JPH09320458A

JPH09320458A - プラズマディスプレイパネルの製造方法

Info

Publication number: JPH09320458A
Application number: JP15620896A
Authority: JP
Inventors: Kazumasa Ono; 和正大野; Masaaki Nakamura; 雅明中村
Original assignee: Pioneer Electronic Corp
Current assignee: Pioneer Corp
Priority date: 1996-05-28
Filing date: 1996-05-28
Publication date: 1997-12-12

Abstract

(57)【要約】【課題】プラズマディスプレイパネルの製造方法であ
って、表面平滑性に優れ、膜厚ムラのない誘電体層を形
成し、表示動作の安定化を図る製造方法を提供すること
を目的とする。【解決手段】ガラス基板上に形成された電極層を放電
空間に対して被覆する誘電体層を備えたプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、電極層を覆うように
ガラス基板上に未硬化状態の厚さが１５〜５０μｍであ
るドライガラスペーストフィルムを加熱・加圧して積層
する工程と、積層されたドライガラスペーストフィルム
を焼成して誘電体層を形成する工程とを含むことを特徴
とする。また、ドライガラスペーストフィルムは、比誘
電率が８以下のアルカリ系低融点ガラスを含み、電極層
は透明導電膜と金属膜の積層膜からなり、ドライガラス
ペーストフィルムの積層工程の前に電極層を非アルカリ
系の低融点ガラスを含むドライガラスペーストフィルム
を加熱・加圧して被覆した後焼成して電極保護層を形成
する工程を含むことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【０００２】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの製造方法、特に電極層を覆う誘電体層を形
成する方法の改良に関する。

【０００３】

【０００２】

【０００４】

【従来の技術】ドットマトリックス型の平面表示装置と
して、例えばプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）が
知られている。ＰＤＰは、パソコン、ワープロ等の表示
装置としても多用されており、また高速の表示が可能で
あり且つ大型画面の実現が容易であることから、特に２
０インチ以上の大型フラット型表示手段として期待され
ている。

【０００５】

【０００３】図２は、ＡＣ駆動方式の３電極構造を有す
る面放電型ＰＤＰを示し、放電空間７を介して対向配置
された一対のガラス基板１、２の表示面側のガラス基板
１の内面に互いに平行に隣接配置された一対のサスティ
ン電極（維持電極）Ｘ、Ｙ、サスティン電極Ｘ、Ｙを覆
う誘電体層５、誘電体層５を覆うＭｇＯからなる保護層
６が設けられている。尚、サスティン電極Ｘ、Ｙは、そ
れぞれ幅の広い帯状の透明導電膜４とその導電性を補う
ために重ねられた金属膜３とから構成されている。

【０００６】

【０００４】一方、背面側のガラス基板２の内面上にサ
スティン電極Ｘ、Ｙと直交する方向に設けられ、放電空
間７を単位発光領域毎に区画する障壁１０、各障壁１０
間のガラス基板上にサスティン電極Ｘ、Ｙと直交する方
向に設けられたアドレス電極Ａ、及び所定の発光色の蛍
光体層８が設けられている。ここで、放電空間７には、
ネオンに少量のキセノンを混合した放電ガスが封入され
ている。

【０００７】

【０００５】このようなＰＤＰの表示に際しては、例え
ば、サスティン電極Ｘ、Ｙに放電開始電圧を越える駆動
電圧を加える。これにより、誘電体層５の表面方向に面
放電が生じ、誘電体層の表面に所定の壁電荷が蓄積し、
放電が停止する。その後、壁電荷と反対の極性のサステ
ィンパルスをサスティン電極Ｘ、Ｙに交互に加える毎に
面放電が生じ、このとき発生する紫外線によって蛍光体
層８が励起されて発光する。

【０００８】

【０００６】

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、誘電体層５
は、一般的にスクリーン印刷法によって形成される。こ
の場合、所定の厚さの誘電体層を得るためには低融点ガ
ラスペーストを塗布し、焼成する工程を数回繰り返して
行う必要がある。従って、膜厚にバラツキが生じやすく
表示ムラが発生する。また、スクリーンメッシュ跡が誘
電体層の表面に残るために、例えば２層の印刷を行った
場合に第１層と第２層との間にスクリーンメッシュ跡の
干渉縞が生じ、それが発光ムラとなる。

