JPH093217A - プリプレグの製造方法 - Google Patents
プリプレグの製造方法Info
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- JPH093217A JPH093217A JP15185095A JP15185095A JPH093217A JP H093217 A JPH093217 A JP H093217A JP 15185095 A JP15185095 A JP 15185095A JP 15185095 A JP15185095 A JP 15185095A JP H093217 A JPH093217 A JP H093217A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0373—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers
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- Reinforced Plastic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 補強材に、無機粒子を含ませた後、樹脂ワニ
スを含浸し、次いで乾燥して製造するプリプレグの製造
方法であって、熱膨張係数が小さくて、かつ、吸湿処理
後の耐熱性に優れる複合材料を得ることのできる方法を
提供する。 【構成】 補強材に樹脂ワニスを含浸する前に、平均粒
径1000nm以下の無機粒子を補強材100重量部に
対して1〜30重量部の割合で含ませると共に、以下の
何れかの条件で補強材への樹脂ワニスの含浸を行う。
1〜300Torrの減圧条件下で行う。樹脂ワニス
に超音波振動を付与しながら含浸を行う。樹脂ワニス
中に浸漬した振動バネにより15〜30Hzの振動を樹
脂ワニスに付与しながら含浸を行う。補強材を減圧脱
泡処理した溶剤中に浸漬した後、さらに減圧脱泡処理し
た樹脂ワニス中に浸漬して、補強材に樹脂ワニスを含浸
する。
スを含浸し、次いで乾燥して製造するプリプレグの製造
方法であって、熱膨張係数が小さくて、かつ、吸湿処理
後の耐熱性に優れる複合材料を得ることのできる方法を
提供する。 【構成】 補強材に樹脂ワニスを含浸する前に、平均粒
径1000nm以下の無機粒子を補強材100重量部に
対して1〜30重量部の割合で含ませると共に、以下の
何れかの条件で補強材への樹脂ワニスの含浸を行う。
1〜300Torrの減圧条件下で行う。樹脂ワニス
に超音波振動を付与しながら含浸を行う。樹脂ワニス
中に浸漬した振動バネにより15〜30Hzの振動を樹
脂ワニスに付与しながら含浸を行う。補強材を減圧脱
泡処理した溶剤中に浸漬した後、さらに減圧脱泡処理し
た樹脂ワニス中に浸漬して、補強材に樹脂ワニスを含浸
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、補強材に樹脂ワニスを
含浸し、次いで乾燥してなるプリプレグの製造方法に関
する。
含浸し、次いで乾燥してなるプリプレグの製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】電子機器に使用される材料の最近の動向
として、小型化、軽量化と同時に、高速化、高密度化も
実現しようとする試みがある。その目的達成のための一
つの手段として、リードレスチップキャリア(LCC)
の表面実装技術(SMT)が挙げられる。例えばアルミ
ナのLCCをプリント回路基板に直接実装する場合、ア
ルミナとプリント回路基板との熱膨張係数が異なると、
接合部の半田に熱履歴によって亀裂が生じる。そのた
め、直接実装をする場合には、プリント回路基板の熱膨
張係数をLCCの熱膨張係数(アルミナの場合7ppm
/℃)にできるだけ近づけることが望ましい。さらに、
シリコンのベアチップをリードレスで直接実装しようと
する試みもあるが、そのためには、プリント回路基板の
熱膨張係数をシリコンの熱膨張係数(3〜4ppm/
℃)にできるだけ近づけることが望ましい。
として、小型化、軽量化と同時に、高速化、高密度化も
実現しようとする試みがある。その目的達成のための一
つの手段として、リードレスチップキャリア(LCC)
の表面実装技術(SMT)が挙げられる。例えばアルミ
ナのLCCをプリント回路基板に直接実装する場合、ア
ルミナとプリント回路基板との熱膨張係数が異なると、
接合部の半田に熱履歴によって亀裂が生じる。そのた
め、直接実装をする場合には、プリント回路基板の熱膨
張係数をLCCの熱膨張係数(アルミナの場合7ppm
/℃)にできるだけ近づけることが望ましい。さらに、
シリコンのベアチップをリードレスで直接実装しようと
する試みもあるが、そのためには、プリント回路基板の
熱膨張係数をシリコンの熱膨張係数(3〜4ppm/
℃)にできるだけ近づけることが望ましい。
【0003】本発明者らは、プリント回路基板の熱膨張
係数を小さくするための手段として、特願平6−108
816号において、モノフィラメントが集束されてなる
ストランドからなる補強材により樹脂が強化されてなる
複合材料であって、ストランドに平均粒径1000nm
以下の無機粒子が補強材100重量部に対して1重量部
以上の割合で含まれている低熱膨張複合材料を提案して
いる。しかし、この複合材料では、PCT処理等の吸湿
処理後に半田試験を行うとふくれが生じる場合があるこ
とが判明した。この理由としては、ストランド中に無機
粒子を含ませたことにより、ストランド中に樹脂が侵入
しにくい隙間ができ、ポアが生じるためと考えられる。
係数を小さくするための手段として、特願平6−108
816号において、モノフィラメントが集束されてなる
ストランドからなる補強材により樹脂が強化されてなる
複合材料であって、ストランドに平均粒径1000nm
以下の無機粒子が補強材100重量部に対して1重量部
以上の割合で含まれている低熱膨張複合材料を提案して
いる。しかし、この複合材料では、PCT処理等の吸湿
処理後に半田試験を行うとふくれが生じる場合があるこ
とが判明した。この理由としては、ストランド中に無機
粒子を含ませたことにより、ストランド中に樹脂が侵入
しにくい隙間ができ、ポアが生じるためと考えられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みてなされたものであって、その目的とするところ
は、モノフィラメントが集束されてなるストランドから
なる補強材に、平均粒径1000nm以下の無機粒子を
含ませた後、前記補強材に樹脂ワニスを含浸し、次いで
乾燥して製造するプリプレグの製造方法であって、熱膨
張係数が小さくて、かつ、吸湿処理後の耐熱性に優れる
複合材料を得ることのできるプリプレグを製造する方法
を提供することにある。
鑑みてなされたものであって、その目的とするところ
は、モノフィラメントが集束されてなるストランドから
なる補強材に、平均粒径1000nm以下の無機粒子を
含ませた後、前記補強材に樹脂ワニスを含浸し、次いで
乾燥して製造するプリプレグの製造方法であって、熱膨
張係数が小さくて、かつ、吸湿処理後の耐熱性に優れる
複合材料を得ることのできるプリプレグを製造する方法
