JPH09324953A - 浴槽水保温浄化システム - Google Patents
浴槽水保温浄化システムInfo
- Publication number
- JPH09324953A JPH09324953A JP8162502A JP16250296A JPH09324953A JP H09324953 A JPH09324953 A JP H09324953A JP 8162502 A JP8162502 A JP 8162502A JP 16250296 A JP16250296 A JP 16250296A JP H09324953 A JPH09324953 A JP H09324953A
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- Japan
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- water
- pipe
- bath
- purification system
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 浴槽水保温循環システム全体にわたってレジ
オネラ属菌をも殺菌することができ、かつ省エネ・省水
型の浴槽水保温浄化システムを提供する。 【解決手段】 本発明の浴槽水保温浄化システムは、ガ
ス又は石油焚きもしくは電気ヒーター式の浴槽水加熱保
温部６１と、浴槽水を濾過する濾過槽４９とを備える。
さらに、循環管路の浴槽７手前の往き配管６５と戻り配
管１３との間に両者を短絡する短絡配管７３が設けられ
ている。また、往き配管６５と短絡配管７３との合流部
に切替弁７１が設けられている。加熱保温部が６５℃以
上に浴槽水を加熱し、この高温水を浴槽手前部を除く浴
槽水循環管路全体に流すことができる。
オネラ属菌をも殺菌することができ、かつ省エネ・省水
型の浴槽水保温浄化システムを提供する。 【解決手段】 本発明の浴槽水保温浄化システムは、ガ
ス又は石油焚きもしくは電気ヒーター式の浴槽水加熱保
温部６１と、浴槽水を濾過する濾過槽４９とを備える。
さらに、循環管路の浴槽７手前の往き配管６５と戻り配
管１３との間に両者を短絡する短絡配管７３が設けられ
ている。また、往き配管６５と短絡配管７３との合流部
に切替弁７１が設けられている。加熱保温部が６５℃以
上に浴槽水を加熱し、この高温水を浴槽手前部を除く浴
槽水循環管路全体に流すことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、いわゆる２４時間
風呂等の浴槽水を保温・浄化する浴槽水保温浄化システ
ムに関する。特には、このシステム内で繁殖するとして
問題になりつつあるレジオネラ属菌を効率的に殺菌しう
る浴槽水保温浄化システムに関する。
風呂等の浴槽水を保温・浄化する浴槽水保温浄化システ
ムに関する。特には、このシステム内で繁殖するとして
問題になりつつあるレジオネラ属菌を効率的に殺菌しう
る浴槽水保温浄化システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】浴槽内の水を捨てないで浄化しながら何
日にもわたって使用することが、最近行われるようにな
ってきている。例えば、２４時間風呂と呼ばれるものが
あり、いつでも入浴できるという快適さ・利便性の他
に、節水・省エネにも貢献するという利点がある。な
お、本明細書でいう２４時間風呂は、家庭用に限らず、
公衆浴場や温泉、寮や老人ホームの浴場等の同種の風呂
も含む。このような風呂には、浴槽水を循環浄化する浴
槽水循環システムが設置されている。浴槽水循環システ
ムは、浴槽水中のゴミ・汚れを除去するとともに細菌を
殺菌して、浴槽水を清潔に保つ役割を果たす。
日にもわたって使用することが、最近行われるようにな
ってきている。例えば、２４時間風呂と呼ばれるものが
あり、いつでも入浴できるという快適さ・利便性の他
に、節水・省エネにも貢献するという利点がある。な
お、本明細書でいう２４時間風呂は、家庭用に限らず、
公衆浴場や温泉、寮や老人ホームの浴場等の同種の風呂
も含む。このような風呂には、浴槽水を循環浄化する浴
槽水循環システムが設置されている。浴槽水循環システ
