JPH10332928A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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- JPH10332928A JPH10332928A JP15303597A JP15303597A JPH10332928A JP H10332928 A JPH10332928 A JP H10332928A JP 15303597 A JP15303597 A JP 15303597A JP 15303597 A JP15303597 A JP 15303597A JP H10332928 A JPH10332928 A JP H10332928A
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Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラーフィルタ層による凹凸を減少させ、品
質を向上したカラーフィルタを効率良く製造することが
できるカラーフィルタの製造方法を提供することを目的
とする。 【解決手段】 カラーフィルタの製造方法であって、基
板上に無機顔料層を所定形状にパターンニングした後、
無機顔料層及びその周辺部を覆うように透明なドライガ
ラスペーストフィルムを積層し、焼成して無機顔料層を
基板上に固着することを特徴とする。
質を向上したカラーフィルタを効率良く製造することが
できるカラーフィルタの製造方法を提供することを目的
とする。 【解決手段】 カラーフィルタの製造方法であって、基
板上に無機顔料層を所定形状にパターンニングした後、
無機顔料層及びその周辺部を覆うように透明なドライガ
ラスペーストフィルムを積層し、焼成して無機顔料層を
基板上に固着することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイなどの表示装
置に設けられ、カラー表示やコントラスト、画質向上の
ために用いられるカラーフィルタの製造方法に関する。
レイパネル（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイなどの表示装
置に設けられ、カラー表示やコントラスト、画質向上の
ために用いられるカラーフィルタの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば、液晶ディスプレイでは、
カラー表示のために、また、ＰＤＰでは、コントラス
ト、画質向上のためにカラーフィルタが不可欠となって
いる。そして、このカラーフィルタに対して、次のよう
な形成方法が提案されている。 （１）低融点ガラス及び無機顔料を適当なバインダ樹脂
及び溶剤と練り合わせたペーストを基板にスクリーン印
刷等の方法でパターンニングし、焼成することによりバ
インダ樹脂及び溶剤を除去し、低融点ガラス中に無機顔
料が分散したフィルタを得る。 （２）基板上に無機顔料をスクリーン印刷等の方法で所
定の形状にパターンニングし、その上に透明なオーバコ
ート層をスクリーン印刷法で形成し、基板上に無機顔料
を固着してフィルタを得る。
カラー表示のために、また、ＰＤＰでは、コントラス
ト、画質向上のためにカラーフィルタが不可欠となって
いる。そして、このカラーフィルタに対して、次のよう
な形成方法が提案されている。 （１）低融点ガラス及び無機顔料を適当なバインダ樹脂
及び溶剤と練り合わせたペーストを基板にスクリーン印
刷等の方法でパターンニングし、焼成することによりバ
インダ樹脂及び溶剤を除去し、低融点ガラス中に無機顔
料が分散したフィルタを得る。 （２）基板上に無機顔料をスクリーン印刷等の方法で所
定の形状にパターンニングし、その上に透明なオーバコ
ート層をスクリーン印刷法で形成し、基板上に無機顔料
を固着してフィルタを得る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ＰＤＰで
は、フィルタ上に電極や誘電体層が形成される場合、そ
の断線やピンホールを防ぐことが表示品質上肝要であ
り、そのためにはフィルタ層による基板上の凹凸が小さ
くできるだけ平坦であることが望ましい。
は、フィルタ上に電極や誘電体層が形成される場合、そ
の断線やピンホールを防ぐことが表示品質上肝要であ
り、そのためにはフィルタ層による基板上の凹凸が小さ
くできるだけ平坦であることが望ましい。
【０００４】しかしながら、（１）の形成方法では、フ
ィルタの必要な光学濃度を確保するために比較的厚いフ
ィルタ層を形成する必要があり、基板上にその分凹凸が
形成される。一方、（２）の形成方法では、必要な光学
濃度を持つフィルタ層を比較的薄い膜厚（数ミクロン程
度）で形成することが可能であるが、無機顔料自体では
基板に付着しているに過ぎないので無機顔料層上に行電
極をフォトリソグラフィ法でパターンニングして形成す
る工程で剥離してしまう。そこで、無機顔料層を透明な
オーバコート層で覆って基板に固着している。
