JPH09320493A - 真空気密容器 - Google Patents
真空気密容器Info
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- JPH09320493A JPH09320493A JP15634396A JP15634396A JPH09320493A JP H09320493 A JPH09320493 A JP H09320493A JP 15634396 A JP15634396 A JP 15634396A JP 15634396 A JP15634396 A JP 15634396A JP H09320493 A JPH09320493 A JP H09320493A
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Links
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/94—Selection of substances for gas fillings; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the tube, e.g. by gettering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2209/00—Apparatus and processes for manufacture of discharge tubes
- H01J2209/38—Control of maintenance of pressure in the vessel
- H01J2209/385—Gettering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2329/00—Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
Landscapes
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ベーキングによりゲッター能力が低下されない
ようにする。 【解決手段】ゲッターボックス４内にベーキング時の温
度でも十分に動作する第２ゲッターと、常温で動作する
第１ゲッターとを収納する。ベーキング時には、第２ゲ
ッターで吸蔵ガスを吸着し、常温に戻されたときに第１
ゲッターで吸蔵ガスを吸着する。これにより、長期にわ
たり真空気密容器１内を高真空を維持することができ
る。
ようにする。 【解決手段】ゲッターボックス４内にベーキング時の温
度でも十分に動作する第２ゲッターと、常温で動作する
第１ゲッターとを収納する。ベーキング時には、第２ゲ
ッターで吸蔵ガスを吸着し、常温に戻されたときに第１
ゲッターで吸蔵ガスを吸着する。これにより、長期にわ
たり真空気密容器１内を高真空を維持することができ
る。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、内部を真空に保持
する真空気密容器に関するものである。
する真空気密容器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、平面状のコールドカソードとして
知られている電界放出カソードと、この電界放出カソー
ドから放出される電子を捕集する蛍光体の被着されたア
ノードからなる蛍光表示装置が知られている。この蛍光
表示装置においては、カソードとアノードとが微少間隔
離隔されて配置されているが、その間が空間とされてい
るため、カソードとアノードとを真空気密容器に収納し
ている。ところで、カソードおよびアノードが動作して
いるときには、内部に吸蔵されていた微少なガスが放出
されて、内部を汚染したり真空度を低減させるため、放
出されたガスを吸着して真空気密容器内を清浄かつ真空
に保持するゲッターが、一般に真空気密容器内に設けら
れている。
知られている電界放出カソードと、この電界放出カソー
ドから放出される電子を捕集する蛍光体の被着されたア
ノードからなる蛍光表示装置が知られている。この蛍光
表示装置においては、カソードとアノードとが微少間隔
離隔されて配置されているが、その間が空間とされてい
るため、カソードとアノードとを真空気密容器に収納し
ている。ところで、カソードおよびアノードが動作して
いるときには、内部に吸蔵されていた微少なガスが放出
されて、内部を汚染したり真空度を低減させるため、放
出されたガスを吸着して真空気密容器内を清浄かつ真空
に保持するゲッターが、一般に真空気密容器内に設けら
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】真空気密容器内に設け
られるゲッターの材料としては、通常Ｂａ−Ａｌ合金を
ゲッター材料とする蒸発型ゲッターが用いられている。
このＢａ−Ａｌ合金はリング状の金属部材内に収納され
て、真空気密容器内に封入されており、リング状部を外