ムは、浴槽水中のゴミ・汚れを除去するとともに細菌を
殺菌して、浴槽水を清潔に保つ役割を果たす。
【０００３】浴槽水循環系には、人体から、もしくは外
界から各種雑菌が浴槽水に混入する。そのような菌の１
つとして、致死性の高いレジオネラ症の原因となるレジ
オネラ属菌がある。レジオネラ症は、多臓器障害を伴う
レジオネラ肺炎（従来の在郷軍人病）と、インフルエン
ザ様の熱性疾患であるポンティアック熱（非肺炎型）の
２つの病型がある。レジオネラ属菌が生息する土壌の砂
塵やこれに汚染された冷却塔をはじめとした人工水等が
本症の感染源となり、これまでに報告された集団発生の
多くは、冷却塔水からエアロゾル（空気に浮遊した液体
の粒子）によるレジオネラ属菌の飛散が原因である。エ
アロゾルを発生するのは冷却塔だけでなく、加湿器、４
０℃程度の貯湯タンク使用のシャワー、温泉、渦流浴、
装飾用噴水も感染源となることがわかっている。人から
人への感染はないので、感染源となる水利用設備でのレ
ジオネラ属菌数とエアロゾル発生を少なくすることが重
要である。
界から各種雑菌が浴槽水に混入する。そのような菌の１
つとして、致死性の高いレジオネラ症の原因となるレジ
オネラ属菌がある。レジオネラ症は、多臓器障害を伴う
レジオネラ肺炎（従来の在郷軍人病）と、インフルエン
ザ様の熱性疾患であるポンティアック熱（非肺炎型）の
２つの病型がある。レジオネラ属菌が生息する土壌の砂
塵やこれに汚染された冷却塔をはじめとした人工水等が
本症の感染源となり、これまでに報告された集団発生の
多くは、冷却塔水からエアロゾル（空気に浮遊した液体
の粒子）によるレジオネラ属菌の飛散が原因である。エ
アロゾルを発生するのは冷却塔だけでなく、加湿器、４
０℃程度の貯湯タンク使用のシャワー、温泉、渦流浴、
装飾用噴水も感染源となることがわかっている。人から
人への感染はないので、感染源となる水利用設備でのレ
ジオネラ属菌数とエアロゾル発生を少なくすることが重
要である。
【０００４】浴槽水循環系に繁殖する雑菌の低減対策と
しての殺菌装置を有する浴槽水保温浄化システムも提案
あるいは開発されている。図２は、殺菌装置としての紫
外線ランプを有する浴槽水保温浄化システムの系統図で
ある。図２の浴槽水保温浄化システムにおいて、浴槽水
は、浴槽７→送受水口１１→戻り配管１３→浄化ユニッ
ト５内の配管３３→循環ポンプ３５→配管３７→紫外線
ランプ４１→三方弁４３→配管４５→濾過槽４９→配管
５１→三方弁５３→配管５５→配管５７→浴槽水加熱保
温部６１→配管６３→往き配管５７→送受水口１１→浴
槽７と循環している。
しての殺菌装置を有する浴槽水保温浄化システムも提案
あるいは開発されている。図２は、殺菌装置としての紫
外線ランプを有する浴槽水保温浄化システムの系統図で
ある。図２の浴槽水保温浄化システムにおいて、浴槽水
は、浴槽７→送受水口１１→戻り配管１３→浄化ユニッ
ト５内の配管３３→循環ポンプ３５→配管３７→紫外線
ランプ４１→三方弁４３→配管４５→濾過槽４９→配管
５１→三方弁５３→配管５５→配管５７→浴槽水加熱保
温部６１→配管６３→往き配管５７→送受水口１１→浴
槽７と循環している。
【０００５】送受水口１１には粗フィルターが付いてお
り、髪の毛のような大形のゴミはここでキャッチされ
る。浴槽水浄化ユニット５内の紫外線ランプ４１は、浴
槽水に紫外線を照射して殺菌するものである。濾過槽４
９は、濾過材（メッシュやビーズ等）を内蔵しており、
浴槽水中の小さなゴミ、垢、油分等を除去する。
り、髪の毛のような大形のゴミはここでキャッチされ
る。浴槽水浄化ユニット５内の紫外線ランプ４１は、浴
槽水に紫外線を照射して殺菌するものである。濾過槽４
９は、濾過材（メッシュやビーズ等）を内蔵しており、
浴槽水中の小さなゴミ、垢、油分等を除去する。
【０００６】濾過槽４９前後には三方弁４３及び５３が
設けられている。これらの三方弁を切り替えることによ
り、濾過槽４９の逆洗（水の流れは配管３９→三方弁５
３→配管５１→濾過槽４９→配管４５→三方弁４３→配
管４７）を行えるようになっている。なお、三方弁で黒
く塗りつぶされたポートは閉、白抜きのポートは開を表
す。
設けられている。これらの三方弁を切り替えることによ
り、濾過槽４９の逆洗（水の流れは配管３９→三方弁５