を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明のプ
リプレグの製造方法は、モノフィラメントが集束されて
なるストランドからなる補強材に樹脂ワニスを含浸し、
次いで乾燥してなるプリプレグの製造方法において、前
記補強材に樹脂ワニスを含浸する前に、前記ストランド
に、平均粒径1000nm以下の無機粒子を前記補強材
100重量部に対して1〜30重量部の割合で含ませる
と共に、補強材への樹脂ワニスの含浸を1〜300To
rrの減圧条件下で行うことを特徴とする。
リプレグの製造方法は、モノフィラメントが集束されて
なるストランドからなる補強材に樹脂ワニスを含浸し、
次いで乾燥してなるプリプレグの製造方法において、前
記補強材に樹脂ワニスを含浸する前に、前記ストランド
に、平均粒径1000nm以下の無機粒子を前記補強材
100重量部に対して1〜30重量部の割合で含ませる
と共に、補強材への樹脂ワニスの含浸を1〜300To
rrの減圧条件下で行うことを特徴とする。
【0006】請求項2に係る発明のプリプレグの製造方
法は、モノフィラメントが集束されてなるストランドか
らなる補強材に樹脂ワニスを含浸し、次いで乾燥してな
るプリプレグの製造方法において、前記補強材に樹脂ワ
ニスを含浸する前に、前記ストランドに、平均粒径10
00nm以下の無機粒子を前記補強材100重量部に対
して1〜30重量部の割合で含ませると共に、補強材へ
の樹脂ワニスの含浸を樹脂ワニスに超音波振動を付与し
ながら行うことを特徴とする。
法は、モノフィラメントが集束されてなるストランドか
らなる補強材に樹脂ワニスを含浸し、次いで乾燥してな
るプリプレグの製造方法において、前記補強材に樹脂ワ
ニスを含浸する前に、前記ストランドに、平均粒径10
00nm以下の無機粒子を前記補強材100重量部に対
して1〜30重量部の割合で含ませると共に、補強材へ
の樹脂ワニスの含浸を樹脂ワニスに超音波振動を付与し
ながら行うことを特徴とする。
【0007】請求項3に係る発明のプリプレグの製造方
法は、モノフィラメントが集束されてなるストランドか
らなる補強材に樹脂ワニスを含浸し、次いで乾燥してな
るプリプレグの製造方法において、前記補強材に樹脂ワ
ニスを含浸する前に、前記ストランドに、平均粒径10
00nm以下の無機粒子を前記補強材100重量部に対
して1〜30重量部の割合で含ませると共に、補強材へ
の樹脂ワニスの含浸を、樹脂ワニス中に浸漬した振動バ
ネにより15〜30Hzの振動を樹脂ワニスに付与しな
がら行うことを特徴とする。
法は、モノフィラメントが集束されてなるストランドか
らなる補強材に樹脂ワニスを含浸し、次いで乾燥してな
るプリプレグの製造方法において、前記補強材に樹脂ワ
ニスを含浸する前に、前記ストランドに、平均粒径10
00nm以下の無機粒子を前記補強材100重量部に対
して1〜30重量部の割合で含ませると共に、補強材へ
の樹脂ワニスの含浸を、樹脂ワニス中に浸漬した振動バ
ネにより15〜30Hzの振動を樹脂ワニスに付与しな
がら行うことを特徴とする。
【0008】請求項4に係る発明のプリプレグの製造方
法は、モノフィラメントが集束されてなるストランドか
らなる補強材に樹脂ワニスを含浸し、次いで乾燥してな
るプリプレグの製造方法において、前記補強材に樹脂ワ
ニスを含浸する前に、前記ストランドに、平均粒径10
00nm以下の無機粒子を前記補強材100重量部に対
して1〜30重量部の割合で含ませると共に、この無機
粒子をストランドに含ませた補強材に樹脂ワニスを含浸
するに際し、補強材を減圧脱泡処理した溶剤中に浸漬し
た後、さらに減圧脱泡処理した樹脂ワニス中に浸漬し
て、補強材に樹脂ワニスを含浸することを特徴とする。
法は、モノフィラメントが集束されてなるストランドか
らなる補強材に樹脂ワニスを含浸し、次いで乾燥してな
るプリプレグの製造方法において、前記補強材に樹脂ワ
ニスを含浸する前に、前記ストランドに、平均粒径10
00nm以下の無機粒子を前記補強材100重量部に対
して1〜30重量部の割合で含ませると共に、この無機
粒子をストランドに含ませた補強材に樹脂ワニスを含浸
するに際し、補強材を減圧脱泡処理した溶剤中に浸漬し
た後、さらに減圧脱泡処理した樹脂ワニス中に浸漬し
て、補強材に樹脂ワニスを含浸することを特徴とする。
【0009】請求項5に係る発明のプリプレグの製造方
法は、請求項1から請求項4までのいずれかに記載の製
造方法において、樹脂ワニスを含浸する前の補強材のス
トランドに、平均粒径1000nm以下の無機粒子と共
に、金属アルコキシドの反応生成物を含ませ、かつ、金
属アルコキシドの反応生成物の含有量が前記無機粒子1
00重量部に対して20重量部以下であることを特徴と
する。
法は、請求項1から請求項4までのいずれかに記載の製
造方法において、樹脂ワニスを含浸する前の補強材のス
トランドに、平均粒径1000nm以下の無機粒子と共
に、金属アルコキシドの反応生成物を含ませ、かつ、金
属アルコキシドの反応生成物の含有量が前記無機粒子1
00重量部に対して20重量部以下であることを特徴と
する。
【0010】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おける補強材としては、モノフィラメントが集束されて
なるストランドからなるものが用いられる。モノフィラ
メントとしては、低熱膨張のものが好ましいが、特に限
定はされない。モノフィラメントの素材は、特に限定す
るものではないが、ガラス(例えば、Eガラス、Dガラ
ス、Qガラス、Sガラス、Tガラス等)やアラミド樹脂
の1種又は複数種であることが好ましい。ストランドの
長さについては、長繊維で用いてもよいし、短繊維で用
いてもよい。補強材の形態としては、低熱膨張の観点か
ら、樹脂含有量ができるだけ少なくてすむような形態が
好ましい。このような形態の補強材としては、特に限定
はされないが、マット、シート(例えば、クロス(平
織、ななこ織等の織り方がある)等)、及びこれらの複
合物等の繊維成形体等が例示される。上に挙げた補強材
の中でも、ガラスクロスが特に好ましい。その理由は、
クロス形状は緻密であるため樹脂含有量を低くできるこ
とや、フィラメントの連続性が高いことにより、複合材
料の低熱膨張化に有効だからである。また、ガラスが好
ましいのは、安価で、かつ、安定に長繊維を得ることが
できるからである。
おける補強材としては、モノフィラメントが集束されて
なるストランドからなるものが用いられる。モノフィラ
メントとしては、低熱膨張のものが好ましいが、特に限
定はされない。モノフィラメントの素材は、特に限定す
るものではないが、ガラス(例えば、Eガラス、Dガラ
ス、Qガラス、Sガラス、Tガラス等)やアラミド樹脂
の1種又は複数種であることが好ましい。ストランドの
長さについては、長繊維で用いてもよいし、短繊維で用
いてもよい。補強材の形態としては、低熱膨張の観点か
ら、樹脂含有量ができるだけ少なくてすむような形態が
好ましい。このような形態の補強材としては、特に限定
はされないが、マット、シート(例えば、クロス(平
織、ななこ織等の織り方がある)等)、及びこれらの複
合物等の繊維成形体等が例示される。上に挙げた補強材
の中でも、ガラスクロスが特に好ましい。その理由は、
クロス形状は緻密であるため樹脂含有量を低くできるこ
とや、フィラメントの連続性が高いことにより、複合材
