processing energy is applied to the recording disk surface while rotating the recording disk at a constant speed, the energy application site on the recording disk surface is the inner circumference of the recording disk. There is provided a method of processing a recording disk, wherein the processing energy is controlled so that the processing energy when the recording disk is in a partial area is smaller than that when the recording disk is in an outer peripheral area.

【0019】また、本発明は、ディスク基板上に記録膜
を形成し、該ディスク基板を等速回転させながら前記記
録膜にエネルギーを付与しながら所定の処理をする記録
用ディスクの製造方法であって、エネルギーを付与する
部位が前記ディスク基板の内周部にある場合の前記エネ
ルギーを、外周部にある場合よりも小さくするように前
記エネルギーを制御する記録用ディスクの製造方法を提
供する。
Further, the present invention is a method for producing a recording disk in which a recording film is formed on a disk substrate and a predetermined process is performed while applying energy to the recording film while rotating the disk substrate at a constant speed. Thus, there is provided a method for manufacturing a recording disk, wherein the energy is controlled so that the energy when the energy applying portion is in the inner peripheral portion of the disc substrate is smaller than that in the outer peripheral portion.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ、本発明
の一実施態様につき、相変化型光ディスクの初期化処理
を例にとって説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings by taking an initialization process of a phase change type optical disk as an example.

【0021】図1 は、本実施態様( 第1 の実施態様) の
初期化装置の主要部分を示すモデル図である。図1 にお
いて、初期化装置は、光ディスク1 を保持しながら回転
させるディスク回転装置7 と、光ディスク1 にレーザ光
ビームを照射する露光ユニット2 と、露光ユニット2 を
光ディスク1 の半径方向に移動させるトラバース機構6
と、トラバース機構6 およびディスク回転装置7 および
露光ユニット2 を制御する制御ユニット8 とからなって
いる。
FIG. 1 is a model diagram showing the main part of the initialization device of the present embodiment (first embodiment). In FIG. 1, the initialization device includes a disc rotation device 7 that rotates the optical disc 1 while holding it, an exposure unit 2 that irradiates the optical disc 1 with a laser light beam, and a traverse that moves the exposure unit 2 in the radial direction of the optical disc 1. Mechanism 6
And a control unit 8 for controlling the traverse mechanism 6, the disc rotating device 7, and the exposure unit 2.

【0022】ディスク回転装置7 は、光ディスク1 を保
持しつつ一定角速度ωにて回転させる。各速度ωとして
は100 〜1000[rad/sec] の範囲を用い、速度の変動範囲
が、たとえば、0.1%程度以下となるように回転速度を制
御する。回転に用いるモータとしてはパルスモータやエ
ンコーダによるサーボ制御されたDCまたはACモータが好
ましく用いられる。本実施態様においては、たとえば、
速度制御の簡単なパルスモータを用いている。
The disc rotating device 7 rotates the optical disc 1 at a constant angular velocity ω while holding it. A range of 100 to 1000 [rad / sec] is used as each speed ω, and the rotation speed is controlled so that the speed fluctuation range is, for example, about 0.1% or less. As the motor used for rotation, a pulse motor or a DC or AC motor servo-controlled by an encoder is preferably used. In this embodiment, for example,
A simple pulse motor with speed control is used.

【0023】露光ユニット2 は、半導体レーザ2aと結像
レンズ2bとからなり、半導体レーザ2aよりレーザ光を発
生させ、結像レンズ2bにより光ディスク1 面に光エネル
ギーを集中照射する。相変化型の光ディスクの初期化用
の場合、半導体レーザ2aとしては、波長λ=670〜850[n
m] 、光ディスク1 の表面のエネルギー付与部位10に付
与される最大パワーP=10〜1000[mW]、ビームスポットス
ポット径( 面積円相当径)D=1〜200[μm]、あるいはビー
ムスポット内の最大平均パワー密度W=3 ×108 〜3 ×10
10[mW/cm2]程度の条件範囲のものを用いるのが好まし
い。なお、半導体レーザ2aのパワーは( 出力) 、後述す
るように、エネルギー付与部位10の半径方向の位置r に
応じて制御ユニット8 により制御されるが、光ディスク
1 の最外周部にエネルギーを付与する際のパワーPmを最
大パワーとよぶ。
The exposure unit 2 comprises a semiconductor laser 2a and an imaging lens 2b. The semiconductor laser 2a generates a laser beam, and the imaging lens 2b irradiates the optical disk 1 surface with light energy in a concentrated manner. In the case of initializing a phase change type optical disc, the semiconductor laser 2a has a wavelength λ = 670 to 850 [n
m], maximum power applied to the energy application site 10 on the surface of the optical disc P = 10 to 1000 [mW], beam spot spot diameter (area circle equivalent diameter) D = 1 to 200 [μm], or within the beam spot Maximum average power density W = 3 × 10 8 to 3 × 10
It is preferable to use one having a condition range of about 10 [mW / cm2]. The power of the semiconductor laser 2a (output) is controlled by the control unit 8 according to the radial position r of the energy application site 10 as described later.
The power Pm when applying energy to the outermost periphery of 1 is called the maximum power.