３→配管５１→濾過槽４９→配管４５→三方弁４３→配
管４７）を行えるようになっている。なお、三方弁で黒
く塗りつぶされたポートは閉、白抜きのポートは開を表
す。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】図２の浴槽水保温浄化
システムには次の問題点がある。すなわち、紫外線照射
による殺菌では、他の微生物の影になってしまうところ
の微生物には紫外線が照射されないので、殺菌を完全に
行うことはできない。また、照射装置の石英管が白濁し
てしまうので、照射能力が落ちることがある。また、配
管系等に蓄積した湯垢等を温床とする雑菌に対しては、
これを循環させることができないため、有効に殺菌する
ことができない（紫外線ランプまで到達しない）。
システムには次の問題点がある。すなわち、紫外線照射
による殺菌では、他の微生物の影になってしまうところ
の微生物には紫外線が照射されないので、殺菌を完全に
行うことはできない。また、照射装置の石英管が白濁し
てしまうので、照射能力が落ちることがある。また、配
管系等に蓄積した湯垢等を温床とする雑菌に対しては、
これを循環させることができないため、有効に殺菌する
ことができない（紫外線ランプまで到達しない）。
【０００８】一方、実開平２−３８１１１では給湯器か
ら６０℃以上の熱湯を浴槽水浄化フィルターに通水して
フィルターを殺菌するとの提案もなされている。しか
し、６０℃ではレジオネラ属菌の殺菌を行うことはでき
ない。また、具体的に提案されている通水方式も、フィ
ルターを逆洗する方式のみである。
ら６０℃以上の熱湯を浴槽水浄化フィルターに通水して
フィルターを殺菌するとの提案もなされている。しか
し、６０℃ではレジオネラ属菌の殺菌を行うことはでき
ない。また、具体的に提案されている通水方式も、フィ
ルターを逆洗する方式のみである。
【０００９】本発明は、浴槽水保温循環システム全体に
わたってレジオネラ属菌をも殺菌することができ、かつ
省エネ・省水型の浴槽水保温浄化システムを提供するこ
とを目的とする。
わたってレジオネラ属菌をも殺菌することができ、かつ
省エネ・省水型の浴槽水保温浄化システムを提供するこ
とを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の浴槽水保温浄化システムは、浴槽水を循環
する管路を有し、該管路中で浴槽水の保温（加熱）及び
浄化を行う浴槽水保温浄化システムであって； ガス又
は石油焚き、もしくは電気ヒーター式の浴槽水加熱保温
部と、 浴槽水を濾過する濾過槽と、 循環管路の浴槽
手前の往き配管と戻り配管との間に設けられた両者を短
絡する短絡配管と、 往き配管と短絡配管との合流部に
設けられた切替弁と、を具備し； 加熱保温部が６５℃
以上に浴槽水を加熱し、この高温水を浴槽手前部を除く
浴槽水循環管路全体に循環することができるように構成
されていることを特徴とする。
め、本発明の浴槽水保温浄化システムは、浴槽水を循環
する管路を有し、該管路中で浴槽水の保温（加熱）及び
浄化を行う浴槽水保温浄化システムであって； ガス又
は石油焚き、もしくは電気ヒーター式の浴槽水加熱保温
部と、 浴槽水を濾過する濾過槽と、 循環管路の浴槽
手前の往き配管と戻り配管との間に設けられた両者を短
絡する短絡配管と、 往き配管と短絡配管との合流部に
設けられた切替弁と、を具備し； 加熱保温部が６５℃
以上に浴槽水を加熱し、この高温水を浴槽手前部を除く
浴槽水循環管路全体に循環することができるように構成
されていることを特徴とする。
【００１１】つまりシステム全体（浴槽手前部除く）に
高温水を循環させて、システム全体の高温殺菌を行うの
である。我々の行った実験によれば、６３℃×５分ある
いは６５℃×１分の高温殺菌によって、レジオネラ属菌
の相当な滅菌効果が得られることが分っている。したが
って、６５℃以上の高温水を浄化ユニットに通してやれ
ば十分な殺菌効果を得られる。また、循環管路中の浴槽
水を循環使用するので、余分なエネルギー及び水を使う
こともなく殺菌を行うことができる。
高温水を循環させて、システム全体の高温殺菌を行うの
である。我々の行った実験によれば、６３℃×５分ある
いは６５℃×１分の高温殺菌によって、レジオネラ属菌
の相当な滅菌効果が得られることが分っている。したが
