JPH09320514A - プラズマイオン源質量分析装置 - Google Patents
プラズマイオン源質量分析装置Info
- Publication number
- JPH09320514A JPH09320514A JP8133099A JP13309996A JPH09320514A JP H09320514 A JPH09320514 A JP H09320514A JP 8133099 A JP8133099 A JP 8133099A JP 13309996 A JP13309996 A JP 13309996A JP H09320514 A JPH09320514 A JP H09320514A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- ion
- efficiency
- mass spectrometer
- ion source
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】プラズマイオン源質量分析装置でプラズマにお
けるイオン化効率の変動，長期間の使用による汚れに伴
うイオン輸送系における輸送効率の変動あるいは質量分
析器における質量分析効率の変動によるイオンの検出効
率の変動を補正する。 【解決手段】イオン検出器６３を、上下もしくは左右も
しくは前後もしくは回転によりその位置あるいは姿勢を
変えることができるステージ１０１に取り付ける。
けるイオン化効率の変動，長期間の使用による汚れに伴
うイオン輸送系における輸送効率の変動あるいは質量分
析器における質量分析効率の変動によるイオンの検出効
率の変動を補正する。 【解決手段】イオン検出器６３を、上下もしくは左右も
しくは前後もしくは回転によりその位置あるいは姿勢を
変えることができるステージ１０１に取り付ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマイオン源質
量分析装置に関する。
量分析装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の代表的なプラズマを用いた質量分
析装置は、例えば河口広司・中原武利編，プラズマイオ
ン源質量分析，日本分光学会測定法シリーズ２８，学会
出版センター（１９９４年），第１９項から第４３項で
示されている。すなわち、プラズマイオン源質量分析装
置は試料をプラズマ中に導入しその結果生成したイオン
をインタフェースを介してイオン輸送系により質量分析
器に導き質量分析されたイオンをイオン検出器で検出す
ることによって測定を行う構成になっている。
析装置は、例えば河口広司・中原武利編，プラズマイオ
ン源質量分析，日本分光学会測定法シリーズ２８，学会
出版センター（１９９４年），第１９項から第４３項で
示されている。すなわち、プラズマイオン源質量分析装
置は試料をプラズマ中に導入しその結果生成したイオン
をインタフェースを介してイオン輸送系により質量分析
器に導き質量分析されたイオンをイオン検出器で検出す
ることによって測定を行う構成になっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では少な
くともイオン輸送系と質量分析系とイオン検出系は装置
におけるその位置は固定であり、例えばプラズマにおけ
るイオン化効率の変動、あるいは長期間の使用による汚
れに伴うイオン輸送系における輸送効率の変動あるいは
質量分析器における質量分析効率の変動等に対する対応
手段を持たない点で問題があった。
くともイオン輸送系と質量分析系とイオン検出系は装置
におけるその位置は固定であり、例えばプラズマにおけ
るイオン化効率の変動、あるいは長期間の使用による汚
れに伴うイオン輸送系における輸送効率の変動あるいは
質量分析器における質量分析効率の変動等に対する対応
手段を持たない点で問題があった。
【０００４】本発明の目的は、プラズマにおけるイオン
化効率の変動、あるいは長期間の使用による汚れに伴う
イオン輸送系における輸送効率の変動あるいは質量分析
器における質量分析効率の変動等に対する対応手段を備
えたプラズマイオン源質量分析装置を提供することにあ
る。
化効率の変動、あるいは長期間の使用による汚れに伴う
イオン輸送系における輸送効率の変動あるいは質量分析
器における質量分析効率の変動等に対する対応手段を備
えたプラズマイオン源質量分析装置を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明はイオン検出器を取り付けたステージの位置
あるいは姿勢を真空容器外部から変えることができる機
構を設け、イオンを効率良く検出するようイオン検出器
の位置あるいは姿勢を変えられるようにした。例えばプ
ラズマにおけるイオン化効率の変動、あるいは長期間の
使用による汚れに伴うイオン輸送系における輸送効率の
変動あるいは質量分析器における質量分析効率の変動等
により、イオン検知器におけるイオンの導入方向あるい
は導入位置等は変動し、そのためイオンの検出効率は変