【0024】トラバース機構6 は、露光ユニット2 の光
ディスク1 面上のエネルギー付与部位10のディスク半径
方向の位置( ディスク中心からの半径方向の距離)rを変
化させる機構であり、トラバースモータ3 と、ボールス
クリュー4 と、ボールネジ5とからなっている。ボール
ネジ5 は露光ユニット2 に固着されている一方、ボール
スクリュー4 に螺合されている。ボールスクリュー4 は
トラバースモータ3 に固着されている。これにより、ト
ラバースモータ3 が回転すると、露光ユニット2 が光デ
ィスク1 のディスク半径方向にディスク面に対して平行
に移動し、これによりエネルギー付与部位のディスク半
径方向の位置r を移動させる。
The traverse mechanism 6 is a mechanism for changing the position (radial distance from the disc center) r of the energy applying portion 10 on the surface of the optical disc 1 of the exposure unit 2 in the disc radial direction. It consists of a ball screw 4 and a ball screw 5. The ball screw 5 is fixed to the exposure unit 2 while being screwed to the ball screw 4. The ball screw 4 is fixed to the traverse motor 3. As a result, when the traverse motor 3 rotates, the exposure unit 2 moves in the disk radial direction of the optical disk 1 in parallel with the disk surface, thereby moving the position r of the energy applying portion in the disk radial direction.

【0025】制御ユニット8 は、回転装置7 が等速駆動
されるように、トラバースモータ3の回転を露光ユニッ
ト2 による光ディスク1 上のエネルギー付与部位が最内
周側から最外周側に等速移動するように、それぞれ制御
する。さらに、半導体レーザ2aのパワーをエネルギー付
与部位のディスクの内周部にある場合は外周部にある場
合よりも小さくするように制御する。
The control unit 8 moves the rotation of the traverse motor 3 at a constant speed from the innermost peripheral side to the outermost peripheral side so that the energy applying portion on the optical disk 1 by the exposure unit 2 is rotated so that the rotating device 7 is driven at a constant speed. Control each as you would. Further, the power of the semiconductor laser 2a is controlled so as to be smaller when the energy is applied to the inner peripheral portion of the disk than when the energy is applied to the outer peripheral portion.

【0026】このように構成された初期化装置は、次の
ように動作する。
The initialization device configured as described above operates as follows.

【0027】はじめに、初期化すべき光ディスク1 が保
持された回転装置7 が起動し、各速度ω0 [rad/sec] に
て等速回転する。
First, the rotating device 7 holding the optical disk 1 to be initialized is activated and rotates at a constant speed at each speed ω 0 [rad / sec].

【0028】つづいて、露光ユニット2 のレーザ光の光
ディスク1 上のエネルギー付与部位10のディスク半径方
向の位置r が、光ディスク1 の記録領域の最内周部に対
応するri[mm]となるように露光ユニットが移動する。
Next, the position r of the energy applying portion 10 of the laser light of the exposure unit 2 on the optical disc 1 in the radial direction of the disc becomes ri [mm] corresponding to the innermost peripheral portion of the recording area of the optical disc 1. The exposure unit moves to.

【0029】次に、露光ユニット2 からのレーザ光の照
射が開始される。このときのレーザパワーP はP i [W]
で、ビームスポットのディスク半径方向の広がり(パワ
ーの半値全幅)はD r [ μm]、ディスク円周方向の広が
りはD c [ μm]である。また、ビームスポットの面積は
S[μm2] である。ビームポットが円形の場合には、S=π
D r 2/4 となる。長径方向または短径方向がディスク半
径方向と一致する楕円形の場合には、S=πD r D c /4と
なる。
Next, the irradiation of the laser light from the exposure unit 2 is started. The laser power P at this time is P i [W]
Then, the spread of the beam spot in the radial direction of the disc (full width at half maximum of power) is D r [μm], and the spread in the disc circumferential direction is D c [μm]. The area of the beam spot is
It is S [μm2]. If the beam pot is circular, S = π
It becomes D r 2/4. In the case of an elliptical shape whose major axis direction or minor axis direction coincides with the disk radial direction, S = πD r D c / 4.

【0030】同時にエネルギー付与部位10のディスク半
径方向の位置r が光ディスク1 の記録領域の最外周部に
対応するr f [mm]となるまでトラバースモータ3 が回転
する。エネルギー付与部位10のディスク半径方向の移動
速度v t は vt=(1-f)D r ( ω0 /2π) (1) で定まる。ここで、f は0 と1 の間の値をとるオーバー
ラップ指数である( 図2参照) 。
At the same time, the traverse motor 3 rotates until the position r of the energy applying portion 10 in the radial direction of the disc reaches r f [mm] corresponding to the outermost periphery of the recording area of the optical disc 1. The moving speed v t of the energy applying site 10 in the radial direction of the disk is determined by v t = (1-f) D r0 / 2π) (1). Where f is an overlap index between 0 and 1 (see Fig. 2).

【0031】このようにして、レーザ光を光ディスク1
の記録領域の全域に順次照射する。記録領域上のある小
部位( 光のスポットサイズよりも小さな広がりを有す
る) に注目すると、エネルギー付与部位10( ビームスポ
ット) が通過することにより、この小部位の記録膜が初
期化される。すなわち、エネルギー付与により当該小部
位の記録膜材を結晶化温度以上の温度に昇温し、エネル
ギー付与部位10の移動後、エネルギー付与を受けなくな
り記録膜材の温度が低下して結晶状態になるのである。
In this way, the laser light is emitted from the optical disc 1
The entire recording area is sequentially irradiated. Focusing on a certain small portion (having a spread smaller than the spot size of light) on the recording area, the recording film of this small portion is initialized by the passage of the energy applying portion 10 (beam spot). That is, the recording film material in the small portion is heated to a temperature equal to or higher than the crystallization temperature by the energy application, and after the energy application site 10 is moved, the energy is not applied and the temperature of the recording film material is lowered to be in a crystalline state. Of.