って、６５℃以上の高温水を浄化ユニットに通してやれ
ば十分な殺菌効果を得られる。また、循環管路中の浴槽
水を循環使用するので、余分なエネルギー及び水を使う
こともなく殺菌を行うことができる。
【００１２】
【発明の実施の形態及び実施例】以下、具体的に説明す
る。図１は、本発明の一実施例に係る浴槽水保温浄化シ
ステムの構成を示す系統図である。前述の図２の浴槽水
保温浄化システムと比較すると、浴槽７の手前部におい
て、往き配管６５と戻り配管１３との間に三方弁７１、
及び、短絡配管７３が入り、短絡配管７３と送受水口１
１との間に逆止弁７４が入った形である。
る。図１は、本発明の一実施例に係る浴槽水保温浄化シ
ステムの構成を示す系統図である。前述の図２の浴槽水
保温浄化システムと比較すると、浴槽７の手前部におい
て、往き配管６５と戻り配管１３との間に三方弁７１、
及び、短絡配管７３が入り、短絡配管７３と送受水口１
１との間に逆止弁７４が入った形である。
【００１３】すなわち、図１の浴槽水保温循環システム
における高温水細菌時の循環経路は、戻り配管１３→浄
化ユニット５に入り、配管３３→ポンプ３５→配管３７
→紫外線ランプ４１→三方弁４３→配管４５→濾過槽４
９→配管５１→三方弁５３→配管５５→配管５７→浴槽
水加熱保温部６１→配管６３→浄化ユニット５から出
て、往き配管６５→三方弁７１→短絡配管７３→戻り配
管１３である。このように、本発明のシステムでは、浴
槽７の手前部の一部の配管を除く、全ての管路や構成機
器を高温水を通して殺菌できるというのが大きな特徴で
ある。なお、逆止弁７３は、高温水が戻り配管１３から
浴槽７へ流れるのを阻止する。
における高温水細菌時の循環経路は、戻り配管１３→浄
化ユニット５に入り、配管３３→ポンプ３５→配管３７
→紫外線ランプ４１→三方弁４３→配管４５→濾過槽４
９→配管５１→三方弁５３→配管５５→配管５７→浴槽
水加熱保温部６１→配管６３→浄化ユニット５から出
て、往き配管６５→三方弁７１→短絡配管７３→戻り配
管１３である。このように、本発明のシステムでは、浴
槽７の手前部の一部の配管を除く、全ての管路や構成機
器を高温水を通して殺菌できるというのが大きな特徴で
ある。なお、逆止弁７３は、高温水が戻り配管１３から
浴槽７へ流れるのを阻止する。
【００１４】加熱保温部６１はガス焚き（石油焚き、あ
るいは電気ヒーター式でもよい）である。浴槽水加熱保
温部６１における高温殺菌時の浴槽水温度制御について
説明する。循環する浴槽水の温度を６５℃以上１００℃
未満になるように上記保温部を比例制御又はＯＮ−ＯＦ
Ｆ制御する制御部が設けられている。前述のように、加
熱保温部６１出側の温度は６５℃以上とする必要があ
る。これを達成するための手段の一つが水量調整であ
る。例えば、定格ガス流量が浴槽水加熱保温部のガスバ
ーナーに供給されたときに浴槽水温度を６５℃以上とす
る水量が流れるように、水量調整を行うのである。例え
ば、浴槽水加熱保温部６１の入側及び出側温度を検知す
る温度センサ（戻り湯温サーミスタ８３、往き湯温サー
ミスタ８１）を付けて、同センサよりのフィードバック
信号により水量調整をコントロールするようにしてもよ
い。
るいは電気ヒーター式でもよい）である。浴槽水加熱保
温部６１における高温殺菌時の浴槽水温度制御について
説明する。循環する浴槽水の温度を６５℃以上１００℃
未満になるように上記保温部を比例制御又はＯＮ−ＯＦ
Ｆ制御する制御部が設けられている。前述のように、加
熱保温部６１出側の温度は６５℃以上とする必要があ
る。これを達成するための手段の一つが水量調整であ
る。例えば、定格ガス流量が浴槽水加熱保温部のガスバ
ーナーに供給されたときに浴槽水温度を６５℃以上とす
る水量が流れるように、水量調整を行うのである。例え
ば、浴槽水加熱保温部６１の入側及び出側温度を検知す
る温度センサ（戻り湯温サーミスタ８３、往き湯温サー
ミスタ８１）を付けて、同センサよりのフィードバック
信号により水量調整をコントロールするようにしてもよ
い。
【００１５】浴槽水温度の制御の第二の方法は、ガスバ
ーナーへの供給ガス量をコントロールする方法である。
例えば、ガス比例弁をガスバーナー手前に設け、温度セ
ンサでの浴槽水温度が６５℃以上となるようガス流量を
