JPH09323478A - 光記録媒体 - Google Patents

光記録媒体

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JPH09323478A
JPH09323478A JP8166885A JP16688596A JPH09323478A JP H09323478 A JPH09323478 A JP H09323478A JP 8166885 A JP8166885 A JP 8166885A JP 16688596 A JP16688596 A JP 16688596A JP H09323478 A JPH09323478 A JP H09323478A
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dye
recording layer
optical recording
recording
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JP8166885A
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Emiko Yoshimura
江美子 吉村
Masahiro Shinkai
正博 新海
Sumiko Kitagawa
寿美子 北川
Atsushi Kadota
敦志 門田
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TDK Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 630〜690nm程度の短波長での記録、再
生を良好に行うことができる光記録媒体を提供する。 【解決手段】 記録層に下記式(I)で表される金属含
有アゾ系化合物を含有させる。 【化43】 [式(I)中、R1 、R2 はニトロ、ハロゲン、アミ
ノ、スルファモイル、アルキル、アルコキシを表し、
t、uは0、1、2、3、4である。R3 、R4 はハロ
ゲン、ニトロ、アルキル、アルコキシ、アミノを表し、
v、wは0、1〜6の整数である。M1 はCo、Niを
表し、Y+ はアルキル置換アンモニウムイオンを表す。
ただし、t、u、v、wは同時に0になることはなく、
t+u+v+wは1〜20である。]

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体、特に
630nm〜690nmの赤色レーザーにおける記録再生可
能な光記録媒体、または770nm〜830nmの近赤外レ
ーザーと630nm〜690nmの赤色レーザーにおける記
録再生可能な光記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】本発明の発明者らはCD(コンパクトデ
ィスク)規格に対応した記録可能な光記録媒体としてC
D−R(追記型コンパクトディスク)を開発してきた。
近年、更なる高密度光記録媒体が望まれている。例え
ば、CD−Rの記録波長を現行の780nmから680〜
635nmへと短波長化した次世代のCD−R、650nm
で記録再生が行えるDVD−R(追記型ビデオディス
ク)などが挙げられる。また現行のCD−Rとの互換性
を考慮し、再生を短波長でも行えるCD−RIIが提唱さ
れている。こうした規格に用いる色素への要求は、波長
以外はほぼ現行の色素に対する要求と同等と考えられ
る。しかし、これまで780nmに対応すべく開発が進め
られてきた結果、680〜635nmなどの短波長側で耐
光性や溶解性、ならびに記録感度などの諸特性を満たし
ている色素はほとんど知られていない。
【0003】記録波長も重要であるが、特に重要で実現
困難な特性が記録層用色素の耐光性である。これまでに
高耐光性色素として、例えば特開昭59−55795号
に示されるような、耐光性が低いシアニン色素に金属錯
体クエンチャーを組合せて耐光性を改善した例がある。
しかし、この系はスピンコート時に用いられる塗布溶媒
に対する溶解度が著しく低下することと、安定化剤その
ものが分解劣化してしまう欠点を有する。この他にも、
高耐光性を有するものとして、例えばアゾ系金属錯体系
色素[特公平7−42451号(対応特開昭63−35
587号)および特公平7−37580号]、ホルマザ
ンニッケル錯体色素(特開昭60−254038号、同
62−144997号)などがある。確かにこれら金属
錯体色素は耐光性に優れているが、一般に記録感度が低
く、比較的溶解性も低く、特定の溶媒にしか溶解しない
欠点を有する。また680〜635nmの短波長での記録
再生を考慮すると、ホルマザンニッケル金属錯体色素は
その吸収波長が長過ぎ、もはやこの骨格では短波長への
対応は不可能と考えられる。
【0004】また、特開平2−55189号公報には、
ともに750〜850nmに吸収をもつアゾ含金色素と耐
光性のない色素とを混合し、耐光性を向上させるといっ
た例があるが、このようなアゾ金属錯体は上記の吸収波
長の色素に対しては効果がみられるものの、630〜6
90nmに吸収をもつ耐光性のない色素に対しては、両者
の吸収波長が異なるために、アゾ金属錯体のクエンチャ
ーとしての効果が低く、耐光性の向上した短波長用のデ
ィスク形成はできなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐光
性に優れ、630nm〜690nmから選択される波長にお
いて、優れた記録再生特性を有する光学記録媒体、ある
いはさらに従来の770nm〜830nmから選択される波
長の光に対してもCD規格に準拠した記録再生が可能
な、良好な記録特性を有する光記録媒体を提供すること
である。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
の(1)〜(10)によって達成される。 (1)基板上に色素を含有する記録層を有し、この記録
層上に反射層を有し、この反射層上に保護膜を有する光
記録媒体において、前記記録層が、下記式(I)で表さ
れる金属含有アゾ系化合物を含有する光記録媒体。
【0007】
【化4】
【0008】[式(I)において、R1 およびR2 は各
々ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、スルファモイル
基、アルキル基またはアルコキシ基を表し、tおよびu
は各々0または1〜4の整数である。R3 およびR4
ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基ま
たはアミノ基を表し、vおよびwは各々0または1〜6
の整数である。M1 はコバルトまたはニッケルを表す。
+ はアルキル置換アンモニウムイオンを表す。ただ
し、t、u、vおよびwは同時に0になることはなく、
t+u+v+wは1〜20である。] (2)前記記録層が、下記式(II)で表されるトリメチ
ンシアニン系色素を含有する上記(1)の光記録媒体。
【0009】
【化5】
【0010】[式(II)において、Q1 およびQ2 は各
々炭素原子および窒素原子ととも複素環を完成するのに
必要な原子群を表し、Q1 またはQ2 で完成される複素
環骨格は同一でも異なるものであってもよい。R1 およ
びR2 は、各々脂肪族炭化水素基を表し、これらは同一
でも異なるものであってもよい。R3 は水素原子または
一価の置換基を表す。X- は一価の陰イオンを表す。] (3)前記記録層が前記金属含有アゾ系化合物または前
記トリメチンシアニン系色素とは光学特性の異なる第2
の光吸収色素を含有し、630〜690nmの第1の波長
光および770〜830nmの第2の波長光で記録再生を
行う上記(1)または(2)の光記録媒体。 (4)前記第2の波長光で記録を行い、前記第1および
第2の波長光で再生を行う上記(3)の光記録媒体。 (5)前記金属含有アゾ系化合物、および前記トリメチ
ンシアニン系色素の650nmでの複素屈折率の実部nが
1.8〜2.6、虚部kが0.02〜0.20であり、
前記第2の光吸収色素の780nmでの複素屈折率の実部
nが1.8〜2.6、虚部kが0.02〜0.30であ
って、薄膜の吸収スペクトルの半値幅が170nm以下で
ある前記記録層を基板上に設けた上記(3)の光記録媒
体。 (6)前記金属含有アゾ系化合物またはこの化合物と前
記トリメチンシアニン系色素を含有する第1の記録層
に、これらの化合物とは光学特性の異なる第2の光吸収
色素を含有する第2の記録層を積層し、2層以上の記録
層とした上記(1)または(2)の光記録媒体。 (7)前記金属含有アゾ系化合物または前記トリメチン
シアニン系色素の650nmでの複素屈折率の実部nが
1.8〜2.6、虚部kが0.02〜0.20であり、
前記第2の光吸収色素の780nmでの複素屈折率の実部
nが1.8〜2.6、虚部kが0.02〜0.15であ
って、薄膜の吸収スペクトルの半値幅が170nm以下で
あり、前記2層以上の記録層を基板上に設けた上記
(6)の光記録媒体。 (8)基板上に第1の記録層を設け、この第1の記録層
上に第2の記録層を設けた上記(6)または(7)の光
記録媒体。 (9)前記第2の光吸収色素が下記式(III)で表される
フタロシアニン系色素である上記(3)〜(8)のいず
れかの光記録媒体。
【0011】
【化6】
【0012】[式(III)において、Mは中心原子を表
す。X1 、X2 、X3 およびX4 は、各々ハロゲンを表
し、これらは同一でも異なるものであってもよい。p
1、p2、p3およびp4は各々0または1〜4の整数
であり、p1+p2+p3+p4は0〜15である。Y
1 、Y2 、Y3 およびY4 は、各々酸素原子または硫黄
原子を表し、これらは同一でも異なるものであってもよ
い。Z1 、Z2 、Z3 およびZ4 は、各々炭素原子数4
以上のアルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素
基または複素環基を表し、これらは同一でも異なるもの
であってもよい。q1、q2、q3およびq4は各々0
または1〜4の整数であり、これらは同時に0になるこ
とはなく、q1+q2+q3+q4は1〜8である。] (10)前記第1の記録層および前記第2の記録層の膜
厚が各々20〜250nmであり、前記第1の記録層の膜