【0032】この場合の当該小部位( ディスク半径方向
の位置r)に1 回のエネルギー付与部位10の通過に際して
付与される総エネルギー密度x[J/cm2 ] は、ビーム中心
が当該部位を通過するとすると、 x=PDc /(r ω0 S) (2) となる。このときのx をx 0 とする。総エネルギー密度
x は、記録領域の全域で一定であることが理想的であ
り、そうするためには、P/r が一定値であるのが好まし
い。実際には、ビームスポットの形状が長方形でない限
り、ビームスポットのディスク半径方向の両端部が通過
する部位の総エネルギー密度は中心部が通過する場合よ
りも低くなる。
In this case, the total energy density x [J / cm 2 ] applied to the small portion (the position r in the radial direction of the disk) at one passage of the energy application portion 10 is such that the beam center passes through the portion. Then, x = PD c / (r ω 0 S) (2). Let x be x 0 at this time. Total energy density
Ideally, x is constant over the entire recording area, and in order to do so, it is preferable that P / r be a constant value. In practice, unless the beam spot is rectangular in shape, the total energy density at the portions where both ends of the beam spot in the disc radial direction pass is lower than when the central portion passes.

【0033】図2 はこの様子を示したものである。ある
瞬間のビームスポットを10、光ディスク1 が1 回転した
後のビームスポットを10' とすると、10と10' の重複す
る部位12は2 回のエネルギー付与を受けるが、1 回の通
過で付与される最小の総エネルギー密度x min は、x 0
×(Dcmin/Dc ) となる。ここで、D cminは重複部位12の
ディスク円周方向の最大長さである。なお、上記ではビ
ームスポット内のパワー密度が均一であることを前提と
したが、実際にはビームスポットの端のパワー密度は中
心部の0.5 倍程度なので、さらに最小の総エネルギー密
度は小さくなる。D cminはオーバーラップ指数f が大き
いほど大きくなり、それだけ記録領域の各部がうける総
エネルギー密度が均一に近づくが、初期化に要する時間
が長くなる。
FIG. 2 shows this state. Assuming that the beam spot at a certain moment is 10, and the beam spot after the optical disk 1 makes one rotation is 10 ', the overlapping portion 12 of 10 and 10' receives energy twice, but it is imparted by one pass. The minimum total energy density x min is x 0
× (D cmin / D c ). Here, D cmin is the maximum length of the overlapping portion 12 in the disc circumferential direction. Although the above assumes that the power density in the beam spot is uniform, the power density at the end of the beam spot is about 0.5 times that at the center, so the minimum total energy density becomes smaller. The larger the overlap index f is, the larger D cmin becomes, and the total energy density received by each part of the recording area becomes closer to that uniform, but the initialization time becomes longer.

【0034】さて、上記議論では、エネルギー付与中は
付与したエネルギーがエネルギー付与部位から放散しな
いことを仮定している。エネルギーの付与に要する時間
(付与時間)が長く、その間にエネルギーが放散する場
合には、上記(2) 式は次のように変更される。
In the above discussion, it is assumed that the applied energy does not dissipate from the energy application site during energy application. If the time required to apply energy (application time) is long and the energy is dissipated during that time, the above equation (2) is modified as follows.

【0035】x=PDc /(r ω0 S)-Ed (3) ここで、放散されるエネルギーの密度E d は、ビームス
ポット面積S 、照射時間、ディスクの層構成、照射エネ
ルギー等の複雑な関数となるが、簡単のため照射時間に
比例するものとする。この場合、ディスクの回転角速度
が一定であることから、(3) 式は、 x=PDc /(r ω0 S)-b/r (4) となる。ここで、b はディスク半径方向の位置r には依
存しない関数である。総エネルギー密度x を一定にする
ためには、レーザパワーP は、 P=Ar+B (5) の形をしているのが良いことがわかる。したがって、上
記のようなエネルギーの放散を考慮する必要がある場合
には、処理用エネルギーは、エネルギー付与部位のディ
スク半径方向の位置r に比例する成分と、r によらない
オフセット成分とを有する、ディスク半径方向の位置に
関してオフセット付き比例関係にあるのが好ましい。
X = PD c / (r ω 0 S) -E d (3) Here, the density E d of the energy to be dissipated is defined by the beam spot area S 1, the irradiation time, the layer structure of the disk, the irradiation energy, etc. Although it is a complicated function, it is assumed to be proportional to the irradiation time for simplicity. In this case, since the rotational angular velocity of the disk is constant, the equation (3) becomes x = PD c / (r ω 0 S) -b / r (4). Here, b is a function that does not depend on the position r in the radial direction of the disk. It can be seen that in order to keep the total energy density x constant, the laser power P should be in the form of P = Ar + B (5). Therefore, when it is necessary to consider energy dissipation as described above, the processing energy has a component proportional to the position r in the disk radial direction of the energy application site and an offset component not depending on r. It is preferable that there is a proportional relationship with an offset with respect to the position in the disk radial direction.