【００１０】本発明は、上述の問題に鑑み、表面平滑性
に優れ、膜厚ムラのない誘電体層を形成し、表示動作の
安定化を図ることを目的としている。

【００１１】

【０００７】

【００１２】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、ガラ
ス基板上に形成された電極層を放電空間に対して被覆す
る誘電体層を備えたプラズマディスプレイパネルの製造
方法であって、電極層を覆うようにガラス基板上に未硬
化状態の厚さが１５〜５０μｍであるドライガラスペー
ストフィルムを加熱・加圧して積層する工程と、積層さ
れたドライガラスペーストフィルムを焼成して誘電体層
を形成する工程とを含むことを特徴とする。

【００１３】

【０００８】請求項２の発明は、請求項１記載の製造方
法であって、ドライガラスペーストフィルムは、比誘電
率が８以下のアルカリ系低融点ガラスを含むことを特徴
とする。

【００１４】

【０００９】請求項３の発明は、請求項２記載の製造方
法であって、電極層は透明導電膜と金属膜の積層膜から
なり、ドライガラスペーストフィルムの積層工程の前に
電極層を非アルカリ系の低融点ガラスを含むドライガラ
スペーストフィルムを加熱・加圧して被覆した後焼成し
て電極保護層を形成する工程を含むことを特徴とする。

【００１５】

【００１０】

【００１６】

【作用】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方
法では、電極層を覆うようにガラス基板上に未硬化状態
の厚さが１５〜５０μｍであるドライガラスペーストフ
ィルムを加熱・加圧して積層する工程と、積層されたド
ライガラスペーストフィルムを焼成して誘電体層を形成
する工程とを含むように構成したので、短時間で生産が
可能で表面平滑性に優れた誘電体層が得られる。また、
ドライガラスペーストフィルムは、比誘電率が８以下の
アルカリ系低融点ガラスを含み、ドライガラスペースト
フィルムの積層工程の前に電極層を非アルカリ系の低融
点ガラスを含むドライガラスペーストフィルムを加熱・
加圧して被覆した後焼成して電極保護層を形成する工程
を含むように構成したので、電極の腐食を防止できる。

【００１７】

【００１１】

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態による
プラズマディスプレイパネルの製造方法を図１に基づい
て説明する。図１は表示面側のガラス基板の製造工程を
示す。

【００１９】まず、サスティン電極形成工程（図１
（ａ）、（ｂ））で前面ガラス基板２０上に酸化錫、Ｉ
ＴＯなどの透明導電膜を蒸着又はスパッタ法により形成
し、この上にフォトレジスト層を形成し電極パターン用
マスクを介して露光・現像し、露光・現像されたフォト
レジスト層をマスクとして透明導電膜をエッチングする
ことにより透明電極２１が形成される。透明電極２１上
にアルミニウム−銅合金又はアルミニウム／クロムの２
層からなる金属膜を蒸着又はスパッタ法により形成し、
その上にフォトレジスト層を形成し、電極パターン用マ
スクを介して露光・現像し、露光・現像されたフォトレ
ジスト層をマスクとして金属膜をエッチングすることに
よりバス電極２２が形成される。このようにして透明電
極２１とバス電極２２が積層されたサスティン電極が設
けられる。

【００２０】

【００１２】次に、電極保護層形成工程（図１（ｃ））
で、非アルカリ系の低融点ガラス（例えば、酸化鉛を含
む低融点ガラス）を含むドライガラスペーストフィルム
２３をローラ２５により加熱・加圧して熱圧着した後
（ローラ、ガラス基板の表面温度は１２０℃程度）、所
定の温度（５００〜６００℃程度）で焼成する。ここ
で、ドライガラスペーストフィルム２３は、平均粒径が
３μｍ程度のガラス粒、アルミナなどのセラミック粒、
アクリル系などの樹脂バインダー及びトルエンなどの溶
剤などからなる混合スリップをドクターブレード法又は
カレンダー法などで離型材を塗布したベースフィルム
（ＰＥＴなどからなるフィルム）２４上にフィルム状に
したものである。

【００２１】

【００１３】次に、誘電体層形成工程（図１（ｄ））
で、比誘電率が８以下のアルカリ系の低融点ガラス（例
えば、酸化ナトリウム及び酸化ホウ素を含む低融点ガラ
ス）を含むドライガラスペーストフィルム２６をローラ
により加熱（ローラ、ガラス基板の表面温度は１２０℃
程度）・加圧して熱圧着した後、所定の温度（５００〜
６００℃程度）で焼成する。ここで、ドライガラスペー
ストフィルム２６は、平均粒径が３μｍ程度のガラス
粒、アルミナなどのセラミック粒、アクリル系などの樹
脂バインダー及びトルエンなどの溶剤などからなる混合
スリップをドクターブレード法又はカレンダー法などで
離型材を塗布したベースフィルム２４上にフィルム状に
したものである。また、次に、保護層２７形成工程（図
１（ｅ））で誘電体層上にＭｇＯをスパッタ法により被
着する。