厚を前記第2の記録層の膜厚で除した値が0.1〜1で
ある上記(8)または(9)の光記録媒体。なお、特公
平7−37580号公報および特公平7−42451号
(対応特開昭63−35587号)公報には、本発明の
式(I)で表される金属含有アゾ系化合物と類似の構造
をもつ化合物を光記録媒体の記録層に用いることが開示
されている。しかし、特公平7−37580号公報に開
示の化合物は中心金属がCrであり、カウンターカチオ
ンが四級ピリジニウム誘導体であり、本発明の化合物と
は異なるものである。また、特公平7−42451号
(対応特開昭63−35587号)公報に開示の化合物
は錯アニオンが2個以上存在し、かつカウンターカチオ
ンが2価以上の多価金属イオンであるものであり、本発
明の化合物とは異なるものである。また、特開平2−5
5189号公報には、本発明の化合物と重複する化合物
が開示されており、これらの化合物を光記録媒体の記録
層に用いることが示されているが、本発明の化合物にお
けるアルキル置換アンモニウムイオンをカウンターカチ
オンとする具体的化合物の提示は全くなされていない。
さらに、上記各公報に示される光記録媒体は、いずれも
750〜850nm程度の記録再生波長に対応するもので
あり、短波長記録に対応するものではない。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。
【0014】本発明の光記録媒体は記録層に式(I)
[化4に掲載]で表される金属含有アゾ系化合物を含有
する。
【0015】式(I)について説明すると、式(I)に
おいて、R1 およびR2 は各々ニトロ基、ハロゲン原
子、アミノ基、スルファモイル基、アルキル基またはア
ルコキシ基を表す。
【0016】R1 、R2 で表されるハロゲン原子として
は、F、Cl、Br、Iなどが挙げられる。
【0017】R1 、R2 で表されるアミノ基としては、
アルキル基、アルコキシ基、アシル基等の置換基を有す
るものであってよく、さらにこれらの置換基はハロゲン
原子(Cl、Br、I等)やヒドロキシ基、アルコキシ
基等で置換されていてもよい。R1 、R2 で表されるア
ミノ基として、具体的にはアミノ基、メチルアミノ基、
ジメチルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンジルアミノ
基などが挙げられる。このようなアミノ基の総炭素数は
0〜8であることが好ましい。
【0018】R1 、R2 で表されるスルファモイル基と
しては、アルキル基、アルコキシ基等の置換基を有する
ものであってもよく、さらにこれらの置換基はハロゲン
原子(Cl、Br、I等)やヒドロキシ基、アルコキシ
基等で置換されていてもよい。R1 、R2 で表されるス
ルファモイル基として、具体的にはスルファモイル基、
N−メチルスルファモイル基、N,N−ジメチルスルフ
ァモイル基、N,N−ジエチルスルファモイル基、N,
N−メチルヒドロキシエチルスルファモイル基、N,N
−メトキシエチルスルファモイル基、N−メトキシエチ
ルスルファモイル基などが挙げられる。このようなスル
ファモイル基の総炭素数は0〜10であることが好まし
い。
【0019】R1 、R2 で表されるアルキル基として
は、炭素数1〜4のものが好ましく、直鎖状であっても
分岐を有するものであってもよく、置換基(例えばハロ
ゲン原子、アルコキシ基等)を有していてもよく、具体
的にはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、
t−ブチル基、メトキシエチル基などが挙げられる。
【0020】R1 、R2 で表されるアルコキシ基として
は、アルキル部分の炭素数が1〜4のものが好ましく、
置換基(例えばハロゲン原子等)を有していてもよく、
具体的にはメトキシ基、エトキシ基などが挙げられる。
【0021】式(I)において、R3 およびR4 は各々
ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基ま
たはアミノ基を表す。
【0022】R3 、R4 で表されるハロゲン原子、アル
キル基、アルコキシ基、アミノ基としては、R1 、R2
のものと同様のものを挙げることができる。
【0023】tおよびuは各々0または1〜4の整数で
あり、vおよびwは各々0または1〜6の整数であり、
これらは同時に0になることはなく、t+u+v+wは
1〜20である。また、t、u、v、wが2以上の整数
であるとき、各R1 同士、各R2 同士、各R3 同士、各
4 同士は同一でも異なるものであってもよい。このよ
うな条件下で、tおよびuは0、1または2であること
が好ましく、vおよびwは0または1であることが好ま
しい。また、t=uでかつv=wであることが好まし
く、2つのベンゼン環同士、2つのナフタレン環同士に
おける置換基の有無、置換基を有する場合の置換基の種
類、位置および数は同じであることが好ましい。
【0024】なお、本発明において、式(I)中、t、
uが1以上の整数であって、R1 、R2 としてニトロ基
等の電子吸引性の基が存在し、かつv、wが1以上の整
数であって、R3 、R4 としてアミノ基等の電子供与性
の基が存在するような置換基の組み合わせはとらない方
が好ましい。
【0025】式(I)において、M1 はCoまたはNi
であり、特にCoが好ましい。
【0026】式(I)において、Y+ はアルキル置換ア
ンモニウムイオンを表す。アルキル置換アンモニウムイ
オンにおけるアルキル部分は直鎖状であっても分岐を有
するものであってもよく、さらに置換基(エーテル基、
アシルオキシ基、アリール基など)を有するものであっ
てもよい。特にエーテル結合(−O−)が介在したアル
キル基を有するものであることが好ましい。また、アル
キル置換アンモニウムイオンにおける総炭素数は4〜2
1であることが好ましい。
【0027】Y+ で表されるアルキル置換アンモニウム
イオンとしては、具体的には、以下のものを例示するこ
とができる。
【0028】
【化7】
【0029】以下に本発明に用いる式(I)で表される
金属含有アゾ系化合物の具体例を挙げるが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。以下では式(I−1)
の表示の組合せで示しており、Y+ は前記例示のY1 +
1などで示し、R11〜R14などにおいてすべてHである
ときはHで、また置換基であるときはその置換基のみを
示しHの表示は省略している。
【0030】
【化8】
【0031】
【化9】
【0032】
【化10】
【0033】
【化11】
【0034】これらの金属含有アゾ系化合物は、公知の
文献[例えば、特開昭50−39328号、特開昭55
−151061号(対応西独特許公開2918634
号)、西独特許1260652号、西独特許12267
27号など]を参照して合成することができる。
【0035】式(I)で表される金属含有アゾ系化合物
の融点(mp)は100〜300℃であり、λmax (50
nm厚の色素薄膜で測定)は、500〜650nmの範囲に
ある。
【0036】これらの金属含有アゾ系化合物は、記録層
用の色素として用いることができ、1種のみを用いても
2種以上を併用してもよい。
【0037】また、これらの色素は、650nmでの複素
屈折率の実部nが1.8〜2.6、虚部kが0〜0.3
0である。
【0038】なお、色素のnおよびkは、所定の透明基
板上に色素膜を光記録媒体の記録層程度の厚さ、例えば
40〜100nm程度の厚さに記録層と同条件で設層し
て、測定用サンプルを作製し、次いで、この測定用サン
プルの650nmにおける反射率および透過率を測定し、
これらの測定値から、例えば、共立全書「光学」石黒浩
三P168〜178に準じ、算出したものである。反射
率は測定用サンプルの基板を通しての反射率あるいは色
素膜側からの反射率であり、鏡面反射(5°程度)にて
測定したものである。
【0039】これらの化合物は、有機溶媒に対する溶解
性が十分であり、光記録媒体の基板材料として汎用され
ているポリカーボネート樹脂(PC)を侵すことがない
塗布溶媒に対する溶解度が大きくなる。
【0040】これらの化合物を用いた記録層は、特に追
記型の光記録ディスク(CD−R)に用いることが好ま
しく、短波長での記録再生が可能になる。このような記
録層は、色素含有塗布液を用いて設層することが好まし
い。特に、回転する基板上に塗布液を展開塗布するスピ
ンコート法によることが好ましい。このほか、グラビア
塗布、スプレーコート、ディッピングなどによってもよ
い。このとき用いられる塗布溶媒については後述する。
【0041】上記のようなスピンコートの後、必要に応
じて塗膜を乾燥させる。このようにして形成される記録
層の厚さは、目的とする反射率などに応じて適宜設定さ
れるものであるが、通常、500〜3000A である。
【0042】なお、塗布液における色素含有量は、好ま
しくは0.05〜10wt% とするのがよい。金属含有ア
ゾ系化合物の色素は溶解性が良好であるので、このよう
な含有量の塗布液を容易に調製することができる。具体
的にいえば、本発明の金属含有アゾ系化合物の色素は主
に極性溶媒に良好な溶解性を示し、アルコールやセロソ
ルブ系ないしアルコキシアルコール系、ジアセトンアル
コールなどのケトアルコール、シクロヘキサノンなどの
ケトン、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール
などのフッ素化アルコールなどに0.5〜10wt% 溶解
する。特にポリカーボネート製ディスクに塗布する際に
好適な塗布溶媒である、エチルセロソルブや2,2,
3,3−テトラフルオロプロパノールに4wt% 以上溶解
し、短時間に良質なスピンコート膜を成膜することが可
能である。
【0043】塗布液には適宜バインダー、分散剤、安定
剤などを含有させてもよい。
【0044】また、本発明の光記録媒体の記録層には金
属含有アゾ系化合物のほか、他の種類の光吸収色素を含
有させてもよい。このような色素としては、フタロシア
ニン系色素、シアニン系色素、上記とは別種の金属錯体
色素、スチリル系色素、ポリフィリン系色素、上記とは
別種のアゾ色素、ホルマザン金属錯体などが挙げられ
る。