料の低熱膨張化に有効だからである。また、ガラスが好
ましいのは、安価で、かつ、安定に長繊維を得ることが
できるからである。
【0011】補強材を構成するストランドに含ませる平
均粒径1000nm以下の無機粒子は、それ自身、低熱
膨張の材料である。その熱膨張係数は、特に限定される
わけではないが、10ppm/℃以下であることが好ま
しい。無機粒子の熱膨張係数が10ppm/℃より大き
いと、複合材料の熱膨張係数がアルミナ(7ppm/
℃)やシリコン(3〜4ppm/℃)に比べて大きくな
りすぎるからである。
均粒径1000nm以下の無機粒子は、それ自身、低熱
膨張の材料である。その熱膨張係数は、特に限定される
わけではないが、10ppm/℃以下であることが好ま
しい。無機粒子の熱膨張係数が10ppm/℃より大き
いと、複合材料の熱膨張係数がアルミナ(7ppm/
℃)やシリコン(3〜4ppm/℃)に比べて大きくな
りすぎるからである。
【0012】ストランドに含ませる平均粒径1000n
m以下の無機粒子の量は、無機粒子を含ませる前の補強
材100重量部に対して1〜30重量部の範囲内である
ことが重要である。この量が1重量部未満であると、本
発明の目的である熱膨張係数の小さい複合材料が得られ
ず、また、上記無機粒子の量が補強材100重量部に対
して30重量部を越えると、複合材料としたときの耐湿
性が悪くなりやすいという問題が生じるからである。
m以下の無機粒子の量は、無機粒子を含ませる前の補強
材100重量部に対して1〜30重量部の範囲内である
ことが重要である。この量が1重量部未満であると、本
発明の目的である熱膨張係数の小さい複合材料が得られ
ず、また、上記無機粒子の量が補強材100重量部に対
して30重量部を越えると、複合材料としたときの耐湿
性が悪くなりやすいという問題が生じるからである。
【0013】無機粒子として平均粒径1000nm以下
のものを用いる理由は、以下の通りである。ストランド
を構成するモノフィラメントは、通常、数μmの太さで
あるため、モノフィラメント間の隙間はミクロンオーダ
ーになるので、ストランドの内部まで無機粒子を容易に
含ませるためには、その平均粒径が1μm(=1000
nm)以下であることが好ましいからである。さらに、
このように平均粒径の小さい無機粒子は、水等を媒体と
する処理液中で容易に単分散するので好ましい。
のものを用いる理由は、以下の通りである。ストランド
を構成するモノフィラメントは、通常、数μmの太さで
あるため、モノフィラメント間の隙間はミクロンオーダ
ーになるので、ストランドの内部まで無機粒子を容易に
含ませるためには、その平均粒径が1μm(=1000
nm)以下であることが好ましいからである。さらに、
このように平均粒径の小さい無機粒子は、水等を媒体と
する処理液中で容易に単分散するので好ましい。
【0014】なお、前記無機粒子としては、平均粒径1
〜100nmのコロイド粒子がさらに好ましい。このよ
うな無機粒子は、その粒径がさらに小さいので、より狭
いストランドの隙間にも入っていけるからである。しか
し、コロイド粒子の平均粒径は、小さければ小さいほど
よいわけではなく、1nm未満になると、コロイド粒子
の比表面積が非常に大きくなるため、樹脂との界面制御
が困難になるので、コロイド粒子の平均粒径の下限は1
nmである。
〜100nmのコロイド粒子がさらに好ましい。このよ
うな無機粒子は、その粒径がさらに小さいので、より狭
いストランドの隙間にも入っていけるからである。しか
し、コロイド粒子の平均粒径は、小さければ小さいほど
よいわけではなく、1nm未満になると、コロイド粒子
の比表面積が非常に大きくなるため、樹脂との界面制御
が困難になるので、コロイド粒子の平均粒径の下限は1
nmである。
【0015】平均粒径1000nm以下の無機粒子とし
ては、特に限定されるわけではないが、溶融シリカや微
粒子アルミナ等のサブミクロンオーダーの市販粒子等が
好ましい。粒径のさらに小さい前記コロイド粒子として
は、特に限定されるわけではないが、シリカゾル、アル
ミナゾル、チタニアゾル等のゾル、超微粒子シリカ、超
微粒子チタニア等が好ましい。これらのコロイド粒子の
中でもシリカが特に好ましい。その理由は、シリカは、
容易に入手できる粒子の中では、熱膨張係数が低い
(0.55ppm/℃)からである。上述した粒子以外
にも、径の小さいボールを用いれば、ボールミル等の機
械的粉砕によってもサブミクロン粒子やコロイド粒子を
得ることができる。ここで、粉砕する材料は、低熱膨張
材料であることが望まれるので、シリカガラス、Eガラ
ス、Tガラス等のガラス、β−スポジュメンを析出させ
た結晶化ガラス、窒化ほう素、窒化珪素、ムライト、窒
化アルミニウム、コージェライト、チタン酸アルミニウ
ム(Al2 O3 ・TiO2 )、β−ユークリプタイト等
の結晶が好ましい。
ては、特に限定されるわけではないが、溶融シリカや微
粒子アルミナ等のサブミクロンオーダーの市販粒子等が
好ましい。粒径のさらに小さい前記コロイド粒子として
は、特に限定されるわけではないが、シリカゾル、アル
ミナゾル、チタニアゾル等のゾル、超微粒子シリカ、超
微粒子チタニア等が好ましい。これらのコロイド粒子の
中でもシリカが特に好ましい。その理由は、シリカは、
容易に入手できる粒子の中では、熱膨張係数が低い
(0.55ppm/℃)からである。上述した粒子以外
にも、径の小さいボールを用いれば、ボールミル等の機
械的粉砕によってもサブミクロン粒子やコロイド粒子を
得ることができる。ここで、粉砕する材料は、低熱膨張
材料であることが望まれるので、シリカガラス、Eガラ
ス、Tガラス等のガラス、β−スポジュメンを析出させ
た結晶化ガラス、窒化ほう素、窒化珪素、ムライト、窒
化アルミニウム、コージェライト、チタン酸アルミニウ
ム(Al2 O3 ・TiO2 )、β−ユークリプタイト等
の結晶が好ましい。
【0016】ストランドに含ませるものとしては、平均
粒径1000nm以下の無機粒子のみであってもよい
が、無機粒子に加え、金属アルコキシドの反応生成物を
も低熱膨張化材として含ませることも可能である。金属
アルコキシドは、アルコール等の溶媒に完全に溶解す
る。そのため、金属アルコキシドは、上記無機粒子と同
様に、それを含む処理液を補強材に含浸させることによ
り、ストランドの内部まで容易に入っていくことができ
る性質を有している。なお、金属アルコキシドの反応生
成物は、一般に連続相である無機膜を形成するため、本
発明における平均粒径1000nm以下の無機粒子とは
異なるものである。
粒径1000nm以下の無機粒子のみであってもよい
が、無機粒子に加え、金属アルコキシドの反応生成物を
も低熱膨張化材として含ませることも可能である。金属
アルコキシドは、アルコール等の溶媒に完全に溶解す
る。そのため、金属アルコキシドは、上記無機粒子と同
様に、それを含む処理液を補強材に含浸させることによ
り、ストランドの内部まで容易に入っていくことができ
る性質を有している。なお、金属アルコキシドの反応生
成物は、一般に連続相である無機膜を形成するため、本
発明における平均粒径1000nm以下の無機粒子とは
異なるものである。
【0017】上記の金属アルコキシドとしては、特に限
定するものではないが、シリコンアルコキシド、チタニ
ウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、マグネ
シウムアルコキシド、リチウムアルコキシド等が好まし
い。その理由は、これらの原料を用いれば、金属アルコ
キシドの反応生成物を容易に得ることができるからであ
る。これらの、金属アルコキシドの中でも、シリコンア
ルコキシドがより好ましい。シリコンアルコキシドは、
上記金属アルコキシドの中では、安価であり、安定性も
高いとともに、その反応生成物であるシリカの熱膨張係
数が低い(0.55ppm/℃)からである。また、金
属アルコキシドの反応生成物の含有割合については、特
に限定するものではないが、無機粒子100重量部に対
して、金属アルコキシドの反応生成物が20重量部以下
の割合であることが好ましい。20重量部を越えると、
複合材料としたときの耐湿性を損なう傾向が生じるから
である。
定するものではないが、シリコンアルコキシド、チタニ
ウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、マグネ
シウムアルコキシド、リチウムアルコキシド等が好まし
い。その理由は、これらの原料を用いれば、金属アルコ
キシドの反応生成物を容易に得ることができるからであ
る。これらの、金属アルコキシドの中でも、シリコンア
ルコキシドがより好ましい。シリコンアルコキシドは、
上記金属アルコキシドの中では、安価であり、安定性も
高いとともに、その反応生成物であるシリカの熱膨張係
数が低い(0.55ppm/℃)からである。また、金
属アルコキシドの反応生成物の含有割合については、特
に限定するものではないが、無機粒子100重量部に対
して、金属アルコキシドの反応生成物が20重量部以下
の割合であることが好ましい。20重量部を越えると、
複合材料としたときの耐湿性を損なう傾向が生じるから
である。
【0018】補強材で強化される樹脂としては、特に限
定されず、使用条件に応じて適宜選択されるが、例え
ば、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フェノール樹脂、PP
O(ポリフェニレンオキサイド)樹脂、フッ素樹脂(例
えば、ポリテトラフルオロエチレン等)、ポリエステル
樹脂、ポリカーボネイト、ポリエチレン、ポリエチレン
テレフタレート、ポリプロピレン、ポリスチレン及びこ
れらの各種変性樹脂等が挙げられる。これらは、1種の
みを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
定されず、使用条件に応じて適宜選択されるが、例え
ば、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フェノール樹脂、PP
O(ポリフェニレンオキサイド)樹脂、フッ素樹脂(例
えば、ポリテトラフルオロエチレン等)、ポリエステル
樹脂、ポリカーボネイト、ポリエチレン、ポリエチレン
テレフタレート、ポリプロピレン、ポリスチレン及びこ
れらの各種変性樹脂等が挙げられる。これらは、1種の
みを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
【0019】本発明では、補強材への樹脂ワニスの含浸
の際に下記の4つの方法のうちの少なくとも1つの方法
を施す。 1〜300Torrの減圧条件下で行う。 樹脂ワニスに超音波振動を付与しながら含浸を行う。 樹脂ワニス中に浸漬した振動バネにより15〜30H
zの振動を樹脂ワニスに付与しながら含浸を行う。 補強材を減圧脱泡処理した溶剤中に浸漬した後、さら
に減圧脱泡処理した樹脂ワニス中に浸漬して、補強材に
樹脂ワニスを含浸する。
の際に下記の4つの方法のうちの少なくとも1つの方法
を施す。 1〜300Torrの減圧条件下で行う。 樹脂ワニスに超音波振動を付与しながら含浸を行う。 樹脂ワニス中に浸漬した振動バネにより15〜30H
zの振動を樹脂ワニスに付与しながら含浸を行う。 補強材を減圧脱泡処理した溶剤中に浸漬した後、さら
に減圧脱泡処理した樹脂ワニス中に浸漬して、補強材に
樹脂ワニスを含浸する。
【0020】
【作用】本発明において、補強材への樹脂ワニスの含浸
の際に上記の〜の4つの方法のうち少なくとも1つ
の方法を施すことは、補強材の内部、すなわちストラン
ド中に樹脂を入り込ませ、ポアを減少する作用がある。
そのために、本発明によれば、熱膨張係数が小さくて、
かつ、吸湿処理後の耐熱性に優れる複合材料を得ること
のできるプリプレグを製造することができるようにな
る。
の際に上記の〜の4つの方法のうち少なくとも1つ
の方法を施すことは、補強材の内部、すなわちストラン
ド中に樹脂を入り込ませ、ポアを減少する作用がある。
そのために、本発明によれば、熱膨張係数が小さくて、
かつ、吸湿処理後の耐熱性に優れる複合材料を得ること
のできるプリプレグを製造することができるようにな
る。
【0021】
【実施例】以下、本発明の実施例と比較例を説明する
が、本発明は下記実施例に限定されない。
が、本発明は下記実施例に限定されない。
【0022】(実施例1)コロイダルシリカ水溶液(日
産化学工業社製、商品名スノーテックスOL、コロイダ
ルシリカの平均粒径45nm、コロイダルシリカ20重
量%)100gをA液とした。
産化学工業社製、商品名スノーテックスOL、コロイダ
ルシリカの平均粒径45nm、コロイダルシリカ20重
量%)100gをA液とした。
【0023】これとは別に、アミノシラン系カップリン
グ剤(信越化学工業社製、品番KBM573)2gとエ
タノール198gとを15分間攪拌混合することによ
り、B液を得た。
グ剤(信越化学工業社製、品番KBM573)2gとエ
タノール198gとを15分間攪拌混合することによ
り、B液を得た。
【0024】Eガラスのななこ織りクロス(旭シュエー
ベル社製、品番6777、AS450MV処理品、繊維
径7μm、打ち込み密度(ストランド本数/25m
m):縦37本/25mm・横68本/25mm)に、
まずA液を含浸させた。その後、1分間室温で乾燥させ
た後、180℃で30分間熱処理を行った。このコーテ
ィングの作業を2回繰り返した。その後、ガラスクロス
にB液を含浸させ、室温で1分間乾燥した後、110℃
で10分間熱処理した。これにより、無機粒子を含んで
いて、かつ、シラン系カップリング剤で表面処理済みの
ガラスクロスを得た。この場合の無機粒子を含ませる前
の補強材(ガラスクロス)100重量部に対する平均粒
径1000nm以下の無機粒子の含有量を表1に示す。
ベル社製、品番6777、AS450MV処理品、繊維
径7μm、打ち込み密度(ストランド本数/25m
m):縦37本/25mm・横68本/25mm)に、
まずA液を含浸させた。その後、1分間室温で乾燥させ
た後、180℃で30分間熱処理を行った。このコーテ
ィングの作業を2回繰り返した。その後、ガラスクロス
にB液を含浸させ、室温で1分間乾燥した後、110℃
で10分間熱処理した。これにより、無機粒子を含んで
いて、かつ、シラン系カップリング剤で表面処理済みの
ガラスクロスを得た。この場合の無機粒子を含ませる前
の補強材(ガラスクロス)100重量部に対する平均粒
径1000nm以下の無機粒子の含有量を表1に示す。
【0025】その後エポキシ樹脂ワニスを、前記で得ら
れた表面処理済みのガラスクロスに含浸させ、間隔0.
