JPH09324013A - 構造異性体ポリ（アルキルエチレン） - Google Patents

構造異性体ポリ（アルキルエチレン）

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JPH09324013A
JPH09324013A JP9019218A JP1921897A JPH09324013A JP H09324013 A JPH09324013 A JP H09324013A JP 9019218 A JP9019218 A JP 9019218A JP 1921897 A JP1921897 A JP 1921897A JP H09324013 A JPH09324013 A JP H09324013A
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 ポリ（アルキルエチレン）の好ましい工業材
料特性を保存しながらポリ（アルキルエチレン）の加工
特性の改良。 【解決手段】 ポリ（アルキルエチレン）を０．０５〜
５質量％の単官能、二官能および多官能モノマーと共
に、場合によりペルオキシドの存在で、放射線照射法、
溶融反応法または固相反応法により反応させることによ
り製造される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】ポリエチレンとは反対にポリ
（アルキルエチレン）は熱可塑性プラスチックの加工の
際に一連の短所を有する。例えば、溶融物の高い不安定
性およびそれに関して結び付けられる比較的小さな加工
の窓である。変形されていないポリ（アルキルエチレ
ン）はポリエチレンに対して著しく低い加工速度のみを
認める。
【０００２】
【従来の技術】ポリ（エチルエチレン）の改良された加
工性はポリ（エチルエチレン−コ−エチレン）共重合体
の合成により（Natta,G., J.Polymer Sci. 51(1961）,
387-398; Chim. Ind.(Milano) 41 (1959), 764; Yu,
T., J.Plastic Film Sheeting 10(1994)1,539-564)並び
にスチレン、塩化ビニルによるグラフトにより［G. Nat
ta, Polymer Sci. 34(1965), 685-698］またはアクリロ
ニトリルによるグラフトにより達成される。より好まし
い加工特性を同様にポリ（エチルエチレン）／ポリエチ
レンブレンドが有する（Hwo, C., J.Plast.Film Sheeti
ng 3(1987), 245-260; Kishore, K., Polymer 27(198
6), 337-343 ）。
【０００３】さらに、ポリ（メチルエチレン）溶融体の
不安定性はポリエチレン（Ramstei-ner, F., Polmer 24
(1983), 365-370 ）、ポリエチレン／ポリ（エチレン−
コ−メチルエチレン）混合物（Wasiak,A., ANTEK 1992,
1265-1266）またはポリ（エチレン−コ−アセトキシエ
チレン）（Gupta, A., J.appl.Polymer Sci, 46(1992),
281-293) の添加により下がることが知られている。ポ
リ（メチルエチレン）の加工の窓の拡大は同様にイオン
化放射線（EP 190889 ）, ペルオキシド（EP 384431 ）
またはモノマー／ペルオキシド混合物（EP 43708）によ
り固相においてその粉を処理することによりもたらされ
る。ポリ（メチルエチレン）／ポリエチレン溶融体をペ
ルオキシドと共に処理すること（Xanthos, M., Adv.Pol
ym. .Techn. 11(1992)4, 295-304）も同様に知られてい
る。
【０００４】ポリ（イソブチルエチレン）の溶融体不安
定性を低下させるための既知の方法はポリ（イソブチル
エチレン−コ−エチレン）共重合体（Yu, T., J. Plast
icFilm Sheeting 10(1994)1, 539-564) 、ポリ（イソブ
チルエチレン−コ−ヘキシルエチレン）共重合体および
ポリ（イソブチルエチレン−コ−ヘキサデシルエチレ
ン）共重合体（Campbell, J.appl.Polymer Sci.5(1961)
4, 184-190; Hambling,J., Rubber Plas.Age 49(1968)
3, 224-227)、ポリ（イソブチルエチレン−コ−フェニ
ルエチレン）共重合体(Krenzel, V., Plast.Massy (197
2)3, 57-59; Kissin, Y., Eur.Polymer J.8(1072)3, 48
7-499)などの合成並びにポリ（イソブチルエチレン−ｇ
−フェニルエチレン）グラフト共重合体（Wilson, J.,
J.macromol.Sci.A6(1972)2, 391-402)の合成である。
【０００５】熱形状安定性および弾性率の向上のため放
射線照射によるポリ（メチルエチレン−コ−エチレ
ン）、ポリ（メチルエチレン）並びにポリ（アセチルエ
チレン−コ−エチレン）の橋かけも同様に知られている
（N. Brooks, J. Irradiation Tech. 1(1983)3, 237-25
7 ）。さらに粉体のポリ（アルキルエチレン）の中への
モノマーの収着についての研究も発表されている［Ratz
sch, M., Angew. Makro-mol. Chemie 229(1995), 145-1
58］。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】これらの方法において
不利なことは、ポリ（アルキルエチレン）の好ましい工
業材料としての特性、例えば、熱形状安定性、透明性お
よび弾性率などは共重合、グラフトおよび合金の際の改
質成分の高い持ち分により低下させられることである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】したがって本発明には、
ポリ（アルキルエチレン）の好ましい工業材料特性を保
存しながらポリ（アルキルエチレン）の加工特性を改良
するという問題が根底にある。この問題は意外にもポリ
（アルキルエチレン）の構造異性体化により解決された
が、その際いろいろ異なる鎖長のポリ（アルキルエチレ
ン）はポリマーの橋状部分によりＨ−およびＹ−構造を
有する構造異性体ポリ（アルキルエチレン）へ結び付け
られる。
【０００８】ポリ（アルキルエチレン）の加工状態を特
徴づけるためにψ−指数が適当な判断の基準であること
が判明した。
【０００９】
【数２】 ψ＝ Tm・△Hm・β・ζ・Tg-1（kJ/ モル・度） Tm＝融点（Ｋ） △Hm＝融解熱（kJ/ モ
ル） β＝25℃における線熱膨張係数（1/度） ζ＝閾値 Tg＝ガラス転移温度（Ｋ）
【００１０】溶融温度Tm(K) および融解熱△Hm（kJ/ モ
ル）は DIN 51004または ISO 3146に従って求められ
る。25℃における線熱膨張係数β（1/度）は DIN 53752
に従って決定される。閾値ζは ISO 1131 に従う MFI既
定において、製造された構造異性体ポリ（アルキルエチ
レン）のロープ直径ｄ1 （ｍｍ) 並びに変形されないポ
リ（アルキルエチレン）出発物質のロープ直径ｄA （ｍ
ｍ）および商の形ｄ1 /ｄA を求めることにより決定さ
れる。ガラス転移温度Tg（Ｋ）については DIN61006 に
従って決定がなされる。
【００１１】出発物質（変形されないポリアルキルエチ
レン）について融解温度、ガラス転移温度、融解熱およ
び線熱膨張係数βは例えば、 Brandrup-Immergut "Poly
merHandbook", John Wiley & Sons, New York 1989 (IS
BN 0-471-81244-7)のような表集から引用されることが
できる。
【００１２】本発明によればＨ−およびＹ−構造と２・
１０-3〜８・１０-3（kJ/ モル・度）のψ−指数を有す
るポリ（アルキルエチレン）は変形されないポリ（アル
キルエチレン）に対して著しく好ましい加工特性を有す
る。そのようにψ−価はポリ（イソブチルエチレン）に
ついては約１．８８・１０-3（kJ/ モル・度）およびポ
リ（エチルエチレン）については約１．８４・１０
-3（kJ/ モル・度）にある。
【００１３】Ｈ−構造を有するポリ（アルキルエチレ
ン）は次の構造の高分子化合物である。
【化３】
【００１４】〔Ｒ1 ＝Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル；Ｒ2 ＝Ｈ；
t/u ＝０．０３〜３０；Ｒ3 ＝Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルまた
はＨ；Ｒ4 ＝Ｈ，Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル、ハロゲンまたは
アリール、特にフェニル；Ｒ5 ＝ＨまたはＣ1 〜Ｃ4 ア
ルキル； y+z＝１５０〜３０００；
【００１５】Ξ＝アクリル酸、Ｃ4 〜Ｃ12−アクリル酸
誘導体、Ｃ3 〜Ｃ21−アリル化合物、Ｃ8 〜Ｃ14−ジア
クリレート、Ｃ7 〜Ｃ16−ジアリル化合物、Ｃ4 〜Ｃ10
−ジエン、Ｃ9 〜Ｃ15−ジメタアクリレート、Ｃ7 〜Ｃ
10−ジビニル化合物、Ｃ3 〜Ｃ 16−モノビニル化合物、
Ｃ12〜Ｃ17−ポリアクリレート、Ｃ15〜Ｃ21−ポリメタ
クリレートおよび／またはＣ9 〜Ｃ12−トリアリル化合
物および／またはオリゴブタジエン、ポリシロキサンお
よび／またはポリエーテルに基づく高分子化合物に基づ
くポリマー橋状部分。〕
【００１６】Ｙ−構造を有するポリ（アルキルエチレ
ン）は次の構造の高分子化合物である。
【化４】
【００１７】〔Ｒ1 ＝Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル；Ｒ2 ＝Ｈ；
Ｒ3 ＝Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルまたはＨ；Ｒ4 ＝Ｈ，Ｃ1 〜
Ｃ4 アルキル、ハロゲンまたはアリール、特にフェニ
ル；Ｒ5＝ＨまたはＣ1 〜Ｃ4 アルキル； y+z＝１５０
〜３０００； t/u ＝０．０３〜３０；ｗ＝２５０〜５
０００
【００１８】Ξ＝アクリル酸、Ｃ4 〜Ｃ12−アクリル酸
誘導体、Ｃ3 〜Ｃ21−アリル化合物、Ｃ8 〜Ｃ14−ジア
クリレート、Ｃ7 〜Ｃ16−ジアリル化合物、Ｃ4 〜Ｃ10
−ジエン、Ｃ9 〜Ｃ15−ジメタアクリレート、Ｃ7 〜Ｃ
10−ジビニル化合物、Ｃ3 〜Ｃ 16−モノビニル化合物、
Ｃ12〜Ｃ17−ポリアクリレート、Ｃ15〜Ｃ21−ポリメタ
クリレートおよび／またはＣ9 〜Ｃ12−トリアリル化合
物および／またはオリゴブタジエン、ポリシロキサンお
よび／またはポリエーテルに基づく高分子化合物に基づ
くポリマー橋状部分。〕
【００１９】Ｈ−またはＹ−構造を有するポリ（アルキ
ルエチレン）におけるポリマー橋状部分は０．１〜５質
量％になる。
【００２０】ポリ（アルキルエチレン）のＨ−およびＹ
−構造を有するポリ（アルキルエチレン）への構造異性
化は溶融物においてある鎖配列を達成し、そしてそれは
ポリ（アルキルエチレン）の溶融物不安定性を強く低下
させる。
【００２１】Ｈ−またはＹ−構造を有するポリ（アルキ
ルエチレン）において、Ｒ1 とＲ3がエチル、メチルま
たはイソブチル基により形成され、Ｒ2 とＲ5 ＝Ｈであ
りかつＲ4 がエチル、ｎ−ブチル、メチルまたはイソブ
チル基もしくはＨまたはＣｌにより形成されていること
が好ましい。
【００２２】これらの構造異性体ポリ（アルキルエチレ
ン）の混合物も同様に本発明に適合した特性を有する。
好ましいψ−価は２．５・１０-3〜６・１０-3（kJ/ モ
ル・度）の間にある。
【００２３】橋状部分Ξに適当なモノビニル化合物はｐ
−アセトキシスチレン、アミノスチレン、ｔ−ブチルス
チレン、ブロムスチレン、クロロスチレン、ジクロロス
チレン、ｍ−ジエチルアミノエチルスチレン、ジエチレ
ングリコールモノビニルエーテル、ジメトキシスチレ
ン、ジメチルスチレン、エトキシスチレン、エチルスチ
レン、エチルビニルアセテート、エチルビニルエーテ
ル、エチルビニルピリジン、フルオロスチレン、２−ヒ
ドロキシブチルスチレン、２−ヒドロキシプロピルスチ
レン、ｍ−ヒドロキシスチレン、イソプロピルスチレ
ン、メトキシスチレン、メチルクロロスチレン、α−メ
チルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレ
ン、メチルビニルアセテート、メチルビニルエーテル、
メチルビニルピリジン、４−フェノキシスチレン、フェ
ニルビニルエーテル、スチレン、トリメトキシスチレ
ン、トリメチルスチレン、ビニルアセテート、ビニルア
セトキシメチルケトン、ビニルアジペート、９−ビニル
アントラセン、ビニルベンゾエート、ビニルブチルエー
テル、ビニルブチルケトン、ビニルブチレート、ビニル
カルバゾール、ビニルシアノアセテート、ビニルドデシ
ルエーテル、ビニルエーテル、ビニルエチルジエトキシ
シラン、ビニルエチルエーテル、ビニルエチレングリコ
ールグリシジルエーテル、ビニルエチルヘキシルエーテ
ル、ビニルエチルケトン、ビニルホルメート、ビニルフ
ラン、ビニルヘキシルエーテル、ビニルイミダゾール、
ビニルイソブチルエーテル、ビニルイソシアナート、ビ
ニルイソプロピルエーテル、ビニルイソプロピルケト
ン、ビニルラウレート、ビニルメチルジアセトキシシラ
ン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルエー
テル、ビニルメチルケトン、ビニルナフタレン、ビニル
オクタデシルエーテル、ビニルオクチルエーテル、Ｎ−
ビニルオキサゾリドン、ビニルペラゴナート、ｏ−ビニ
ルフェノール、ビニルフェニルジメチルシラン、ビニル
フェニルエーテル、ビニルフェニルケトン、５−ビニル
ピコリン、ビニルブロピオネート、Ｎ−ビニルピリジ
ン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルステアレート、ビニ
ルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニル−ｔｒｉｓ−（トリメトキシシロキシ）シランおよ
び／またはビニルトリメチルシランの１．５〜５質量％
の配分である。
【００２４】ポリマーの橋状部分Ξのためのジビニル化
合物としてはジビニルアニリン、ｍ−ジビニルベンゼ
ン、ｐ−ジビニルベンゼン、ジエチレングリコールジビ
ニルエーテル、ジビニルペンタン、ジビニルプロパンお
よび／または１，３−ジビニル−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサンの０．１〜２質量％の配分が適当
である。
【００２５】アリル化合物に基づくポリマーの橋状部分
Ξは、アリルアセテート、アリルアクリレート、アリル
アルコール、アリルベンゼン、アリルベンジルエーテ
ル、３−アリル−１−ブテン、アリルブチルエーテル、
アリルシアヌレート、アリルシクロヘキサン、アリルジ
エチルケトン、４−アリル−２，６−ジメトキシフェノ
ール、アリルジメチルクロロシラン、アリルエポキシプ
ロピルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルグリシ
ジルエーテル、アリルグリシジルヘキシルヒドロフタレ
ート、アリルグリシジルフタレート、アリルヘプタノエ
ート、アリルヘキサノエート、アリルメタクリレート、
アリルメトキシフェノール、アリルメチルエーテル、ア
リルメチルマレエート、アリルオキシ−２，３−プロパ
ンジオール、Ｎ−アリルステアラミド、アリルトルイル
エーテル、アリルトリクロロシラン、アリルトリエトキ
シシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリメチ
ルシラン、アリルトリフェニルシランおよび／またはア
リルビニルエーテルのようなモノマー単位の、本発明に
適合するＨ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエ
チレン）に関して、０．２〜４．５質量％の配分から成
る。
【００２６】ポリマーの橋状部分Ξのために適当なジア
クリレートおよびジメタクリレートはエチルレングリコ
ールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレ
ート、トリメチレングリコールジアクリレート、ブチレ
ングリコールジアクリレート、ペンタンジオールジアク
リレート、ヘキサンジオールジアクリレート、オクタン
ジオールジアクリレート、ジグリコールジアクリレート
および／またはトリグリコールジアクリレートもしくは
ジメタクリレート、例えば、エチレングリコールジメタ
クリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、
トリメチレングリコールジメタクリレート、ブチレング
リコールジメタクリレート、ペンタンジオールジメタク
リレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、オクタ
ンジオールジメタクリレート、ジグリコールジメタクリ
レートおよび／またはトリグリコールジメタクリレート
の０．１〜１．６質量％の配分である。
【００２７】ポリマーの橋状部分Ξのためのポリアクリ
レートとしてグリセリントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレートおよび／またはペンタエ
リトリトテトラアクリレートが０．１〜１．２質量％の
配分で適する。
【００２８】アクリル酸に基づくポリマーの橋状部分Ξ
のほかに、アクリル酸誘導体例えば、アクリルアミド、
アクリルニトリル、ベンジルアクリレート、ブチルアク
リレート、シクロヘキシルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアクリルアミド、ドデシルアクリレート、エチルア
クリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エ
トキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、
ヒドロキシエチルアクリレート、イソプロピルアクリレ
ート、２−メトキシエチルアクリレート、４−メトキシ
ベンジルアクリレート、メチルアクリレート、アクリル
酸ナトリウム、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−アミ
ノエチルアクリレート、オクチルアクリレート、フェニ
ルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、ｎ−プ
ロピルアクリレートおよび／またはテトラヒドロフルフ
リルアクリレートが、基準として、本発明に適合するＨ
−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）に
関して、０．２〜１．８質量％の配分でポリマーの橋状
部分Ξとして好ましいものであった。
【００２９】ポリマーの橋状部分Ξのためのジアリル化
合物としてジアリルジメチルシラン、ジアリル（２−ヒ
ドロキシ−３−フェノキシプロピル）イソシアヌレー
ト、ジアリルシアヌレート、ジアリルシアノエチルイソ
シアヌレート、ジアリルシアナミド、ジアリルマレイネ
ート、ジアリルメラミン、ジアリルフタレートおよび／
またはＮ，Ｎ’−ジアリル酒石酸ジアミドが０．２〜
１．８質量％の配分で適する。
【００３０】ジエンに基づくポリマーの橋状部分Ξは、
ブタジエン、ブタジエン−１−カルボン酸、クロロプレ
ン、シクロヘキサジエン−１，３、シクロヘキサジエン
−１，５、シクロペンタジエン、２，３−ジメチルブタ
ジエン、１−エトキシブタジエン、１，４−ヘプタジエ
ン、１，４−ヘキサジエン、１，６−ヘキサジエン、イ
ソプレン、ノルボルナジエンおよび／または１，４−ペ
ンタジエンのようなモノマー単位の、本発明に適合する
Ｈ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）
に関して、０．１〜１．６質量％の配分から成る。
【００３１】好ましいポリメタクリレートポリマーの橋
状部分Ξは、グリセリントリメタクリレート、トリメチ
ロールプロパントリメタクリレートおよび／またはペン
タエリトリトテトラメタクリレートのようなモノマー単
位の０．１〜１．２質量％の配分から成る。
【００３２】ポリマーの橋状部分Ξのためのトリアリル
化合物としてトリアリルシトラート、トリアリルシアヌ
レート、トリアリルイソシアヌレートおよび／またはト
ルアリルホスフィンが０．１〜１．４の配分で適する。
【００３３】ポリマーの橋状部分Ξのために適当な高分
子化合物はアクリル、アリル、イソシアネート、オキサ
ゾリンまたはビニル末端基を有するオリゴブタジエン、
ボリシロキサンおよび／またはポリエーテルに基づき、
それらの高分子化合物の質量配分は、本発明に適合する
Ｈ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）
に関して、０．８〜５質量％にある。
【００３４】変形されないポリ（アルキルエチレン）に
比較して改良された加工性を同様に本発明によれば、３
〜９７％のＨ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキル
エチレン）、９７〜３％の変形されないポリ（アルキル
エチレン）、０．００１〜２．５％の安定剤および場合
により０．１〜１％の静電防止剤、０．２〜３％の顔
料、０．０５〜１％の核形成剤、５〜４０％の充填剤、
２〜２０％の防火剤および／または０．００１〜１％の
加工補助剤から成る混合物が有する。これらの混合物に
ついてのψ指数は２・１０-3〜７．８・１０-3（kJ/ モ
ル・度）の間にある。
【００３５】安定剤としては、０．０１〜０．６質量％
のフェノール系酸化防止剤、０．０１〜０．６％の亜リ
ン酸塩に基づく加工安定剤、０．０１〜０．６％のジス
ルフィドとチオエーテルに基づく高温安定剤および０．
０１〜０．８％の立体障害アミン（ＨＡＬＳ）から成る
混合物が好んで使用される。
【００３６】適当なフェノール系酸化防止剤は２−ｔ−
ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔ
−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−４−イソアミルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−４−エチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，６
−ジイソプロピルフェノール、２，６−ジシクロペンチ
ル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，
６−ジオクタデシルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチ
ルヒドロキノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４，４−ヘ
キサデシルオキシフェノール、２，２’−メチレン−ビ
ス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，
４’−チオ−ビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノ
ール）、３（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオン酸オクタデシルエステル、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３’，５’
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン
および／またはペンタエリトリトールテトラキス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）〕プロピオナートである。
【００３７】ＨＡＬＳ化合物としてはビス−２，２，
６，６，−４−ピペリジルセバツァートおよび／または
ポリ（〔１，１，３，３，−テトラメチルブチル）−イ
ミノ〕−１，３，５−トリアジン−２，４，ジイル）
〔２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−アミ
ノ〕−ヘキサメチレン−４−（２，２，６，６−テトラ
メチル）ピペリジル）−イミノ〕が特に適する。
【００３８】加工補助剤としてはステアリン酸カルシウ
ム、ステアリン酸マチグネシウムおよび／またはワック
スを使用することができる。
【００３９】構造異性体ポリ（アルキルエチレン）は本
発明によれば放射線照射法によりまたは溶融反応法によ
りまたは固相反応法により製造される。
【００４０】放射線照射法において本発明によれば９５
より９９．９８質量％までの（：９５〜９９．９８質量
％の）ポリ（Ｃ1 よりＣ4 −アルキルエチレン）および
０．０２より５質量％までのアクリル酸、アクリル酸誘
導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化合
物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、アシ
ル、アリル、イソシアナート、オキサゾリンまたはビニ
レン基を含むオリゴブタジエン、ポリシロキサンまたは
ポリエーテルに基づく高分子化合物、モノビニル化合
物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／
またはトリアリル化合物との粉体混合物は渦流層におい
て、好ましくは不活性条件下に、３００より５００Ｋま
でにおいて、場合により追加の慣用の補助剤、特に０．
０１より０．６質量％までのフェノール系酸化防止剤、
０．０１より０．６％までのジスルフィドおよびポリエ
ーテルを主成分とする高温度安定剤、０．０１より０．
６％までの亜リン酸塩を主成分とする加工安定剤および
／または０．０１より０．８％までの立体障害アミン
（ＨＡＬＳ）、０．１より１％までの静電防止剤、０．
２より３％までの顔料、０．０５より１％までの核形成
剤、５より４０％までの充填剤、２より２０％までの防
火剤および／または０．００１より１％までの加工補助
剤の存在で、 ａ）第１の反応段階において、好ましくは連続的製品供
給および製品排出装置を有する渦流層反応器内で、特に
線源としてコバルト−６０を含む核種照射装置により、
３００より４５００ＫｅＶまでの線流エネルギーを有す
るコックロフト−ワルトン型の電子加速器により、１０
００より１００００ＫｅＶの線流エネルギーを有するリ
ニァー加速型の電子加速器により１５０より１００００
ＫｅＶのエネルギーのイオン化放射線に０．５より８０
ＫＧｙまでの照射線量でさらされ、そして ｂ）第２の反応段階において照射された粉体混合物の熱
処理が３８０より５５０Ｋまでにおいて、特に押出機内
で４１０より５５０Ｋまでの範囲内の温度でおよび２よ
り１０分間までの反応時間でまたは固相内で３８０より
５００Ｋまでの範囲内の温度で５より６０分間までの反
応時間において行われ、その際熱処理の前にさらに慣用
の安定剤を０．０１より０．６％までの濃度に添加する
ことができる。
【００４１】溶融反応法において本発明によればポリ
（Ｃ1 よりＣ4 −アルキルエチレン）は押出機の中で連
続法により、特に不活性条件下で、 ａ）第１の反応段階において、内部混合機内でポリ（ア
ルキルエチレン）の上に叩きつけられて一緒に投与され
るかまたは押出機のゾーン２〜４にポリ（アルキルエチ
レン）溶融物の中に溶液として投与される０．０１より
３質量％までのアシルペルオキシド、アルキルペルオキ
シド、ヒドロペルオキシドおよび／またはペルエステル
と反応させられ、そして ｂ）第２の反応段階において０．０１より５質量％まで
のアクリル酸またはアクリル酸誘導体、アリル化合物、
ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリ
レート、ジビニル化合物、アシル、アリル、イソシアネ
ート、オキサゾリンまたはビニレン基を含むオリゴブタ
ジエン、ポリシロキサンまたはポリエーテルに基づく高
分子化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポ
リメタクリレート、および／またはトリアリル化合物
と、０．００１より３．０質量％までのアシルペルオキ
シド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよ
び／またはペルエステルの存在で、また場合によりその
他の補助剤、特に０．０１より０．６質量％までのフェ
ノール系酸化防止剤、０．０１より０．６％までのジス
ルフィドおよびポリエーテルを主成分とする高温度安定
剤、０．０１より０．６％までの亜リン酸塩を主成分と
する加工安定剤および／または０．０１より０．８％ま
での立体障害アミン（ＨＡＬＳ）、０．１より１％まで
の静電防止剤、０．２より３％までの顔料、０．０５よ
り１％までの核形成剤、５より４０％までの充填剤、２
より２０％までの防火剤および／または０．００１より
１％までの加工補助剤、と共に１４０より３２０℃まで
の温度で反応させられ、その際ラジカル形成剤とモノマ
ーは分離された配量装置を経由しておよび／または溶液
として一緒に押出機のゾーン３〜６の中に、場合により
さらにポリ（アルキルエチレン）分量と共に、投与され
る。
【００４２】固相反応法において本発明によれば連続法
により、特に不活性条件下で、 ａ）第１の工程において粉体のポリ（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキ
ルエチレン）は循環装置および循環担体ガス案内装置の
付いた反応器の中で２９０Ｋより５００Ｋまでの温度に
おいて、０．０５より３．０質量％までのアシルペルオ
キシド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドお
よび／またはペルエステル並びに０．０５より５質量％
までのアクリル酸またはアクリル酸誘導体、アリル化合
物、ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタ
クリレート、ジビニル化合物、モノビニル化合物、ポリ
アクリレート、ポリメタクリレート、および／またはト
リアリル化合物、それらは蒸発装置を経由して担体ガス
流の中に導入されていた、を収着され、そして ｂ）第２の工程においてその粉体混合物、場合によりそ
の他の補助剤、特に０．０１より２．５％までの安定
剤、０．１より１％までの静電防止剤、０．２より３％
までの顔料、０．０５より１％までの核形成剤、５より
４０％までの充填剤、２より２０％までの防火剤および
／または０．００１より１％までの加工補助剤を添加し
て、スクリュー機械、特に二軸スクリュー押出機または
プランジャースクリューの付いた一軸スクリュー押出
機、の供給ゾーンの中でラジカル形成剤の分解温度に温
められ、その後４１５Ｋより５９５Ｋまでの反応温度で
融解されてから顆粒化される。
【００４３】ポリ（アルキルエチレン）として特に２４
２より２５０Ｋまでのガラス転移温度および２・１０4
より３・１０6 までの範囲内の分子量（ＭW ）を有する
ポリ（エチルエチレン）、共重合体の中に３より４５モ
ル％までのエチレン配分を有するポリ（エチルエチレン