【0045】したがって、このような場合には、塗布液
中にこのような色素を含有させて記録層を塗設すればよ
い。
【0046】本発明の金属含有アゾ系化合物は、その優
れた一重項酸素のクエンチ能から一重項酸素クエンチャ
ーとして使用することができ、シアニン系色素のよう
な、耐光性の低い色素と混合してその色素の耐光性を向
上させる効果がある。特に、680〜550nm程度の短
波長に吸収をもつ耐光性の低い色素の場合、本発明の金
属含有アゾ系化合物と同一の吸収となるため、色素自体
の反射率などを変化させることなく耐光性のみを向上さ
せることができる。
【0047】そのような短波長側の色素としては特に、
式(II)[前記化5に掲載]で表されるトリメチンシア
ニン系色素が望ましく、その混合のモル比は、金属含有
アゾ系化合物/トリメチンシアニン系色素=10/90
〜95/5が望ましい。
【0048】式(II)について説明すると、式(II)
中、Q1 およびQ2 は、それぞれ、炭素原子および窒素
原子とともに複素環を完成するのに必要な原子群を表
し、Q1またはQ2 で完成される複素環骨格は同一でも
異なっていてもよいが、合成上同一骨格であることが好
ましい。このような複素環骨格には、好ましくはベンゾ
チアゾール骨格、チアゾール骨格、オキサゾール骨格、
ベンゾオキサゾール骨格、ピリジン骨格、キノリン骨
格、イミダゾール骨格、インドレニン骨格、ベンゾイン
ドレニン骨格、ジベンゾインドレニン骨格などが挙げら
れる。
【0049】Q1 またはQ2 によって完成される複素環
は、置換基を有していてもよく、このような置換基には
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アシル基、ア
ミノ基等がある。
【0050】R1 およびR2 は、それぞれ脂肪族炭化水
素基を表し、これらは同一でも異なっていてもよい。脂
肪族炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル
基等が挙げられる。アルキル基としては、炭素数1〜4
のものが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等がある。またシクロアルキル基としてはシク
ロヘキシル基等が挙げられる。このものは、置換基を有
していてもよく、このような置換基としてはハロゲン原
子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基等のエーテ
ル基、エステル基、複素環基等が挙げられる。なかで
も、無置換のアルキル基が好ましく、特にはメチル基、
エチル基、ブチル基等が好ましい。また、エチルセロソ
ルブなど、特定の塗布溶媒に対する溶解性の点ではエー
テル結合を有するアルコキシアルキル基等、好ましくは
総炭素数3〜6のアルコキシアルキル基等が好ましい。
【0051】R3 は水素原子または一価の置換基を表
す。一価の置換基としては、アルキル基、アリール基、
アゾ基、エステル基、アシル基、ハロゲン原子または複
素環基が挙げられ、これらの一価の基のなかでアルキル
基、アリール基、アゾ基、エステル基、アシル基、複素
環基は置換基を有していてもよい。置換基を有する場合
の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、アミノ基、複素環基、ニトロ基等が挙げられる。
【0052】X- は一価の陰イオンを表し、ClO4 -
- 、BF4 -、PF6 -、SbF6 -、パラトルエンスルホ
ン酸イオンなどが挙げられる。
【0053】式(II)で表されるトリメチンシアニン系
色素のなかでも、下記式(II-1)で表されるトリメチンイ
ンドレニン系シアニン色素が好ましい。
【0054】
【化12】
【0055】式(II-1)について説明すると、式(II-1)に
おいて、Q3 およびQ4 は各々ピロール環とともにイン
ドレニン環またはベンゾインドレニン環を完成するのに
必要な原子群を表し、Q3 またはQ4 で完成される環は
同一でも異なるものであってもよい。また、このような
インドレニン環またはベンゾインドレニン環は、置換基
を有していてもよく、このような置換基としてはハロゲ
ン原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アミノ基
等がある。
【0056】Q3 またはQ4 で完成される環がベンゾイ
ンドレニン環である場合、インドレニン環に対するベン
ゼン環の縮合位置に特に制限はないが、インドレニン環
の4位と5位とにベンゼン環が縮合することが好ましい
(後記式(II-1a) :化13参照)。
【0057】特に630〜640nm対応の場合は、Q
3 、Q4 の一方がインドレニン環で、他方がベンゾイン
ドレニン環である組合せが好ましく、640超〜680
nm対応の場合は、Q3 、Q4 の両方がベンゾインドレニ
ン環である組合せが好ましい。
【0058】R3 は水素原子または一価の置換基を表
し、式(II)のR3 と同義のものである。R3 は好ましく
は水素原子である。
【0059】R4 およびR5 は各々アルキル基を表す。
アルキル基は置換基を有するものであってもよく、その
炭素数は1〜4であることが好ましく、置換基としては
1、R2 のところの置換基と同様のものを挙げること
ができ、特にアルコキシ等が好ましい。R4 、R5 で表
されるアルキル基としてはメチル基、エチル基、(n
−,i−)プロピル基、(n−,i−,s−,t−)ブ
チル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキ
シエチル基等が挙げられる。
【0060】R4 、R5 としては無置換のアルキル基、
アルコキシアルキル基等が好ましく、エチルセロソルブ
など、特定の塗布溶媒に対する溶解性を良化するという
意味では、R4 、R5 のうちの少なくとも一方がアルコ
キシアルキル基、好ましくは総炭素数3〜6のアルコキ
シアルキル基であることが好ましい。
【0061】X- は陰イオンを表し、式(II)のX-
同義のものである。
【0062】式(II-1)で表されるトリメチンインドレニ
ン系シアニン色素のなかでも、下記式(II-1a) 、(II-1
b) で表されるものが好ましい。
【0063】
【化13】
【0064】
【化14】
【0065】式(II-1a) 、(II-1b) 中、R11 およびR
12は各々式(II-1)のR4 およびR5と同義のものであ
り、R3 は式(II-1)中のR3 と同義のものであり、好ま
しくは水素原子であり、X- は式(II-1)のX- と同義の
ものである。式(II-1a) 中、R13は水素原子、ハロゲン
原子またはアルキル基、好ましくは炭素数1〜4のアル
キル基を表す。
【0066】なお、式(II-1a) 、(II-1b) においてイン
ドレニン環、ベンゾインドレニン環は、上記のR13のほ
か、さらにハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ア
シル基、アミノ基等の置換基を有していてもよい。
【0067】また式(II-1a) 、(II-1b) におけるR11
およびR12は、無置換のアルキル基、アルコキシアルキ
ル基等が好ましく、エチルセロソルブなど、特定の塗布
溶媒に対する溶解性を向上させ、良好な性状の塗膜を得
るという観点からは、いずれか一方あるいは両方がアル
コキシアルキル基であることが好ましく、この具体例と
しては式(II-1)のところのものと同様に、メトキシメチ
ル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基等が挙げら
れる。アルコキシアルキル基としては総炭素数3〜6の
ものが好ましい。
【0068】以下に、本発明に用いる式(II)のトリメ
チンシアニン系色素の具体例を挙げるが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
【0069】
【化15】
【0070】
【化16】
【0071】
【化17】
【0072】
【化18】
【0073】
【化19】
【0074】
【化20】
【0075】
【化21】
【0076】これらのトリメチンシアニン系色素は1種
のみを用いても2種以上を併用してもよい。トリメチン
シアニン色素のλmax (80nm厚の色素薄膜で測定)は
560〜620nmであり、その融点(mp)は100〜
300℃である。
【0077】これらトリメチンシアニン色素のλmax お
よび色素膜の厚さを80nmとして求めた630nmまたは
650nmにおけるn、kを表1、2に示す。
【0078】
【表1】
【0079】
【表2】
【0080】式(II)の色素は、これらの色素同士、あ
るいは式(I)の化合物等との併用などによって、短波
長の記録、再生波長により適合したものとすることがで
きる。
【0081】本発明では特に、690〜630nm程度の
短波長と、780nm程度の従来の波長との2波長で記録
再生可能としたり、また記録と再生をこの2つの波長に
分けて行うことができる。この場合、780nm程度の従
来の波長光で記録を行い、短波長と780nm程度の従来
の波長光の2波長で再生を行うCD−RIIの記録と再生
方式に適当である。このような構成とする場合、記録層
には本発明の金属含有アゾ系化合物やトリメチンシアニ
ン系色素のほか、吸収特性などの光学特性の異なる、す
なわち光学定数の異なる色素を用いることが好ましい。
本発明の金属含有アゾ系化合物やトリメチンシアニン系
色素のほかに、吸収極大(λmax )が680〜750nm
程度の色素を含有させることが好ましく、このような吸
収極大(λmax )をもつ色素を上記色素のなかから選択
して用いればよい。なかでも、通常、フタロシアニン系
色素やペンタメチンシアニン系色素が用いられる。
【0082】特に、上記のような2波長で記録、再生を
行うタイプのCD−RIIの記録層に用いる場合、金属含
有アゾ系化合物やトリメチンシアニン系色素は650nm
での複素屈折率の実部nが1.8〜2.6、虚部が0.
02〜0.20であることが好ましい。一方、これと組
み合わせる色素としては、780nmでの複素屈折率の実
部nが1.8〜2.6、虚部kが0.02〜0.30、
特に積層タイプの記録層に用いる場合は0.02〜0.