ィルタの必要な光学濃度を確保するために比較的厚いフ
ィルタ層を形成する必要があり、基板上にその分凹凸が
形成される。一方、（２）の形成方法では、必要な光学
濃度を持つフィルタ層を比較的薄い膜厚（数ミクロン程
度）で形成することが可能であるが、無機顔料自体では
基板に付着しているに過ぎないので無機顔料層上に行電
極をフォトリソグラフィ法でパターンニングして形成す
る工程で剥離してしまう。そこで、無機顔料層を透明な
オーバコート層で覆って基板に固着している。
【０００５】このオーバコート層をスクリーン印刷法に
よって形成する場合、層厚コントロールが難しいこと、
ピンホール欠陥が生じやすいこと、メッシュ痕が残るこ
とといった問題が生じる。本発明は、上述の問題に鑑
み、カラーフィルタ層による凹凸を減少させ、品質を向
上したカラーフィルタを効率良く製造することができる
カラーフィルタの製造方法を提供することを目的とす
る。
よって形成する場合、層厚コントロールが難しいこと、
ピンホール欠陥が生じやすいこと、メッシュ痕が残るこ
とといった問題が生じる。本発明は、上述の問題に鑑
み、カラーフィルタ層による凹凸を減少させ、品質を向
上したカラーフィルタを効率良く製造することができる
カラーフィルタの製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、カラーフィルタの製造方法であって、基板上に無機
顔料層を所定形状にパターンニングした後、無機顔料層
及びその周辺部を覆うように透明なドライガラスペース
トフィルムを積層し、焼成して無機顔料層を基板上に固
着することを特徴とする。請求項２に記載の発明は、カ
ラーフィルタの製造方法であって、所定形状にパターン
ニングされた電極層が形成された基板上に無機顔料層を
所定形状にパターンニングした後、無機顔料層及びその
周辺部を覆うように透明なドライガラスペーストフィル
ムを積層し、焼成して無機顔料層を基板上に固着するこ
とを特徴とする。請求項３に記載の発明は、カラーフィ
ルタの製造方法であって、基板上に無機顔料を混入した
ガラスペーストを所定形状にパターンニングし、焼成し
てフィルタ層を形成した後、透明なドライガラスペース
トフィルムを積層し、焼成してオーバコート層を形成す
ることを特徴とする。
は、カラーフィルタの製造方法であって、基板上に無機
顔料層を所定形状にパターンニングした後、無機顔料層
及びその周辺部を覆うように透明なドライガラスペース
トフィルムを積層し、焼成して無機顔料層を基板上に固
着することを特徴とする。請求項２に記載の発明は、カ
ラーフィルタの製造方法であって、所定形状にパターン
ニングされた電極層が形成された基板上に無機顔料層を
所定形状にパターンニングした後、無機顔料層及びその
周辺部を覆うように透明なドライガラスペーストフィル
ムを積層し、焼成して無機顔料層を基板上に固着するこ
とを特徴とする。請求項３に記載の発明は、カラーフィ
ルタの製造方法であって、基板上に無機顔料を混入した
ガラスペーストを所定形状にパターンニングし、焼成し
てフィルタ層を形成した後、透明なドライガラスペース
トフィルムを積層し、焼成してオーバコート層を形成す
ることを特徴とする。
【０００７】
【作用】本発明によれば、オーバコート層を設ける方法
としてフィルムコート法を用いることにより、印刷法に
比してオーバコート層の面内ばらつきが抑制され、透過
率の面内ばらつきが抑制されることになる。また、フィ
ルムコート前にピンホールなどの欠陥を発見しやすく、
表面荒さも軽減できる。
としてフィルムコート法を用いることにより、印刷法に
比してオーバコート層の面内ばらつきが抑制され、透過
率の面内ばらつきが抑制されることになる。また、フィ
ルムコート前にピンホールなどの欠陥を発見しやすく、
表面荒さも軽減できる。
【０００８】
（第１の実施形態）図１は、本発明の第１の実施形態の
製造方法にて作製されたカラーフィルタを有するＰＤＰ
の要部の構成を示す断面図である。ＰＤＰは、マトリク
ス表示の画素（放電セル）に一対の行電極（維持電極）
Ｘ、Ｙと列電極（アドレス電極）Ａとが対応する３電極
構造を有し、蛍光体の配置関係による分類上で反射型と
呼称される面放電型のＡＣＰＤＰである。
製造方法にて作製されたカラーフィルタを有するＰＤＰ
の要部の構成を示す断面図である。ＰＤＰは、マトリク
ス表示の画素（放電セル）に一対の行電極（維持電極）
Ｘ、Ｙと列電極（アドレス電極）Ａとが対応する３電極
構造を有し、蛍光体の配置関係による分類上で反射型と
呼称される面放電型のＡＣＰＤＰである。
【０００９】図１において、ガラス基板からなる前面板
１の内面上には、カラーフィルタを構成する無機顔料層
３ａと、無機顔料層３ａを前面板１に固着する透明なガ
ラス層からなるオーバコート層４と、酸化インジウムと
酸化錫の混合物で構成されるＩＴＯ又は酸化錫からなる
透明電極５とそれに積層されたアルミニウム又はアルミ
ニウム合金からなるバス電極６から構成される行電極対
Ｘ，Ｙと、行電極対Ｘ，Ｙを被覆する誘電体層７と、誘