【００２２】

【００１４】

【００２３】

【発明の効果】本発明によるプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法によれば、離型材を塗布したベースフィル
ム上に誘電体層を加熱・加圧して積層した後、焼成して
誘電体層を形成するようにしたので、短時間でＰＤＰ多
数枚分の生産を可能とし、印刷に比較し、高い生産性を
得られる。また、膜厚の調整幅も大きい。さらに、印刷
によって形成した誘電体層よりも表面平滑性が優れ、面
内・面間の膜厚の差異が少なくなることにより、ＰＤＰ
の発光ムラを抑制できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態によるプラズマディスプレ
イパネルの製造方法を示す図である。

【図２】従来のＡＣ駆動方式の３電極構造を有する面放
電型ＰＤＰを示す図である。

【符号の説明】

１、２・・・・・ガラス基板３・・・・・金属膜４・・・・・透明導電膜５・・・・・誘電体層６・・・・・保護層７・・・・・放電空間８・・・・・蛍光体層１０・・・・・障壁２０・・・・・前面ガラス基板２１・・・・・透明電極２２・・・・・バス電極２５・・・・・ローラ２３・・・・・ドライガラスペーストフィルム２６・・・・・ドライガラスペーストフィルム２４・・・・・ベースフィルム２７・・・・・保護層

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成９年３月１７日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】発明の詳細な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【０００２】

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、誘電体層５
は、一般的にスクリーン印刷法によって形成される。こ
の場合、所定の厚さの誘電体層を得るためには低融点ガ
ラスペーストを塗布し、焼成する工程を数回繰り返して
行う必要がある。従って、膜厚にバラツキが生じやすく
表示ムラが発生する。また、スクリーンメッシュ跡が誘
電体層の表面に残るために、例えば２層の印刷を行った
場合に第１層と第２層との間にスクリーンメッシュ跡の
干渉縞が生じ、それが発光ムラとなる。本発明は、上述
の問題に鑑み、表面平滑性に優れ、膜厚ムラのない誘電
体層を形成し、表示動作の安定化を図ることを目的とし
ている。

【０００７】

【００１０】

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態による
プラズマディスブレイパネルの製造方法を図１に基づい
て説明する。図１は表示面側のガラス基板の製造工程を
示す。まず、サスティン電極形成工程（図１（ａ）、
（ｂ））で前面ガラス基板２０上に酸化錫、ＩＴＯなど
の透明導電膜を蒸着又はスパッタ法により形成し、この
上にフォトレジスト層を形成し電極パターン用マスクを
介して露光・現像し、露光・現像されたフォトレジスト
層をマスクとして透明導電膜をエッチングすることによ
り透明電極２１が形成される。透明電極２１上にアルミ
ニウム−銅合金又はアルミニウム／クロムの２層からな
る金属膜を蒸着又はスパッタ法により形成し、その上に
フォトレジスト層を形成し、電極パターン用マスクを介
して露光・現像し、露光・現像されたフォトレジスト層
をマスクとして金属膜をエッチングすることによりバス
電極２２が形成される。このようにして透明電極２１と
バス電極２２が積層されたサスティン電極が設けられ
る。

【００１４】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス基板上に形成された電極層を放電
空間に対して被覆する誘電体層を備えたプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、前記電極層を覆うように前記ガラス基板上に未硬化状態
の厚さが１５〜５０μｍであるドライガラスペーストフ
ィルムを加熱・加圧して積層する工程と、前記積層され
たドライガラスペーストフィルムを焼成して誘電体層を
形成する工程とを含むことを特徴とするプラズマディス
プレイパネルの製造方法。
【請求項２】前記ドライガラスペーストフィルムは、
比誘電率が８以下のアルカリ系低融点ガラスを含むこと
を特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】前記電極層は透明導電膜と金属膜の積層
膜からなり、前記ドライガラスペーストフィルムの積層
工程の前に前記電極層を非アルカリ系の低融点ガラスを
含むドライガラスペーストフィルムを加熱・加圧して被
覆した後焼成して電極保護層を形成する工程を含むこと
を特徴とする請求項２記載の面放電型プラズマディスプ
レイパネルの製造方法。