コントロールすることができる。
ーナーへの供給ガス量をコントロールする方法である。
例えば、ガス比例弁をガスバーナー手前に設け、温度セ
ンサでの浴槽水温度が６５℃以上となるようガス流量を
コントロールすることができる。
【００１６】図１の浴槽水保温浄化システムにおいて
は、高温殺菌運転の頻度・回数は、１日に１回か２回、
５分〜１０分の間行うのが標準的である。
は、高温殺菌運転の頻度・回数は、１日に１回か２回、
５分〜１０分の間行うのが標準的である。
【００１７】図１の浴槽水保温浄化システムにおいて、
１日１回６５℃×５分の高温殺菌を行い浴槽水中のレジ
オネラ属菌数の推移を５０日にわたって調べた。なお、
高温水通水時間は、濾過槽４９出側の浴槽水温度が６４
℃に到達してから５分間とした。その結果、試験開始後
３０〜５０日に到っても、レジオネラ属菌数は１０〜１
０2 個／１００mlと少なく、良好な結果が得られた。一
方、図２の浴槽水保温浄化システムでは、１０〜２０日
後でレジオネラ属菌数１０4 個／１００mlに達した。
１日１回６５℃×５分の高温殺菌を行い浴槽水中のレジ
オネラ属菌数の推移を５０日にわたって調べた。なお、
高温水通水時間は、濾過槽４９出側の浴槽水温度が６４
℃に到達してから５分間とした。その結果、試験開始後
３０〜５０日に到っても、レジオネラ属菌数は１０〜１
０2 個／１００mlと少なく、良好な結果が得られた。一
方、図２の浴槽水保温浄化システムでは、１０〜２０日
後でレジオネラ属菌数１０4 個／１００mlに達した。
【００１８】本発明は、図１に示した形式以外のシステ
ム、例えば浄化ユニット外の風呂給湯器において浴槽水
の加熱を行うタイプのシステムにも適用可能である。ま
た、殺菌用の高温循環した浴槽水を再び浴槽に戻して浴
槽水の保温熱源としたり、濾過層の逆洗浄用水として活
用することもできる。さらに、短絡配管及び切替弁が浴
槽の送受水口内に組み込まれているような構造とすれ
ば、配管工事を行わないで既設の浴槽に本発明のシステ
ムを適用することもできる。
ム、例えば浄化ユニット外の風呂給湯器において浴槽水
の加熱を行うタイプのシステムにも適用可能である。ま
た、殺菌用の高温循環した浴槽水を再び浴槽に戻して浴
槽水の保温熱源としたり、濾過層の逆洗浄用水として活
用することもできる。さらに、短絡配管及び切替弁が浴
槽の送受水口内に組み込まれているような構造とすれ
ば、配管工事を行わないで既設の浴槽に本発明のシステ
ムを適用することもできる。
【００１９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
は、浴槽水保温循環システム全体にわたってレジオネラ
属菌をも殺菌することができ、かつ省エネ・省水型の浴
槽水保温浄化システムを提供することができる。
は、浴槽水保温循環システム全体にわたってレジオネラ
属菌をも殺菌することができ、かつ省エネ・省水型の浴
槽水保温浄化システムを提供することができる。
【図１】本発明の一実施例に係る浴槽水保温浄化システ
ムの構成を示す系統図である。
ムの構成を示す系統図である。
【図２】殺菌装置としての紫外線ランプを有する浴槽水
保温浄化システムの系統図である。
保温浄化システムの系統図である。
１ 浴槽水保温浄化システム ３ 風呂給湯器 ５ 浄化ユニット ７ 浴槽 ９ 浴槽水循環管路 １１ 送受水口 １３ 戻り配管 ３１ 配管 ３３ 配管 ３５ ポンプ ３７ 配管 ３９ 配管 ４１ 紫外線殺菌ランプ ４３ 三方弁 ４５ 配管 ４７ 配管 ４９ 濾過槽 ５１ 配管 ５３ 三方弁 ５５ 配管 ５７ 配管 ６１ 浴槽水加熱
保温部 ６３ 配管 ６５ 配管 ７１ 三方弁 ７３ 短絡配管 ７４ 逆止弁 ８１ 往き湯温サ
ーミスタ ８３ 戻り湯温サーミスタ
保温部 ６３ 配管 ６５ 配管 ７１ 三方弁 ７３ 短絡配管 ７４ 逆止弁 ８１ 往き湯温サ
ーミスタ ８３ 戻り湯温サーミスタ
Claims (5)
- 【請求項１】 浴槽水を循環する管路を有し、該管路中
で浴槽水の保温（加熱）及び浄化を行う浴槽水保温浄化
システムであって；ガス又は石油焚き、もしくは電気ヒ
ーター式の浴槽水加熱保温部と、 浴槽水を濾過する濾過槽と、 循環管路の浴槽手前の往き配管と戻り配管との間に設け