電体層７を放電空間９に対して保護する酸化マグネシウ
ム（ＭｇＯ）からなる保護層８が順に形成されている。
１の内面上には、カラーフィルタを構成する無機顔料層
３ａと、無機顔料層３ａを前面板１に固着する透明なガ
ラス層からなるオーバコート層４と、酸化インジウムと
酸化錫の混合物で構成されるＩＴＯ又は酸化錫からなる
透明電極５とそれに積層されたアルミニウム又はアルミ
ニウム合金からなるバス電極６から構成される行電極対
Ｘ，Ｙと、行電極対Ｘ，Ｙを被覆する誘電体層７と、誘
電体層７を放電空間９に対して保護する酸化マグネシウ
ム（ＭｇＯ）からなる保護層８が順に形成されている。
【００１０】一方、ガラス基板からなる背面板２上に
は、行電極対Ｘ，Ｙと直交する方向に形成され、アルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる列（アドレス）電
極Ａと、列電極Ａを覆うように形成された蛍光体層１０
が形成されている。尚、放電空間９内には、Ｎｅ、Ｘ
ｅ、Ｈｅ等の少なくとも２種類の希ガスを含む混合ガス
が封入されている。
は、行電極対Ｘ，Ｙと直交する方向に形成され、アルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる列（アドレス）電
極Ａと、列電極Ａを覆うように形成された蛍光体層１０
が形成されている。尚、放電空間９内には、Ｎｅ、Ｘ
ｅ、Ｈｅ等の少なくとも２種類の希ガスを含む混合ガス
が封入されている。
【００１１】本発明の無機顔料層３ａに用いる無機顔料
としては、例えば赤色顔料としてＦｅ2 Ｏ3 、緑色顔料
としてＴｉＯ2 −ＣｏＯ−ＮＩＯ−ＺｎＯ、青色顔料と
してＣｏＯ−Ａｌ2 Ｏ3 等が使用可能である。
としては、例えば赤色顔料としてＦｅ2 Ｏ3 、緑色顔料
としてＴｉＯ2 −ＣｏＯ−ＮＩＯ−ＺｎＯ、青色顔料と
してＣｏＯ−Ａｌ2 Ｏ3 等が使用可能である。
【００１２】本発明における無機顔料のパターンニング
方法として、無機顔料を適当なバインダ樹脂及び溶剤と
練り合わせたペーストを基板上にスクリーン印刷等の方
法でパターンニングした後、焼成することによりバイン
ダ樹脂及び溶剤を除去してフィルタを得る方法、又は、
無機顔料を適当な感光性樹脂及び溶剤と練り合わせたペ
ーストを基板上に塗布し、これを所定のフォトマスクを
用い露光、現像してパターンニングした後、焼成するこ
とにより樹脂及び溶剤を除去してフィルタを得る方法、
又は、無機顔料を基板上に塗布し、この顔料上に感光性
樹脂を塗布し、これを所定のフォトマスクを用い露光、
現像、エッチングしてパターンニングした後、焼成する
ことによりフィルタを得る方法等を用いることができ
る。
方法として、無機顔料を適当なバインダ樹脂及び溶剤と
練り合わせたペーストを基板上にスクリーン印刷等の方
法でパターンニングした後、焼成することによりバイン
ダ樹脂及び溶剤を除去してフィルタを得る方法、又は、
無機顔料を適当な感光性樹脂及び溶剤と練り合わせたペ
ーストを基板上に塗布し、これを所定のフォトマスクを
用い露光、現像してパターンニングした後、焼成するこ
とにより樹脂及び溶剤を除去してフィルタを得る方法、
又は、無機顔料を基板上に塗布し、この顔料上に感光性
樹脂を塗布し、これを所定のフォトマスクを用い露光、
現像、エッチングしてパターンニングした後、焼成する
ことによりフィルタを得る方法等を用いることができ
る。
【００１３】以下、図２に基づいて本発明の第１の実施
形態によるカラーフィルタの製造方法を用いたＰＤＰの
前面板の製造方法について説明する。まず、表示面側と
なるガラス基板からなる前面板１上に上述のいずれかの
方法を用いて所定形状に無機顔料層３ａをパターンニン
グする（図２（ａ））。そして、無機顔料層３ａ及びそ
の周辺部を覆うように非アルカリ系の低融点ガラスをを
含むドライガラスペーストフィルム２１をローラ２２に
より加熱・加圧して熱圧着した後、５００〜６００℃程
度の温度で焼成することにより、オーバコート層４を形
成して無機顔料層３ａを前面板１上に固着する（図２
（ｂ））。このようにしてカラーフィルタが基板上に形
成される。
形態によるカラーフィルタの製造方法を用いたＰＤＰの
前面板の製造方法について説明する。まず、表示面側と
なるガラス基板からなる前面板１上に上述のいずれかの
方法を用いて所定形状に無機顔料層３ａをパターンニン
グする（図２（ａ））。そして、無機顔料層３ａ及びそ
の周辺部を覆うように非アルカリ系の低融点ガラスをを
含むドライガラスペーストフィルム２１をローラ２２に
より加熱・加圧して熱圧着した後、５００〜６００℃程
度の温度で焼成することにより、オーバコート層４を形
成して無機顔料層３ａを前面板１上に固着する（図２
（ｂ））。このようにしてカラーフィルタが基板上に形
成される。
【００１４】ここで、ドライガラスペーストフィルム２
１は、平均粒径が３ミクロン程度のガラス粒、アルミナ
などのセラミック粒、アクリル系などからなる樹脂バイ
ンダ及びトルエンなどの溶剤などからなる混合スリップ
をドクターブレイド法又はカレンダー法などにより、離