【0036】上述の通り、x の値は、記録膜各部で均一
であるのが好ましいが、記録膜の温度を結晶化温度以上
として初期化するのに十分な値( 必須エネルギー密度)
であり、かつ、記録膜や他の光ディスクの膜およびディ
スク基板の破損等の支障のない程度に小さい値( 安全エ
ネルギー密度) であれば、実質的に均一であるといえ
る。したがって、本発明において、上記D cminがD c
り小さくても、P/r が変動しても、回転装置7 の角速度
ω0 が変動しても、記録領域各部の1 回のエネルギー付
与で付与される総エネルギー密度x が必須エネルギー密
度以上でありかつ安全エネルギー密度以下であるなら
ば、いずれも実質的に均一であるとする。なお、記録用
ディスクが光磁気ディスクでも、磁気ディスクの場合で
も同様に、必須エネルギー密度と安全エネルギー密度を
定義できる。
As described above, the value of x is preferably uniform in each part of the recording film, but is a value sufficient to initialize the temperature of the recording film to the crystallization temperature or higher (essential energy density).
And a value (safe energy density) that is small enough not to cause damage to the recording film, the film of another optical disk, and the disk substrate, it can be said to be substantially uniform. Therefore, in the present invention, even if D cmin is smaller than D c , P / r fluctuates, or the angular velocity ω 0 of the rotating device 7 fluctuates, the energy is applied by a single energy application to each part of the recording area. If the total energy density x is equal to or more than the essential energy density and is equal to or less than the safe energy density, all are substantially uniform. The essential energy density and the safe energy density can be defined in the same manner whether the recording disk is a magneto-optical disk or a magnetic disk.

【0037】したがって、制御ユニット8 は、露光ユニ
ット2 によるエネルギー付与部位のディスク半径方向の
位置r を検出し、半導体レーザ2aの出力がこの値に比例
するよう制御するが、上記の意味において総エネルギー
密度x が均一である範囲でPの値をステップ状に変化さ
せても構わない。
Therefore, the control unit 8 detects the position r in the disk radial direction of the energy application site by the exposure unit 2 and controls the output of the semiconductor laser 2a to be proportional to this value. The value of P may be changed stepwise within the range where the density x is uniform.

【0038】次に図3 を用いて、記録ディスクの回転装
置7の回転角速度を一定にできる利点を生かして複数の
エネルギー照射部位にエネルギーを照射しながら処理す
る、本発明の第2 の実施態様を説明する。図3 は、図1
と共通の部分については一部省略して描いてある。本実
施態様においては、露光ユニット2 が複数の半導体レー
ザと結像レンズを有し、複数のエネルギー照射部位10a
、10b 、10c および10d に同時にエネルギーを付与で
きるようになっている。すなわち、エネルギー照射部位
10が半径方向に広がりを有している。これにより、エネ
ルギー照射部位の数に比例する速度で初期化を行うこと
ができる。このとき、それぞれのエネルギー照射部位の
ディスク半径方向の位置がr a 、r b 、r c 、r d 、各
エネルギー照射部位の付与パワーP a 、P b 、P c 、P
d 、ビームスポット面積S a 、S b、S c 、S d 、ビー
ムスポットのディスク円周方向の広がりD ca、D cb、D
cc、D cdが、 P a D ca/(r a ω0 S a )=P b D cb/(r b ω0 S b )=P c D cc/(r c ω0 S c )=P d D cd/(r d ω0 S d ) (3) を満たすように設定しておく。ただし、上記等号は前述
の意味において均一である場合には成立しているものと
する。すなわち、(3) 式は、(3) 式の各項が必須エネル
ギー密度以上でありかつ安全エネルギー密度以下である
ことを意味している。
Next, with reference to FIG. 3, a second embodiment of the present invention in which a plurality of energy irradiation sites are processed while irradiating energy by taking advantage of the fact that the rotation angular velocity of the recording disk rotating device 7 can be made constant. Will be explained. Figure 3
Portions common to and are omitted. In this embodiment, the exposure unit 2 has a plurality of semiconductor lasers and an imaging lens, and has a plurality of energy irradiation parts 10a.
, 10b, 10c and 10d can be energized at the same time. That is, the energy irradiation site
10 has a radial spread. Thereby, initialization can be performed at a speed proportional to the number of energy irradiation sites. At this time, the positions of the respective energy irradiation sites in the radial direction of the disk are r a , r b , r c , r d , and the applied powers P a , P b , P c , P of the respective energy irradiation sites.
d , beam spot area S a , S b , S c , S d , spread of beam spot in the disc circumferential direction D ca , D cb , D
cc and D cd are P a D ca / (r a ω 0 S a ) = P b D cb / (r b ω 0 S b ) = P c D cc / (r c ω 0 S c ) = P d Set so that D cd / (r d ω 0 S d ) (3) is satisfied. However, the above-mentioned equal signs shall be established when they are uniform in the above meaning. That is, the expression (3) means that each term of the expression (3) is equal to or more than the essential energy density and equal to or less than the safe energy density.