−コ−エチレン）共重合体、３より９７モル％までのメ
チルエチレン配分を有するポリ（エチル−エチレン−コ
−メチルエチレン）共重合体、２９５より３０３Ｋまで
のガラス転移温度および２５℃において０．８１３より
０．８３２ｇ／ｃｍ3 までの範囲内の密度を有するポリ
（イソブチルエチレン）、３より９７モル％までのｎ−
ブチルエチレン配分を有するポリ（イソブチル−エチレ
ン−コ−ｎ−ブチルエチレン）共重合体、共重合体の中
に３より４５モル％までのエチレン配分を有するポリ
（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体、２５
９より２６６Ｋまでのガラス転移温度および１・１０5
より８・１０6 までの範囲内の分子量（ＭW ）を有する
ポリ（メチルエチレン）および／または共重合体の中に
３より４５モル％までのエチレン配分を有するポリ（メ
チルエチレン−コ−エチレン）共重合体が使用される。
【００４４】使用されるペルオキシドとしては次のもの
がある。 −ベンゾイルペルオキシド、４−クロロベンゾイルペル
オキシド、３−メトキシベンゾイルペルオキシドおよび
／またはメチルベンゾイルペルオキシドのようなアシル
ペルオキシド −アセチルベンゾイルペルオキシド、アリルオキシプロ
ピオニルペルオキシド、アリル−ｔ−ブチルペルオキシ
ド、ベンゾイルペルオキシド、２，２−ビス（ｔ−ブチ
ルペルオキシブタン）、１，１，−ビス（ｔ−ブチルペ
ルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、
ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）バ
レアート、ジイソプロピルアミノメチル−ｔ−アミルペ
ルオキシド、ジメチルアミノメチル−ｔ−アミルペルオ
キシド、ジエチルアミノメチル−ｔ−ブチルペルオキシ
ド、ジメチルアミノメチル−ｔ−ブチルペルオキシド、
ジニトロベンゾイルペルオキシド、１，１−ジ−（ｔ−
アミルペルオキシ）シクロヘキサン、メトキシベンゾイ
ルペルオキシド、メチルベンゾイルペルオキシド、ｔ−
アミルペルオキシド、ｔ−ブチルクミルペルオキシド、
ｔ−ブチルペメマレイン酸、ｔ−ブチルペルオキシド、
１−ヒドロキシブチル−ｎ−ブチルペルオキシド、１−
ヒドロキシブチル−ｎ−ブチルエペルオキシドおよび／
またはスクシノイルペルオキシドのようなアルキルペル
オキシド −デカリンヒドロペルオキシドおよび／またはテトラリ
ンヒドロペルオキシドのようなヒドロキシペルオキシド −メチルエチルケトンヒドロペルオキシドのようなケト
ンペルオキシド
【００４５】−ブチルペルアセテート、クミルペルアセ
テート、クミルペルプロピオネート、シクロヘキシルペ
ルアセテート、ジ−ｔ−ブチルペルアジぺート、ジ−ｔ
−ブチルペルアゼラート、ジ−ｔ−ブチルペルグルタレ
ート、ジ−ｔ−ブチルペルフタレート、ジ−ｔ−ブチル
ペルセバツァート、４−ニトロクミルペルプロピオネー
ト、１−フェニルエチルペルベンゾエート、フェニルエ
チルニトロペンゾエート、ｔ−ブチル−ビシクロ−
（２，２，１）ヘプタンペルカルボキシレート、ｔ−ブ
チル−４−カルボメトキシペルブチレート、ｔ−ブチル
シクロブタンペルカルボキシレート、ｔ−ブチルシクロ
ヘキシルペルオキシカルボキシレート、ｔ−ブチルシク
ロペンチルペルオキシカルボキシレート、ｔ−ブチルシ
クロプロパンペルオキシカルボキシレート、ｔ−ブチル
ジメチルペルシンナメート、ｔ−ブチル−２−（２，２
−ジフェニルビニル）ペルベンゾエート、ｔ−ブチル−
４−メトキシペルベンゾエート、ｔ−ブチルペルベンゾ
エート、ｔ−ブチルカルボキシシクロヘキサン、ｔ−ブ
チルペルナフトアート、ｔ−ブチルペルオキシイソブロ
ピルカルボネート、ｔ−ブチルペルトルエート、ｔ−ブ
チル−１−フェニルシクロプロピルペルカルボキシレー
ト、ｔ−ブチル−２−ブロピルペルペンテン−２−オア
ート、ｔ−ブチル−１−メチルシクロプロピルペルカル
ボキシレート、ｔ−ブチル−４−ニトロフェニルペルア
セテート、ｔ−ブチルニトロフェニルペルオキシカルバ
メート、ｔ−ブチル−Ｎ−スクシンイミドペルカルボキ
シレート、ｔ−ブチルペルクロトネート、ｔ−ブチルペ
ルマレイン酸、ｔ−ブチルペルメタクリレート、ｔ−ブ
チルペルクロトネート、ｔ−ブチルペルオキシイソプロ
ピルカルボネート、ｔ−ブチルペルイソブチレート、ｔ
−ブチルペルアクリレートおよび／またはｔ−ブチルペ
ルプロピオネートのようなペルエステルおよびペルオキ
シカルボネート。
【００４６】使用されるモノマーとしてはアクリル酸お
よび次のものがある。 −アクリルアミド、アクリルニトリル、ベンジルアクリ
レート、ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレ
ート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、ドデシルアク
リレート、エチルアクリレート、２−エチルヘキシルア
クリレート、２−エトキシエチルアクリレート、グリシ
ジルアクルラート、ヒドロキシエチルアクリレート、イ
ソプロピルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレ
ート、４−メトキシベンジルアクリレート、メチルアク
リレート、アクリル酸ナトリウム、Ｎ−ｔ−ブトキシカ
ルボニル−２−アミノエチルアクリレート、オクチルア
クリレート、フェニルメチルアクリレート、フェニルア
クリレート、ｎ−プロピルアクリレートおよび／または
テトラヒドロフルフリルアクリレートのようなアクリル
酸誘導体
【００４７】−ジアリルジメチルシラン、ジアリル（２
−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル）イソシアヌレ
ート、ジアリルシアヌレート、ジアリルシアノエチルイ
ソシアヌレート、ジアリルシアナミド、ジアリルマレイ
ネート、ジアリルメラミン、ジアリルフタレートおよび
／またはＮ，Ｎ’−ジアリル酒石酸ジアミドのようなジ
アリル化合物 −エチレングリコールジメタクリレート、プロピレング
リコールジメタクリレート、トリメチレングリコールジ
メタクリレート、ブチレングリコールジメタクリレー
ト、ペンタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、オクタンジオールジメタクリレ
ート、ジグリコールジメタクリレートおよび／またはト
リグリコールジメタクリレートのようなジメタクリレー
ト −ブタジエン、ブタジエン−１−カルボン酸、クロロプ
レン、シクロヘキサジエン、シクロペンタジエン、２，
３−ジメチルブタジエン、１−エトキシブタジエン、
１，４−ヘプタジエン、１，４−ヘキサジエン、１，６
−ヘキサジエン、イソプレン、ノルボルナジエンおよび
／または１，４−ペンタジエンのようなジエン −グリセリントリメタクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレートおよび／またはペンタエリトリ
トテトラメタクリレートのようなポリメタクリレート −トリアリルシトレート、トリアリルシアヌレート、ト
リアリルイソシアヌレートおよび／またはトリアリルホ
スフィンのようなトリアリル化合物
【００４８】−アセトキシスチレン、アミノスチレン、
ｔ−ブチルスチレン、ブロムスチレン、クロロスチレ
ン、ジクロロスチレン、ｍ−ジエチルアミノエチルスチ
レン、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジメ
トキシスチレン、ジメチルスチレン、エトキシスチレ
ン、エチルスチレン、エチルビニルスチレン、エチルビ
ニルエーテル、エチルビニルピリジン、フルオロスチレ
ン、２−ヒドロキシブチルスチレン、２−ヒドロキシプ
ロピルスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、イソプロピ
ルスチレン、メトキシスチレン、メチルクロロスチレ
ン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メ
チルスチレン、メチルビニルアセテート、メチルビニル
エーテル、メチルビニルピリジン、４−フェノキシスチ
レン、フェニルビニルエーテル、スチレン、トリメトキ
シスチレン、トリメチルスチレン、ビニルアセテート、
ビニルアセトキシメチルケトン、ビニルアジぺート、９
−ビニルアントラセン、ビニルベンゾエート、ビニルブ
チルエーテル、ビニルエチルケトン、ビニルブチレー
ト、ビニルカルバゾール、ビニルシアノアセテート、ビ
ニルドデシルエーテル、ビニルエーテル、ビニルエチル
ジエトキシシラン、ビニルエチルエーテル、ビニルエチ
レングリコールグリシジルエーテル、ビニルエチルヘキ
シルエーテル、ビニルエチルケトン、ビニルホルメー
ト、ビニルフラン、ビニルヘキシルエーテル、ビニルイ
ミダゾール、ビニルイソブチルエーテル、ビニルイソシ
アネート、ビニルイソプロピルエーテル、ビニルイソプ
ロピルケトン、ビニルラウレート、ビニルメチルジアセ
トキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニル
メチルエーテル、ビニルメチルケトン、ビニルナフタレ
ン、ビニルオクタデシルエーテル、ビニルオクチルエー
テル、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、ビニルペラゴネー
ト、ｏ−ビニルフェノール、ビニルフェニルジメチルシ
ラン、ビニルフェニルエーテル、ビニルフェニルケト
ン、５−ビニルピコリン、ビニルプロピオネート、Ｎ−
ビニルピリジン、Ｎ−ビニリピロリドン、ビニルステア
レート、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニル−トリス（トリメトキシシロキシ）シ
ランおよび／またはビニルトリメチルシランのようなモ
ノビニル化合物
【００４９】−ジビニルアニリン、ｍ−ジビニルベンゼ
ン、ｐ−ジビニルベンゼン、ジエチレングリコールジビ
ニルエーテル、ジビニルペンタン、ジビニルプロパンお
よび／または１，３−ジビニル−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサンのようなジビニル化合物
【００５０】−アリルアセテート、アリルアクリレー
ト、アリルアルコール、アリルペンゾール、アリルベン
ジルエーテル、３−アリル−１−ブテン、アリルブチル
エーテル、アリルシアヌレート、アリルシクロヘキサ
ン、アリルジエチルケトン、４−アリル−２，６−ジメ
トキシフェノール、アリルジメチルクロロシラン、アリ
ルエポキシプロピルエーテル、アリルエチルエーテル、
アリルグリシジリエーテル、アリルグリシジルヘキサヒ
ドロフタレート、アリルグリシジルフタレート、アリル
ヘプタノエート、アリルヘキサノエート、アリルメタク
リレート、アリルメトキシフェノール、アリルメチルエ
ーテル、アリルメチルマレエート、アリルオキシ−２，
３−プロパンジオール、Ｎ−アリルステアラミド、アリ
ルトリルエーテル、アリルトリクロロシラン、アリルト
リエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリル
トリメチルシラン、アリルトリフェニルシランおよび／
またはアリルビニルエーテルのようなアリル化合物
【００５１】−エチレングリコールジアクリレート、プ
ロピレングリコールジアクリレート、トリメチレングリ
コールジアクリレート、ブチレングリコールジアクリレ
ート、ペンタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオ
ールアクリレート、オクタンジオールジアクリレート、
ジグリコールジアクリレートおよび／またはトリグリコ
ールジアクリレートのようなジアクリレート
【００５２】−アクリル、アリル、イソシアネート、オ
キサゾリンまたはビニル基を有するオリゴブタジエン、
ポリシロキサンおよび／またはポリエーテルに基づく高
分子化合物。
【００５３】安定剤として特に０．０１より０．６質量
％までのフェノール系酸化防止剤、０．０１より０．６
％までの亜リン酸塩に基づく加工安定剤、０．０１より
０．６％までのジスルフィドおよびチオエーテルに基づ
く高温度安定剤および０．０１より０．８％までの立体
障害アミン（ＨＡＬＳ）から成る混合物が使用される。
【００５４】適当なフェノール系酸化防止剤は２−ｔ−
ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔ
−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−４−イソアミルフェノール、２ ６−ジ−ｔ−ブ
チル−４−エチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，６
−ジイソプロピルフェノール、２，６−ジシクロペンチ
ル−４−メチルフェノール、２ ６−ジ−ｔ−ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，
６−ジオクタデシルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチ
ルヒドロキノン、２ ６−ジ−ｔ−ブチル−４，４−ヘ
キサデシルオキシフェノール、２，２’−メチレン−ビ
ス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，
４’−チオ−ビス−（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェ
ノール）、３（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸オクタデシルエステル、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３’，５’
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン
および／またはペンタエリトリトールテトラキス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）〕−プロピオナートである。
【００５５】ＨＡＬＳ化合物としてビス−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペルジルセバツァートおよび
／またはポリ−（〔１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）−イミノ〕−１，３，５−トリアジン−２，４，ジ
イル）〔２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−
アミノ〕−ヘキサメチレン−４−（２．２．６．６−テ
トラメチルピペリジル）−イミノ〕が特に適する。
【００５６】放射線照射法において、９５より９９．９
８質量％までのポリ（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルエチレン）お
よび０．０２より５質量％までのアクリル酸、アクリル
酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化
合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、ア
シル、アリル、イソシアネート、オキサゾリンまたはビ
ニレン基を含むオリゴブタジエン、ポリシロキサンまた
はポリエーテルに基づく高分子化合物、モノビニル化合
物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／
またはトリアリル化合物から成る粉体混合物の調製は内
部混合機、静的混合機または渦流反応器の中で行われる