られた両者を短絡する短絡配管と、 往き配管と短絡配管との合流部に設けられた切替弁と、
を具備し；加熱保温部が６５℃以上に浴槽水を加熱し、
この高温水を浴槽手前部を除く浴槽水循環管路全体に循
環することができるように構成されていることを特徴と
する浴槽水保温浄化システム。 - 【請求項２】 循環する浴槽水の温度を６５℃以上１０
０℃未満になるように上記保温部を比例制御又はＯＮ−
ＯＦＦ制御する制御部が設けられている請求項１記載の
浴槽水保温浄化システム。 - 【請求項３】 上記高温循環した浴槽水を再び浴槽に戻
して浴槽水の保温熱源とする請求項１又は２記載の浴槽
水保温浄化システム。 - 【請求項４】 上記高温循環した浴槽水を濾過層の逆洗
浄用水として使用する請求項１又は２記載の浴槽水保温
浄化システム。 - 【請求項５】 上記短絡配管及び切替弁が浴槽の送受水
口内に組み込まれている請求項１〜４いずれか１項記載
の浴槽水保温浄化システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8162502A JPH09324953A (ja) | 1996-06-04 | 1996-06-04 | 浴槽水保温浄化システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8162502A JPH09324953A (ja) | 1996-06-04 | 1996-06-04 | 浴槽水保温浄化システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09324953A true JPH09324953A (ja) | 1997-12-16 |
Family
ID=15755844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8162502A Pending JPH09324953A (ja) | 1996-06-04 | 1996-06-04 | 浴槽水保温浄化システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09324953A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006234344A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Janome Sewing Mach Co Ltd | 熱水供給装置 |
| JP2006271808A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Shizuoka Prefecture | 蒸気とオゾンを用いた循環風呂の殺菌方法並びに装置 |
| JP2006275371A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Janome Sewing Mach Co Ltd | 熱水供給装置 |
-
1996
- 1996-06-04 JP JP8162502A patent/JPH09324953A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006234344A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Janome Sewing Mach Co Ltd | 熱水供給装置 |
| JP2006275371A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Janome Sewing Mach Co Ltd | 熱水供給装置 |
| JP2006271808A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Shizuoka Prefecture | 蒸気とオゾンを用いた循環風呂の殺菌方法並びに装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040720 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041207 |