動する。イオン検知器の位置あるいは姿勢を変える機構
を持つことにより前記イオン検出効率の変動を補正する
ことができる。
に、本発明はイオン検出器を取り付けたステージの位置
あるいは姿勢を真空容器外部から変えることができる機
構を設け、イオンを効率良く検出するようイオン検出器
の位置あるいは姿勢を変えられるようにした。例えばプ
ラズマにおけるイオン化効率の変動、あるいは長期間の
使用による汚れに伴うイオン輸送系における輸送効率の
変動あるいは質量分析器における質量分析効率の変動等
により、イオン検知器におけるイオンの導入方向あるい
は導入位置等は変動し、そのためイオンの検出効率は変
動する。イオン検知器の位置あるいは姿勢を変える機構
を持つことにより前記イオン検出効率の変動を補正する
ことができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図１に
より説明する。図１は一例としてプラズマをマイクロ波
により生成するプラズマイオン源質量分析装置の構成を
示したものである。ここで、１１は測定対象となる試料
（通常液体）、１３はネブライザ等の霧化器、１５はキ
ャピラリチューブ等の試料導入管、１７はプラズマトー
チ、１９は試料１１を霧化器１３およびプラズマトーチ
１７に導入するキャリアガス、２１はマイクロ波（２４
５０ＭＨｚ）２３を発生させるマイクロ波電源、２９は
プラズマ生成部２５で生成するプラズマ、２７はプラズ
マ２９を生成させるためプラズマトーチ１７に導入する
プラズマガス、３１はサンプリングコーンおよびスキマ
コーンより成るインタフェース、４１は静電電極などよ
り成るイオン輸送系、５１は四重極質量分析器、６１は
偏向電極、６５はイオン検出器６３により検出されたイ
オン信号を処理する信号処理部、７１，７３，７５は各
々真空容器７７内部を排気する真空ポンプ、１０１はイ
オン検出器６３を取り付けるステージ、１０３は真空容
器７７に設けられた真空を保ったままステージ１０１を
前後（図１では左右の方向に相当する）に動作させるこ
とができる機構を備えた外部操作機構である。マイクロ
波電源２１により発生させたマイクロ波２３をプラズマ
生成部２５に供給する。プラズマトーチ１７に導入した
プラズマガス２７は、プラズマ生成部２５でプラズマ２
９を生成する。キャリアガス１９により試料１１を霧化
器１３に導入し、霧化器１３で霧状にした試料はキャリ
アガス１９により試料導入管１５を通してプラズマ２９
に導入する。導入された試料はプラズマ２９でイオン化
される。生成したイオンはインタフェース３１により真
空中に引き込み、イオン輸送系４１により四重極質量分
析器５１に導入する。四重極質量分析器５１により質量
分析されたイオンはその後、偏向電極６１により偏向さ
れ、イオン検出器６３に導入されて検出される。この検
出信号を信号処理部６５で処理して結果を得ることによ
って試料１１の測定を行う。ここでイオン検出器６３は
外部操作機構１０３によりその位置が可変のステージ１
０１に取り付けられている。例えば、プラズマ２９にお
ける試料１１内の測定対象元素のイオン化効率の変動、
あるいは長期間の使用による汚れに伴うイオン輸送系４
１における輸送効率の変動あるいは四重極質量分析器５
１における質量分析効率の変動等により、イオン検出器
６３における質量分析されたイオンの導入方向あるいは
導入位置等が変動し、そのためイオンの検出効率が変動
して検出信号の強度が低下した場合、外部操作機構１０
３によりイオン検出器６３の位置を変えることで変動の
影響を補正することが可能となる。
より説明する。図１は一例としてプラズマをマイクロ波
により生成するプラズマイオン源質量分析装置の構成を
示したものである。ここで、１１は測定対象となる試料
（通常液体）、１３はネブライザ等の霧化器、１５はキ
ャピラリチューブ等の試料導入管、１７はプラズマトー
チ、１９は試料１１を霧化器１３およびプラズマトーチ
１７に導入するキャリアガス、２１はマイクロ波（２４
５０ＭＨｚ）２３を発生させるマイクロ波電源、２９は
プラズマ生成部２５で生成するプラズマ、２７はプラズ
マ２９を生成させるためプラズマトーチ１７に導入する
プラズマガス、３１はサンプリングコーンおよびスキマ
コーンより成るインタフェース、４１は静電電極などよ
り成るイオン輸送系、５１は四重極質量分析器、６１は
偏向電極、６５はイオン検出器６３により検出されたイ
オン信号を処理する信号処理部、７１，７３，７５は各
々真空容器７７内部を排気する真空ポンプ、１０１はイ
オン検出器６３を取り付けるステージ、１０３は真空容
器７７に設けられた真空を保ったままステージ１０１を
前後（図１では左右の方向に相当する）に動作させるこ
とができる機構を備えた外部操作機構である。マイクロ
波電源２１により発生させたマイクロ波２３をプラズマ
生成部２５に供給する。プラズマトーチ１７に導入した
プラズマガス２７は、プラズマ生成部２５でプラズマ２
９を生成する。キャリアガス１９により試料１１を霧化
器１３に導入し、霧化器１３で霧状にした試料はキャリ
アガス１９により試料導入管１５を通してプラズマ２９