15であって、薄膜の吸収スペクトルの半値幅、すなわ
ちλmax 付近のスペクトル線の半値幅が170nm以下、
好ましくは150nm以下であるものが好ましい。半値幅
の下限には特に制限はないが、通常50nmである。この
ような半値幅のものを用いることによって、併用する金
属含有アゾ系化合物やトリメチンシアニン系色素の吸収
特性に影響を与えることがなく、短波長域における反射
率および変調度が十分となる。これに対し、半値幅が1
70nmをこえると、その吸収端が短波長レーザーの波長
域にかかってしまい、短波長域での反射率の低下を招い
てしまう。なお、半値幅は吸収極大λmax における透過
率Tが25%以下となるように透明基板上に色素膜を形
成したサンプルを作製し、このサンプルの吸収スペクト
ルを測定することにより求めたものである。例えば、図
1の吸収スペクトルに従って説明すると、λmax におけ
る透過率T1と、さらに波長を長波長側に移行させた場
合波長の移行に依存せず、ほぼ一定となる透過率T2
を求め、T2 を基線(ベース)としてT1 までのボトム
の深さの半分の幅△λを半値幅とする。サンプルの色素
膜の厚さは、通常、50〜150nm程度である。
【0083】なお、上記のnおよびkは、測定波長を各
々650nm、780nmとして前記と同様にして求めたも
のである。
【0084】このような色素としては、特に式(III)
[化6に掲載]で表されるフタロシアニン系色素である
ことが好ましい。
【0085】式(III) について記すと、式(III) におい
てMは中心原子を表す。Mで表される中心原子として
は、水素原子(2H)または金属原子が挙げられる。こ
のときの金属原子としては、周期表1〜14族(1A〜
7A族、8族、1B〜4B族)に属する金属原子等であ
ってよく、具体的にはLi、Na、K、Mg、Ca、B
a、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、M
n、Tc、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、O
s、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、H
g、Al、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb等、特
にLi、Na、K、Mg、Ca、Ba、Ti、Zr、
V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Tc、Fe、
Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt、C
u、Ag、Au、Cd、Hg、Al、In、Tl、S
i、Ge、Sn、Pbが挙げられる。このなかで、A
l、Si、Ge、Sn、Cu、Pd、Ni、Fe、Co
等が好ましく、特にCu、Pd、Ni、Fe、Co、V
O等が経時安定性の点で好ましい。
【0086】なお、これらの金属原子は、V等のよう
に、Oが配位したVO等の形であってもよく、さらには
Si、Al、Ge、Co、Fe等のように、金属原子の
上下あるいは一方に、エーテル基、エステル基、ピリジ
ンおよびその誘導体等の配位子がさらに配位した形であ
ってもよい。
【0087】X1 〜X4 は、各々ハロゲン原子を表し、
ハロゲン原子としてはF、Cl、Br、I等がある。特
にBr、Fであることが好ましい。
【0088】p1、p2、p3およびp4は各々0また
は1〜4の整数であり、p1+p2+p3+p4は0〜
15であり、好ましくは0〜10である。
【0089】X1 〜X4 は、各々同一でも異なるもので
あってもよく、p1、p2、p3、p4が各々2以上の
整数であるとき、X1 同士、X2 同士、X3 同士、X4
同士は同一でも異なるものであってもよい。
【0090】Y1 〜Y4 は各々酸素原子または硫黄原子
を表し、特に酸素原子であることが好ましい。Y1 〜Y
4 は通常同一であるが、異なるものであってもよい。Z
1 〜Z4 は各々炭素原子数4以上のアルキル基、脂環式
炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、
これらは同一でも異なるものであってもよい。
【0091】q1、q2、q3およびq4は各々0また
は1〜4の整数であり、これらは同時に0になることは
なく、q1+q2+q3+q4は1〜8であり、好まし
くは2〜6である。
【0092】Y1 〜Y4 のフタロシアニン環に対する結
合位置は、フタロシアニン環の3位および/または6位
(下記構造式参照)であることが好ましく、このような
結合を少なくとも1個含むことが好ましい。
【0093】
【化22】
【0094】Z1 〜Z4 で表されるアルキル基としては
炭素原子数4〜16のものが好ましく、直鎖状であって
も分岐を有するものであってもよいが、分岐を有するも
のが好ましい。また置換基を有していてもよく、置換基
としてはハロゲン原子(F、Cl、Br、I等、特に好
ましくはF、Br等)などが挙げられる。このようなア
ルキル基の具体例としては、n−C49 、i−C4
9 −、s−C49 −、t−C49 −、n−C511
−、(CH32 CHCH2 CH2 −、(CH33
CH2 −、(C252 CH−、C25 C(CH
32 −、n−C37 CH(CH3 )−、n−C6
13−、(CH32 CHCH2 CH2 CH2 −、(CH
33 C−CH2 −CH2 −、n−C37 CH(CH
3 )CH2−、n−C49 CH(CH3 )−、n−C7
15−、[(CH32 CH]2−CH−、n−C4
9 CH(CH3 )CH2 −、(CH32 CHCH2
H(CH3 )CH2 −、n−C817−、(CH33
CCH2 CH(CH3 )CH2 −、(CH32 CHC
H(i−C49 )−、n−C49 CH(C25
CH2 −、n−C919−、CH3 CH2 CH(CH
3 )CH2 CH(CH3 )CH2 CH2 −、(CH3
2 CHCH2 CH2 CH2 CH(CH3 )CH2 −、n
−C37 CH(CH3 )CH2 CH(CH3 )CH2
−、n−C1021−、(CH33 CCH2 CH2
(CH32 CH2 −、n−C1123−、n−C1225
−、n−C1327−、n−C1429−、n−C15
31−、n−C1633−、n−C49 −、i−C49
−、s−C49 −、t−C49 −等が挙げられる。
【0095】Z1 〜Z4 で表される脂環式炭化水素基と
しては、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げ
られ、シクロヘキシル基等が好ましい。これらはさら
に、置換基を有していてもよく、このような置換基とし
ては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリー
ロキシ基、アラルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カ
ルボキシル基、エステル基、アシル基、アミノ基、アミ
ド基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル
基、スルホ基、スルフィノ基、アリールアゾ基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基等が挙げられ、なかでも炭素
原子数1〜5のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル
基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、tert−
ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、ne
o−ペンチル基、tert−ペンチル基、1−メチルブ
チル基)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イ
ソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキ
シ基)、アリール基(例えばフェニル基、トリル基、ビ
フェニル基、ナフチル基)、ハロゲン原子(例えばF、
Cl、Br、I、好ましくはF、Br)等が好ましい。
これらの置換基の置換位置は、Y1 〜Y4 の結合位置の
隣接位のうちのいずれか一方または両方であることが好
ましく、このような置換を少なくとも1個含むことが好
ましい。
【0096】Z1 〜Z4 で表される芳香族炭化水素基と
しては、単環であっても縮合環を有するものであっても
よく、さらには置換基を有するものであってもよい。ま
た総炭素原子数は6〜20であることが好ましい。具体
的には、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、フェニ
ル基等が好ましい。これらは、さらに置換基を有してい
てもよく、このような置換基としては、脂環式炭化水素
基のところで例示したものと同様のものを挙げることが
でき、好ましいものも同様である。また好ましい置換位
置も同様であり、Y1 〜Y4 の結合位置のオルト位であ
ることが好ましく、オルト置換を少なくとも1個含むこ
とが好ましい。
【0097】Z1 〜Z4 で表される複素環基としては、
単環であっても縮合環を有するものであってもよく、ヘ
テロ原子が酸素、窒素、硫黄等、特に酸素、窒素等であ
るものが好ましい。具体的には、ピリジル基、フラノン
−イル基、ピラジル基、ピラゾリジル基、ピペリジノン
−イル基、キノキサリル基、ピラノン−イル基、チオフ
ェントリオン−イル基等が挙げられ、ピリジル基、2−
フラノン−イル基等が好ましい。これらの複素環基は、
さらに置換基を有していてもよく、置換基としては脂環
式炭化水素基、芳香族炭化水素基のところで例示したも
のを挙げることができ、好ましいものも同様である。特
に、Y1 〜Y4 の結合位置の隣接位に炭素原子が存在す
る場合、このような隣接位に置換基を有することが好ま
しい。
【0098】Z1 〜Z4 としては、特に脂環式炭化水素
基、芳香族炭化水素基が好ましく、さらにはシクロヘキ
シル基、フェニル基が好ましく、特にはY1 〜Y4 の結
合位置の少なくとも一方の隣接位に置換基(特には前記
した好ましい置換基)を有するものが好ましい。
【0099】このようなフタロシアニン系色素の具体例
を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。具体例は以下の式(III-1) のX11〜X14、X15
18、X19〜X22、X23〜X26およびMを用いて示して
おり、X11〜X14等においてすべてHであるときはH
で、また置換基であるときはそのもののみを示しHの表