部から高周波により誘導加熱することにより、 Ｂａ−
Ａｌ合金を蒸発させて真空気密容器の内部壁面に蒸着す
るようにしている。この蒸着膜は、鏡のように見えると
ころからゲッターミラーと呼ばれる。ところで、蛍光表
示管においては、ゲッター材料を蒸発させた後に、その
ゲッターの活性化を行うために、２００℃以上のオーブ
ン内に入れてベーキング処理を行うようにしている。こ
の時、管内に吸蔵されているガスが放出されるので、こ
の吸蔵ガスをゲッターにより吸着して管内真空度をさら
に高める必要がある。
られるゲッターの材料としては、通常Ｂａ−Ａｌ合金を
ゲッター材料とする蒸発型ゲッターが用いられている。
このＢａ−Ａｌ合金はリング状の金属部材内に収納され
て、真空気密容器内に封入されており、リング状部を外
部から高周波により誘導加熱することにより、 Ｂａ−
Ａｌ合金を蒸発させて真空気密容器の内部壁面に蒸着す
るようにしている。この蒸着膜は、鏡のように見えると
ころからゲッターミラーと呼ばれる。ところで、蛍光表
示管においては、ゲッター材料を蒸発させた後に、その
ゲッターの活性化を行うために、２００℃以上のオーブ
ン内に入れてベーキング処理を行うようにしている。こ
の時、管内に吸蔵されているガスが放出されるので、こ
の吸蔵ガスをゲッターにより吸着して管内真空度をさら
に高める必要がある。
【０００４】しかしながら、Ｂａ−Ａｌ合金は２００℃
間での温度では、清掃作用は多少増大するものの、バリ
ウム膜からガスが遊離したり、バリウムがガラスと反応
して変化するようになる。さらに、２００℃以上となる
と、再結晶が起こるようになるため、常温に戻してもゲ
ッターミラーの飽和吸着量が低下してしまうようにな
る。このため、真空気密容器内を十分な高真空に維持す
ることが困難になるという問題点があった。
間での温度では、清掃作用は多少増大するものの、バリ
ウム膜からガスが遊離したり、バリウムがガラスと反応
して変化するようになる。さらに、２００℃以上となる
と、再結晶が起こるようになるため、常温に戻してもゲ
ッターミラーの飽和吸着量が低下してしまうようにな
る。このため、真空気密容器内を十分な高真空に維持す
ることが困難になるという問題点があった。
【０００５】そこで、本発明はベーキング処理を行って
も内部を高真空に保持することのできるゲッターを備え
る真空気密容器を提供することを目的としている。
も内部を高真空に保持することのできるゲッターを備え
る真空気密容器を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の真空気密容器は、常温を動作領域として動
作するゲッター材料からなる第１のゲッターと、ベーキ
ング時の温度が動作領域内とされるゲッター材料からな
る第２のゲッターとを、内部に収納するようにした。こ
れにより、ベーキング時にはこの温度で動作する第２の
ゲッターにより管内吸蔵ガスを吸着することができるの
で、常温に戻したときに第１のゲッターの飽和吸着量に
余裕を持たせることができる。従って、管内の真空度を
十分高真空に維持し続けることができるようになる。
に、本発明の真空気密容器は、常温を動作領域として動
作するゲッター材料からなる第１のゲッターと、ベーキ
ング時の温度が動作領域内とされるゲッター材料からな
る第２のゲッターとを、内部に収納するようにした。こ
れにより、ベーキング時にはこの温度で動作する第２の
ゲッターにより管内吸蔵ガスを吸着することができるの
で、常温に戻したときに第１のゲッターの飽和吸着量に
余裕を持たせることができる。従って、管内の真空度を
十分高真空に維持し続けることができるようになる。
【０００７】また、本発明は、前記真空気密容器におい
て、前記第１のゲッターがＢａを少なくとも含む蒸発ゲ
ッターとしたもの、あるいは、前記第２のゲッターがＺ
ｒ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｔｈ，Ｃｂのいずれかを少なくとも含
む非蒸発ゲッターとしたもの、さらに、前記第２のゲッ
ターがＣを少なくとも含む多孔性物質としたものであ
る。さらにまた、前記第２のゲッターをＭｇを少なくと
も含む蒸発ゲッターとしてもよいものである。
て、前記第１のゲッターがＢａを少なくとも含む蒸発ゲ
ッターとしたもの、あるいは、前記第２のゲッターがＺ
ｒ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｔｈ，Ｃｂのいずれかを少なくとも含
む非蒸発ゲッターとしたもの、さらに、前記第２のゲッ
ターがＣを少なくとも含む多孔性物質としたものであ
る。さらにまた、前記第２のゲッターをＭｇを少なくと
も含む蒸発ゲッターとしてもよいものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の真空気密容器の実施の形
態の一構成例を図１および図２に示す。図１は真空気密
容器が蛍光表示管に適用された場合の上面図であり、図
２はそのＡ−Ａ線で切断したときの断面図である。図１