【0039】(3) 式を満たす場合として、たとえば、各
エネルギー付与部位ごとに同様の仕様のレーザビームを
用い、P a /ra =Pb /rb =Pc /rc =Pd /rd を満たすよう
に各半導体レーザのパワーを制御する場合がある。すな
わち、それぞれの処理用エネルギーが各々のエネルギー
付与部位のディスク中心からの距離に実質的に比例する
ようにする場合である。この場合、r a >rb >rc >rd
成立するため、ディスク内周部にあるエネルギー付与部
位はそれよりも外周側にあるエネルギー付与部位よりも
付与するパワーが小さくなるように制御される。この場
合でもトラバースモータ3 の駆動にともなってエネルギ
ー付与部位が外周側に移動するにつれて各レーザのパワ
ーを増大させてゆくが、十分多数のエネルギー付与部位
を設けることができる場合には、露光ユニット2 の初期
位置と最終位置との差が十分小さくなり、各レーザのパ
ワーを初期設定値のまま保っても、(3) 式が満たされる
ならば確実に均一な初期化が短時間に実施でき、制御ユ
ニット8 の構成が簡単になる。
As a case where the formula (3) is satisfied, for example, a laser beam having the same specifications is used for each energy application site, and P a / r a = P b / r b = P c / r c = P d / The power of each semiconductor laser may be controlled so as to satisfy r d . That is, this is a case where the respective processing energies are made substantially proportional to the distances from the disc center of the respective energy application sites. In this case, since r a > r b > r c > r d holds, control is performed so that the energy application site on the inner circumference of the disc has a smaller power application than the energy application site on the outer circumference side. To be done. Even in this case, the power of each laser is increased as the energy application site moves to the outer peripheral side as the traverse motor 3 is driven, but if a sufficiently large number of energy application sites can be provided, the exposure unit 2 The difference between the initial position and the final position of is sufficiently small, and even if the power of each laser is kept at the initial setting value, if formula (3) is satisfied, uniform initialization can be reliably performed in a short time. The structure of the control unit 8 is simplified.

【0040】次に、図4 を用いて本発明の第3 の態様を
説明する。図4 においてはエネルギー付与部位の形状を
中心に示し、他の部材については省略してある。本実施
態様態様においては、エネルギー付与部位の形状が、長
径方向をディスク半径方向と実質的に同一とするような
楕円の形状となるように結像レンズを構成する。この場
合も、(2) 式または(3) 式を満たすように半導体レーザ
のパワーを制御する。
Next, the third aspect of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 4, the shape of the energy application site is mainly shown, and other members are omitted. In the present embodiment, the imaging lens is configured such that the shape of the energy application portion is an elliptical shape such that the major axis direction is substantially the same as the disk radial direction. Also in this case, the power of the semiconductor laser is controlled so as to satisfy the expression (2) or the expression (3).

【0041】ただし、上記実施態様のように、エネルギ
ー付与部位のディスク半径方向の広がりD r がエネルギ
ー付与部位のディスク半径方向の位置r に比べて無視で
きないほど大きい場合には、エネルギー付与部位内の各
部のディスク半径方向の位置r が同一である範囲のパワ
ー密度をディスク円周方向に積分したものがr に実質的
に比例するように構成するのが好ましい。また、エネル
ギー付与部位の半径方向の広がりが十分大きい場合に
は、その内部でのパワー密度等の条件を上述のようにす
れば、ディスク半径方向に移動させる必要はなく、ディ
スクを少ない回転の間に所定の処理を行うことができ
る。
However, as in the above-mentioned embodiment, when the spread Dr of the energy application site in the disk radial direction is larger than the position r of the energy application site in the disk radial direction, it can be ignored. It is preferable that the power density in the range in which the position r 1 of each part in the disk radial direction is the same is integrated in the disk circumferential direction so as to be substantially proportional to r 1. Also, if the radial expansion of the energy application site is large enough, it is not necessary to move it in the disk radial direction if the conditions such as the power density inside it are set as described above, and the disk is not rotated during a few rotations. Predetermined processing can be performed.

【0042】本発明において、処理ユニットのエネルギ
ー付与手段としては、レーザ等のコヒーレント光源、LE
D 、ハロゲンランプ、HID ランプ等の非コヒーレント光
源などが考えられる。記録用ディスクが磁気ディスクや
光磁気ディスクの場合には磁気エネルギーを付与する電
磁石や永久磁石を単独、または上記光源類と組み合わせ
て用いることもできる。特に、光磁気ディスクの場合に
は、光源と磁石を同時に用いるのが好ましい。
In the present invention, the energy applying means of the processing unit is a coherent light source such as a laser or LE.
Non-coherent light sources such as D, halogen lamps and HID lamps are considered. When the recording disk is a magnetic disk or a magneto-optical disk, an electromagnet or a permanent magnet that gives magnetic energy can be used alone or in combination with the above light sources. Particularly, in the case of a magneto-optical disk, it is preferable to use the light source and the magnet at the same time.

【0043】なお、レーザとしては半導体レーザがパワ
ーの動的な変更に適するため好ましいが、大きな絶対パ
ワーを得たいときにはガスレーザ( たとえば、アルゴン
イオンレーザ) や固体レーザ( たとえば、YAG レーザ)
が好ましく、レーザ波長を動的に変更したいときにはダ
イレーザを用いるのがよい。
A semiconductor laser is preferable as a laser because it is suitable for dynamically changing the power, but when a large absolute power is desired, a gas laser (for example, an argon ion laser) or a solid-state laser (for example, a YAG laser) is used.
However, a die laser is preferably used when it is desired to change the laser wavelength dynamically.