2mmのロールで絞った後、150℃で5分間乾燥し、
プリプレグを得た。ここで樹脂ワニスの含浸は20To
rrの減圧条件下で行った。次に、得られたプリプレグ
を4枚重ね、170℃、30kg/cm2 の成形条件で
90分間プレス成形して、基板(複合材料)を得た。得
られた基板(複合材料)中の樹脂成分の含有割合を表1
に示す。
れた表面処理済みのガラスクロスに含浸させ、間隔0.
2mmのロールで絞った後、150℃で5分間乾燥し、
プリプレグを得た。ここで樹脂ワニスの含浸は20To
rrの減圧条件下で行った。次に、得られたプリプレグ
を4枚重ね、170℃、30kg/cm2 の成形条件で
90分間プレス成形して、基板(複合材料)を得た。得
られた基板(複合材料)中の樹脂成分の含有割合を表1
に示す。
【0026】(実施例2)樹脂ワニスの含浸を、大気圧
中で、かつ、47KHzの超音波振動を樹脂ワニスに付
与しながら行うようにしたこと以外は、実施例1と同様
の操作を行って、プリプレグ及び基板(複合材料)を作
製した。この場合の、無機粒子を含ませる前の補強材1
00重量部に対する平均粒径1000nm以下の無機粒
子の含有量と得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の
含有割合を表1に示す。
中で、かつ、47KHzの超音波振動を樹脂ワニスに付
与しながら行うようにしたこと以外は、実施例1と同様
の操作を行って、プリプレグ及び基板(複合材料)を作
製した。この場合の、無機粒子を含ませる前の補強材1
00重量部に対する平均粒径1000nm以下の無機粒
子の含有量と得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の
含有割合を表1に示す。
【0027】(実施例3)樹脂ワニスの含浸を、大気圧
中で、かつ、樹脂ワニス中に浸漬した振動ばねの振動に
より、15Hzの振動を樹脂ワニスに付与しながら行う
ようにしたこと以外は、実施例1と同様の操作を行っ
て、プリプレグ及び基板(複合材料)を作製した。この
場合の、無機粒子を含ませる前の補強材100重量部に
対する平均粒径1000nm以下の無機粒子の含有量と
得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の含有割合を表
1に示す。
中で、かつ、樹脂ワニス中に浸漬した振動ばねの振動に
より、15Hzの振動を樹脂ワニスに付与しながら行う
ようにしたこと以外は、実施例1と同様の操作を行っ
て、プリプレグ及び基板(複合材料)を作製した。この
場合の、無機粒子を含ませる前の補強材100重量部に
対する平均粒径1000nm以下の無機粒子の含有量と
得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の含有割合を表
1に示す。
【0028】(実施例4)実施例1と同様の操作で無機
粒子を含んでいて、かつ、シラン系カップリング剤で表
面処理済みのガラスクロスを得た。
粒子を含んでいて、かつ、シラン系カップリング剤で表
面処理済みのガラスクロスを得た。
【0029】その後、下記に述べるように図1の工程図
に示した方法で、エポキシ樹脂ワニスを、前記で得られ
た表面処理済みのガラスクロスに含浸、乾燥して、プリ
プレグを得た。次に、得られたプリプレグを4枚重ね、
170℃、30kg/cm2の成形条件で90分間プレ
ス成形して、基板(複合材料)を得た。この場合の、無
機粒子を含ませる前の補強材100重量部に対する平均
粒径1000nm以下の無機粒子の含有量と得られた基
板(複合材料)中の樹脂成分の含有割合を表1に示す。
に示した方法で、エポキシ樹脂ワニスを、前記で得られ
た表面処理済みのガラスクロスに含浸、乾燥して、プリ
プレグを得た。次に、得られたプリプレグを4枚重ね、
170℃、30kg/cm2の成形条件で90分間プレ
ス成形して、基板(複合材料)を得た。この場合の、無
機粒子を含ませる前の補強材100重量部に対する平均
粒径1000nm以下の無機粒子の含有量と得られた基
板(複合材料)中の樹脂成分の含有割合を表1に示す。
【0030】ここで、プリプレグの作製方法を図1の工
程図を参照しながら説明する。真空ポンプ10を備える
溶剤減圧釜2を用いて20Torrで30分間減圧脱泡
処理した溶剤1(ジメチルホルムアミド)を溶剤含浸槽
3に満たし、別の真空ポンプ10を備える樹脂ワニス減
圧釜5を用いて20Torrで30分間減圧脱泡処理し
た樹脂ワニス6(実施例1で使用したものと同組成のエ
ポキシ樹脂ワニス)をキッスロール含浸槽7及び樹脂ワ
ニス槽8に満たしておき、基材4(上記の表面処理済み
のガラスクロス)に溶剤含浸槽3中の溶剤1を含浸し、
次いでキッスロール含浸槽7中の樹脂ワニス6をキッス
ロールにより含浸させ、次いで樹脂ワニス槽8中の樹脂
ワニス6を含浸させ、次いでスクイズロール9で絞った
後、150℃で5分間乾燥して、プリプレグを得た。な
お、図1には溶剤1及び樹脂ワニス6を循環する循環経
路も示している。
程図を参照しながら説明する。真空ポンプ10を備える
溶剤減圧釜2を用いて20Torrで30分間減圧脱泡
処理した溶剤1(ジメチルホルムアミド)を溶剤含浸槽
3に満たし、別の真空ポンプ10を備える樹脂ワニス減
圧釜5を用いて20Torrで30分間減圧脱泡処理し
た樹脂ワニス6(実施例1で使用したものと同組成のエ
ポキシ樹脂ワニス)をキッスロール含浸槽7及び樹脂ワ
ニス槽8に満たしておき、基材4(上記の表面処理済み
のガラスクロス)に溶剤含浸槽3中の溶剤1を含浸し、
次いでキッスロール含浸槽7中の樹脂ワニス6をキッス
ロールにより含浸させ、次いで樹脂ワニス槽8中の樹脂
ワニス6を含浸させ、次いでスクイズロール9で絞った
後、150℃で5分間乾燥して、プリプレグを得た。な
お、図1には溶剤1及び樹脂ワニス6を循環する循環経
路も示している。
【0031】(実施例5)エタノール22.5gと金属
アルコキシドであるテトラエトキシシラン0.52gを
よく混合した後、これに、コロイダルシリカ水溶液(日
産化学工業社製、商品名スノーテックスOL、コロイダ
ルシリカの平均粒径45nm、コロイダルシリカ20重
量%)75gを加え、さらに15分間攪拌して得られた
液をA液として使用した以外は、実施例1と同様の操作
を行って、プリプレグ及び基板(複合材料)を作製し
た。この場合の、無機粒子を含ませる前の補強材100
重量部に対する平均粒径1000nm以下の無機粒子の
含有量と得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の含有
割合を表1に示す。
アルコキシドであるテトラエトキシシラン0.52gを
よく混合した後、これに、コロイダルシリカ水溶液(日
産化学工業社製、商品名スノーテックスOL、コロイダ
ルシリカの平均粒径45nm、コロイダルシリカ20重