および図２に示すように、真空気密容器1 は第1 基板２
と第２基板３とを微小間隔対向させて配置させ、その間
をシール部材８により封着して構成されている。第１基
板２および第２基板３は、例えばガラス基板からなり、
第１基板２には平面状の電界放出カソード群が形成され
ており、第２の基板３には蛍光体の被着されたアノード
が形成されている。また、第１基板２と第２基板とは約
２００μm 〜５００μm 離隔されてシール部材８により
固着されている。
態の一構成例を図１および図２に示す。図１は真空気密
容器が蛍光表示管に適用された場合の上面図であり、図
２はそのＡ−Ａ線で切断したときの断面図である。図１
および図２に示すように、真空気密容器1 は第1 基板２
と第２基板３とを微小間隔対向させて配置させ、その間
をシール部材８により封着して構成されている。第１基
板２および第２基板３は、例えばガラス基板からなり、
第１基板２には平面状の電界放出カソード群が形成され
ており、第２の基板３には蛍光体の被着されたアノード
が形成されている。また、第１基板２と第２基板とは約
２００μm 〜５００μm 離隔されてシール部材８により
固着されている。
【０００９】また、第１基板２と第２基板３とは長手方
向に若干ずらせて対向配置されており、図示するように
第１基板２は第２基板３より一回り大きく形成されてい
るため、その３辺は第２基板３より外方に突出してい
る。また、残る一辺においては第２基板３が突出してい
る。この突出した第２基板３の部分を覆うように、内部
に第１ゲッター７−１および第２ゲッター７−２を収納
する矩形状のゲッターボックス４がシール部材８により
第１基板２上に固着されている。また、突出した第２基
板３とゲッターボックス４との間には連通孔６が端縁に
形成されている、長方形の連通孔片９が第１基板２の側
面に固着されており、この連通孔片９は、さらにシール
部材８により第２基板３およびゲッターボックス４の間
に固着される。この連通孔片９に形成されている連通孔
６は、第１基板２と第２基板３とにより形成される表示
部が収納される空間とゲッターボックス４内とを連通さ
せるための孔である。
向に若干ずらせて対向配置されており、図示するように
第１基板２は第２基板３より一回り大きく形成されてい
るため、その３辺は第２基板３より外方に突出してい
る。また、残る一辺においては第２基板３が突出してい
る。この突出した第２基板３の部分を覆うように、内部
に第１ゲッター７−１および第２ゲッター７−２を収納
する矩形状のゲッターボックス４がシール部材８により
第１基板２上に固着されている。また、突出した第２基
板３とゲッターボックス４との間には連通孔６が端縁に
形成されている、長方形の連通孔片９が第１基板２の側
面に固着されており、この連通孔片９は、さらにシール
部材８により第２基板３およびゲッターボックス４の間
に固着される。この連通孔片９に形成されている連通孔
６は、第１基板２と第２基板３とにより形成される表示
部が収納される空間とゲッターボックス４内とを連通さ
せるための孔である。
【００１０】ゲッターボックス４の上面には排気管５が
溶着されており、排気管５とゲッターボックス４内とを
連通させる孔がゲッターボックス４の上面に形成されて
いる。また、ゲッターボックス４内には第１ゲッター７
−１と第２ゲッター７−２とが収納されているが、第１
ゲッター７−１はリング状の金属部材内に収納されたＢ
ａ−Ａｌ合金をゲッター材料とする蒸発型ゲッターとさ
れている。そして、外部から高周波によりリング状部が
誘導加熱されることにより、 Ｂａ−Ａｌ合金が加熱さ
れて蒸発し、ゲッターボックス４の内部壁面に蒸着され
る。この蒸着膜は、鏡のように見えるところからゲッタ
ーミラーと呼ばれる。
溶着されており、排気管５とゲッターボックス４内とを
連通させる孔がゲッターボックス４の上面に形成されて
いる。また、ゲッターボックス４内には第１ゲッター７
−１と第２ゲッター７−２とが収納されているが、第１
ゲッター７−１はリング状の金属部材内に収納されたＢ
ａ−Ａｌ合金をゲッター材料とする蒸発型ゲッターとさ
れている。そして、外部から高周波によりリング状部が
誘導加熱されることにより、 Ｂａ−Ａｌ合金が加熱さ
れて蒸発し、ゲッターボックス４の内部壁面に蒸着され
る。この蒸着膜は、鏡のように見えるところからゲッタ
ーミラーと呼ばれる。
【００１１】なお、ゲッタミラーを形成するのは、電界
放出カソードが形成された第１基板２と、蛍光体の被着
されたアノードが形成されている第２基板３とを位置決
めしてシール部材８により封着することにより真空気密
容器１を形成し、ガス出しを行いながらこの真空気密容
器１内を真空に引いて排気管５を封止した後に、第１ゲ
ッター７−１を蒸発させてゲッタミラーを形成してい
る。ゲッターミラーを形成後に、ゲッターの活性化を行
うために真空気密容器１を炉に入れてベーキング処理を
行う。ベーキングの温度は、約２００℃〜２５０℃とさ
れるが、このとき真空気密容器１内に吸蔵されていて放