ことが特に好ましい。
【００５７】溶融反応法において、特に３０より４５ま
でのＬ／Ｄ比を有する二軸押出機が使用される。二つの
反応段階のために有利な反応温度はポリ（エチルエチレ
ン）ホモポリマーおよびコポリマーの使用の際は１４０
より２５０℃までにあり、ポリ（メチルエチレン）ホモ
ポリマーおよびコポリマーのためには１６５より２７０
℃までに、そして（ポリイソブチルエチレン）ホモポリ
マーおよびコポリマーのためには２４０より３１０℃ま
でにある。
【００５８】固相反応法においては循環装置および循環
担体ガス案内装置としてバンカー貯蔵タンクが特に適す
る。
【００５９】本発明に適合するＨ−およびＹ−構造およ
び２・１０-3より８・１０-3（kJ／モル・度）までのψ
指数を有するポリ（アルキルエチレン）並びに変形され
ないポリ（アルキルエチレン）、安定剤、静電防止剤、
顔料、核形成剤、充填剤、防火剤および／または加工補
助剤の混合物は特にフイルム、コーティング、ロール、
チューブおよびフォームの製造に適する。
【００６０】
【発明の実施の形態】本発明は次の実施例により説明さ
れる。
【００６１】
【実施例】
例 １ 「ガンマビーム」型のガンマ線照射装置の中に取り付け
られている、１５リットルの容積の渦流層反応器の中
へ、２４５０ｇの粉体ポリ（エチルエチレン）ホモポリ
マー（Ｔｇ＝２４８Ｋ、Ｍｗ＝８・１０5 ）を投入し、
純窒素を含む渦流により不活性化する。９０℃に加熱の
後、照射位置（線量率０．５５ＫＧｙ／時）において８
時間の期間に渦流ガスを介して反応器内へ８．５ｇスチ
レン／時を供給する。線源を沈下させた後、改質された
ポリ（アルキルエチレン）を不活性ガスの下で２５℃に
冷却させ、０．１５％の２−ｔ−ブチル−４，６−ジメ
チルフェノールと０．２０％のビス−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートから成る混
合物０．３５％（１０％アセトン溶液）を添加して安定
化し、そしてＺＳＫ２０型のWerner & Pfleiderer 二軸
押出機中の押し出しにより第２の反応段階において１６
２℃における熱処理（滞留時間４．８分）を受けさせ
る。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレ
ン）は２．３・１０ -3（kJ／モル・度）のψ指数を有し
かつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1＝Ｒ3 ＝Ｒ
4 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝３４５で
ある。赤外スペクトルにより示されたスチレンに基づく
ポリマー橋状部分の配分は２．５質量％である。
【００６２】例 ２ 例１に従って渦流層反応器の中へ、３２８０ｇの粉体ポ
リ（エチルエチルエチレン−コ−エチレン）共重合体
（エチレン分６モル％、１９０℃／２１．１９Ｎにおけ
るメルトインデックス３．５ｇ／１０分）を投入し、純
窒素を含む渦流により不活性化する。８０℃に加熱の
後、照射位置（線量率０．５５ＫＧｙ／時）において
３．５時間の期間に渦流ガスを介して反応器内へ２．５
ｇ／時のアリルアクリレートを供給する。線源を沈下さ
せた後、改質されたポリ（アルキルエチルエチレン−コ
−エチレン）を不活性ガスの下で２５℃に冷却させ、
０．２５％の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェ
ノールと０．２０％のビス−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジルセバツァートから成る混合物０．
４５％（１０％アセトン溶液）を添加して安定化し、そ
してＺＳＫ２０型の Werner& Pfleiderer二軸押出機中
の押し出しにより第２の反応段階において１６６℃にお
ける熱処理（滞留時間４．２分）を受けさせる。その結
果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン−コ−エチ
レン）共重合体は３．４・１０-3（kJ／モル・度）のψ
指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1
＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ 5 およびＲ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ
＝２９５である。赤外スペクトルにより示されたアリル
アクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．２
２質量％である。t/u-比は約１６になる。
【００６３】例 ３ 例１に従って渦流層反応器の中へ、３９６０ｇのポリ
（イソブチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝３００
Ｋ，Ｍｗ＝６・１０5 ）を投入し、純窒素を含む渦流に
より不活性化する。１４０℃に加熱の後、照射位置（線
量率０．５５ＫＧｙ／時）において５．３時間の期間に
渦流ガスを介して反応器内へ４．９ｇ／時のグリシジル
アクリレートを供給する。線源を沈下させた後、改質さ
れたポリ（イソブチルエチレン）を不活性ガスの下にさ
らに数時間放置してから、２５℃に冷却させ、０．２０
％の２−ｔ−ブチル−４，６−ジジオクタデシルフェノ
ールと０．２０％のビス−２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジルセバツァートから成る混合物０．４
０％（１０％アセトン溶液）を添加して安定化させる。
その結果生成する構造異性体ポリ（イソブチルエチレ
ン）は３．２・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有し
かつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3＝
Ｒ4 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝１
７３である。赤外スペクトルにより示されたグリシジル
アクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．５
８質量％である。
【００６４】例 ４ 内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下にポリ（エチルエチ
レン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２４８Ｋ、Ｍｗ＝４・１０
5 ）の上に０．１５％の２，６−ジシクロペンチル−４
−メチルフェノール、０．１５％のビス−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートおよび
３．２％のｔ−ブチルアクリレートを混入する。その粉
体混合物の照射は渦流層反応器内でコックロフト−ワル
トン型の電子加速機（ビーム流エネルギー３５００Ｋｅ
Ｖ、２ｘ３５ＫＷ）により行われる。渦流層反応器（容
積０．３ｍ3 、集流底０．９５ｘ０．２０ｍ）の狭い側
の表面にスキャナーの二つの電子線出口窓が組みこまれ
ている。１１０℃の照射温度において粉体混合物は０．
５ｋｇ／秒の装入量で渦流層反応器に連続的に供給およ
び排出され、続いて第２の反応段階においてＺＳＫ１２
０型の Werner & Pfleiderer二軸押出機中で不活性条件
下に１６５℃（滞留時間６．３分）で熱処理を受ける。
その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン）ホ
モポリマーは３．２・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数
を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ
3 ＝Ｒ4 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝３
１０およびｗ＝６２０である。ｔ−ブチルアクリレート
に基づくポリマー橋状部分の配分は２．６５質量％であ
る。
【００６５】例 ５ 内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（メチ
ルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２６３Ｋ、Ｍｗ＝６
・１０5 ）の上に０．３１％の２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−メトキシメチルフェノール、０．１５％のビス−
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツ
ァートおよび０．３５％のジビニルペンゾールを混入す
る。その粉体混合物の照射は０．３ｍ3 渦流層反応器内
で例４に従う電子線加速器により行われる。１１０℃の
照射温度において粉体混合物は１．５ｋｇ／秒の装入量
で渦流層反応器に連続的に供給および排出され、続いて
第２の反応段階においてＺＳＫ１２０型の Werner & Pf
leiderer二軸押出機中で不活性条件下に２２０℃（滞留
時間４．９分）で熱処理を受ける。その結果生成する構
造異性体ポリ（メチルエチレン）は４．１・１０-3（kJ
／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造に
あり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ＣＨ3 およびＲ2 ＝Ｒ
5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝５４０である。赤外スペクトルにより
示されたジビニルベンゾールに基づくポリマー橋状部分
の配分は０．３２質量％である。
【００６６】例 ６ 内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（エチ
ルエチレン−コ−フェニルエチレン）共重合体（フェニ
ルエチレン含有量５モル％、１９０℃／２１．１９Ｎに
おけるメルトインデックス６．８ｇ／１０分）の上に
０．１５％の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメ
チルフェノール、０．１５％のビス−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートおよび１．
２％のビニルトリメチルシランを混入する。その粉体混
合物の照射は０．３ｍ3 渦流層反応器内で例４に従う電
子線加速器により行われる。６５℃の照射温度において
粉体混合物は０．７ｋｇ／秒の装入量で渦流層反応器に
連続的に供給および排出され、続いて第２の反応段階に
おいてＺＳＫ１２０型の Werner & Pfleiderer二軸押出
機中で不活性条件下に１７０℃（滞留時間５．２分）で
熱処理を受ける。その結果生成する構造異性体ポリ（エ
チルエチレン−コ−フェニルエチレン）共重合体は３．
７・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−お
よびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 、Ｒ
2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝Ｃ2 Ｈ5 、ｙ＋ｚ＝２１５であ
る。赤外スペクトルにより示されたビニルトリメチルシ
ランに基づくポリマー橋状部分の配分のは０．９５質量
％である。t/u-比は約１９になる。
【００６７】例 ７ 内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（イソ
ブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン分
８モル％、２３０℃におけるメルトインデックス０．８
ｇ／１０分）の上に０．６％のアリルメタクリレートを
混入する。その粉体混合物の照射は渦流層反応器内で３
個のスキャナを備え付けられた直線電子加速器（ビーム
カレントエネルギー８０００ＫｅＶ、ビーム出力３ｘ５
ＫＷ）により行われる。渦流層反応器（容積０．９４ｍ
3 ）の流出底は一辺の長さ１．３ｍの等辺三角形の形を
有する。その三つの側面にスキャナのビーム出口窓が組
み込まれている。１７５℃の照射温度において粉体混合
物は４０ｋｇ／分の装入量で渦流層反応器に連続的に供
給および排出され、続いて第２の反応段階において０．
１５％の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチル
フェノールおよび０．１５％のビス−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートを添加して
ＺＳＫ１２０型の Werner & Pfleiderer二軸押出機中で
不活性条件下に２５５℃（滞留時間４．２分）で熱処理
を受ける。その結果生成する構造異性体ポリ（イソブチ
ルエチレン−コ−エチレン）共重合体は３．４・１０-3
（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構
造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 、Ｒ2 ＝Ｒ
5 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝２５０である。赤外スペクトル
により示されたアリルメタクリレートに基づくポリマー
橋状部分の配分のは０．５６質量％であり、t/u-比は約
１１．５になる。
【００６８】例 ８ 内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（メチ
ルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン含有量
７モル％、Ｍｗ＝３．５・１０5 ）の上に０．２５％の
グリセリントリメタクリレートおよび０．６５％のベヘ
ン酸を混入する。その粉体混合物の照射は渦流層反応器
内で例７に従う照射装置により３５ｋｇ／分の装入量で
および１２５℃の照射温度において行われる。０．２％
の４，４’−チオ−ビス−（６−ｔ−ブチル−２−メチ
ルフェノール）および０．１５％のポリ（〔１，１，
３，３，−テトラメチルブチル）−イミノ〕−１，３，
５−トリアジン−２，４−ジイル）〔２，２，６，６−
テトラメチルピペリジル）−アミノ〕−ヘキサメチレン
−４−（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジル）
イミノ〕を添加の後、その粉体混合物は第２の反応段階
においてＺＳＫ１２０型の Werner & Pfleiderer二軸押
出機中で不活性条件下に２１５℃（滞留時間４．６分）
で熱処理を受ける。その結果生成する構造異性体ポリ
（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体は４．４・
１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−および
Ｙ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ2 ＝Ｒ
4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝３５０およびｗ＝７００であ
る。グレセリントリメタクリレートに基づくポリマー橋
状部分の配分のは０．２４％である。