量%)75gを加え、さらに15分間攪拌して得られた
液をA液として使用した以外は、実施例1と同様の操作
を行って、プリプレグ及び基板(複合材料)を作製し
た。この場合の、無機粒子を含ませる前の補強材100
重量部に対する平均粒径1000nm以下の無機粒子の
含有量と得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の含有
割合を表1に示す。
【0032】(実施例6)エタノール22.5gと金属
アルコキシドであるテトラエトキシシラン0.52gを
よく混合した後、これに、コロイダルシリカ水溶液(日
産化学工業社製、商品名スノーテックスOL、コロイダ
ルシリカの平均粒径45nm、コロイダルシリカ20重
量%)75gを加え、さらに15分間攪拌して得られた
液をA液として使用したことと、樹脂ワニスの含浸を、
大気圧中で、かつ、47KHzの超音波振動を樹脂ワニ
スに付与しながら行うようにしたこと以外は、実施例1
と同様の操作を行って、プリプレグ及び基板(複合材
料)を作製した。この場合の、無機粒子を含ませる前の
補強材100重量部に対する平均粒径1000nm以下
の無機粒子の含有量と得られた基板(複合材料)中の樹
脂成分の含有割合を表1に示す。
アルコキシドであるテトラエトキシシラン0.52gを
よく混合した後、これに、コロイダルシリカ水溶液(日
産化学工業社製、商品名スノーテックスOL、コロイダ
ルシリカの平均粒径45nm、コロイダルシリカ20重
量%)75gを加え、さらに15分間攪拌して得られた
液をA液として使用したことと、樹脂ワニスの含浸を、
大気圧中で、かつ、47KHzの超音波振動を樹脂ワニ
スに付与しながら行うようにしたこと以外は、実施例1
と同様の操作を行って、プリプレグ及び基板(複合材
料)を作製した。この場合の、無機粒子を含ませる前の
補強材100重量部に対する平均粒径1000nm以下
の無機粒子の含有量と得られた基板(複合材料)中の樹
脂成分の含有割合を表1に示す。
【0033】(実施例7)エタノール22.5gと金属
アルコキシドであるテトラエトキシシラン0.52gを
よく混合した後、これに、コロイダルシリカ水溶液(日
産化学工業社製、商品名スノーテックスOL、コロイダ
ルシリカの平均粒径45nm、コロイダルシリカ20重
量%)75gを加え、さらに15分間攪拌して得られた
液をA液として使用したことと、樹脂ワニスの含浸を、
大気圧中で、かつ、樹脂ワニス中に浸漬した振動ばねの
振動により、15Hzの振動を樹脂ワニスに付与しなが
ら行うようにしたこと以外は、実施例1と同様の操作を
行って、プリプレグ及び基板(複合材料)を作製した。
この場合の、無機粒子を含ませる前の補強材100重量
部に対する平均粒径1000nm以下の無機粒子の含有
量と得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の含有割合
を表2に示す。
アルコキシドであるテトラエトキシシラン0.52gを
よく混合した後、これに、コロイダルシリカ水溶液(日
産化学工業社製、商品名スノーテックスOL、コロイダ
ルシリカの平均粒径45nm、コロイダルシリカ20重
量%)75gを加え、さらに15分間攪拌して得られた
液をA液として使用したことと、樹脂ワニスの含浸を、
大気圧中で、かつ、樹脂ワニス中に浸漬した振動ばねの
振動により、15Hzの振動を樹脂ワニスに付与しなが
ら行うようにしたこと以外は、実施例1と同様の操作を
行って、プリプレグ及び基板(複合材料)を作製した。
この場合の、無機粒子を含ませる前の補強材100重量
部に対する平均粒径1000nm以下の無機粒子の含有
量と得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の含有割合
を表2に示す。
【0034】(実施例8)エタノール22.5gと金属
アルコキシドであるテトラエトキシシラン0.52gを
よく混合した後、これに、コロイダルシリカ水溶液(日
産化学工業社製、商品名スノーテックスOL、コロイダ
ルシリカの平均粒径45nm、コロイダルシリカ20重
量%)75gを加え、さらに15分間攪拌して得られた
液をA液として使用したことと、樹脂ワニスの含浸を、
図1の工程図に示した方法で、実施例4と同様にして行
った以外は、実施例1と同様の操作を行って、プリプレ
グ及び基板(複合材料)を作製した。この場合の、無機
粒子を含ませる前の補強材100重量部に対する平均粒
径1000nm以下の無機粒子の含有量と得られた基板
(複合材料)中の樹脂成分の含有割合を表2に示す。
アルコキシドであるテトラエトキシシラン0.52gを
よく混合した後、これに、コロイダルシリカ水溶液(日
産化学工業社製、商品名スノーテックスOL、コロイダ
ルシリカの平均粒径45nm、コロイダルシリカ20重
量%)75gを加え、さらに15分間攪拌して得られた
液をA液として使用したことと、樹脂ワニスの含浸を、
図1の工程図に示した方法で、実施例4と同様にして行
った以外は、実施例1と同様の操作を行って、プリプレ
グ及び基板(複合材料)を作製した。この場合の、無機
粒子を含ませる前の補強材100重量部に対する平均粒
径1000nm以下の無機粒子の含有量と得られた基板
(複合材料)中の樹脂成分の含有割合を表2に示す。
【0035】(実施例9)実施例1ではA液のコーティ
ングの作業を2回繰り返し行ったが、この実施例9では
A液のコーティングの作業を1回だけ行うようにして、
補強材100重量部に対する平均粒径1000nm以下
の無機粒子の含有量を実施例1とは異なるようにした。
その他の操作は、実施例1と同様の操作を行って、プリ
プレグ及び基板(複合材料)を作製した。この場合の、
無機粒子を含ませる前の補強材100重量部に対する平
均粒径1000nm以下の無機粒子の含有量と得られた
基板(複合材料)中の樹脂成分の含有割合を表2に示
す。
ングの作業を2回繰り返し行ったが、この実施例9では
A液のコーティングの作業を1回だけ行うようにして、
補強材100重量部に対する平均粒径1000nm以下
の無機粒子の含有量を実施例1とは異なるようにした。
その他の操作は、実施例1と同様の操作を行って、プリ
プレグ及び基板(複合材料)を作製した。この場合の、
無機粒子を含ませる前の補強材100重量部に対する平
均粒径1000nm以下の無機粒子の含有量と得られた
基板(複合材料)中の樹脂成分の含有割合を表2に示
す。
【0036】(比較例1)樹脂ワニスの含浸を、大気圧
中で行うようにしたこと以外は、実施例1と同様の操作
を行って、プリプレグ及び基板(複合材料)を作製し
た。この場合の、無機粒子を含ませる前の補強材100
重量部に対する平均粒径1000nm以下の無機粒子の
含有量と得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の含有
割合を表2に示す。
中で行うようにしたこと以外は、実施例1と同様の操作