出されたガスは、第２ゲッター７−２により吸着される
ようになる。
放出カソードが形成された第１基板２と、蛍光体の被着
されたアノードが形成されている第２基板３とを位置決
めしてシール部材８により封着することにより真空気密
容器１を形成し、ガス出しを行いながらこの真空気密容
器１内を真空に引いて排気管５を封止した後に、第１ゲ
ッター７−１を蒸発させてゲッタミラーを形成してい
る。ゲッターミラーを形成後に、ゲッターの活性化を行
うために真空気密容器１を炉に入れてベーキング処理を
行う。ベーキングの温度は、約２００℃〜２５０℃とさ
れるが、このとき真空気密容器１内に吸蔵されていて放
出されたガスは、第２ゲッター７−２により吸着される
ようになる。
【００１２】この第２ゲッター７−２は、Ｚｒ系非蒸発
ゲッター、Ｃｅｔｏ（８０％Ｔｈ、２０％Ａｌ−Ｃｅ合
金）ゲッター、カーボランダム等の多孔性物質層からな
るゲッター、Ｍｇ系蒸発ゲッターのいずれかを用いるこ
とができ、約２００℃〜２５０℃とされるベーキング時
においても十分なゲッター能力を持っている。また、前
述したように、Ｂａ−Ａｌ合金からなる第１ゲッター７
−１は、常温においては十分なゲッター能力を有してい
るが、ベーキング時にはその能力が半減してしまうもの
である。そこで、本発明においては上記したようにベー
キング時には第２ゲッター７−２により管内に吸蔵され
たガスを吸着するようにさせ、常温に戻されたときに第
１ゲッター７−１により管内に吸蔵されているガスを吸
着するようにしている。従って、真空気密容器１内を長
期に渡り高真空に維持することが可能となる。なお、Ｂ
ａ−Ａｌ合金からなる第１ゲッター７−１の量を増やせ
ばよいように思われるが、Ｂａ−Ａｌ合金からなる第１
ゲッター７−１の量を増やすと、その蒸発時に出るガス
が大量となって、真空気密容器１内を汚染するおそれが
あるため、Ｂａ−Ａｌ合金からなる第１ゲッター７−１
の量を増やすことはできないものである。
ゲッター、Ｃｅｔｏ（８０％Ｔｈ、２０％Ａｌ−Ｃｅ合
金）ゲッター、カーボランダム等の多孔性物質層からな
るゲッター、Ｍｇ系蒸発ゲッターのいずれかを用いるこ
とができ、約２００℃〜２５０℃とされるベーキング時
においても十分なゲッター能力を持っている。また、前
述したように、Ｂａ−Ａｌ合金からなる第１ゲッター７
−１は、常温においては十分なゲッター能力を有してい
るが、ベーキング時にはその能力が半減してしまうもの
である。そこで、本発明においては上記したようにベー
キング時には第２ゲッター７−２により管内に吸蔵され
たガスを吸着するようにさせ、常温に戻されたときに第
１ゲッター７−１により管内に吸蔵されているガスを吸
着するようにしている。従って、真空気密容器１内を長
期に渡り高真空に維持することが可能となる。なお、Ｂ
ａ−Ａｌ合金からなる第１ゲッター７−１の量を増やせ
ばよいように思われるが、Ｂａ−Ａｌ合金からなる第１
ゲッター７−１の量を増やすと、その蒸発時に出るガス
が大量となって、真空気密容器１内を汚染するおそれが
あるため、Ｂａ−Ａｌ合金からなる第１ゲッター７−１
の量を増やすことはできないものである。
【００１３】次に、本発明の真空気密容器の変形例の構
成を図３に示す。図３に示す変形例においては、図示す
るようにゲッターボックスを２つ設けて、それぞれのゲ
ッターボックス内に異なるゲッターを収納するようにし
たものである。図３において、図１に示す真空気密容器
１と同様に、真空気密容器１は第１基板２と第２基板３
とを微少間隔対向させて配置させ、その間をシール部材
により封着して構成されている。第１基板２および第２
基板３は、例えばガラス基板からなり、第１基板２には
平面状の電界放出カソード群が形成されており、第２の
基板３には蛍光体の被着されたアノードが形成されてい
る。また、第１基板２と第２基板とは約２００μm 〜５
００μm 離隔されてシール部材８により固着されてい
る。
成を図３に示す。図３に示す変形例においては、図示す
るようにゲッターボックスを２つ設けて、それぞれのゲ
ッターボックス内に異なるゲッターを収納するようにし
たものである。図３において、図１に示す真空気密容器
１と同様に、真空気密容器１は第１基板２と第２基板３
とを微少間隔対向させて配置させ、その間をシール部材
により封着して構成されている。第１基板２および第２
基板３は、例えばガラス基板からなり、第１基板２には
平面状の電界放出カソード群が形成されており、第２の
基板３には蛍光体の被着されたアノードが形成されてい
る。また、第１基板２と第２基板とは約２００μm 〜５
００μm 離隔されてシール部材８により固着されてい
る。
【００１４】また、第１基板２と第２基板３とは斜め方
向に若干ずらせて対向配置されており、図示するように
第１基板２と第２基板３とはほぼ同一の大きさに形成さ
れているため、互いにその２辺は相互の基板から外方に
突出している。そして、第２基板３の突出した部分を覆
うように、内部に第１ゲッター７−１を収納する矩形状
のゲッターボックス４Ａと、内部に第２ゲッター７−２