示は省略している。なお、フタロシアニン環における3
位と6位、4位と5位とは各々同等であり、これらにお
いていずれか一方に置換基が存在するときは代表例を示
しているにすぎない。
【0100】
【化23】
【0101】
【化24】
【0102】
【化25】
【0103】
【化26】
【0104】
【化27】
【0105】
【化28】
【0106】
【化29】
【0107】
【化30】
【0108】
【化31】
【0109】
【化32】
【0110】
【化33】
【0111】
【化34】
【0112】
【化35】
【0113】
【化36】
【0114】
【化37】
【0115】これらのフタロシアニン系色素は、特開昭
63−313760号、特開昭63−301261号、
EP675489号等に記載の方法を参照して合成する
ことができる。
【0116】これらの色素の融点(mp)は60〜40
0℃である
【0117】これらのフタロシアニン系色素の780nm
におけるnおよびkを表1、表2に示す。これらのnお
よびkは、色素膜の厚さを80nmとして求めたものであ
る。また、前述のようにして色素薄膜の吸収スペクトル
の半値幅を求めたが、これらの結果およびλmax (薄
膜)も併記する。
【0118】
【表3】
【0119】
【表4】 これらの色素は1種のみ用いても2種以上を併用しても
よい。
【0120】本発明に用いられる塗布溶媒として、具体
的には、アルコール系(ケトアルコール系、エチレング
リコールモノアルキルエーテル系等のアルコキシアルコ
ール系を含む。)、脂肪族炭化水素系、ケトン系、エス
テル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系
等から適宜選択すればよい。
【0121】このなかで、アルコール系、脂肪族炭化水
素系などが好ましい。アルコール系のなかでは、アルコ
キシアルコール系、ケトアルコール系などが好ましい。
アルコキシアルコール系は、アルコキシ部分の炭素原子
数が1〜4であることが好ましく、かつアルコール部分
の炭素原子数が1〜5、さらには2〜5であることが好
ましく、総炭素原子数が3〜7であることが好ましい。
具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル
(メチルセロソルブ)やエチレングリコールモノエチル
エーテル(エチルセロソルブ、エトキシエタノールとも
いう)やブチルセロソルブ、2−イソプロポキシ−1−
エタノール等のエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル(セロソルブ)系や1−メトキシ−2−プロパノー
ル、1−メトキシ−2−ブタノール、3−メトキシ−1
−ブタノール、4−メトキシ−1−ブタノール、1−エ
トキシ−2−プロパノール等が挙げられる。ケトアルコ
ール系としてはジアセトンアルコール等が挙げられる。
さらには2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール
などのフッ素化アルコールも用いることができる。
【0122】脂肪族炭化水素系としては、n−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサン、シクロオクタン、ジメチルシクロヘキサ
ン、n−オクタン、iso−プロピルシクロヘキサン、
t−ブチルシクロヘキサンなどが好ましく、なかでもエ
チルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサンなどが好
ましい。
【0123】また、ケトン系としてはシクロヘキサノン
などが挙げられる。
【0124】本発明では、特にエチレングリコールモノ
アルキルエーテル系等のアルコキシアルコール系が好ま
しく、なかでもエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−
2−ブタノール等が好ましく、さらにはこれらの混合溶
媒も好ましく、例えばエチレングリコールモノエチルエ
ーテルと1−メトキシ−2−ブタノールの組合せのよう
なものが挙げられる。
【0125】なお、金属含有アゾ系化合物やトリメチン
シアニン系色素、これらと併用するフタロシアニン系色
素等の色素は、2種以上を併用して、前記の各n、kを
満足するようにしてもよい。
【0126】2波長の記録、再生を目的とする光記録媒
体の記録層を2種類またはそれ以上の混合系で用いる場
合、本発明の金属含有アゾ系化合物やトリメチンシアニ
ン系色素とフタロシアニン系色素等の他の色素との比率
は、本発明の金属含有アゾ系化合物、またはこれとトリ
メチンシアニン系色素/他の色素のモル比が90/10
〜10/90であることが好ましい。
【0127】したがって、このような混合タイプの記録
層は、このような色素を所定の比率で含有する塗布液を
用いて塗設すればよい。
【0128】また、2波長の記録、再生を目的とする場
合、本発明の金属含有アゾ系化合物、またはこれとトリ
メチンシアニン系色素の層と他の色素の層とを積層した
記録層としてもよい。積層順については適宜選択すれば
よく、通常、1層当たりの厚さは20〜250nm程度と
すればよい。このような積層タイプの記録層は、各色素
を含有する塗布液をそれぞれ用いて塗設すればよい。
【0129】このような積層タイプの記録層で2層構成
とする場合、基板側に式(I)の金属含有アゾ系化合
物、またはこれとトリメチンシアニン系色素を含有する
短波長対応の記録層下層(第1の記録層)を設け、その
上に式(II)のフタロシアニン系色素を含有する780nm
対応の記録層上層(第2の記録層)を設けることが好ま
しい。この場合、記録層下層を記録層上層に比べ薄くす
ることが好ましく、記録層下層と上層との厚さの比は下
層/上層が1/10〜1/1となるようにすることが好
ましい。
【0130】このような2波長対応の、あるいは短波長
対応の記録層を基板上に有する光記録ディスクとして、
図2には、その一構成例が示されている。図2は、部分
断面図である。図2に示される光記録ディスク1は、記
録層上に反射層を密着して有するCD規格に対応した再
生が可能な密着型光記録ディスクである。図示のよう
に、光記録ディスク1は、基板2表面に本発明の金属含
有アゾ系化合物の色素を含有する記録層3を有し、記録
層3に密着して、反射層4、保護膜5を有する。
【0131】記録層3は、前記の混合タイプあるいは積
層タイプとした2波長対応型、金属含有アゾ系化合物や
これとトリメチンシアニン系色素を主成分とした短波長
対応型のものである。
【0132】基板2は、ディスク状のものであり、基板
2の裏面側からの記録および再生を可能とするために、
記録光および再生光(波長500〜900nm程度、とり
わけ波長500〜700nm程度、さらにはは波長630
〜690nm程度、なかでも波長635〜680nm程度の
レーザー光および波長680〜900nm程度のレーザー
光、なかでも波長680〜780nm程度のレーザー光や
波長770〜900nm程度、とりわけ770〜830nm
程度の半導体レーザー光、特に650nmおよび780n
m)に対し、実質的に透明(好ましくは透過率88%以
上)な樹脂あるいはガラスを用いて形成するのがよい。
また、大きさは、直径64〜200mm程度、厚さ1.2
mm程度のものとする。
【0133】基板2の記録層3形成面には、図2に示す
ように、トラッキング用のグルーブ23が形成される。
グルーブ23は、スパイラル状の連続型グルーブである
ことが好ましく、深さは0.1〜0.25μm 、幅は混
合タイプ、短波長対応型では0.35〜0.60μm 、
積層タイプでは0.35〜0.80μm 、グルーブピッ
チは1.5〜1.7μm であることが好ましい。グルー
ブをこのような構成とすることにより、グルーブの反射
レベルを下げることなく、良好なトラッキング信号を得
ることができる。特にグルーブ幅を0.35〜0.80
μm 、あるいは0.35〜0.60μm に規制すること
は重要であり、グルーブ幅を0.35μm 未満とする
と、十分な大きさのトラッキング信号が得られにくく、
記録時のトラッキングのわずかなオフセットによって、
ジッターが大きくなりやすい。またグルーブ幅が大きく
なると波形ひずみが生じやすくなる。
【0134】基板2は、材質的には、樹脂を用いること
が好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ア
モルファスポリオレフィン、TPX、ポリスチレン系樹
脂等の各種熱可塑性樹脂が好適である。そして、このよ
うな樹脂を用いて射出成形等の公知の方法に従って製造
することができる。グルーブ23は、基板2の成形時に
形成することが好ましい。なお、基板2製造後に2P法
等によりグルーブ23を有する樹脂層を形成してもよ
い。また、場合によってはガラス基板を用いてもよい。
【0135】図2に示されるように、基板2に設層され
る記録層3は、前記の色素含有塗布液を用い、前記のよ
うに、好ましくはスピンコート法により形成されたもの
である。スピンコートは通常の条件に従い、内周から外
周にかけて、回転数を500〜5000rpm の間で調整
するなどして行えばよい。
【0136】このようにして形成される記録層3の厚さ
は、混合タイプ、短波長対応型では、乾燥膜厚で、50
0〜3000A (50〜300nm)とすることが好まし
い。この範囲外では反射率が低下して、CD規格に対応
した再生を行うことが難しくなる。この際、グルーブ2
3内の記録トラック内の記録層3の膜厚を1000A
(100nm)以上、特に1300〜3000A (130
〜300nm)とすると、変調度がきわめて大きくなる。
【0137】また、積層タイプでは、前記したとおり、
乾燥膜厚で、各々200〜2500A (20〜250n
m)とすることが好ましい。これにより良好な再生を行
うことができる。またグルーブ23内の記録トラック内
の記録層3の膜厚は500A (50nm)以上、特に50
0〜800A (50〜80nm)とすることが好ましい。
さらに、前記のとおり、2層構成とし、下層に本発明の
金属含有アゾ系化合物の色素を含有させるときには、上
下層の膜厚を前記のようにすることによって、CD−R
IIとしたとき、780nmでの記録・再生を良好に行うこ
とができる。
【0138】このようにして形成される記録層3は、2
波長対応型の色素混合タイプの記録層であるときは、6
50nmにおいてn=1.8〜2.6、k=0.02〜
0.20、780nmにおいてn=1.8〜2.6、k=
0.02〜0.30であることが好ましい。また、2波
長対応型の積層タイプの記録層であるとき、650nmに
おいて、n=1.8〜2.6、k=0.02〜0.2
0、780nmにおいてn=1.8〜2.6、k=0.0
2〜0.15であることが好ましい。このようにn、k