【００６９】例 ９ 内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（エチ
ルエチレン−コ−メチルエチレン）共重合体（メチルエ
チレン分９２モル％、２３０℃／２１．１９Ｎにおける
メルトインデックス１．８ｇ／１０分）の上に０．３２
％のアリルグリシジルフタレートが混入される。その粉
体混合物の照射は渦流層反応器内で例７に従う照射装置
により３７ｋｇ／分の装入量でおよび１２５℃の照射温
度において行われる。０．２％の４，４’−チオ−ビス
−（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）および
０．１５％のポリ（〔１，１，３，３，−テトラメチル
ブチル）−イミノ〕−１，３，５−トリアジン−２，４
−ジイル）〔２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ル）−アミノ〕−ヘキサメチレン−４−（２，２，６，
６−テトラメチル）ピペリジル）イミノ〕を添加の後、
その粉体混合物は第２の反応段階においてＺＳＫ１２０
型の Werner & Pfleiderer二軸押出機中で不活性条件下
に２０５℃（滞留時間４．８分）で熱処理を受ける。そ
の結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン−コ−
メチルエチレン）共重合体は４．１・１０ -3（kJ／モル
・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、
そこでＲ1＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝
ＣＨ3 、ｙ＋ｚ＝７７０である。赤外スペクトルにより
示されたアリルグリシジルフタレートに基づくポリマー
橋状部分の配分のは約０．３０質量％であり、t/u-比は
約０．０８になる。
【００７０】例 １０ 内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（イソ
ブチルエチレン−コ−ｎ−ブチルエチレン）共重合体
（ｎ−ブチルエチレン分４２モル％、２３０℃／４９Ｎ
におけるメルトインデックス０．９ｇ／１０分）の上に
０．２２％のエチレングリコールジアクリレートが叩き
つけられ、そしてその粉体混合物は不活性ガス圧力によ
りバンドビーム型の低エネルギー加速器（電子エネルギ
ー２５０ＫｅＶ、ビーム出力４ｘ１０ＫＷ）の４個の組
み込まれた陰極および組み込まれた振動装置を有する
０．２０ｘ３．５０ｍのカセット反応器の中に運びこま
れ、１６０℃の照射温度における装入量は４３ｋｇ／分
になる。０．１８％の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メ
トキシメチルフェノールおよび０．１５％のビス−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァー
トを添加の後、その粉体混合物は第２の反応段階におい
てＺＳＫ１２０型の Werner & Pfleiderer二軸押出機中
で不活性条件下に２５５℃（滞留時間５．３分）で熱処
理を受ける。その結果生成する変形されないおよび構造
異性体のポリ（イソブチルエチレン−コ−ブチルエチレ
ン）共重合体から成る混合物は３．１・１０-3（kJ／モ
ル・度）のψ指数を有し、そしてその構造異性体ポリ
（アルキルエチレン）はＨ−およびＹ−構造にあり、そ
こでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4
＝ｎ−Ｃ4 Ｈ9 、ｙ＋ｚ＝４１０である。赤外スペクト
ルにより示されたエチレングリコールジアクリレートに
基づくポリマー橋状部分の配分のは約０．２１質量％で
あり、t/u-比は約１．４になる。
【００７１】例 １１ 例１０に記載の照射装置を有するカセット反応器中にポ
リ（メチルエチレン）ホモポリマー（Ｍｗ＝４．９・１
０5 、Ｔｇ＝２６５Ｋ）を９７％純窒素および３％ブタ
ジエンから成る担体ガス流により送り込み、１６０℃の
照射温度における渦を巻いて流れるバルク層の装入量は
３１ｋｇ／分になる。０．２５％の２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−４−メチルフェノールおよび０．２０％のビス−
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツ
ァートから成る０．４５％の混合物を添加して後、その
粉体混合物は第２の反応段階においてＺＳＫ１２０型の
Werner & Pfleiderer 二軸押出機中で不活性条件下に２
００℃（滞留時間５．１分）で熱処理を受ける。その結
果生成する構造異性体のポリ（メチルエチレン）と変形
されないポリ（メチルエチレン）ホモポリマーから成る
混合物は２．９・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数およ
び７．７・１０4 のＭｗ値を有する。
【００７２】例 １２ 内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（エチ
ルエチレン−コ−クロロエチレン）共重合体（クロロエ
チレン含有量４モル％、１９０℃／２１．１９Ｎにおけ
るメルトインデックス３．２ｇ／１０分）の上に３．９
％のメチルメタクリレートが混入され、そして例１０に
記載の照射装置の付いたカセット反応器の中へガス圧で
送りこまれ、６０℃の照射温度における渦を巻いて流れ
るバルク層の装入量は１８ｋｇ／分になる。０．２５％
の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールおよ
び０．１５％のビス−２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジルセバツァートから成る０．４０％の混合
物を添加して後、その粉体混合物は第２の反応段階にお
いてＺＳＫ１２０型の Werner & Pfleiderer 二軸押出
機中で不活性条件下に１６５℃（滞留時間５．９分）で
熱処理を受ける。その結果生成する変形されないおよび
構造異性体のポリ（エチルエチレン−コ−クロロエチレ
ン）共重合体から成る混合物は２．６・１０-3（kJ／モ
ル・度）のψ指数を有し、そしてその変形されたポリ
（アルキルエチレン）はＨ−およびＹ−構造にあり、そ
こでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4
＝Ｃｌおよびｙ＋ｚ＝３２５である。メチルメタクリレ
ートに基づくポリマー橋状部分の配分のは３．１質量％
である。
【００７３】例 １３ 例１に記載の構造異性体のポリ（エチルエチレン）４０
部を６０部の変形されないポリ（ブチルエチレン）、
０．２３部の２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノ
ール、０．１０部のベヘン酸、０．２０部のステアリン
酸カルシウムおよび０．２０部のポリ（〔１，１，３，
３，−テトラメチルブチルイミノ〕トリアジン−２，４
−ジイル）〔２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ル）−アミノ〕−ヘキサメチレン−４−（２，２，６，
６−テトラメチル）ピペリジル）イミノ〕と混合してか
ら、押出機の中で１４０／１６５／１７５／１７５／１
７５／１７０／１５５℃で均一化する。その結果生成す
る化合物は２．７・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を
有する。
【００７４】例 １４ 例５、８および９に記載の構造異性体ポリ（アルキルエ
チレン）の各２０部を１５部の変形されないポリ（メチ
ルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン分５０
％）、１５部の変形されないポリ（エチルエチレン−コ
−メチルエチレン）共重合体（エチレン分１５％）、９
部のタルクおよび１部のカーボンブラックと混合してか
ら、押出機の中で１４０／１９０／２３０／２２０／２
２０／２１０／２００℃で均質化する。そのポリマーア
ロイは２．４・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有す
る。
【００７５】例 １５ 例７に記載の構造異性体ポリ（イソブチルエチレン−コ
−エチレン）共重合体をフィッシュテイルダイの付いた
押出機の中で２５５より２７５℃までの温度でプレート
に押し出す。フライス加工された試験片は次の特性値、
引っ張り強さ２７ＭＰａ、切断点伸び１６％、引っ張り
弾性率１．６ＧＰａ、曲げ弾性率１．４ＧＰａ、を有す
る。変形されないポリ（イソブチルエチレン）について
対応する特性値はそれぞれ２３ＭＰａ，１６％，１．２
ＧＰａおよび１．１ＧＰａである。
【００７６】例 １６ 二軸押出機 Werner & Pfleiderer ＺＳＫ３０，Ｌ／Ｄ
＝４２の中に、不活性ガス遮蔽、真空ガス抜きおよびス
トランド造粒を伴って、１４０／１７０／１６５／１９
０／１６５／１９０／１４５℃の温度プロフィールで、
ポリ（エチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２４８
Ｋ，Ｍｗ＝８・１０5 ）を１６ｋｇ／時で投入する。そ
の溶融物の中へゾーン３において０．６４ ｌ／時でｔ
−ブチルペルベンゾエートのアセトン中２０％溶液を投
入する。ゾーン５の中へ別の計量ポンプを経由して０．
６１ ｌ／時でビニルトリメトキシシランおよび０．６
４ｌ／時でｔ−ブチルペルベンゾエートのアセトン中２
０％溶液を投入する。その結果生成する構造異性体ポリ
（エチルエチレン）は３．３・１０-3（kJ／モル・度）
のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこで
Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ
＋ｚ＝３８０である。赤外スペクトルにより示されたビ
ニルメトキシシランに基づくポリマー橋状部分の配分は
３．２質量％である。
【００７７】例 １７ 例１６に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中
に、１４０／１７０／１６５／１９０／１６５／１９０
／１４５℃の温度プロフィールで、ポリ（エチルエチレ
ン−コ−エチレン）共重合体（エチレン分６モル％、１
９０℃／２１．１９Ｎにおけるメルトインデックス３．
９ｇ／１０分）を１２ｋｇ／時で投入する。その溶融物
の中へゾーン３において０．４８ ｌ／時でｔ−ブチル
ペルトルアートのアセトン中１０％溶液を投入する。ゾ
ーン５の中へ別の計量ポンプを経由して０．１１ ｌ／
時でアリルメチルマレアートおよび０．８４ ｌ／時で
ｔ−ブチルペルトルアートのアセトン中１０％溶液を投
入する。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチ
レン−コ−エチレン）コポリマーは３．１・１０-3（kJ
／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造に
あり、そこでＲ1 ＝Ｒ 3 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ4 ＝
Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝２７５である。赤外スペクトルによ
り示されたアリルメチルマレアートに基づくポリマー橋
状部分の配分は０．７５質量％である。t/u-比は約１６
になる。
【００７８】例 １８ 例１６に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中
に、１４０／１７５／１９０／１６５／１９０／１８０
／１４５℃の温度プロフィールで、ポリ（エチルエチレ
ン−コ−メチルエチレン）共重合体（メチルエチレン分
９２モル％、２３０℃／２１．１９Ｎにおけるメルトイ
ンデックス１．８ｇ／１０分）、（既に内部混合器内で
その上に０．１７％の３−メトキシベンゾイルペルオキ
シドが混入されていた）、を２１ｋｇ／時で投入する。
押出機のゾーン４の中へ別の計量ポンプを経由して０．
１６ ｌ／時でアリルグリシジルヘキシルヒドロフタレ
ートと共に０．１８ ｌ／時で３−メトキシペンゾイル
ペルオキシドのメチルエチルケトン中２０％溶液を投入
する。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレ
ン−コ−メチルエチレン）共重合体は４．１・１０
-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−
構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ 2 ＝
Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＨ3 、ｙ＋ｚ＝７９０である。赤外
スペクトルにより示されたアリルグリシジルヘキシルヒ
ドロフタレートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．
６２質量％であり、t/u-比は約０．０８になる。
【００７９】例 １９ 例１６に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中
に、２４５／２７０／２８０／２６０／２８０／２７０
／２５０℃の温度プロフィールで、ポリ（イソブチルエ
チレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝３００Ｋ，Ｍｗ＝６・１
０5 ）（既にその上に０．１８％のｔ−ブチルペルオキ
シドが混入されていた）を１８ｋｇ／時で二軸押出機の
供給漏斗に投入する。押出機のゾーン４の中へ別の計量
ポンプを経由して０．３４ ｌ／時でｔ−ブチルクミル
ペルオキシドのジエチルケトン中１０％溶液および０．
１２ ｌ／時でジアリルフタレートを投入する。その結
果生成する構造異性体ポリ（イソブチルエチレン）は
３．６・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ
−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ｉ
−Ｃ4 Ｈ9 および Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝１９０で
ある。赤外スペクトルにより示されたジアリルフタレー
トに基づくポリマー橋状部分の配分は０．５２質量％で
ある。
【００８０】例 ２０ 例１６に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中
に、１７０／２０５／１８５／１７０／２１０／１７０
／１６０℃の温度プロフィールで、ポリ（メチルエチレ
ン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２６３Ｋ，Ｍｗ＝６・１
０5 ）（既にその上に内部反応器内で０．３１％の２，
６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノールが
混入されていた）を１４ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏
斗に投入する。押出機のゾーン４の中へ別の計量ポンプ
を経由して０．３６ ｌ／時でベンゾイルペルオキシド
のアセトン中１０％溶液および０．０４２ ｌ／時でジ
ビニルベンゾールを投入する。その結果生成する構造異
性体ポリ（メチルエチレン）は３．９・１０-3（kJ／モ