形剤を塗布したベースフィルム（ＰＥＴなどからなるフ
ィルム）上にフィルム状に形成したものであり、誘電体
層のガラス材料より高い軟化点（焼成温度）を有する。
また、無機顔料層３ａ及びドライガラスペーストフィル
ム２１の厚さはそれぞれ、１μｍ程度、数μｍ〜十数μ
ｍ程度である。
１は、平均粒径が３ミクロン程度のガラス粒、アルミナ
などのセラミック粒、アクリル系などからなる樹脂バイ
ンダ及びトルエンなどの溶剤などからなる混合スリップ
をドクターブレイド法又はカレンダー法などにより、離
形剤を塗布したベースフィルム（ＰＥＴなどからなるフ
ィルム）上にフィルム状に形成したものであり、誘電体
層のガラス材料より高い軟化点（焼成温度）を有する。
また、無機顔料層３ａ及びドライガラスペーストフィル
ム２１の厚さはそれぞれ、１μｍ程度、数μｍ〜十数μ
ｍ程度である。
【００１５】次に、オーバコート層４上に、酸化錫又Ｉ
ＴＯを蒸着又はスパッタリングして全面の透明導電膜を
形成した後、フォトリソグラフィ法により透明導電膜を
所定形状にパターンニングして透明電極５を形成する。
この透明電極５上にアルミニウム又はアルミニウム合金
を蒸着又はスパッタリングして全面の金属膜を形成した
後、フォトリソグラフィ法により金属膜を所定形状にパ
ターンニングしてバス電極６を形成する（図２
（ｃ））。
ＴＯを蒸着又はスパッタリングして全面の透明導電膜を
形成した後、フォトリソグラフィ法により透明導電膜を
所定形状にパターンニングして透明電極５を形成する。
この透明電極５上にアルミニウム又はアルミニウム合金
を蒸着又はスパッタリングして全面の金属膜を形成した
後、フォトリソグラフィ法により金属膜を所定形状にパ
ターンニングしてバス電極６を形成する（図２
（ｃ））。
【００１６】次に透明電極５及びバス電極６上に低融点
ガラスペーストを一様に塗布し、焼成することにより、
誘電体層７が形成され、誘電体層７上にＭｇＯを蒸着す
ることにより、保護層８が形成される（図２（ｄ））。
ガラスペーストを一様に塗布し、焼成することにより、
誘電体層７が形成され、誘電体層７上にＭｇＯを蒸着す
ることにより、保護層８が形成される（図２（ｄ））。
【００１７】このように、オーバコート層４を設ける方
法としてフィルムコート法を用いることにより、印刷法
に比してオーバコート層４の面内ばらつきが抑制され、
透過率の面内ばらつきが抑制されることになる。また、
フィルムコート前にピンホールなどの欠陥を発見しやす
く、表面荒さも軽減できる。従って、後工程で形成され
る電極、誘電体層の断線、ピンホールが発生しにくくな
り、信頼性が向上する。
法としてフィルムコート法を用いることにより、印刷法
に比してオーバコート層４の面内ばらつきが抑制され、
透過率の面内ばらつきが抑制されることになる。また、
フィルムコート前にピンホールなどの欠陥を発見しやす
く、表面荒さも軽減できる。従って、後工程で形成され
る電極、誘電体層の断線、ピンホールが発生しにくくな
り、信頼性が向上する。
【００１８】（第２の実施形態）図３は、本発明の第２
の実施形態の製造方法にて作製されたカラーフィルタを
有するＰＤＰの要部の構成を示す断面図である。第１の
実施形態の製造方法と異なる点は、行電極対形成工程後
にカラーフィルタを形成するようにしたことである。図
３に基づいてその構成を説明する。図３において、ガラ
ス基板からなる前面板１の内面上には、酸化インジウム
と酸化錫の混合物で構成されるＩＴＯ又は酸化錫からな
る透明電極５とそれに積層されたアルミニウム又はアル
ミニウム合金からなるバス電極６から構成される行電極
対Ｘ，Ｙと、カラーフィルタを構成する無機顔料層３ａ
と、無機顔料層３ａを前面板１に固着する透明なガラス
層からなるオーバコート層４と、誘電体層７と、誘電体
層７を放電空間９に対して保護する酸化マグネシウム
（ＭｇＯ）からなる保護層８が順に形成されている。
の実施形態の製造方法にて作製されたカラーフィルタを
有するＰＤＰの要部の構成を示す断面図である。第１の
実施形態の製造方法と異なる点は、行電極対形成工程後
にカラーフィルタを形成するようにしたことである。図
３に基づいてその構成を説明する。図３において、ガラ
ス基板からなる前面板１の内面上には、酸化インジウム
と酸化錫の混合物で構成されるＩＴＯ又は酸化錫からな
る透明電極５とそれに積層されたアルミニウム又はアル
ミニウム合金からなるバス電極６から構成される行電極
対Ｘ，Ｙと、カラーフィルタを構成する無機顔料層３ａ
と、無機顔料層３ａを前面板１に固着する透明なガラス
層からなるオーバコート層４と、誘電体層７と、誘電体
層７を放電空間９に対して保護する酸化マグネシウム
（ＭｇＯ）からなる保護層８が順に形成されている。
【００１９】一方、ガラス基板からなる背面板２上に
は、行電極対Ｘ，Ｙと直交する方向に形成され、アルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる列電極Ａと、列電
極Ａを覆うように形成された蛍光体層１０が形成されて
いる。尚、放電空間９内には、Ｎｅ、Ｘｅ、Ｈｅ等の少