【0044】[0044]

【実施例】【Example】

実施例1 図1の構成を有する、5.25インチ規格の相変化型光ディ
スクの初期化装置を用いた実施例を示す。初期化する光
ディスクとして、透明なポリカーボネート基板の上に、
反射層としてAl0.979 Hf0.02Pd0.001 の層を70[nm]、保
護層として(ZnS) 72(SiO2 ) 18C 10の層を35[nm]、記録
層としてNb0.006 Pd0.001 Ge17.3Sb0.26Te0.5 の層を23
[nm]、保護層として(ZnS) 78(SiO2 ) 19.5C 2.5 の層を
150[nm]、それぞれこの順に形成し、さらにUV樹脂から
なるオーバーコートを施したものを用いる。記録部位
は、半径方向の位置r i =22[mm] からr f =59[mm] まで
の範囲に広がっている。
Example 1 An example of using the phase change type optical disc initialization device of the 5.25 inch standard having the configuration of FIG. 1 will be described. As an optical disk to be initialized, on a transparent polycarbonate substrate,
A layer of Al 0.979 Hf 0.02 Pd 0.001 is 70 [nm] as a reflective layer, a layer of (ZnS) 72 (SiO 2 ) 18 C 10 is 35 [nm] as a protective layer, and Nb 0.006 Pd 0.001 Ge 17.3 Sb 0.26 is a recording layer. 23 layers of Te 0.5
[nm], a layer of (ZnS) 78 (SiO 2 ) 19.5 C 2.5 as a protective layer
150 [nm] is formed in this order, and a UV resin overcoat is used. The recording site extends from the radial position r i = 22 [mm] to r f = 59 [mm].

【0045】初期化用ビームスポットのディスク半径方
向の広がりはD r =55[μm]、ディスク円周方向の広がり
はD c =0.85[μm]である。ディスクの回転角速度を280
[rad/sec]に安定化し、ビームスポットの位置がr=r i
のときの光ディスク表面のエネルギー付与部位に付与さ
れるエネルギーが200[mW] 、r=r f のときのエネルギー
が360[mW] となり、その間を直線的に変化するように露
光ユニットのレーザパワーを制御する。この場合、レー
ザのパワーはディスク半径方向の位置についてオフセッ
ト付き比例関係にある。オーバーラップ指数f は37%
(オーバーラップ部の半径方向の長さが約20μm)この
ときの初期化に要する時間は約40秒である。
The spread of the initialization beam spot in the disc radial direction is D r = 55 [μm], and the spread in the disc circumferential direction is D c = 0.85 [μm]. The rotation angular velocity of the disk is 280
Stabilizes to [rad / sec] and the beam spot position is r = r i
The energy applied to the energy application site on the optical disc surface at the time of is 200 [mW], the energy at r = r f is 360 [mW], and the laser power of the exposure unit is changed so as to change linearly between them. Control. In this case, the power of the laser has a proportional relationship with the offset with respect to the position in the disk radial direction. Overlap index f is 37%
(The radial length of the overlap portion is about 20 μm.) The time required for the initialization at this time is about 40 seconds.

【0046】なお、たとえば、記録層やその前後の保護
層のエネルギーの放散が無視できるほどの場合には、上
記の場合においてビームスポットの位置がr=r i のとき
の光ディスク表面のエネルギー付与部位に付与されるエ
ネルギーを135[mW] とし、r=r f のときのエネルギーが
360[mW] となり、その間を直線的に変化するように露光
ユニットのレーザパワーを制御する。この場合、エネル
ギー付与部位に付与されるエネルギーはエネルギー付与
部位の半径方向の位置r に比例する。
For example, when the energy dissipation of the recording layer and the protective layers before and after the recording layer is negligible, the energy application site on the optical disk surface when the beam spot position is r = r i in the above case. The energy applied to is 135 [mW], and the energy when r = r f is
It becomes 360 [mW], and the laser power of the exposure unit is controlled so that it changes linearly between them. In this case, the energy applied to the energy application site is proportional to the radial position r of the energy application site.

【0047】実施例2 図3の構成を有し、レーザビームを4本有すること以外
は実施例1と同様の装置用いた実施例を示す。初期化す
るディスクは実施例1 と同じである。各ビームのビーム
スポットの最内周の位置をそれぞれ、22, 31.25, 40.5
および 49.75[mm]であり、その時のエネルギーをそれぞ
れ、200,240,280 および320[mW] とする。また、各ビー
ムの担当範囲をディスク半径方向に1/4 ずつとするが、
その境界領域ではエネルギー付与部位のディスク半径方
向の広がりD r (55[μm])の2 倍である110[μm] だけ
オーバーラップさせる。この領域のオーバーラップはD
rの1 倍以上とるのがよく、好ましくは2 倍以上とす
る。
Example 2 An example using the same apparatus as in Example 1 except that it has the configuration of FIG. 3 and has four laser beams is shown. The disk to be initialized is the same as that in the first embodiment. Set the innermost position of the beam spot of each beam to 22, 31.25, 40.5, respectively.
And 49.75 [mm], and the energies at that time are 200, 240, 280 and 320 [mW], respectively. Also, the area in charge of each beam is set to 1/4 in the radial direction of the disk,
In the boundary region, 110 [μm], which is twice the spread D r (55 [μm]) of the energy application site in the disk radial direction, is overlapped. The overlap of this area is D
It is preferably 1 times or more of r , and more preferably 2 times or more.