ル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあ
り、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ＣＨ3 および Ｒ2 ＝Ｒ
5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝５８０である。赤外スペクトルにより
示されたジビニルベンゼンに基づくポリマー橋状部分の
配分は０．２７質量％である。
【００８１】例 ２１ 例１６に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中
に、２２０／２６０／２４５／２８０／２４５／２７０
／２３５℃の温度プロフィールで、ポリ（イソブチルエ
チレン−コ−ｎ−ブチルエチレン）共重合体（ｎ−ブチ
ルエチレン分４２モル％、２３０℃／４９Ｎにおけるメ
ルトインデックス０．９ｇ／１０分）を１９．５ｋｇ／
時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。その溶融物の中
にゾーン３でクミルヒドロペルオキシドのアセトン中２
０％溶液を０．１９５ ｌ／時で投入する。押出機のゾ
ーン５の中へ別の計量ポンプを経由してクミルヒドロペ
ルオキシドのアセトン中２０％溶液を０．１４ ｌ／時
でおよびオクタンジオールジメタクリレートを０．２３
ｌ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ
（イソブチルエチレン−コ−ｎ−ブチルエチレン）共重
合体は３．７・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有し
かつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ
−Ｃ4 Ｈ9 および Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−Ｃ4 Ｈ
9 、ｙ＋ｚ＝４１０である。赤外スペクトルにより示さ
れたオクタンジオールジメタクリレートに基づくポリマ
ー橋状部分の配分は１．０５質量％であり、t/u 比は約
１．４になる。
【００８２】例 ２２ 二軸押出機 Werner & Pfleiderer ＺＳＫ５３，Ｌ／Ｄ
＝３６の中に、不活性ガス遮蔽、真空ガス抜きおよび水
中造粒を伴って、１４０／１６５／１５５／１８０／１
５５／１８５／１５５℃の温度プロフィールで、ポリ
（エチルエチレン−コ−フェニルエチレン）共重合体
（フェニルエチレン含有量５モル％、１９０℃／２１．
１９Ｎにおけるメルトインデックス６．８ｇ／１０分）
を３２ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。そ
の溶融物の中にゾーン３でデカリンヒドロペルオキシド
のメチルエチルケトン中２０％溶液を０．１６ ｌ／時
で投入する。押出機のゾーン５の中へ別の計量ポンプを
経由してデカリンヒドロペルオキシドの２０％溶液を
０．１４ ｌ／時でおよびグリシジルアクリレートのエ
タノール中５０％溶液を０．２９ ｌ／時で投入する。
その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン−コ
−フェニルエチレン）共重合体は４．０３・１０-3（kJ
／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造に
あり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝
Ｈ、Ｒ4 ＝Ｃ6 Ｈ5 、ｙ＋ｚ＝２４０である。赤外スペ
クトルにより示されたグリシジルアクリレートに基づく
ポリマー橋状部分の配分は０．４３質量％であり、t/u
比は約１９になる。
【００８３】例 ２３ 例２２に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中
に、２４５／２７０／２５５／２８０／２８５／２８０
／２５０℃の温度プロフィールで、ポリ（イソブチルエ
チレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン分８モル
％、２３０℃におけるメルトインデックス０．８ｇ／１
０分）を３８ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に投入す
る。その溶融物の中にゾーン３でｔ−ブチルヒドロペル
オキシドのジエチルケトン中２０％溶液を１．７１ ｌ
／時で投入する。押出機のゾーン５の中へ別の計量ポン
プを経由してｔ−ブチルクミルペルオキシドのメチルエ
チルケトン中２０％溶液を０．９５ ｌ／時でおよびア
リル末端基を有するポリエチレングリコールに基づく液
体ポリエーテル（分子量１４５０）を１．７１ ｌ／時
で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（イソブ
チルエチレン−コ−エチレン）共重合体は３．８・１０
-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−
構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 およびＲ
2 ＝Ｒ5 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝２７０である。赤外スペ
クトルにより示されたアリル末端基を有するポリエーテ
ルに基づくポリマー橋状部分の配分は４．１％であり、
t/u 比は約１１．５になる。
【００８４】例 ２４ 例２２に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中
に、７０／２００／２３０／２３０／２１０／２００／
２００℃の温度プロフィールで、ポリ（メチルエチレ
ン）ホモポリマー（Ｍｗ＝４．９・１０5 ，Ｔｇ＝２６
５Ｋ）（既にその上に０．１％のｔ−ブチルペルオキシ
ベンゾエート、０．２％のベンゼンプロピオン酸−３，
５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ
−２，２−ビス｛〔３−〔３，５−ビス（１，１−ジメ
チルエチル）−４−ヒドロキシフェニル〕−１−オキソ
プロポキシ〕−メチル｝−１．３−プロパンジイルエス
テルおよび０．１％のジ−ｔ−ブチルヒドロキシトルエ
ンから成る混合物が混入されていた）を１４．４ｋｇ／
時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。ゾーン３の投入
孔の中にポリ（メチルエチレン）ホモポリマーと０．２
％のｔ−ブチルペルオキシベンゾエートおよび０．３％
のジブチルベンゼンから成る混合物が２１．６ｋｇ／時
で投入される。その結果生成する構造異性体ポリ（メチ
ルエチレン）と変形されないポリ（メチルエチレン）ホ
モポリマーから成る混合物は４．２・１０ -3（kJ／モル
・度）のψ指数および７．４・１０のＭｎ−値を有す
る。
【００８５】例 ２５ 例２２に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中
に、１４０／１６５／１８０／１５５／１８５／１８５
／１５５℃の温度プロフィールで、ポリ（エチルエチレ
ン−コ−クロロエチレン）共重合体（クロロエチレン含
有量４モル％、１９０℃／２１．１９Ｎにおけるメルト
インデックス３．２ｇ／１０分）（既にその上に内部反
応器内で０．０２６ｋｇのｔ−ブチルペルベンゾエート
および０．０８４ｋｇのステアリン酸カルシウムが混入
されていた）を４３ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に
投入する。押出機のゾーン４の中へ別の計量ポンプを経
由してクミルペルオキシドのアセトン中２０％溶液を
０．０６６ ｌ／時でおよびトリアリルイソシアヌラー
トのアセトン中１０％溶液２．３６ ｌ／時で投入す
る。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン
−コ−クロロエチレン）共重合体は３．６・１０-3（kJ
／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造に
あり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 およびＲ2 ＝Ｒ
5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝Ｃｌおよびｙ＋ｚ＝３１０である。トリ
アリルイソシアヌラートに基づくポリマー橋状部分の配
分は０．５３％である。
【００８６】例 ２６ 例２２に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中
に、１８０／２１０／２３０／１９５／２３５／２３５
／１９０℃の温度プロフィールで、ポリ（メチルエチレ
ン−コ−エチレン）共重合体（エチレン含有量７％、Ｍ
ｗ＝３．５・１０ 5 ）（既に内部混合器内でその上に
０．１２３ｋｇの２−ｔ−ブチル−４−メチルフェノー
ルおよび０．１８５ｋｇのベヘン酸が混入されていた）
を３９ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。押
出機のゾーン４の中へ別の計量ポンプを経由してジ−ｔ
−ブチルペルアジパートのメチルエチルケトン中２０％
溶液を０．１５４ ｌ／時でおよびをトリメチロールプ
ロパントリメチルアクリレートの５０％溶液を０．１１
５ ｌ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポ
リ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体は４．８
・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およ
びＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ2 ＝
Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈおよびｙ＋ｚ＝３４０およびｗ＝６８０
である。トリメチロールプロパントリメチルアクリレー
トに基づくポリマー橋状部分の配分は０．１５％であ
る。
【００８７】例 ２７ 例２２に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中
に、１４０／１７０／１９０／１６５／１８５／１８０
／１５５℃の温度プロフィールで、ポリ（エチルエチレ
ン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２４８Ｋ、Ｍｗ＝４・１
０5 ）（既にその上に０．０６６ｋｇのｔ−ブチルペル
トルアートおよび０．０４５ｋｇのビス−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートが混入
させられていた）を３３ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏
斗に投入する。押出機のゾーン４の中へ別の計量ポンプ
を経由してｔ−ブチルペルトルアートのアセトン中２５
％溶液を０．２５ ｌ／時でおよびエチルヘキシルアク
リレートを１．１５ ｌ／時で投入する。その結果生成
する構造異性体ポリ（エチルエチレン）ホモポリマーは
３．４・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ
−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｃ
2 Ｈ5 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈおよびｙ＋ｚ＝２４０およびｗ
＝６８０である。エチルヘキシルアクリレートに基づく
ポリマー橋状部分の配分は０．１５％である。
【００８８】例 ２８ 例１６に記載の構造異性体ポリ（エチルエチレン）の４
０部を、６０部の変形されないポリ（ブチルエチレ
ン）、０．２３部の２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチル
フェノール、０．１０部のベヘン酸、０．２０部のステ
アリン酸カルシウムおよび０．２０部のポリ（〔１，
１，３，３，−テトラメチルブチルイミノ〕トリアジン
−２，４−ジイル）〔２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジル）−アミノ〕−ヘキサメチレン−４−（２，
２，６，６−テトラメチル）ピペリジル）イミノ〕と混
合してから、押出機の中で１４０／１６５／１７５／１
７５／１７５／１７０／１５５℃で均一化する。その結
果生成する化合物は２．９・１０-3（kJ／モル・度）の
ψ指数を有する。
【００８９】例 ２９ 例２０、２４および２６に記載の構造異性体ポリ（アル
キルエチレン）の各２２部を、１５部の変形されないポ
リ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレ
ン分５０％）、１０部の変形されないポリ（エチルエチ
レン−コ−メチルエチレン）共重合体（エチレン分１５
％）、８部のタルクおよび１部のカーボンブラックと共
に、押出機の中で１４０／１９０／２３０／２２０／２
２０／２１０／２００℃で均質化する。そのポリマーア
ロイは２．７・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有す
る。
【００９０】例 ３０ 例１９に記載の構造異性体ポリ（イソブチルエチレン）
をフィッシュテイルダイの付いた押出機の中で２６５よ
り２８５℃までの温度でプレートに押し出す。フライス
加工された試験片は次の特性値、引っ張り強さ２８ＭＰ
ａ、切断点伸び１５％、引っ張り弾性率１．７ＧＰａ、
曲げ弾性率１．５ＧＰａ、を有する。変形されないポリ
（イソブチルエチレン）について対応する特性値はそれ
ぞれ２４ＭＰａ，１５％，１．３ＧＰａおよび１．２Ｇ
Ｐａである。
【００９１】例 ３１ 羽根車攪拌装置の付いたバンカー貯蔵タンク、充填容積
０．２ｍ3 、の中へ５０ｋｇのポリ（エチルエチレン−
コ−メチルエチレン）共重合体（メチルエチレ分９２モ
ル％、２３０℃／２１．１９Ｎにおけるメルトインデッ
クス１．８ｇ／１０分）を空気圧で投入する。蒸発装置
の上で１５０ｇのグリシジルアクリレートおよび１３５
ｇのメトキシベンゾイルペルオキシドを真空下に蒸発さ
せて、循環ガスを仲立ちとして前記のタンクの中に運び
込み、そこでそれらの変性剤は３５０Ｋにおいて粉体の
共重合体に吸収される。その混合物を二軸押出機 Wern
er & Pfleiderer ＺＳＫ３０，Ｌ／Ｄ＝４２の中に、不
活性ガス遮蔽、真空ガス抜きおよびストランド造粒を伴
って、１００／１４５／１７５／１８０／１８５／１７
０／１４５℃の温度プロフィールで２４ｋｇ／時で投入
する。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレ
ン−コ−メチルエチレン）共重合体は４．０・１０
-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−
構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝
Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＨ3 、ｙ＋ｚ＝８２０である。赤外
スペクトルにより示されたグリシジルアクリレートに基
づくポリマー橋状部分の配分は０．２８質量％であり、
t/u 比は約０．０８になる。
【００９２】例 ３２ 例３１に記載のバンカー貯蔵タンクの中へ６２ｋｇの粉