を規制することによって、2波長で良好な記録、再生が
行える。特に780nm程度の従来波長ではオレンジブッ
ク規格に対応した記録、再生が行える。
【0139】また、650nm程度の短波長対応型のもの
であるとき、その記録光および再生光波長における消衰
係数(複素屈折率の虚部)kは、0〜0.20であるこ
とが好ましい。kが0.20を超えると、十分な反射率
が得られない。また、記録層3の屈折率(複素屈折率の
実部)nは、1.8以上であることが好ましい。nが
1.8未満では信号の変調度が小さすぎる。nの上限に
は特に制限はないが、色素化合物の合成上の都合等から
通常2.6程度である。
【0140】なお、記録層のnおよびkは、所定の透明
基板上に記録層を例えば40〜100nm程度の厚さに実
際の条件にて設層して、測定用サンプルを作製し、次い
で、この測定用サンプルの基板を通しての反射率あるい
は記録層側からの反射率を測定することによって求め
る。この場合、反射率は、記録再生光波長を用いて鏡面
反射(5°程度)にて測定する。また、サンプルの透過
率を測定する。そして、これらの測定値から、例えば、
共立全書「光学」石黒浩三P168〜178に準じ、
n、kを算出すればよい。
【0141】なお、このような記録層のnおよびkは、
用いる色素に応じ、各色素の前記したnおよびkに対応
した値になる。
【0142】図2に示されるように、記録層3上には、
直接密着して反射層4が設層される。反射層4として
は、Au、Cu、Al、AgCu等の高反射率金属ない
し合金を用いるのがよい。反射層4の厚さは500A 以
上であることが好ましく、蒸着、スパッタ等により設層
すればよい。また、厚さの上限に特に制限はないが、コ
スト、生産作業時間等を考慮すると、1200A 程度以
下であることが好ましい。これにより、反射層4単独で
の反射率は、90%以上、媒体の未記録部の基板を通し
ての反射率は十分であり、2波長対応型のものの780
nm程度の従来の波長では60%以上、特に70%以上が
得られる。
【0143】図2に示されるように、反射層4上には、
保護膜5が設層される。保護膜5は、例えば紫外線硬化
樹脂等の各種樹脂材質から、通常は、0.5〜100μ
m 程度の厚さに設層すればよい。保護膜5は、層状であ
ってもシート状であってもよい。保護膜5は、スピンコ
ート、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等
の通常の方法により形成すればよい。
【0144】このような構成の光記録ディスク1に記録
ないし追記を行うには、例えば650nmあるいは780
nmの記録光を、基板2を通してパルス状に照射し、照射
部の光反射率を変化させる。なお、記録光を照射する
と、記録層3が光を吸収して発熱し、同時に基板2も加
熱される。この結果、基板2と記録層3との界面近傍に
おいて、色素等の記録層材質の融解や分解が生じ、記録
層3と基板2との界面に圧力が加わり、グルーブの底面
や側壁を変形させることがある。
【0145】また、本発明の金属含有アゾ系化合物は、
これ単独であるいはトリメチンシアニン系色素ととも
に、635nm程度の短波長で記録・再生を行う追記型デ
ジタルビデオディスク(DVD−R)の記録層に用いる
ことができる。
【0146】図3にはその構成例が示されている。図3
は部分断面図である。
【0147】図3で示されるように光記録ディスク10
は、DVD規格に対応した光記録ディスクであり、光記
録ディスク1と同様な構造のディスクを保護膜15およ
び保護膜25同士を接着剤で、貼り合わせて形成する。
ここで、接着剤は熱硬化性樹脂などを用いればよく、接
着剤層50の厚さは、10〜200μm 程度である。こ
の場合の基板(通常、ポリカーボネート樹脂)一枚当た
りの厚さは0.6mmであり、グルーブ123を有するこ
の基板12上に図2と同様の記録層13、反射層14、
保護膜15を順次形成し、一方グルーブ223を有する
基板22上に同様に記録層23、反射層24、保護膜2
5を形成し、上述のように貼り合わされて得られるもの
である。
【0148】このものの基板は前記したCDのものに準
じるが、グルーブの深さは600〜2000A 、幅0.
2〜0.5μm 、グルーブピッチは0.6〜1.0μm
である。
【0149】また記録層の厚さは500〜3000A で
あり、635nmにおける複素屈折率はn=1.8〜2.
6、k=0.02〜0.20である。
【0150】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を比較例ととも
に示し、本発明をさらに詳細に説明する。
【0151】実施例1 金属含有アゾ系化合物No.I−1を記録層用の色素とし
て光記録ディスクを作製した。まず、プリグルーブ(深
さ0.08μm 、幅0.36μm 、グルーブピッチ0.
8μm )を有する直径120mm、厚さ0.6mmのポリカ
ーボネート樹脂基板上に、スピンコート法により色素を
含有する記録層を2000A (200nm)の厚さに形成
した。この場合の塗布液として、2wt% の2−エトキシ
エタノール溶液を用いた。次に、この記録層にAu反射
層を850A の厚さにスパッタ法により形成し、さらに
紫外線硬化型のアクリル樹脂の透明な保護膜(膜厚5μ
m)を形成し、保護膜を内側にして接着剤を用いて貼り
合わせた(図3参照)。
【0152】このようにして作製した光記録ディスクの
ディスクサンプルNo.1に対し、レーザー(発振波長6
35nm)を使用して、線速2.6m/秒で記録・再生を行
い、最適記録パワー(PO )、モジュレーション(I11
Mod )、反射率(Rtop )を測定した。
【0153】また、8万ルックスのキセノンランプ(島
津社製キセノンフェードメーター)を200時間照射
し、モジュレーション(I11Mod )、反射率(Rtop )
の照射後の変化を測定した。
【0154】結果を以下に示す。
【0155】ディスクサンプルNo.1は、DVDとして
十分良好な特性をもち、かつ光安定性に優れることがわ
かった。
【0156】実施例2 実施例1において、金属含有アゾ系化合物No. I−1の
かわりに金属含有アゾ系化合物No. I−29を用いるほ
かは同様にして光記録ディスクサンプルNo. 2を作製
し、同様に特性を評価したところ、実施例1と同様の良
好な結果が得られた。
【0157】実施例3 光記録層用色素として金属含有アゾ系化合物No.I−1
とトリメチンシアニン系色素B−24を重量比で1:1
に混合したものを用いる以外は、実施例1と同様にして
光記録ディスクのディスクサンプルNo.3を形成し、記
録・再生を行った。
【0158】結果を以下に示す。
【0159】ディスクサンプルNo.3は、DVDとして
十分良好な特性をもち、かつ光安定性に優れることがわ
かった。また、本発明の金属含有アゾ系化合物を用いる
ことにより、シアニン系色素の光劣化が改善されること
がわかった。
【0160】実施例4 実施例3において、光記録層用色素として金属含有アゾ
系化合物No. I−1とトリメチンシアニン系色素B−2
6、B−28またはB−30とを用いる以外は同様にし
て3種の光記録ディスクサンプルNo. 41、42、43
を作製し、同様に特性を評価したところ、実施例3と同
様の良好な結果が得られた。
【0161】実施例5 光記録層用色素として金属含有アゾ系化合物No.I−1
とトリメチンシアニン系色素B−5とを用い、これらを
重量比で化合物No. I−1:シアニン系色素=7:3に
混合したものを用い、塗布溶媒を2−エトキシエタノー
ル(エチルセロソルブ)と1−メトキシ−2−ブタノー
ルの1:1(重量比)にかえた混合溶媒の2wt% 溶液を
使用する以外は、実施例1と同様にして光記録ディスク
のディスクサンプルNo.5を形成し、記録・再生を行っ
た。
【0162】結果を以下に示す。
【0163】ディスクサンプルNo.5は、DVDとして
十分良好な特性をもち、かつ光安定性に優れることがわ
かった。また、本発明の金属含有アゾ系化合物を用いる
ことにより、シアニン系色素の光劣化が改善されること
がわかった。
【0164】実施例6 実施例5において、光記録層用色素として金属含有アゾ
系化合物No. I−1とトリメチンシアニン系色素B−
4、B−6、B−9、B−10、B−11またはB−1
2とを用いる以外は同様にして6種の光記録ディスクサ
ンプルNo. 61〜66を作製し、同様に特性を評価した
ところ、実施例5と同様の良好な結果が得られた。
【0165】実施例7 光記録層用色素として、金属含有アゾ系化合物No.I−
1とフタロシアニン系色素A−3を重量比1:1で混合
したものを用い、プリグルーブ(深さ0.14μm 、幅
0.50μm 、グルーブピッチ1.6μm )を有する直
径120mm、厚さ1.2mmのポリカーボネート樹脂基板
上に、スピンコート法により色素を含有する記録層を2
000A (200nm)の厚さに形成した。この場合の塗
布液として、2wt% の2−エトキシエタノール溶液を用
いた。次に、この記録層にAu反射膜を850A の厚さ
にスパッタ法により形成し、さらに紫外線硬化型のアク
リル樹脂の透明な保護膜(膜厚5μm )を形成しディス
クを形成した(図2参照)。
【0166】化合物No.I−1は、膜厚50nmの薄膜サ
ンプルを用いたときのλmax が610nmであり、前記の
方法で求めた650nmにおけるnおよびkはn=2.1
0、k=0.040であった。
【0167】また色素A−3は、色素膜厚80nmの薄膜
サンプルにおいてλmax =725nm、半値幅125nm、
n=2.4、k=0.10であった。
【0168】このようにして作製した光記録ディスクの
ディスクサンプルNo.7に対し、レーザー(発振波長7
80nm)を使用して、線速1.2m/秒で記録を行い、レ
ーザー(発振波長780nm)とレーザー(発振波長65
0nm)で再生を行い、最適記録パワー(PO )、モジュ
レーション(I11Mod )、反射率(Rtop )を測定し
た。
【0169】また、8万ルックスのキセノンランプ(島
津社製キセノンフェードメーター)を200時間照射
し、モジュレーション(I11Mod )、反射率(Rtop )
の照射後の変化を測定した。
【0170】結果を以下に示す。
【0171】
【0172】ディスクサンプルNo.7はCD−RIIとし
て十分良好な特性をもち、かつ光安定性に優れることが
わかった。
【0173】実施例8 光記録層用色素として、金属含有アゾ系化合物No.I−
1とシアニン系色素B−5とフタロシアニン系色素A−
3とを用い、これらを重量比で化合物No.I−1:シア
ニン系色素B−5:フタロシアニン系色素A−3=2:
1:2で混合した色素を用い、塗布溶媒を2−エトキシ
エタノール(エチルセロソルブ)と1−メトキシ−2−
ブタノールの1:1(重量比)の混合溶媒にかえた2.