を収納する矩形状のゲッターボックス４Ｂがシール部材
により第１基板２上に固着されている。また、突出した
第２基板３とゲッターボックス４Ａ，４Ｂとの間には連
通孔６Ａ，６Ｂがそれぞれ形成されている長方形の連通
孔片が、前記図２に示すものと同様に第１基板２の側面
に固着されており、この連通孔片は、さらにシール部材
により第２基板３およびゲッターボックス４Ａ，４Ｂと
の間に固着されている。この連通孔片に形成されている
連通孔６Ａ，６Ｂは、第１基板２と第２基板３とにより
形成される表示部が収納される空間とゲッターボックス
４Ａ，４Ｂ内とを連通させるための孔である。
向に若干ずらせて対向配置されており、図示するように
第１基板２と第２基板３とはほぼ同一の大きさに形成さ
れているため、互いにその２辺は相互の基板から外方に
突出している。そして、第２基板３の突出した部分を覆
うように、内部に第１ゲッター７−１を収納する矩形状
のゲッターボックス４Ａと、内部に第２ゲッター７−２
を収納する矩形状のゲッターボックス４Ｂがシール部材
により第１基板２上に固着されている。また、突出した
第２基板３とゲッターボックス４Ａ，４Ｂとの間には連
通孔６Ａ，６Ｂがそれぞれ形成されている長方形の連通
孔片が、前記図２に示すものと同様に第１基板２の側面
に固着されており、この連通孔片は、さらにシール部材
により第２基板３およびゲッターボックス４Ａ，４Ｂと
の間に固着されている。この連通孔片に形成されている
連通孔６Ａ，６Ｂは、第１基板２と第２基板３とにより
形成される表示部が収納される空間とゲッターボックス
４Ａ，４Ｂ内とを連通させるための孔である。
【００１５】ゲッターボックス４Ａ，４Ｂの上面には排
気管５Ａ，５Ｂが溶着されており、排気管５Ａ，５Ｂと
ゲッターボックス４Ａ，４Ｂ内とを連通させる孔がゲッ
ターボックス４Ａ，４Ｂの上面に形成されている。ま
た、ゲッターボックス４Ａ内には第１ゲッター７−１が
収納されており、第１ゲッター７−１はリング状の金属
部材内に収納されたＢａ−Ａｌ合金をゲッター材料とす
る蒸発型ゲッターとされている。そして、外部から高周
波によりリング状部が誘導加熱されることにより、 Ｂ
ａ−Ａｌ合金が加熱されて蒸発し、ゲッターボックス４
Ａの内部壁面に蒸着される。さらに、ゲッターボックス
４Ｂ内には第２ゲッター７−２が収納されており、第２
ゲッター７−２はＺｒ系非蒸発ゲッター、Ｃｅｔｏ（８
０％Ｔｈ、２０％Ａｌ−Ｃｅ合金）ゲッター、カーボラ
ンダム等の多孔性物質層からなるゲッター、Ｍｇ系蒸発
ゲッターのいずれかを用いることができ、約２００℃〜
２５０℃とされるベーキング時においても十分なゲッタ
ー能力を持っている。
気管５Ａ，５Ｂが溶着されており、排気管５Ａ，５Ｂと
ゲッターボックス４Ａ，４Ｂ内とを連通させる孔がゲッ
ターボックス４Ａ，４Ｂの上面に形成されている。ま
た、ゲッターボックス４Ａ内には第１ゲッター７−１が
収納されており、第１ゲッター７−１はリング状の金属
部材内に収納されたＢａ−Ａｌ合金をゲッター材料とす
る蒸発型ゲッターとされている。そして、外部から高周
波によりリング状部が誘導加熱されることにより、 Ｂ
ａ−Ａｌ合金が加熱されて蒸発し、ゲッターボックス４
Ａの内部壁面に蒸着される。さらに、ゲッターボックス
４Ｂ内には第２ゲッター７−２が収納されており、第２
ゲッター７−２はＺｒ系非蒸発ゲッター、Ｃｅｔｏ（８
０％Ｔｈ、２０％Ａｌ−Ｃｅ合金）ゲッター、カーボラ
ンダム等の多孔性物質層からなるゲッター、Ｍｇ系蒸発
ゲッターのいずれかを用いることができ、約２００℃〜
２５０℃とされるベーキング時においても十分なゲッタ
ー能力を持っている。
【００１６】したがって、変形例においてもベーキング
時にはゲッターボックス４Ｂ内に収納された第２ゲッタ
ー７−２により管内に吸蔵されたガスを吸着するように
させ、常温に戻されたときにゲッターボックス４Ａ内の
壁面に形成された第１ゲッター７−１のゲッタミラーに
より管内に吸蔵されているガスを吸着するようにしてい
る。従って、真空気密容器１内を長期に渡り高真空に維
持することが可能となる。なお、変形例においては第２
ゲッター７−２を蒸発型ゲッターとしても、両ゲッター
を独立して配置したため、両ゲッターのゲッターミラー
が重なることがない。このため各ゲッターを効率的に動
作させることができる。また、ゲッターボックス４Ａに
収納するゲッターを第２ゲッター７−２としても、ゲッ
ターボックス４Ｂに収納するゲッターを第１ゲッター７
−１としてもよい。
時にはゲッターボックス４Ｂ内に収納された第２ゲッタ
ー７−２により管内に吸蔵されたガスを吸着するように
させ、常温に戻されたときにゲッターボックス４Ａ内の
壁面に形成された第１ゲッター７−１のゲッタミラーに
より管内に吸蔵されているガスを吸着するようにしてい
る。従って、真空気密容器１内を長期に渡り高真空に維
持することが可能となる。なお、変形例においては第２
ゲッター７−２を蒸発型ゲッターとしても、両ゲッター
を独立して配置したため、両ゲッターのゲッターミラー