体のポリ（エチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２４
８Ｋ，Ｍｗ＝４・１０5 ）を空気圧で投入する。蒸発装
置の上で１．８６ｋｇのエチルヘキシルアクリレートお
よび０．３９ｋｇのｔ−ブチルペルトルアートを真空下
に蒸発させて、循環ガスを媒介として前記のタンクの中
に運び込み、そこでそれらの変性剤は３４０Ｋにおいて
粉体ポリマーに吸収される。その混合物を例１に記載の
二軸押出機に９０／１３０／１７０／１７５／１８０／
１７０／１４５℃の温度プロフィールで１９ｋｇ／時で
投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエ
チレン）ホモポリマーは２．６・１０-3（kJ／モル・
度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そ
こでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｃ2 Ｈ5 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈおよ
びｙ＋ｚ＝３３０およびＷ＝６６０である。エチルヘキ
シルアクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は約
２．７５％である。
【００９３】例 ３３ 例３１に記載のバンカー貯蔵タンクの中へ４８６２ｋｇ
の粉体のポリ（メチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝
２６３Ｋ，Ｍｗ＝６・１０5 ）を空気圧で投入する。蒸
発装置の上で１６８ｇのアリルアクリレートおよび１２
０ｇのジ−ｔ−ブチルペルベンゾエートを真空下に蒸発
させて、循環ガスを媒介として前記のタンクの中に運び
込み、そこでそれらの変性剤は３５５Ｋにおいて粉体ポ
リマーに吸収される。その混合物を例３１に記載の二軸
押出機に１００／１４５／１８０／１８５／１８０／１
７５／１６０℃の温度プロフィールで２２ｋｇ／時で投
入する。その結果生成する構造異性体ポリ（メチルエチ
レン）は４．０・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有
しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ 3 ＝
Ｒ4 ＝ＣＨ3 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝５７０であ
る。赤外スペクトルにより示されたアリルアクリレート
に基づくポリマー橋状部分の配分は０．３３％である。
【００９４】例 ３４ 例３１に記載のバンカー貯蔵タンクの中へ４６ｋｇの粉
体のポリ（イソブチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝
３００Ｋ，Ｍｗ＝６・１０5 ）を空気圧で投入する。蒸
発装置の上で２６７ｇのアリルメチルマレアートおよび
１６１ｇのｔ−ブチルヒドロペルオキシドを真空下に蒸
発させて、循環ガスを媒介として前記のタンクの中に運
び込み、そこでそれらの変性剤は４３０Ｋにおいて粉体
ポリマーに吸収される。その混合物を例１に記載の二軸
押出機に１７０／２２０／２６０／２６５／２６０／２
５０／２３５℃の温度プロフィールで１６ｋｇ／時で投
入する。その結果生成する構造異性体ポリ（イソブチル
エチレン）は３．３・１０ -3（kJ／モル・度）のψ指数
を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1＝Ｒ
3 ＝Ｒ4 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ
＝２０５である。赤外スペクトルにより示されたアリル
メチルマレアートに基づくポリマー橋状部分の配分は
０．５４％である。
【００９５】例 ３５ 羽根車攪拌装置の付いたバンカー貯蔵タンク、充填容積
１．０ｍ3 、の中へ２５０ｋｇの粉体ポリ（メチルエチ
レン−コ−エチレン）共重合体（エチレン含有量７％、
Ｍｗ＝３．５・１０5 ）を空気圧で投入する。蒸発装置
の上で０．５ｋｇのジビニルペンゾールおよび０．５ｋ
ｇのｔ−ブチルペルベンゾエートを真空下に蒸発させ
て、循環ガスを媒介として前記のタンクの中に運び込
み、そこでそれらの変性剤は４００Ｋにおいて粉体共重
合体に吸収される。二軸押出機Werner& Pfleiderer Ｚ
ＳＫ５３，Ｌ／Ｄ＝３６の中に、不活性ガス遮蔽、３回
の配分コンベヤー計量、真空ガス抜きおよび水中造粒を
伴って、１００／１４５／１８０／１８５／１８０／１
７５／１６０℃の温度プロフィールでその変性剤を添加
された共重合体を４５ｋｇ／時で、並びに１０％バッチ
の２−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールを１３ｋｇ／
時でおよびベヘン酸を０．３５ｋｇ／時で投入する。そ
の結果生成する構造異性体ポリ（メチルエチレン−コ−
エチレン）共重合体は４．４・１０-3（kJ／モル・度）
のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこで
Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈおよびｙ＋
ｚ＝３５０およびｗ＝７００である。ジビニルペンゾー
ルに基づくポリマー橋状部分の配分は０．１８％であ
る。
【００９６】例 ３６ 例３５に記載のバンカー貯蔵タンクの中に２２０ｋｇの
粉体ポリ（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合
体（エチレン分８モル％、２３０℃におけるメルトイン
デックス０．８ｇ／１０分）を投入する。蒸発装置の上
で６．６ｋｇのビニルトリメトキシシランおよび１．１
ｋｇのｔ−ブチルペルトルアートを真空下に蒸発させ
て、循環ガスを媒介として前記のタンクの中に運び込
み、そこでそれらの変性剤は４４５Ｋにおいて粉体共重
合体に吸収される。二軸押出機Werner& Pfleiderer Ｚ
ＳＫ５３，Ｌ／Ｄ＝３６の中に、不活性ガス遮蔽、３回
の配分コンベヤー計量、真空ガス抜きおよび水中造粒を
伴って、１７０／２２０／２６０／２６５／２６０／２
５０／２３５℃の温度プロフィールでその変性剤を添加
された共重合体を３８ｋｇ／時で、並びにステアリン酸
カルシウムを３８ｋｇ／時でおよび１０％バッチの３
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオン酸オクタデシルエステルおよびビス−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ビペリジルセバツァー
トを９．５ｋｇ／時で投入する。その結果生成する構造
異性体ポリ（イソブルエチレン−コ−エチレン）共重合
体は３．４・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しか
つＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ 1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−
Ｃ4 Ｈ9 、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝２７０であ
る。赤外スペクトルにより示されたビニルトリメトキシ
シランに基づくポリマー橋状部分の配分は２．８％であ
り、t/u 比は約１１．５になる。
【００９７】例 ３７ 例３５に記載のバンカー貯蔵タンクの中に２７０ｋｇの
粉体ポリ（メチルエチレン）ホモポリマー（Ｍｗ＝４．
９・１０5 、Ｔｇ＝２６５Ｋ）（既にその上に０．２％
のペンゼンプロピオン酸−３，５−ビス（１，１−ジメ
チルエチル）−４−ヒドロキシ−２，２−ビス｛〔３−
〔３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒド
ロキシフェニル〕−オキソプロポキシ〕メチル｝−１，
３−プロパンジイルエステルおよび０．１％のジ−ｔ−
ブチルヒドロキシトルエンが混入されていた）を空気圧
で投入する。蒸発装置の上で４．０５ｋｇのスチレンお
よび０．８１ｋｇのｔ−ブチルペルトルアートを真空下
に蒸発させて、循環ガスを媒介として前記のタンクの中
に運び込み、そこでそれらの変性剤は３８５Ｋにおいて
粉体共重合体に吸収される。二軸押出機Werner & Pflei
derer ＺＳＫ５３，Ｌ／Ｄ＝３６の中に、不活性ガス遮
蔽、真空ガス抜きおよび水中造粒を伴って、１００／１
４５／１８０／１８５／１８０／１７５／１６０℃の温
度プロフィールでその粉体混合物を４８ｋｇ／時で投入
する。その結果生成する構造異性体ポリ（メチルエチレ
ン）は４．２・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有し
かつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ
4 ＝ＣＨ3 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝５９０であ
る。赤外スペクトルにより示されたスチレンに基づくポ
リマー橋状部分の配分は１．３３％である。
【００９８】例３８ 例３４に記載の構造異性体ポリ（イソブチレン）４５部
を、５５部の変形されないポリ（イソブチレン）、０．
２８部の２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノー
ル、０．１５部のベヘン酸、０．２５部のステアリン酸
カルシウムおよび０．１５部のポリ（〔１，１，３，
３，−テトラメチルブチルイミノ〕トリアジン−２，４
−ジイル）〔２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ル）−アミノ〕−ヘキサメチレン−４−（２，２，６，
６−テトラメチル）ピペリジル）イミノ〕と混合してか
ら、押出機の中で２４５／２７０／２８０／２８０／２
８０／２７０／２５０℃で均一化する。その結果生成す
る化合物は２．７５・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数
を有する。
【００９９】例 ３９ 例３１、３２および３３に記載の構造異性体ポリ（アル
キルエチレン）の各２２部を、２０部の変形されないポ
リ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレ
ン分８％）、１０部の変形されないポリ（エチルエチレ
ン−コ−メチルエチレン）共重合体（エチレン分１５
％）、９部のタルクおよび１部のカーボンブラックと共
に、押出機の中で１４５／１９０／２３０／２３０／２
２０／２１０／２００℃で均質化する。そのポリマーア
ロイは２．６・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有す
る。
【０１００】例 ４０ 例３４に記載の構造異性体ポリ（イソブチルエチレン）
をフィッシュテイルダイの付いた押出機の中で２６０よ
り２８０℃までの温度でプレートに押し出す。フライス
加工された試験片は次の特性値、引っ張り強さ２９ＭＰ
ａ、切断点伸び１４％、引っ張り弾性率１．８ＧＰａ、
曲げ弾性率１．６ＧＰａ、を有する。変形されないポリ
（イソブチルエチレン）について対応する特性値はそれ
ぞれ２４ＭＰａ，１５％，１．３ＧＰａおよび１．２Ｇ
Ｐａである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 5/3435 Ｃ０８Ｋ 5/3435 5/3492 5/3492 5/36 5/36 Ｃ０８Ｌ 23/26 Ｃ０８Ｌ 23/26 (72)発明者 ハルトムート ブッカ オーストリア国エゲンドルフ，ヌマー 125 (72)発明者 ノルベルト ライヘルト オーストリア国ノイホーフェン，ラングー トヴェク １ (72)発明者 ウルフ パンツァー オーストリア国パルク，バーンホフシュト ラーセ 33 (72)発明者 コンラート ビューラー ドイツ連邦共和国ペデリスト，ドルフシュ トラーセ 21

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ポリ（アルキルエチレン）のＨ−および
    Ｙ−構造、および２・１０-3より８・１０-3（kJ/ モル
    ・度）までのψ指数を有することを特徴とする改良され
    た加工性および低下した不安定性を有する構造異性体ポ
    リ（アルキルエチレン）において、 【数１】 ψ＝ Tm・△Hm・β・ζ・Tg-1（kJ/ モル・度） 〔Tm＝融点（Ｋ） △Hm＝融解熱（kJ/ モ
    ル） β＝25℃における線熱膨張係数（1/度） ζ＝閾値（ISO 1131による MFI測定における構造異性体
    ポリ（アルキルエチレン）のロープ直径／変形されない
    ポリ（アルキルエチレン）のロープ直径） Tg＝ガラス転移温度（Ｋ）〕の関係式を満たし、構造
    式、 【化１】 （Ｒ1 ＝Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル；Ｒ2 ＝Ｈ；t/u ＝０．０
    ３〜３０；Ｒ3 ＝Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルまたはＨ；Ｒ4 ＝
    Ｈ，Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル、ハロゲンまたはアリール、特
    にフェニル；Ｒ5 ＝ＨまたはＣ1 〜Ｃ4 アルキル； y+z
    ＝１５０〜３０００；Ξ＝アクリル酸、Ｃ4 〜Ｃ12−ア
    クリル酸誘導体、Ｃ3 〜Ｃ21−アリル化合物、Ｃ8 〜Ｃ
    14−ジアクリレート、Ｃ7 〜Ｃ16−ジアリル化合物、Ｃ
    4 〜Ｃ10−ジエン、Ｃ9 〜Ｃ15−ジメタアクリレート、
    Ｃ7 〜Ｃ10−ジビニル化合物、Ｃ3 〜Ｃ 16−モノビニル
    化合物、Ｃ12〜Ｃ17−ポリアクリレート、Ｃ15〜Ｃ21−
    ポリメタクリレートおよび／またはＣ9 〜Ｃ12−トリア
    リル化合物に基づくポリマー橋状部分）のＨ−構造高分
    子を有するポリ（アルキルエチレン）、および構造式、 【化２】 （Ｒ1 ＝Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル；Ｒ2 ＝Ｈ；Ｒ3 ＝Ｃ1 〜
    Ｃ4 アルキルまたはＨ；Ｒ4 ＝Ｈ，Ｃ1 〜Ｃ4 アルキ
    ル、ハロゲンまたはアリール、特にフェニル；Ｒ5＝Ｈ
    またはＣ1 〜Ｃ4 アルキル； y+z＝１５０〜３０００；
    t/u ＝０．０３〜３０；ｗ＝２５０〜５０００；Ξ＝
    アクリル酸、Ｃ4 〜Ｃ12−アクリル酸誘導体、Ｃ3 〜Ｃ
    21−アリル化合物、Ｃ8 〜Ｃ14−ジアクリレート、Ｃ7
    〜Ｃ16−ジアリル化合物、Ｃ4 〜Ｃ10−ジエン、Ｃ9 〜
    Ｃ15−ジメタアクリレート、Ｃ7 〜Ｃ10−ジビニル化合
    物、Ｃ3 〜Ｃ 16−モノビニル化合物、Ｃ12〜Ｃ17−ポリ
    アクリレート、Ｃ15〜Ｃ21−ポリメタクリレートおよび
    ／またはＣ9 〜Ｃ12−トリアリル化合物に基づくポリマ
    ー橋状部分）のＹ−構造高分子を有するポリ（アルキル
    エチレン）、であり、かつＨ−またはＹ−構造を有する
    ポリ（アルキルエチレン）におけるポリマー橋状部分は
    ０．１〜５質量％になる、前記の改良された加工性およ
    び低下した不安定性を有する構造異性体ポリ（アルキル
    エチレン）。