なくとも２種類の希ガスを含む混合ガスが封入されてい
る。
は、行電極対Ｘ，Ｙと直交する方向に形成され、アルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる列電極Ａと、列電
極Ａを覆うように形成された蛍光体層１０が形成されて
いる。尚、放電空間９内には、Ｎｅ、Ｘｅ、Ｈｅ等の少
なくとも２種類の希ガスを含む混合ガスが封入されてい
る。
【００２０】本発明の無機顔料層３ａに用いる無機顔料
としては、前述した第１の実施形態と同様に、例えば赤
色顔料としてＦｅ2 Ｏ3 、緑色顔料としてＴｉＯ2 −Ｃ
ｏＯ−ＮＩＯ−ＺｎＯ、青色顔料としてＣｏＯ−Ａｌ2
Ｏ3 等が使用可能である。
としては、前述した第１の実施形態と同様に、例えば赤
色顔料としてＦｅ2 Ｏ3 、緑色顔料としてＴｉＯ2 −Ｃ
ｏＯ−ＮＩＯ−ＺｎＯ、青色顔料としてＣｏＯ−Ａｌ2
Ｏ3 等が使用可能である。
【００２１】以下、図４に基づいて本発明の第２の実施
形態によるカラーフィルタの製造方法を用いたＰＤＰの
前面板の製造方法について説明する。まず、表示面側と
なるガラス基板からなる前面板１上に酸化錫又ＩＴＯを
蒸着又はスパッタリングして全面の透明導電膜を形成し
た後、フォトリソグラフィ法により透明導電膜を所定形
状にパターンニングして透明電極５を形成する。この透
明電極５上にアルミニウム又はアルミニウム合金を蒸着
又はスパッタリングして全面の金属膜を形成した後、フ
ォトリソグラフィ法により金属膜を所定形状にパターン
ニングしてバス電極６を形成する（図４（ａ））。
形態によるカラーフィルタの製造方法を用いたＰＤＰの
前面板の製造方法について説明する。まず、表示面側と
なるガラス基板からなる前面板１上に酸化錫又ＩＴＯを
蒸着又はスパッタリングして全面の透明導電膜を形成し
た後、フォトリソグラフィ法により透明導電膜を所定形
状にパターンニングして透明電極５を形成する。この透
明電極５上にアルミニウム又はアルミニウム合金を蒸着
又はスパッタリングして全面の金属膜を形成した後、フ
ォトリソグラフィ法により金属膜を所定形状にパターン
ニングしてバス電極６を形成する（図４（ａ））。
【００２２】次に、上述した無機顔料のパターンニング
方法のいずれかの方法を用いて所定形状に無機顔料層３
ａをパターンニングする（図４（ｂ））。そして、無機
顔料層３ａ及びその周辺部を覆うように非アルカリ系の
低融点ガラスをを含むドライガラスペーストフィルム２
１をローラ２２により加熱・加圧して熱圧着した後、５
００〜６００℃程度の温度で焼成することにより、オー
バコート層４を形成して無機顔料層３ａを前面板１上に
固着する（図４（ｃ））。このようにしてカラーフィル
タが基板上に形成される。
方法のいずれかの方法を用いて所定形状に無機顔料層３
ａをパターンニングする（図４（ｂ））。そして、無機
顔料層３ａ及びその周辺部を覆うように非アルカリ系の
低融点ガラスをを含むドライガラスペーストフィルム２
１をローラ２２により加熱・加圧して熱圧着した後、５
００〜６００℃程度の温度で焼成することにより、オー
バコート層４を形成して無機顔料層３ａを前面板１上に
固着する（図４（ｃ））。このようにしてカラーフィル
タが基板上に形成される。
【００２３】ここで、ドライガラスペーストフィルム２
１は、前述した第１の実施形態と同様に、平均粒径が３
ミクロン程度のガラス粒、アルミナなどのセラミック
粒、アクリル系などからなる樹脂バインダ及びトルエン
などの溶剤などからなる混合スリップをドクターブレイ
ド法又はカレンダー法などにより、離形剤を塗布したベ
ースフィルム上にフィルム状に形成したものである。ま
た、無機顔料層３ａ及びドライガラスペーストフィルム
２１の厚さはそれぞれ、１μｍ程度、数μｍ〜十数μｍ
程度である。
１は、前述した第１の実施形態と同様に、平均粒径が３
ミクロン程度のガラス粒、アルミナなどのセラミック
粒、アクリル系などからなる樹脂バインダ及びトルエン
などの溶剤などからなる混合スリップをドクターブレイ
ド法又はカレンダー法などにより、離形剤を塗布したベ
ースフィルム上にフィルム状に形成したものである。ま
た、無機顔料層３ａ及びドライガラスペーストフィルム
２１の厚さはそれぞれ、１μｍ程度、数μｍ〜十数μｍ
程度である。
【００２４】次に、オーバコート層４上に低融点ガラス
ペーストを一様に塗布し、焼成することにより、誘電体
層７が形成され、誘電体層７上にＭｇＯを蒸着すること
により、保護層８が形成される（図４（ｄ））。
ペーストを一様に塗布し、焼成することにより、誘電体
層７が形成され、誘電体層７上にＭｇＯを蒸着すること
により、保護層８が形成される（図４（ｄ））。
【００２５】このように、各層を形成しても第１の実施
形態と同様な作用及び効果を得ることができる。また、
フォトリソグラフィ工程（行電極対形成工程）終了後に
カラーフィルタを形成するようにしたのでオーバコート
層の材料の制約が軽減される。なお、第２の実施形態に
おいて、オーバコート層４と誘電体層７を別々な工程で