が重なることがない。このため各ゲッターを効率的に動
作させることができる。また、ゲッターボックス４Ａに
収納するゲッターを第２ゲッター７−２としても、ゲッ
ターボックス４Ｂに収納するゲッターを第１ゲッター７
−１としてもよい。
【００１７】
【発明の効果】本発明は以上のように構成されているの
で、ベーキング時にはこの温度で十分動作する第２のゲ
ッターにより管内吸蔵ガスを吸着することができるの
で、常温に戻したときに第１のゲッターの飽和吸着量に
余裕を持たせることができる。従って、管内の真空度を
十分高真空に長期間にわたり維持し続けることができる
ようになる。
で、ベーキング時にはこの温度で十分動作する第２のゲ
ッターにより管内吸蔵ガスを吸着することができるの
で、常温に戻したときに第１のゲッターの飽和吸着量に
余裕を持たせることができる。従って、管内の真空度を
十分高真空に長期間にわたり維持し続けることができる
ようになる。
【図１】本発明の真空気密容器の実施の形態の構成を示
す上面図である。
す上面図である。
【図２】本発明の真空気密容器の実施の形態の構成を示
す断面図である。
す断面図である。
【図３】本発明の真空気密容器の実施の形態の変形例の
構成を示す上面図である。
構成を示す上面図である。
１ 真空気密容器 ２ 第１基板 ３ 第２基板 ４，４Ａ，４Ｂ ゲッターボックス ５，５Ａ，５Ｂ 排気管 ６，６Ａ，６Ｂ 連通孔 ７−１，７−２ ゲッター ８ シール部材 ９ 連通孔片
Claims (5)
- 【請求項１】 常温を動作領域として動作するゲッター
材料からなる第１のゲッターと、 ベーキング時の温度が動作領域内とされるゲッター材料
からなる第２のゲッターとが、内部に収納されているこ
とを特徴とする真空気密容器。 - 【請求項２】 前記第１のゲッターがＢａを少なくとも
含む蒸発ゲッターとされていることを特徴とする請求項
１記載の真空気密容器。 - 【請求項３】 前記第２のゲッターがＺｒ，Ｔｉ，Ｔ
ａ，Ｔｈ，Ｃｂのいずれかを少なくとも含む非蒸発ゲッ
ターとされていることを特徴とする請求項１あるいは２
記載の真空気密容器。 - 【請求項４】 前記第２のゲッターがＣを少なくとも
含む多孔性物質からなることを特徴とする請求項１ある
いは２記載の真空気密容器。 - 【請求項５】 前記第２のゲッターがＭｇを少なくとも
含む蒸発ゲッターとされていることを特徴とする請求項
１あるいは２記載の真空気密容器。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15634396A JPH09320493A (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 真空気密容器 |
| TW086116702A TW343191B (en) | 1996-05-29 | 1997-11-08 | Vacuum hermetic container |
| FR9714828A FR2771549B1 (fr) | 1996-05-29 | 1997-11-26 | Recipient hermetique sous vide |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15634396A JPH09320493A (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 真空気密容器 |
| FR9714828A FR2771549B1 (fr) | 1996-05-29 | 1997-11-26 | Recipient hermetique sous vide |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09320493A true JPH09320493A (ja) | 1997-12-12 |
Family
ID=26233950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15634396A Pending JPH09320493A (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 真空気密容器 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09320493A (ja) |
| FR (1) | FR2771549B1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6396207B1 (en) | 1998-10-20 | 2002-05-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Image display apparatus and method for producing the same |