に導入する。導入された試料はプラズマ２９でイオン化
される。生成したイオンはインタフェース３１により真
空中に引き込み、イオン輸送系４１により四重極質量分
析器５１に導入する。四重極質量分析器５１により質量
分析されたイオンはその後、偏向電極６１により偏向さ
れ、イオン検出器６３に導入されて検出される。この検
出信号を信号処理部６５で処理して結果を得ることによ
って試料１１の測定を行う。ここでイオン検出器６３は
外部操作機構１０３によりその位置が可変のステージ１
０１に取り付けられている。例えば、プラズマ２９にお
ける試料１１内の測定対象元素のイオン化効率の変動、
あるいは長期間の使用による汚れに伴うイオン輸送系４
１における輸送効率の変動あるいは四重極質量分析器５
１における質量分析効率の変動等により、イオン検出器
６３における質量分析されたイオンの導入方向あるいは
導入位置等が変動し、そのためイオンの検出効率が変動
して検出信号の強度が低下した場合、外部操作機構１０
３によりイオン検出器６３の位置を変えることで変動の
影響を補正することが可能となる。
【０００７】なお、ステージ１０１の移動方向は本説明
に用いた方向だけに限るものではなく、上下方向（図１
でも上下方向）あるいは左右方向（図１では紙面に対し
て垂直方向）の移動（直線移動）でもよい。
に用いた方向だけに限るものではなく、上下方向（図１
でも上下方向）あるいは左右方向（図１では紙面に対し
て垂直方向）の移動（直線移動）でもよい。
【０００８】また図２に示す、ステージ１０１を傾斜さ
せる移動（回転移動）でもよい。また、直線移動および
回転移動がともに可能なようにしてもよい。
せる移動（回転移動）でもよい。また、直線移動および
回転移動がともに可能なようにしてもよい。
【０００９】
【発明の効果】本発明によれば、イオン検出器における
イオンの導入方向あるいは導入位置等の変動に対して常
に同じ状態でイオンをイオン検出器に導入させることが
できるので、変動によるイオンの検出効率の変動を補正
することができる。
イオンの導入方向あるいは導入位置等の変動に対して常
に同じ状態でイオンをイオン検出器に導入させることが
できるので、変動によるイオンの検出効率の変動を補正
することができる。
【図１】本発明の一実施例を示す装置のブロック図。
【図２】本発明の別の実施例の主要部の説明図。
２９…プラズマ、３１…インタフェース、４１…イオン
輸送系、５１…四重極質量分析器、６３…イオン検出
器、１０１…ステージ、１０３…外部操作機構。
輸送系、５１…四重極質量分析器、６３…イオン検出
器、１０１…ステージ、１０３…外部操作機構。
Claims (1)
- 【請求項１】プラズマ生成系と、試料導入系とイオン輸
送系と、質量分析系と、イオン検出系とを含むプラズマ
イオン源質量分析装置において、前記イオン検出系の位
置あるいは姿勢を可変としたことを特徴とするプラズマ
イオン源質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8133099A JPH09320514A (ja) | 1996-05-28 | 1996-05-28 | プラズマイオン源質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8133099A JPH09320514A (ja) | 1996-05-28 | 1996-05-28 | プラズマイオン源質量分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09320514A true JPH09320514A (ja) | 1997-12-12 |
Family
ID=15096811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8133099A Pending JPH09320514A (ja) | 1996-05-28 | 1996-05-28 | プラズマイオン源質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09320514A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6806578B2 (en) | 2000-03-16 | 2004-10-19 | International Business Machines Corporation | Copper pad structure |
-
1996
- 1996-05-28 JP JP8133099A patent/JPH09320514A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6806578B2 (en) | 2000-03-16 | 2004-10-19 | International Business Machines Corporation | Copper pad structure |
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