形成する例を示したが、誘電体層７の形成に上述のドラ
イガラスペーストフィルム２１を用いることにより、誘
電体層７がオーバコート層４を兼ねるようにしても良
い。
形態と同様な作用及び効果を得ることができる。また、
フォトリソグラフィ工程（行電極対形成工程）終了後に
カラーフィルタを形成するようにしたのでオーバコート
層の材料の制約が軽減される。なお、第２の実施形態に
おいて、オーバコート層４と誘電体層７を別々な工程で
形成する例を示したが、誘電体層７の形成に上述のドラ
イガラスペーストフィルム２１を用いることにより、誘
電体層７がオーバコート層４を兼ねるようにしても良
い。
【００２６】また、オーバコート層４と誘電体層７は同
時に焼成することが可能であり、また、別々に焼成する
場合も、オーバコート層４の焼成温度をバインダ樹脂の
分解温度まであげれば良く、ガラス基板の熱履歴を軽減
することができる。また、低軟化点（５００℃以下）の
ガラス材料を使用することができ、顔料の固定を確実に
することができる。
時に焼成することが可能であり、また、別々に焼成する
場合も、オーバコート層４の焼成温度をバインダ樹脂の
分解温度まであげれば良く、ガラス基板の熱履歴を軽減
することができる。また、低軟化点（５００℃以下）の
ガラス材料を使用することができ、顔料の固定を確実に
することができる。
【００２７】（第３の実施形態）図５は、本発明の第３
の実施形態の製造方法にて作製されたカラーフィルタを
有するＰＤＰの要部の構成を示す断面図である。第１の
実施形態の製造方法と異なる点は、前面板上に無機顔料
が分散した低融点ガラス層からなるカラーフィルタを形
成するようにしたことである。図５に基づいてその構成
を説明する。
の実施形態の製造方法にて作製されたカラーフィルタを
有するＰＤＰの要部の構成を示す断面図である。第１の
実施形態の製造方法と異なる点は、前面板上に無機顔料
が分散した低融点ガラス層からなるカラーフィルタを形
成するようにしたことである。図５に基づいてその構成
を説明する。
【００２８】図５において、ガラス基板からなる前面板
１の内面上には、カラーフィルタを構成する無機顔料が
分散した低融点ガラス層からなる無機顔料分散ガラス層
３ｂと、無機顔料分散ガラス層３ｂを前面板１に固着す
る透明なガラス層からなるオーバコート層４と、酸化イ
ンジウムと酸化錫の混合物で構成されるＩＴＯ又は酸化
錫からなる透明電極５とそれに積層されたアルミニウム
又はアルミニウム合金からなるバス電極６から構成され
る行電極対Ｘ，Ｙと、行電極対Ｘ，Ｙを被覆する誘電体
層７と、誘電体層７を放電空間９に対して保護する酸化
マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層８が順に形成さ
れている。
１の内面上には、カラーフィルタを構成する無機顔料が
分散した低融点ガラス層からなる無機顔料分散ガラス層
３ｂと、無機顔料分散ガラス層３ｂを前面板１に固着す
る透明なガラス層からなるオーバコート層４と、酸化イ
ンジウムと酸化錫の混合物で構成されるＩＴＯ又は酸化
錫からなる透明電極５とそれに積層されたアルミニウム
又はアルミニウム合金からなるバス電極６から構成され
る行電極対Ｘ，Ｙと、行電極対Ｘ，Ｙを被覆する誘電体
層７と、誘電体層７を放電空間９に対して保護する酸化
マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層８が順に形成さ
れている。
【００２９】一方、ガラス基板からなる背面板２上に
は、行電極対Ｘ，Ｙと直交する方向に形成され、アルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる列電極Ａと、列電
極Ａを覆うように形成された蛍光体層１０が形成されて
いる。尚、放電空間９内には、Ｎｅ、Ｘｅ、Ｈｅ等の少
なくとも２種類の希ガスを含む混合ガスが封入されてい
る。
は、行電極対Ｘ，Ｙと直交する方向に形成され、アルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる列電極Ａと、列電
極Ａを覆うように形成された蛍光体層１０が形成されて
いる。尚、放電空間９内には、Ｎｅ、Ｘｅ、Ｈｅ等の少
なくとも２種類の希ガスを含む混合ガスが封入されてい
る。
【００３０】本発明の無機顔料層３ｂに用いる無機顔料
としては、前述した第１の実施形態と同様に、例えば赤
色顔料としてＦｅ2 Ｏ3 、緑色顔料としてＴｉＯ2 −Ｃ
ｏＯ−ＮＩＯ−ＺｎＯ、青色顔料としてＣｏＯ−Ａｌ2
Ｏ3 等が使用可能である。
としては、前述した第１の実施形態と同様に、例えば赤
色顔料としてＦｅ2 Ｏ3 、緑色顔料としてＴｉＯ2 −Ｃ
ｏＯ−ＮＩＯ−ＺｎＯ、青色顔料としてＣｏＯ−Ａｌ2
Ｏ3 等が使用可能である。
【００３１】次に、図６に基づいて本発明の第３の実施
形態によるカラーフィルタの製造方法を用いたＰＤＰの
前面板の製造方法について説明する。第１の実施形態の
製造方法と異なる点は、前面板１上に、低融点ガラス及
び無機顔料を適当なバインダ樹脂及び溶剤と練り合わせ