を行って、プリプレグ及び基板(複合材料)を作製し
た。この場合の、無機粒子を含ませる前の補強材100
重量部に対する平均粒径1000nm以下の無機粒子の
含有量と得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の含有
割合を表2に示す。
【0037】(比較例2)樹脂ワニスの含浸を、大気圧
中で行うようにしたこと以外は、実施例9と同様の操作
を行って、プリプレグ及び基板(複合材料)を作製し
た。この場合の、無機粒子を含ませる前の補強材100
重量部に対する平均粒径1000nm以下の無機粒子の
含有量と得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の含有
割合を表2に示す。
中で行うようにしたこと以外は、実施例9と同様の操作
を行って、プリプレグ及び基板(複合材料)を作製し
た。この場合の、無機粒子を含ませる前の補強材100
重量部に対する平均粒径1000nm以下の無機粒子の
含有量と得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の含有
割合を表2に示す。
【0038】実施例1〜9及び比較例1〜2における、
無機粒子を含ませる前の補強材100重量部に対する平
均粒径1000nm以下の無機粒子の含有量と得られた
基板(複合材料)中の樹脂成分の含有割合は以下のよう
にして求めた。
無機粒子を含ませる前の補強材100重量部に対する平
均粒径1000nm以下の無機粒子の含有量と得られた
基板(複合材料)中の樹脂成分の含有割合は以下のよう
にして求めた。
【0039】無機粒子を含ませる前の補強材の面積当た
りの重量を予め計量しておく。そして、補強材に含有さ
せた平均粒径1000nm以下の無機粒子(コロイダシ
リカ)の重量は、無機粒子を含ませた後の補強材の重量
を計量し、その値から、予め求めておいた無機粒子を含
ませる前の補強材の重量を差し引いて求める。得られた
数値から無機粒子を含ませる前の補強材100重量部に
対する平均粒径1000nm以下の無機粒子の含有量を
算出して求める。なお、金属アルコキシド(テトラエト
キシシラン)を無機粒子(コロイダシリカ)と併用した
場合は、金属アルコキシドの反応生成物の量を、A液に
含まれていた金属アルコキシドが完全に加水分解すると
仮定し、A液の仕込み量より算出し、無機粒子を含ませ
た後の補強材の重量と、予め求めておいた無機粒子を含
ませる前の補強材の重量を差し引いて求めた値から、さ
らに金属アルコキシドの反応生成物の量を差し引いて補
強材に含有させた無機粒子(コロイダシリカ)の重量を
求めるようにした。
りの重量を予め計量しておく。そして、補強材に含有さ
せた平均粒径1000nm以下の無機粒子(コロイダシ
リカ)の重量は、無機粒子を含ませた後の補強材の重量
を計量し、その値から、予め求めておいた無機粒子を含
ませる前の補強材の重量を差し引いて求める。得られた
数値から無機粒子を含ませる前の補強材100重量部に
対する平均粒径1000nm以下の無機粒子の含有量を
算出して求める。なお、金属アルコキシド(テトラエト
キシシラン)を無機粒子(コロイダシリカ)と併用した
場合は、金属アルコキシドの反応生成物の量を、A液に
含まれていた金属アルコキシドが完全に加水分解すると
仮定し、A液の仕込み量より算出し、無機粒子を含ませ
た後の補強材の重量と、予め求めておいた無機粒子を含
ませる前の補強材の重量を差し引いて求めた値から、さ
らに金属アルコキシドの反応生成物の量を差し引いて補
強材に含有させた無機粒子(コロイダシリカ)の重量を
求めるようにした。
【0040】得られた基板(複合材料)中の樹脂成分の
含有割合は、無機粒子を含ませ、かつ、表面処理を施し
た後の補強材の面積当たりの重量と基板の面積当たりの
重量を計量し、これらの計量値を基にして基板の重量か
ら補強材の重量を差し引く方法で求めた。
含有割合は、無機粒子を含ませ、かつ、表面処理を施し
た後の補強材の面積当たりの重量と基板の面積当たりの
重量を計量し、これらの計量値を基にして基板の重量か
ら補強材の重量を差し引く方法で求めた。
【0041】また、実施例1〜9及び比較例1〜2で得
られた基板(複合材料)について、吸湿処理後の半田耐
熱試験を下記のようにして行った。まず、試料を134
℃3気圧の飽和水蒸気中に1時間さらした(PCT処
理)後、直ちに260℃の半田浴中に60秒間浸漬し、
ふくれが生じるかどうかを調べた。ふくれが生じなかっ
た場合には○、ふくれが発生した場合は×として、得ら
れた結果を表1及び表2に示した。
られた基板(複合材料)について、吸湿処理後の半田耐
熱試験を下記のようにして行った。まず、試料を134
℃3気圧の飽和水蒸気中に1時間さらした(PCT処
理)後、直ちに260℃の半田浴中に60秒間浸漬し、
ふくれが生じるかどうかを調べた。ふくれが生じなかっ
た場合には○、ふくれが発生した場合は×として、得ら
れた結果を表1及び表2に示した。
【0042】また、実施例1〜9及び比較例1〜2で得
られた基板(複合材料)について、ガラスクロスの縦糸
方向及び横糸方向の熱膨張係数をそれぞれTMA(Ther
momechanical Analyzer )で測定し、表1及び表2にそ
の結果を示した。この熱膨張係数の測定は、5℃/分の
昇温速度で室温から155℃まで行い、40〜80℃の
熱膨張係数の値を求めた。
られた基板(複合材料)について、ガラスクロスの縦糸
方向及び横糸方向の熱膨張係数をそれぞれTMA(Ther
momechanical Analyzer )で測定し、表1及び表2にそ
の結果を示した。この熱膨張係数の測定は、5℃/分の
昇温速度で室温から155℃まで行い、40〜80℃の
熱膨張係数の値を求めた。
【0043】
【表1】
【0044】
【表2】
【0045】表1及び表2の結果から、本発明の実施例
では、熱膨張係数が小さくて、かつ、吸湿後の半田耐熱
性の優れた基板が得られていることが確認できた。
では、熱膨張係数が小さくて、かつ、吸湿後の半田耐熱
性の優れた基板が得られていることが確認できた。
【0046】
【発明の効果】請求項1〜請求項5に係るプリプレグの
製造方法では、平均粒径1000nm以下の無機粒子を
含有している補強材への樹脂ワニスの含浸の際に下記の
4つの方法のうちの少なくとも1つの方法を施す。 1〜300Torrの減圧条件下で行う。 樹脂ワニスに超音波振動を付与しながら含浸を行う。 樹脂ワニス中に浸漬した振動バネにより15〜30H
zの振動を樹脂ワニスに付与しながら含浸を行う。 補強材を減圧脱泡処理した溶剤中に浸漬した後、さら
に減圧脱泡処理した樹脂ワニス中に浸漬して、補強材に
樹脂ワニスを含浸する。
製造方法では、平均粒径1000nm以下の無機粒子を
含有している補強材への樹脂ワニスの含浸の際に下記の