25wt%溶液を使用する以外は、実施例7と全く同様に
して、ディスクサンプルNo.8を形成し、レーザー(発
振波長780nm)を使用して、線速1.2m/秒で記録を
行い、レーザー(発振波長780nm)とレーザー(発振
波長650nm)で再生を行い、最適記録パワー(PO
)、モジュレーション(I11Mod )、反射率(Rtop)
を測定した。
【0174】また、8万ルックスのキセノンランプ(島
津社製キセノンフェードメーター)を200時間照射
し、モジュレーション(I11Mod )、反射率(Rtop )
の照射後の変化を測定した。
【0175】結果を以下に示す。
【0176】なお、上記のシアニン系色素B−5は膜厚
80nmの薄膜サンプルを用いたときのλmax が611nm
であり、前記の方法で求めた650nmにおけるnおよび
kはn=2.45、k=0.09であった。
【0177】ディスクサンプルNo.8は、CD−RIIと
して十分良好な特性をもち、かつ光安定性に優れること
がわかった。また、本発明の金属含有アゾ系化合物を用
いることにより、シアニン系色素の光劣化が改善される
ことがわかった。
【0178】実施例9 光記録層用色素として、金属含有アゾ系化合物No.I−
2とシアニン系色素B−5とフタロシアニン系色素A−
3とを用い、これらを重量比で化合物No.I−2:シア
ニン系色素B−5:フタロシアニン系色素A−3=1:
1:2で混合した色素を用いる以外は、実施例8と全く
同様にして、ディスクサンプルNo.9を形成し、レーザ
ー(発振波長780nm)を使用して、線速1.2m/秒で
記録を行い、レーザー(発振波長780nm)とレーザー
(発振波長650nm)で再生を行い、最適記録パワー
(PO )、モジュレーション(I11Mod )、反射率(R
top)を測定した。
【0179】また、8万ルックスのキセノンランプ(島
津社製キセノンフェードメーター)を200時間照射
し、モジュレーション(I11Mod )、反射率(Rtop )
の照射後の変化を測定した。
【0180】結果を以下に示す。
【0181】なお、上記の化合物No.I−2は膜厚50
nmの薄膜サンプルを用いたときのλmax が600nmであ
り、前記の方法で求めた650nmにおけるnおよびkは
n=2.10、k=0.05であった。
【0182】ディスクサンプルNo.9は、CD−RIIと
して十分良好な特性をもち、かつ光安定性に優れること
がわかった。また、本発明の金属含有アゾ系化合物を用
いることにより、シアニン系色素の光劣化が改善される
ことがわかった。
【0183】実施例10 実施例8において、光記録層用色素として、金属含有ア
ゾ系化合物No.I−1とシアニン系色素B−5とフタロ
シアニン系色素A−3とを用い、これらを重量比で化合
物No.I−1:シアニン系色素B−5:フタロシアニン
系色素A−3=2:1:6で混合した色素を用い、これ
らの混合色素の2.25wt% の2−エトキシエタノール
と1−メトキシ−2−ブタノール(重量比1:1)との
混合溶媒の溶液を用いる以外は同様にして光記録ディス
クサンプルNo. 10を作製し、同様に特性を評価したと
ころ、実施例8と同様の良好な結果が得られた。
【0184】実施例11 実施例8において、光記録層用色素として、金属含有ア
ゾ系化合物No.I−1とシアニン系色素B−11とフタ
ロシアニン系色素A−3とを用い、これらを重量比で化
合物No.I−1:シアニン系色素B−11:フタロシア
ニン系色素A−3=2:1:2で混合した色素を用いる
以外は同様にして光記録ディスクサンプルNo. 11を作
製し、実施例8と同様に特性を評価したところ、実施例
8と同様の良好な結果が得られた。なお、シアニン系色
素B−11は膜厚80nmの薄膜サンプルを用いたときの
λmax が611nmであり、前記方法で求めた650nmに
おけるnおよびkはn=2.40、k=0.11であっ
た。
【0185】また、シアニン系色素B−11はアルコキ
シアルキル基を有する化合物であるため、シアニン系色
素B−5に比べ、溶解性がより良好であり、塗膜性状が
より良好であった。
【0186】実施例12 実施例10において、光記録層用色素として、金属含有
アゾ系化合物No.I−1とシアニン系色素B−9とフタ
ロシアニン系色素A−3とを用い、これらを重量比で化
合物No.I−1:シアニン系色素B−9:フタロシアニ
ン系色素A−3=2:1:2で混合した色素を用いる以
外は同様にして光記録ディスクサンプルNo. 12を作製
し、実施例8と同様に特性を評価したところ、実施例8
と同様の良好な結果が得られた。なお、シアニン系色素
B−9は膜厚80nmの薄膜サンプルを用いたときのλma
x が613nmであり、前記の方法で求めた650nmにお
けるnおよびkはn=2.40、k=0.12であっ
た。
【0187】また、シアニン系色素B−9はアルコキシ
アルキル基を有する化合物であるため、シアニン系色素
B−5に比べ溶解性が良好であり、塗膜性状がより良好
であった。
【0188】実施例13 実施例10において、光記録層用色素として、金属含有
アゾ系化合物No.I−1とシアニン系色素B−2とフタ
ロシアニン系色素A−3とを用い、これらを重量比で化
合物No.I−1:シアニン系色素B−2:フタロシアニ
ン系色素A−3=2:1:2で混合した色素を用いる以
外は同様にして光記録ディスクサンプルNo. 13を作製
し、実施例8と同様に特性を評価したところ、実施例8
と同様の良好な結果が得られた。
【0189】なお、上記のシアニン系色素B−2は膜厚
80nmの薄膜サンプルを用いたときのλmax が610nm
であり、前記の方法で求めた650nmにおけるnおよび
kはn=2.5、k=0.08であった。
【0190】実施例14 実施例8において、光記録層用色素として、金属含有ア
ゾ系化合物No.I−29とシアニン系色素B−5とフタ
ロシアニン系色素A−3、A−28とを用い、これらを
重量比で化合物No.I−29:シアニン系色素B−5:
フタロシアニン系色素A−3:フタロシアニン系色素A
−28=2:1:1:1で混合した色素を用い、これら
の混合色素の2.25wt% の2−エトキシエタノール溶
液を用いる以外は同様にして光記録ディスクサンプルN
o. 14を作製し、同様に特性を評価したところ、実施
例8と同様の良好な結果が得られた。
【0191】なお、化合物No. I−29は膜厚50nmの
λmax が615nmであり、前記の方法で求めた650nm
におけるnおよびkはn=2.05、k=0.040で
あった。また、色素A−28は膜厚80nmの薄膜サンプ
ルにおいてλmax =725nm、半値幅130nm、n=
2.4、k=0.09であった。
【0192】実施例15 実施例8において、混合タイプのかわりに積層タイプの
記録層とするほかは同様にして光記録ディスクを作製し
た。
【0193】基板上に金属含有アゾ系化合物No.I−1
とシアニン系色素B−5とを重量比で1:1で混合した
0.6wt% の2−エトキシエタノール溶液をスピンコー
ト法によって塗布し、60℃で3時間乾燥して500A
の厚さの記録層下層を設層した。
【0194】この記録層下層上にフタロシアニン系色素
A−44の2.0wt% のエチルシクロヘキサン溶液をス
ピンコート法によって塗布し、60℃で3時間乾燥して
1000A の厚さの記録層上層を設層した。
【0195】このような2層構成の記録層上に、Au反
射層を850A の厚さにスパッタ法により形成し、さら
に保護膜として、紫外線硬化型のアクリル樹脂を5μm
の厚さに形成した。
【0196】なお、フタロシアニン系色素A−44は膜
厚80nmの薄膜サンプルの測定値でλmax =728nm、
半値幅140nm、n=2.2、k=0.09であった。
【0197】このようにしてディスクサンプルNo.15
を作製した。
【0198】このディスクサンプルNo.15に対し、レ
ーザー(発振波長780nm)を使用して、線速1.2m/
秒で記録を行い、レーザー(発振波長780nm)とレー
ザー(発振波長650nm)で再生を行い、最適記録パワ
ー(PO )、モジュレーション(I11Mod )、反射率
(Rtop )を測定した。
【0199】また、8万ルックスのキセノンランプ(島
津社製キセノンフェードメーター)を200時間照射
し、モジュレーション(I11Mod )、反射率(Rtop )
の照射後の変化を測定した。
【0200】結果を以下に示す。
【0201】ディスクサンプルNo.15は、CD−RII
として十分良好な特性をもち、かつ光安定性に優れるこ
とがわかった。また、本発明の金属含有アゾ系化合物を
用いることにより、シアニン系色素の光劣化が改善され
ることがわかった。
【0202】比較例1 光記録層用色素として、以下に示されるカウンターカチ
オンがNa+ のアゾ系色素を用い、溶媒として2−エト
キシエタノール、テトラフルオロプロパノール、エチル
シクロヘキサンの3種を用い、各2wt% 溶液として塗布
した以外は、実施例1と全く同様にして、ディスク3種
の形成を試みた。
【0203】この結果、いずれの溶媒を用いた場合で
も、色素の溶解性不足により、色素膜表面に結晶が生
じ、評価ができなかった。
【0204】
【化38】
【0205】比較例2 特開平2−55189号公報の実施例に準じ、光記録用
色素として、本発明の化合物No.I−1と下記のペンタ
メチンシアニン系色素を用い、重量比で化合物No.I−
1:シアニン系色素=1:1にする以外は、実施例7と
同様にして、ディスクを形成した。
【0206】
【化39】
【0207】このようにして作製した光記録ディスクの
ディスクサンプルに対し、レーザー(発振波長780n