たペーストを基板にスクリーン印刷等の方法でパターン
ニングし、焼成することによりバインダ樹脂及び溶剤を
除去し、低融点ガラス中に無機顔料が分散したカラーフ
ィルタを形成するようにしたことである。また、カラー
フィルタ上にドライガラスペーストフィルムを積層し、
焼成することにより、オーバコート層を設けている。
形態によるカラーフィルタの製造方法を用いたＰＤＰの
前面板の製造方法について説明する。第１の実施形態の
製造方法と異なる点は、前面板１上に、低融点ガラス及
び無機顔料を適当なバインダ樹脂及び溶剤と練り合わせ
たペーストを基板にスクリーン印刷等の方法でパターン
ニングし、焼成することによりバインダ樹脂及び溶剤を
除去し、低融点ガラス中に無機顔料が分散したカラーフ
ィルタを形成するようにしたことである。また、カラー
フィルタ上にドライガラスペーストフィルムを積層し、
焼成することにより、オーバコート層を設けている。
【００３２】まず、表示面側となるガラス基板からなる
前面板上に低融点ガラス及び無機顔料を適当なバインダ
樹脂及び溶剤と練り合わせたペーストを基板にスクリー
ン印刷等の方法でパターンニングし、焼成することによ
りバインダ樹脂及び溶剤を除去し、低融点ガラス中に無
機顔料が分散した無機顔料分散ガラス層３ｂを形成する
（図６（ａ））。この無機顔料分散ガラス層３ｂのカラ
ーフィルタ上にドライガラスペーストフィルム２１を積
層し、焼成することにより、オーバコート層４を設けて
いる（図６（ｂ））。
前面板上に低融点ガラス及び無機顔料を適当なバインダ
樹脂及び溶剤と練り合わせたペーストを基板にスクリー
ン印刷等の方法でパターンニングし、焼成することによ
りバインダ樹脂及び溶剤を除去し、低融点ガラス中に無
機顔料が分散した無機顔料分散ガラス層３ｂを形成する
（図６（ａ））。この無機顔料分散ガラス層３ｂのカラ
ーフィルタ上にドライガラスペーストフィルム２１を積
層し、焼成することにより、オーバコート層４を設けて
いる（図６（ｂ））。
【００３３】ここで、ドライガラスペーストフィルム２
１は、前述した第１の実施形態と同様に、平均粒径が３
ミクロン程度のガラス粒、アルミナなどのセラミック
粒、アクリル系などからなる樹脂バインダ及びトルエン
などの溶剤などからなる混合スリップをドクターブレイ
ド法又はカレンダー法などにより、離形剤を塗布したベ
ースフィルム上にフィルム状に形成したものであり、誘
電体層のガラス材料より高い軟化点（焼成温度）を有す
る。また、無機顔料分散ガラス層３ｂ及びドライガラス
ペーストフィルム２１の厚さはそれぞれ、１μｍ程度、
数μｍ〜十数μｍ程度である。
１は、前述した第１の実施形態と同様に、平均粒径が３
ミクロン程度のガラス粒、アルミナなどのセラミック
粒、アクリル系などからなる樹脂バインダ及びトルエン
などの溶剤などからなる混合スリップをドクターブレイ
ド法又はカレンダー法などにより、離形剤を塗布したベ
ースフィルム上にフィルム状に形成したものであり、誘
電体層のガラス材料より高い軟化点（焼成温度）を有す
る。また、無機顔料分散ガラス層３ｂ及びドライガラス
ペーストフィルム２１の厚さはそれぞれ、１μｍ程度、
数μｍ〜十数μｍ程度である。
【００３４】次に、オーバコート層４上に、酸化錫又Ｉ
ＴＯを蒸着又はスパッタリングして全面の透明導電膜を
形成した後、フォトリソグラフィ法により透明導電膜を
所定形状にパターンニングして透明電極５を形成する。
この透明電極５上にアルミニウム又はアルミニウム合金
を蒸着又はスパッタリングして全面の金属膜を形成した
後、フォトリソグラフィ法により金属膜を所定形状にパ
ターンニングしてバス電極６を形成する（図６
（ｃ））。
ＴＯを蒸着又はスパッタリングして全面の透明導電膜を
形成した後、フォトリソグラフィ法により透明導電膜を
所定形状にパターンニングして透明電極５を形成する。
この透明電極５上にアルミニウム又はアルミニウム合金
を蒸着又はスパッタリングして全面の金属膜を形成した
後、フォトリソグラフィ法により金属膜を所定形状にパ
ターンニングしてバス電極６を形成する（図６
（ｃ））。
【００３５】次に透明電極５及びバス電極６上に低融点
ガラスペーストを一様に塗布し、焼成することにより、
誘電体層７が形成され、誘電体層上にＭｇＯを蒸着する
ことにより、保護層８が形成される（図６（ｄ））。
ガラスペーストを一様に塗布し、焼成することにより、
誘電体層７が形成され、誘電体層上にＭｇＯを蒸着する
ことにより、保護層８が形成される（図６（ｄ））。
【００３６】このように各層を形成しても第１の実施形
態と同様な作用及び効果を得ることができる。
態と同様な作用及び効果を得ることができる。
【００３７】
【発明の効果】本発明によれば、オーバコート層を設け
る方法としてフィルムコート法を用いることにより、印
刷法に比してオーバコート層の面内ばらつきが抑制さ
れ、透過率の面内ばらつきが抑制されることになる。ま
た、フィルムコート前にピンホールなどの欠陥を発見し
やすく、表面荒さも軽減できる。
る方法としてフィルムコート法を用いることにより、印