4つの方法のうちの少なくとも1つの方法を施す。 1〜300Torrの減圧条件下で行う。 樹脂ワニスに超音波振動を付与しながら含浸を行う。 樹脂ワニス中に浸漬した振動バネにより15〜30H
zの振動を樹脂ワニスに付与しながら含浸を行う。 補強材を減圧脱泡処理した溶剤中に浸漬した後、さら
に減圧脱泡処理した樹脂ワニス中に浸漬して、補強材に
樹脂ワニスを含浸する。
【0047】従って、請求項1〜請求項5に係るプリプ
レグの製造方法によれば、熱膨張係数が小さくて、か
つ、吸湿処理後の耐熱性に優れる複合材料を得ることの
できるプリプレグを製造することができる。
レグの製造方法によれば、熱膨張係数が小さくて、か
つ、吸湿処理後の耐熱性に優れる複合材料を得ることの
できるプリプレグを製造することができる。
【図1】図1は本発明の一実施例における工程を説明す
るための、簡略工程図である。
るための、簡略工程図である。
1 溶剤 2 溶剤減圧釜 3 溶剤含浸槽 4 基材 5 樹脂ワニス減圧釜 6 樹脂ワニス 7 キッスロール含浸槽 8 樹脂ワニス槽 9 スクイズロール 10 真空ポンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山河 清志郎 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 モノフィラメントが集束されてなるスト
ランドからなる補強材に樹脂ワニスを含浸し、次いで乾
燥してなるプリプレグの製造方法において、前記補強材
に樹脂ワニスを含浸する前に、前記ストランドに、平均
粒径1000nm以下の無機粒子を前記補強材100重
量部に対して1〜30重量部の割合で含ませると共に、
補強材への樹脂ワニスの含浸を1〜300Torrの減
圧条件下で行うことを特徴とするプリプレグの製造方
法。 - 【請求項2】 モノフィラメントが集束されてなるスト
ランドからなる補強材に樹脂ワニスを含浸し、次いで乾
燥してなるプリプレグの製造方法において、前記補強材
に樹脂ワニスを含浸する前に、前記ストランドに、平均
粒径1000nm以下の無機粒子を前記補強材100重
量部に対して1〜30重量部の割合で含ませると共に、
補強材への樹脂ワニスの含浸を樹脂ワニスに超音波振動
を付与しながら行うことを特徴とするプリプレグの製造
方法。 - 【請求項3】 モノフィラメントが集束されてなるスト
ランドからなる補強材に樹脂ワニスを含浸し、次いで乾
燥してなるプリプレグの製造方法において、前記補強材
に樹脂ワニスを含浸する前に、前記ストランドに、平均
粒径1000nm以下の無機粒子を前記補強材100重
量部に対して1〜30重量部の割合で含ませると共に、
補強材への樹脂ワニスの含浸を、樹脂ワニス中に浸漬し
た振動バネにより15〜30Hzの振動を樹脂ワニスに
付与しながら行うことを特徴とするプリプレグの製造方
法。 - 【請求項4】 モノフィラメントが集束されてなるスト
ランドからなる補強材に樹脂ワニスを含浸し、次いで乾
燥してなるプリプレグの製造方法において、前記補強材
に樹脂ワニスを含浸する前に、前記ストランドに、平均
粒径1000nm以下の無機粒子を前記補強材100重
量部に対して1〜30重量部の割合で含ませると共に、
この無機粒子をストランドに含ませた補強材に樹脂ワニ
スを含浸するに際し、補強材を減圧脱泡処理した溶剤中
に浸漬した後、さらに減圧脱泡処理した樹脂ワニス中に
浸漬して、補強材に樹脂ワニスを含浸することを特徴と
するプリプレグの製造方法。 - 【請求項5】 樹脂ワニスを含浸する前の補強材のスト
ランドに、平均粒径1000nm以下の無機粒子と共
に、金属アルコキシドの反応生成物を含ませ、かつ、金
属アルコキシドの反応生成物の含有量が前記無機粒子1
00重量部に対して20重量部以下であることを特徴と
する請求項1から請求項4までのいずれかに記載のプリ
プレグの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15185095A JPH093217A (ja) | 1995-06-19 | 1995-06-19 | プリプレグの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15185095A JPH093217A (ja) | 1995-06-19 | 1995-06-19 | プリプレグの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH093217A true JPH093217A (ja) | 1997-01-07 |
Family
ID=15527642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15185095A Withdrawn JPH093217A (ja) | 1995-06-19 | 1995-06-19 | プリプレグの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH093217A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6949289B1 (en) | 1998-03-03 | 2005-09-27 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Impregnated glass fiber strands and products including the same |
| US7354641B2 (en) | 2004-10-12 | 2008-04-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Resin compatible yarn binder and uses thereof |
-
1995
- 1995-06-19 JP JP15185095A patent/JPH093217A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6949289B1 (en) | 1998-03-03 | 2005-09-27 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Impregnated glass fiber strands and products including the same |
| US7354641B2 (en) | 2004-10-12 | 2008-04-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Resin compatible yarn binder and uses thereof |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020903 |