  2. 【請求項２】 構造異性体ポリ（アルキルエチレン）が
    次の置換基Ｒ1 〜Ｒ 5 までとの構造の組み合わせにより
    定義されることを特徴とする請求項１に記載の構造異性
    体ポリ（アルキルエチレン）。 ａ）Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ｂ）Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 ，Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈおよ
    び t/u＝１．２〜３２ ｃ）Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 およびＲ2 ＝Ｒ5
    ＝Ｈ ｄ）Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 ，Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ
    および t/u＝１．２〜３２ ｅ）Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 ，Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ，Ｒ4
    ＝ｎ−Ｃ4 Ｈ9 および t/u＝０．０３〜３ ｆ）Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ＣＨ3 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ ｇ）Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝ＣＨ3 ，Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈおよび
    t/u＝１．２〜３２ ｈ）Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝ＣＨ3 ，Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ，Ｒ＝Ｃｌお
    よび t/u＝０．０３〜５。
  3. 【請求項３】 Ｈ−およびＹ−構造を有するポリ（アル
    キルエチレン）が請求項２に記載の構造異性体ポリ（ア
    ルキルエチレン）の混合物であることを特徴とする請求
    項１および２に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレ
    ン）。
  4. 【請求項４】 ψ指数が２．５・１０-3〜６・１０
    -3（kJ/ モル・度）になることを特徴とする請求項１〜
    ３のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエ
    チレン）。
  5. 【請求項５】 構造異性体ポリ（アルキルエチレン）に
    おいて橋状部分Ξが１．５〜５質量％のモノビニル化合
    物から成るモノマー単位、０．１〜２質量％のジビニル
    化合物から成るモノマー単位、０．２〜４．５質量％の
    アリル化合物から成るモノマー単位、０．１〜１．６質
    量％のジアクリレートから成るモノマー単位、０．１〜
    １．２質量％のポリアクリレートから成るモノマー単
    位、０．２〜１．８質量％のアクリル酸および／または
    アクリル酸誘導体から成るモノマー単位、０．２〜１．
    ８質量％のジアリル誘導体から成るモノマー単位、０．
    １〜１．６質量％のジメタクリレートから成るモノマー
    単位、０．１〜１．６質量％のジエンから成るモノマー
    単位、０．１〜１．２質量％のポレメタクリレートから
    成るモノマー単位および／または０．１〜１．４質量％
    のトリアリル化合物から成るモノマー単位を有すること
    を特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の構造
    異性体ポリ（アルキルエチレン）。
  6. 【請求項６】 該混合物が３〜９７％請求項１〜５に記
    載のＨ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレ
    ン）、９７〜３％の変形されないポリ（アルキルエチレ
    ン）、０．５〜４５％の慣用の補助剤、特に０．０１〜
    ０．６質量％のフェノール系酸化防止剤、０．０１〜
    ０．６％の亜リン酸塩を主成分とする加工安定剤、０．
    ０１〜０．６％のジスルフィドおよびチオエーテルを主
    成分とする高温度安定剤および０．０１〜０．８％の立
    体障害アミン（ＨＡＬＳ）および場合により０．１〜１
    ％の静電防止剤、０．２〜３％の顔料、０．０５〜１％
    の核形成剤、５〜４０％充填剤、２〜２０％防火剤およ
    び／または０．００１〜１％の加工補助剤から成り、か
    つ２・１０-3〜７．８・１０-3（kJ/ モル・度）のψ指
    数を有することを特徴とするポリ（アルキルエチレン）
    から成る混合物。
  7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれか１項に記載の構
    造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法にお
    いて、ポリ（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルエチレン）は、好まし
    くは連続プロセス運転下で、 −第１の反応段階において０．０２〜５質量％のアクリ
    ル酸、アクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレー
    ト、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビ
    ニル化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポ
    リメタクリレート、および／またはトリアリル化合物と
    の粉体混合物は渦流層において、好ましくは不活性条件
    下に、３００〜５００Ｋにおいて、場合により追加の慣
    用の補助剤、特に０．０１〜０．６質量％のフェノール
    系酸化防止剤、０．０１〜０．６％のジスルフィドおよ
    びポリエーテルを主成分とする高温度安定剤、０．０１
    〜０．６％の亜リン酸塩を主成分とする加工安定剤およ
    び／または０．０１〜０．８％の立体障害アミン（ＨＡ
    ＬＳ）、０．１〜１％の静電防止剤、０．２〜３％の顔
    料、０．０５〜１％の核形成剤、５〜４０％の充填剤、
    ２〜２０％の防火剤および／または０．００１〜１％の
    加工補助剤の存在で、好ましくは連続的製品供給および
    製品排出装置を有する渦流層反応器内で、特に線源とし
    てコバルト−６０を含む核種照射装置により、３００〜
    ４５００ＫｅＶの線流エネルギーを有するコックロフト
    −ワルトン型の電子加速器により、１０００〜１０００
    ０ＫｅＶの線流エネルギーを有するリニァー加速型の電
    子加速器により１５０〜１００００ＫｅＶのエネルギー
    のイオン化放射線に０，５〜８０ＫＧｙの照射線量でさ
    らされ、そして −第２の反応段階において照射された粉体混合物の熱処
    理が３８０〜５５０Ｋにおいて、特に押出機内で４１０
    〜５５０Ｋの範囲内の温度でおよび２〜１０分間の反応
    時間でまたは固相内で３８０〜５００Ｋの範囲内の温度
    で５〜６０分間の反応時間において行われ、その際熱処
    理の前にさらに慣用の安定剤を０．０１〜０．６％の濃
    度を添加することができる、ことを特徴とする請求項１
    〜６のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキル
    エチレン）を製造する方法。
  8. 【請求項８】 請求項１〜６のいずれか１項に記載の構
    造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法にお
    いて、ポリ（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルエチレン）は、押出機
    内の溶融物の中で、特に不活性条件下で、 −第１の反応段階において、内部混合機内でポリ（アル
    キルエチレン）の上に混入されて一緒に投与されるかま
    たは押出機のゾーン２〜４にポリ（アルキルエチレン）
    溶融物の中に溶液として投与される０．０１〜３質量％
    のアシルペルオキシド、アルキルペルオキシド、ヒドロ
    ペルオキシドおよび／またはペルエステルと反応させら
    れ、そして −第２の反応段階において０．０１〜５質量％のアクリ
    ル酸またはアクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリ
    レート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、
    ジビニル化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレー
    ト、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル化
    合物と、０．００１〜３．０質量％のアシルペルオキシ
    ド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよび
    ／またはペルエステルの存在で、また場合によりその他
    の補助剤、特に０．０１〜０．６質量％のフェノール系
    酸化防止剤、０．０１〜０．６％のジスルフィドおよび
    ポリエーテルを主成分とする高温度安定剤、０．０１〜
    ０．６％の亜リン酸塩を主成分とする加工安定剤および
    ／または０．０１〜０．８％の立体障害アミン（ＨＡＬ
    Ｓ）、０．１〜１％の静電防止剤、０．２〜３％の顔
    料、０．０５〜１％の核形成剤、５より４０％までの充
    填剤、２より２０％までの防火剤および／または０．０
    ０１より１％までの加工補助剤、と共に１４０より３２
    ０℃までの温度で反応させられ、その際核形成剤とモノ
    マーは分離された配量装置を経由しておよび／または溶
    液として一緒に押出機のゾーン３〜６の中に、場合によ
    りさらにポリ（アルキルエチレン）分量と共に、投与さ
    れる、ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に
    記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する
    方法。
  9. 【請求項９】 請求項１〜６のいずれか１項に記載の構
    造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法にお
    いて、ポリ（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルエチレン）は、好まし
    くは連続プロセス運転下で、微粉末として、好ましくは
    不活性条件下で、 −第１の工程において、循環装置および循環担体ガス案
    内装置の付いた反応器の中で２９０Ｋ〜５００Ｋの温度
    において、０．０５〜３．０質量％のアシルペルオキシ
    ド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよび
    ／またはペルエステル並びに０．０５〜５質量％のアク
    リル酸またはアクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアク
    リレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレー
    ト、ジビニル化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレ
    ート、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル
    化合物（それらは蒸発装置を経由して担体ガス流の中に
    導入されていた）を吸収させられ、そして −第２の工程において、その粉体混合物、場合によりそ
    の他の補助剤、特に０．０１〜２．５％の安定剤、０．
    １〜１％の静電防止剤、０．２〜３％の顔料、０．０５
    〜１％の核形成剤、５〜４０％の充填剤、２〜２０％の
    防火剤および／または０．００１〜１％の加工補助剤を
    添加して、スクリュー機械、特に二軸スクリュー押出機
    またはプランジャースクリューの付いた一軸スクリュー
    押出機、の供給ゾーンの中でラジカル形成剤の分解温度
    に温められ、その後４１５Ｋ〜５９５Ｋの反応温度で融
    解されてから顆粒化される、ことを特徴とする請求項１
    〜６のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキル
    エチレン）を製造する方法。
  10. 【請求項１０】 請求項１〜９のいずれか１項に記載の
    構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法に
    おいて、ポリ（アルキルエチレン）として２４２〜２５
    ０Ｋのガラス転移温度および２・１０4 〜３・１０6 の
    範囲内の分子量（ＭW ）を有するポリ（エチルエチレ
    ン）、共重合体の中に３〜４５モル％のエチレン配分を
    有するポリ（エチルエチレン−コ−エチレン）共重合
    体、３〜９７モル％のメチルエチレン配分を有するポリ
    （エチル−エチレン−コ−メチルエチレン）共重合体、
    ２９５〜３０３Ｋのガラス転移温度および２５℃におい
    て０．８１３〜０．８３２ｇ／ｃｍ3 の範囲内の密度を
    有するポリ（イソブチルエチレン）、３〜９７モル％の
    ｎ−ブチルエチレン配分を有するポリ（イソブチル−エ
    チレン−コ−ｎ−ブチルエチレン）共重合体、共重合体
    の中に３〜４５モル％のエチレン配分を有するポリ（イ
    ソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体、２５９よ
    り２６６Ｋまでのガラス転移温度および１・１０5 〜８
    ・１０6 の範囲内の分子量（ＭW ）を有するポリ（メチ
    ルエチレン）および／または共重合体の中に３〜４５モ
    ル％のエチレン配分を有するポリ（メチルエチレン−コ
    −エチレン）共重合体が使用される、ことを特徴とする
    請求項１〜９のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ
    （アルキルエチレン）を製造する方法。
  11. 【請求項１１】 請求項１〜５までのいずれか１項に記
    載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）並びに請求項
    ６に記載の混合物のフィルム、プレート、コーティン
    グ、ロール、チューブおよびフォームの製造のための使
    用。
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