m)を使用して、線速1.2m/秒で記録を行い、レーザ
ー(発振波長780nm)で再生を行い、最適記録パワー
(PO )、モジュレーション(I11Mod )、反射率(R
top )を測定した。
【0208】また、8万ルックスのキセノンランプ(島
津社製キセノンフェードメーター)を25時間照射し、
モジュレーション(I11Mod )、反射率(Rtop )の照
射後の変化を測定した。
【0209】結果を以下に示す。 初期値 照射後 Rtop 60% 40% I11Mod 66% 25%(ジッターの大きな劣化発生) PO 7.2mW
【0210】上記公報の使用方法で本発明の化合物を用
いた場合は、780nmの記録・再生において特性の劣化
がみられることがわかった。
【0211】比較例3 光記録層用色素として、トリメチンシアニン系色素B−
5とフタロシアニン系色素A−3を使用し、重量比でシ
アニン系色素B−5:フタロシアニン系色素A−3=
1:1で混合した色素を用いる以外は、実施例8と全く
同様にして、ディスクを形成し、レーザー(発振波長7
80nm)を使用して、線速1.2m/秒で記録を行い、レ
ーザー(発振波長780nm)とレーザー(発振波長65
0nm)で再生を行い、最適記録パワー(PO )、モジュ
レーション(I11Mod )、反射率(Rtop )を測定し
た。
【0212】また、8万ルックスのキセノンランプ(島
津社製キセノンフェードメーター)を20時間照射し、
モジュレーション(I11Mod )、反射率(Rtop )の照
射後の変化を測定した。
【0213】結果を以下に示す。
【0214】このように、本発明の金属含有アゾ系化合
物を用いないと、シアニン系色素の光劣化が著しいこと
がわかる。
【0215】比較例4 特公平7−37580号公報に記載の下記のクロム含金
アゾ系化合物を光記録層用色素として用い、塗布溶媒に
シクロヘキサンを用いる以外は実施例1と同様にして光
記録ディスクを作製し、実施例1と同様にして特性の評
価を試みたところ、記録を行うことができず、特性を評
価できなかった。
【0216】
【化40】
【0217】比較例5 特公平7−42451号(対応特開昭63−35587
号)公報に記載の下記のクロム錯体化合物を光記録層用
色素として用い、塗布溶媒としてアセトンを用い、基板
材質をポリメチルメタクリレート(PMMA)樹脂とす
る以外は実施例1と同様にして光記録ディスクを作製
し、実施例1と同様にして特性の評価を試みたところ、
記録を行うことができず、特性を評価できなかった。
【0218】
【化41】
【0219】比較例6 実施例5において、本発明の化合物No.I−1のかわり
に、下記のビスフェニルジチオール系のNi錯体クエン
チャーを用いるほかは同様にして光記録ディスクを作製
し、同様に特性を評価したところ、以下に示すようにト
リメチンシアニン系色素のもつ反射率、モジュレーショ
ンともに低下した。
【0220】
【化42】
【0221】
【0222】
【発明の効果】本発明によれば、溶解性と耐光性に優れ
た金属含有アゾ系化合物を光吸収色素として用い、記録
感度が高くジッターが小さいなどの特性に優れた光記録
媒体が得られる。また、耐光性がなく、本発明の金属含
有アゾ系化合物と同様な波長に吸収をもつトリメチンシ
アニン系色素を光吸収色素に用いる場合には、本発明の
金属含有アゾ系化合物を混合することで、耐光性の向上
した優れた光記録媒体が得られる。
【0223】また、長波長側に吸収を有する色素と混合
すると2波長対応型の光記録媒体を形成することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】フタロシアニン系色素の薄膜の吸収スペクトル
の半値幅の求め方を説明するグラフである。
【図2】本発明の光ディスクの一例を示す部分断面図で
ある。
【図3】本発明の光ディスクの他の一例を示す部分断面
図である。
【符号の説明】
1、10 光記録ディスク 2、12、22 基板 23、123、223 グルーブ 3、13、23 記録層 4、14、24 反射層 5、15、25 保護膜 50 接着層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11B 7/24 516 8721−5D G11B 7/24 516 (72)発明者 門田 敦志 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に色素を含有する記録層を有し、
    この記録層上に反射層を有し、この反射層上に保護膜を
    有する光記録媒体において、 前記記録層が、下記式(I)で表される金属含有アゾ系
    化合物を含有する光記録媒体。 【化1】 [式(I)において、R1 およびR2 は各々ニトロ基、
    ハロゲン原子、アミノ基、スルファモイル基、アルキル
    基またはアルコキシ基を表し、tおよびuは各々0また
    は1〜4の整数である。R3 およびR4 はハロゲン原
    子、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基またはアミノ
    基を表し、vおよびwは各々0または1〜6の整数であ
    る。M1 はコバルトまたはニッケルを表す。Y+ はアル
    キル置換アンモニウムイオンを表す。ただし、t、u、
    vおよびwは同時に0になることはなく、t+u+v+
    wは1〜20である。]
  2. 【請求項2】 前記記録層が、下記式(II)で表される
    トリメチンシアニン系色素を含有する請求項1の光記録
    媒体。 【化2】 [式(II)において、Q1 およびQ2 は各々炭素原子お
    よび窒素原子ととも複素環を完成するのに必要な原子群
    を表し、Q1 またはQ2 で完成される複素環骨格は同一
    でも異なるものであってもよい。R1 およびR2 は、各
    々脂肪族炭化水素基を表し、これらは同一でも異なるも
    のであってもよい。R3 は水素原子または一価の置換基
    を表す。X- は一価の陰イオンを表す。]
  3. 【請求項3】 前記記録層が前記金属含有アゾ系化合物
    または前記トリメチンシアニン系色素とは光学特性の異
    なる第2の光吸収色素を含有し、630〜690nmの第
    1の波長光および770〜830nmの第2の波長光で記
    録再生を行う請求項1または2の光記録媒体。
  4. 【請求項4】 前記第2の波長光で記録を行い、前記第
    1および第2の波長光で再生を行う請求項3の光記録媒
    体。
  5. 【請求項5】 前記金属含有アゾ系化合物、および前記
    トリメチンシアニン系色素の650nmでの複素屈折率の
    実部nが1.8〜2.6、虚部kが0.02〜0.20
    であり、前記第2の光吸収色素の780nmでの複素屈折
    率の実部nが1.8〜2.6、虚部kが0.02〜0.
    30であって、薄膜の吸収スペクトルの半値幅が170
    nm以下である前記記録層を基板上に設けた請求項3の光
    記録媒体。
  6. 【請求項6】 前記金属含有アゾ系化合物またはこの化
    合物と前記トリメチンシアニン系色素を含有する第1の
    記録層に、これらの化合物とは光学特性の異なる第2の
    光吸収色素を含有する第2の記録層を積層し、2層以上
    の記録層とした請求項1または2の光記録媒体。
  7. 【請求項7】 前記金属含有アゾ系化合物または前記ト
    リメチンシアニン系色素の650nmでの複素屈折率の実
    部nが1.8〜2.6、虚部kが0.02〜0.20で
    あり、前記第2の光吸収色素の780nmでの複素屈折率
    の実部nが1.8〜2.6、虚部kが0.02〜0.1
    5であって、薄膜の吸収スペクトルの半値幅が170nm
    以下であり、前記2層以上の記録層を基板上に設けた請
    求項6の光記録媒体。
  8. 【請求項8】 基板上に第1の記録層を設け、この第1
    の記録層上に第2の記録層を設けた請求項6または7の
    光記録媒体。
  9. 【請求項9】 前記第2の光吸収色素が下記式(III)で
    表されるフタロシアニン系色素である請求項3〜8のい
    ずれかの光記録媒体。 【化3】 [式(III)において、Mは中心原子を表す。X1 、X
    2 、X3 およびX4 は、各々ハロゲンを表し、これらは
    同一でも異なるものであってもよい。p1、p2、p3
    およびp4は各々0または1〜4の整数であり、p1+
    p2+p3+p4は0〜15である。Y1 、Y2 、Y3
    およびY4 は、各々酸素原子または硫黄原子を表し、こ
    れらは同一でも異なるものであってもよい。Z1 、Z
    2 、Z3 およびZ4 は、各々炭素原子数4以上のアルキ
    ル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素
    環基を表し、これらは同一でも異なるものであってもよ
    い。q1、q2、q3およびq4は各々0または1〜4
    の整数であり、これらは同時に0になることはなく、q
    1+q2+q3+q4は1〜8である。]
  10. 【請求項10】 前記第1の記録層および前記第2の記
    録層の膜厚が各々20〜250nmであり、前記第1の記
    録層の膜厚を前記第2の記録層の膜厚で除した値が0.
    1〜1である請求項8または9の光記録媒体。
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