刷法に比してオーバコート層の面内ばらつきが抑制さ
れ、透過率の面内ばらつきが抑制されることになる。ま
た、フィルムコート前にピンホールなどの欠陥を発見し
やすく、表面荒さも軽減できる。
【図１】本発明の第１の実施形態の製造方法にて作製さ
れたカラーフィルタを有するＰＤＰの要部の構成を示す
断面図である。
れたカラーフィルタを有するＰＤＰの要部の構成を示す
断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態によるカラーフィルタ
の製造方法を用いたＰＤＰの前面板の製造方法を示す図
である。
の製造方法を用いたＰＤＰの前面板の製造方法を示す図
である。
【図３】本発明の第２の実施形態の製造方法にて作製さ
れたカラーフィルタを有するＰＤＰの要部の構成を示す
断面図である。
れたカラーフィルタを有するＰＤＰの要部の構成を示す
断面図である。
【図４】本発明の第２の実施形態によるカラーフィルタ
の製造方法を用いたＰＤＰの前面板の製造方法を示す図
である。
の製造方法を用いたＰＤＰの前面板の製造方法を示す図
である。
【図５】本発明の第３の実施形態の製造方法にて作製さ
れたカラーフィルタを有するＰＤＰの要部の構成を示す
断面図である。
れたカラーフィルタを有するＰＤＰの要部の構成を示す
断面図である。
【図６】本発明の第３の実施形態によるカラーフィルタ
の製造方法を用いたＰＤＰの前面板の製造方法を示す図
である。
の製造方法を用いたＰＤＰの前面板の製造方法を示す図
である。
１ ・・・・・ 前面板 ２ ・・・・・ 背面板 ３ａ ・・・・・ 無機顔料層 ３ｂ ・・・・・ 無機顔料分散ガラス層 ４ ・・・・・ オーバコート層 ５ ・・・・・ 透明電極 ６ ・・・・・ バス電極 ７ ・・・・・ 誘電体層 ８ ・・・・・ 保護層 ９ ・・・・・ 放電空間 １０ ・・・・・ 蛍光体層 ２１ ・・・・・ ドライガラスペーストフィルム ２２ ・・・・・ ローラ Ａ ・・・・・ 列（アドレス）電極 Ｘ，Ｙ ・・・・・ 行電極対
Claims (3)
- 【請求項１】 基板上に無機顔料層を所定形状にパター
ンニングした後、前記無機顔料層及びその周辺部を覆う
ように透明なドライガラスペーストフィルムを積層し、
焼成して無機顔料層を前記基板上に固着することを特徴
とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項２】 所定形状にパターンニングされた電極層
が形成された基板上に無機顔料層を所定形状にパターン
ニングした後、前記無機顔料層及びその周辺部を覆うよ
うに透明なドライガラスペーストフィルムを積層し、焼
成して無機顔料層を前記基板上に固着することを特徴と
するカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項３】 基板上に無機顔料を混入したガラスペー
ストを所定形状にパターンニングし、焼成してフィルタ
層を形成した後、透明なドライガラスペーストフィルム
を積層し、焼成してオーバコート層を形成することを特
徴とするカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15303597A JPH10332928A (ja) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15303597A JPH10332928A (ja) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10332928A true JPH10332928A (ja) | 1998-12-18 |
Family
ID=15553558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15303597A Pending JPH10332928A (ja) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10332928A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012216756A (ja) * | 2010-10-14 | 2012-11-08 | Rohm Co Ltd | 光検出装置及びこれに用いる光学フィルター |
-
1997
- 1997-05-27 JP JP15303597A patent/JPH10332928A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012216756A (ja) * | 2010-10-14 | 2012-11-08 | Rohm Co Ltd | 光検出装置及びこれに用いる光学フィルター |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041012 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050222 |