| JP2007042424A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Sony Corp | 平面型表示装置 |
| US8002602B2 (en) | 2008-01-31 | 2011-08-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of vacuum airtight container |
| JP2012248369A (ja) * | 2011-05-26 | 2012-12-13 | Denso Corp | 電子放出素子 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050253283A1 (en) * | 2004-05-13 | 2005-11-17 | Dcamp Jon B | Getter deposition for vacuum packaging |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE606547C (de) * | 1929-11-06 | 1934-12-05 | Siegmund Loewe Dr | Verfahren zur Herstellung von Hochvakuumroehren |
| GB931979A (en) * | 1959-05-14 | 1963-07-24 | John Henry Owen Harries | Improvements in and relating to the evacuation of vacuum and gas filled envelopes |
| IT720119A (ja) * | 1964-04-11 | |||
| DE2062992A1 (de) * | 1970-12-21 | 1972-06-29 | Siemens Ag | Getterkörper aus einem Zirkon-Kohle-Sinterteil zum Betrieb bei Raumtemperaturen |
| US4297082A (en) * | 1979-11-21 | 1981-10-27 | Hughes Aircraft Company | Vacuum gettering arrangement |
| IT1237948B (it) * | 1990-01-05 | 1993-06-19 | Getters Spa | Dispositivo getter ed insieme getterante per un tibo a raggi catodici |
| US5688708A (en) * | 1996-06-24 | 1997-11-18 | Motorola | Method of making an ultra-high vacuum field emission display |
-
1996
- 1996-05-29 JP JP15634396A patent/JPH09320493A/ja active Pending
-
1997
- 1997-11-26 FR FR9714828A patent/FR2771549B1/fr not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6396207B1 (en) | 1998-10-20 | 2002-05-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Image display apparatus and method for producing the same |
| US6652343B2 (en) | 1998-10-20 | 2003-11-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for gettering an image display apparatus |
| JP2007042424A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Sony Corp | 平面型表示装置 |
| US8002602B2 (en) | 2008-01-31 | 2011-08-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of vacuum airtight container |
| JP2012248369A (ja) * | 2011-05-26 | 2012-12-13 | Denso Corp | 電子放出素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2771549A1 (fr) | 1999-05-28 |
| FR2771549B1 (fr) | 2001-06-15 |
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