【0048】オーバーラップ指数を上記と同じくする
と、初期化に要する時間は約10秒となる。この場合も、
レーザパワーはディスク半径方向の位置についてオフセ
ット付き比例関係となる。
If the overlap index is the same as above, the time required for initialization is about 10 seconds. Again,
The laser power has a proportional relationship with an offset with respect to a position in the disk radial direction.

【0049】また、各ビームのパワーをそれぞれ、220,
260,300 および340[mW] (すなわち、上記実施例2 の各
ビームのディスク最内周部と最外周部の中間でのパワー
にあわせる)の一定としても初期化できる。
Further, the power of each beam is set to 220,
It can also be initialized by setting 260, 300 and 340 [mW] (that is, adjusted to the power between the innermost peripheral portion and the outermost peripheral portion of each disk of each of the above-mentioned Embodiment 2) constant.

【0050】比較例 図1の構成を有し、ディスクの回転装置7 が角速度一定
でなく、レーザビームの線速度を6.2[m/sec]一定、レー
ザビームのパワーを194.4[mW] 一定としたほかは、実施
例1と同様の装置用いた例を示す。初期化するディスク
は実施例1 と同じである。初期化に要する時間は69秒で
ある。
Comparative Example With the configuration of FIG. 1, the disk rotating device 7 was not constant in angular velocity, the linear velocity of the laser beam was constant at 6.2 [m / sec], and the power of the laser beam was constant at 194.4 [mW]. Other than that, an example using the same device as in Example 1 is shown. The disk to be initialized is the same as that in the first embodiment. The time required for initialization is 69 seconds.

【0051】この場合、ディスクの回転速度の制御をエ
ネルギー付与部位の半径方向の位置に反比例させる必要
がある。また、本発明のようにディスク半径方向に大き
な広がりのあるエネルギー付与部位に同時にエネルギー
を付与する場合に、エネルギー付与部位の半径方向の位
置ごとに複雑なパワーの制御をする必要がある。
In this case, it is necessary to control the rotational speed of the disk in inverse proportion to the radial position of the energy application site. Further, when energy is applied simultaneously to the energy application site having a large spread in the disk radial direction as in the present invention, it is necessary to perform complicated power control for each radial position of the energy application site.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明の記録ディスクの処理装置、処理
方法および記録ディスクの製造方法によれば、処理用エ
ネルギーのエネルギー付与部位が記録用ディスクの内周
部にある場合の処理用エネルギー出力を、外周部にある
場合よりも小さくするように制御するので、等速回転す
る簡単な制御で、高速に上記処理を施すことができる。
According to the recording disk processing apparatus, the processing method, and the recording disk manufacturing method of the present invention, the processing energy output is obtained when the energy-applying portion of the processing energy is located in the inner peripheral portion of the recording disk. Since the control is performed so as to be smaller than that in the case of the outer peripheral portion, the above processing can be performed at high speed with simple control of constant speed rotation.

【0053】また、本発明の記録ディスクの処理装置の
別の態様によれば、エネルギ付与部位がディスクの半径
方向に広がりを有しているため、さらに高速に処理する
ことができる。
According to another aspect of the recording disk processing apparatus of the present invention, since the energy application portion has a spread in the radial direction of the disk, the processing can be performed at a higher speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施態様例の概略構成を示すモデル
図である。
FIG. 1 is a model diagram showing a schematic configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】本発明におけるエネルギー付与部位の形状とオ
ーバーラップの様子を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a shape of an energy application site and a state of overlap in the present invention.

【図3】本発明の一実施態様例の概略構成を示すモデル
図である。
FIG. 3 is a model diagram showing a schematic configuration of an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施態様例の概略構成を示すモデル
図である。
FIG. 4 is a model diagram showing a schematic configuration of an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:光ディスク 2:露光ユニット 2a:半導体レーザ 2b:結像レンズ 3:トラバースモータ 4:ボールスクリュー 5:ボールネジ 6:トラバース機構 7:回転装置 8:制御ユニット 10:エネルギー付与部位 12:エネルギー付与部位の重複部位 1: Optical disc 2: Exposure unit 2a: Semiconductor laser 2b: Imaging lens 3: Traverse motor 4: Ball screw 5: Ball screw 6: Traverse mechanism 7: Rotating device 8: Control unit 10: Energy application site 12: Energy application site Overlapping part

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】記録用ディスクを保持しながら等速回転さ
せる回転保持手段と、該回転保持手段により保持された
記録用ディスク面に処理用エネルギーを付与する処理ユ
ニットと、該処理ユニットによるエネルギー付与部位を
記録用ディスクの半径方向に移動させるエネルギー付与
部位の移動手段と、前記エネルギー付与部位が記録用デ
ィスクの内周部にある場合の処理用エネルギー出力を、
外周部にある場合よりも小さくするように前記処理ユニ
ットを制御するエネルギー制御手段とを備えてなる記録
用ディスクの処理装置。
1. A rotation holding means for rotating a recording disk at a constant speed, a processing unit for applying processing energy to the surface of the recording disk held by the rotation holding means, and energy application by the processing unit. An energy application site moving means for moving the site in the radial direction of the recording disk, and a processing energy output when the energy application site is in the inner peripheral part of the recording disk,
An apparatus for processing a recording disk, comprising: energy control means for controlling the processing unit so that the processing unit is smaller than that at the outer peripheral portion.
【請求項2】記録用ディスクを保持しながら等速回転さ
せる回転保持手段と、該回転保持手段により保持された
記録用ディスク面上の半径方向に広がりを有するエネル
ギー付与部位に処理用エネルギーを付与する処理ユニッ
トと、前記エネルギー付与部位のうち前記記録用ディス
クの内周部にあるエネルギー付与部位における処理用エ
ネルギー出力を、外周部のエネルギー付与部位よりも小
さくするように前記処理ユニットを制御するエネルギー
制御手段とを備えてなる記録用ディスクの処理装置。
2. A rotation holding means for rotating the recording disk at a constant speed while holding the recording disk, and a processing energy is applied to an energy application portion which is held by the rotation holding means and which is spread in a radial direction on the surface of the recording disk. Energy for controlling the processing unit so that the processing energy output in the energy applying portion in the inner peripheral portion of the recording disk among the energy applying portion and the energy applying portion in the outer peripheral portion is smaller than that in the outer peripheral portion. A recording disk processing apparatus comprising a control means.
【請求項3】前記エネルギー付与部位は、記録用ディス
クの半径方向に異なる複数の部位を含む、請求項2 に記
載の記録用ディスクの処理装置。
3. The recording disc processing apparatus according to claim 2, wherein the energy application portion includes a plurality of portions that differ in a radial direction of the recording disc.
【請求項4】前記処理ユニットは、複数のエネルギー発
生手段を含み、前記複数の部位は、それぞれ、前記複数
のエネルギー発生手段の各々に対応している、請求項3
に記載の記録用ディスクの処理装置。
4. The processing unit includes a plurality of energy generating means, and the plurality of parts respectively correspond to the plurality of energy generating means, respectively.
The recording disk processing device described in 1.
【請求項5】前記エネルギー付与部位は、長径方向が記
録用ディスクの半径方向と実質的に同一である楕円形状
である、請求項2 または3 に記載の記録用ディスクの処
理装置。
5. The processing apparatus for a recording disk according to claim 2, wherein the energy application portion has an elliptical shape whose major axis direction is substantially the same as the radial direction of the recording disk.
【請求項6】前記エネルギー制御手段は、処理用エネル
ギー出力が前記エネルギー付与部位の記録ディスク中心
からの距離に実質的に比例するように処理ユニットを制
御するものである、請求項1 〜5 のいずれかに記載の記
録用ディスクの処理装置。
6. The energy control means controls the processing unit so that the processing energy output is substantially proportional to the distance from the center of the recording disk to the energy application site. The processing device for a recording disk according to any one of claims.
【請求項7】前記エネルギー制御手段は、処理用エネル
ギー出力が前記エネルギー付与部位の記録ディスク中心
からの距離について実質的にオフセット付き比例関係を
保持するように処理ユニットを制御するものである、請
求項1 〜6 のいずれかに記載の記録用ディスクの処理装
置。
7. The energy control means controls the processing unit so that the processing energy output substantially maintains a proportional relationship with an offset with respect to a distance of the energy applying portion from the center of the recording disk. The processing device for a recording disk according to any one of items 1 to 6.
【請求項8】前記処理ユニットは、光ビームの発生手段
および/ または磁気の発生手段を含むものである、請求
項1 〜6 のいずれかに記載の記録用ディスクの処理装
置。
8. The processing apparatus for a recording disk according to claim 1, wherein the processing unit includes a light beam generating unit and / or a magnetic generating unit.
【請求項9】記録用ディスクを等速回転させながら該記
録用ディスク面に処理用エネルギーを付与するに際し、
前記記録用ディスク面上のエネルギー付与部位が前記記
録用ディスクの内周部にある場合の処理用エネルギー出
力を、外周部にある場合よりも小さくするように前記処
理エネルギーを制御する記録用ディスクの処理方法。
9. When applying processing energy to the surface of the recording disk while rotating the recording disk at a constant speed,
A recording disk for controlling the processing energy so that the processing energy output when the energy application site on the recording disk surface is in the inner peripheral portion of the recording disk is smaller than that in the outer peripheral portion; Processing method.
【請求項10】ディスク基板上に記録膜を形成し、該デ
ィスク基板を等速回転させながら前記記録膜にエネルギ
ーを付与しながら所定の処理をする記録用ディスクの製
造方法であって、エネルギーを付与する部位が前記ディ
スク基板の内周部にある場合のエネルギー出力を、外周
部にある場合よりも小さくするようにエネルギー出力を
制御する記録用ディスクの製造方法。
10. A method of manufacturing a recording disk, comprising: forming a recording film on a disk substrate; performing a predetermined process while applying energy to the recording film while rotating the disk substrate at a constant speed. A method for manufacturing a recording disk, wherein the energy output is controlled so that the energy output when the applied portion is in the inner peripheral portion of the disk substrate is smaller than that in the outer peripheral portion.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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