JPH09325205A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法Info
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- JPH09325205A JPH09325205A JP14008596A JP14008596A JPH09325205A JP H09325205 A JPH09325205 A JP H09325205A JP 14008596 A JP14008596 A JP 14008596A JP 14008596 A JP14008596 A JP 14008596A JP H09325205 A JPH09325205 A JP H09325205A
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- heat treatment
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フォトリソグラフィー法によるカラーフィル
ターの製造に用いる大型透明支持体上に塗布されたレジ
ストに均一パターンを形成する。 【解決手段】 塗布面積１２００ｃｍ2 以上の透明支持
体上へ感光性樹脂を塗布後、順次、予熱、加熱、予冷、
冷却処理した後、露光、現像する。
ターの製造に用いる大型透明支持体上に塗布されたレジ
ストに均一パターンを形成する。 【解決手段】 塗布面積１２００ｃｍ2 以上の透明支持
体上へ感光性樹脂を塗布後、順次、予熱、加熱、予冷、
冷却処理した後、露光、現像する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶ディス
プレイ、またはその他のカラー液晶表示装置に使用され
るカラーフィルターの製造法に関し、特に、大型基板に
均一なパターン形成ができる製造法の改良に関する。
プレイ、またはその他のカラー液晶表示装置に使用され
るカラーフィルターの製造法に関し、特に、大型基板に
均一なパターン形成ができる製造法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルターの製造法には、印刷
法、顔料分散法、染色法等の種々のプロセスが開発され
ている。しかし、工業的にはコスト的に顔料分散法が有
利であり、この方法によるプロセス開発がさかんに行わ
れている。顔料分散法においての一般的なカラーフィル
ターのパターン形成プロセスは、まず、透明支持体上に
スピン塗布・ロールコーター法等の種々の塗布機を用い
て顔料を分散させた感光性樹脂液を所定の膜厚に塗布す
る。次いで、塗布された感光性樹脂液中の溶媒除去、及
び該樹脂と透明支持体との密着性を向上させるために、
オーブン、ヒーター等を用いて所定の温度に加熱処理を
行う。この後、該基板を放冷、又は種々の装置を用いて
冷却処理を行う。冷却後の支持体に対して、感光性樹脂
に応じた所定の照射量で所定波長域の電磁波、例えば紫
外線或いは所定エネルギーの電子線等を選択的に照射し
潜像を形成させる。その後、現像・リンス処理工程を経
て所望のパターンが形成される。これらの工程を色の異
なるレジストで繰り返し実施することで、カラーフィル
ターのパターンが形成される。
法、顔料分散法、染色法等の種々のプロセスが開発され
ている。しかし、工業的にはコスト的に顔料分散法が有
利であり、この方法によるプロセス開発がさかんに行わ
れている。顔料分散法においての一般的なカラーフィル
ターのパターン形成プロセスは、まず、透明支持体上に
スピン塗布・ロールコーター法等の種々の塗布機を用い
て顔料を分散させた感光性樹脂液を所定の膜厚に塗布す
る。次いで、塗布された感光性樹脂液中の溶媒除去、及
び該樹脂と透明支持体との密着性を向上させるために、
オーブン、ヒーター等を用いて所定の温度に加熱処理を
行う。この後、該基板を放冷、又は種々の装置を用いて
冷却処理を行う。冷却後の支持体に対して、感光性樹脂
に応じた所定の照射量で所定波長域の電磁波、例えば紫
外線或いは所定エネルギーの電子線等を選択的に照射し
潜像を形成させる。その後、現像・リンス処理工程を経
て所望のパターンが形成される。これらの工程を色の異
なるレジストで繰り返し実施することで、カラーフィル
ターのパターンが形成される。
【０００３】特に、塗布後の加熱処理工程は、表面平滑
性・パターン精度・感光性樹脂の感度という面で重要で
あり、種々の検討がなされている。加熱処理においては
レジストのダレ等の形状変化防止、あるいは表面平滑性
を保つために、若干低温で加熱した後に所定温度に加熱
するか、接触伝導加熱で段階的に加熱すると良いという
ことが知られている（特開昭６１−２０１４２６、特開
平２−２１４８６４）。また、パターン精度を向上させ
るためには、加熱処理後の冷却工程でスプレー冷却を行
う方法や乱流状態にした冷却ガスを吹き付けて急速冷却
することで冷却速度を制御し、均一冷却を行うのが良い
ということが知られている（特開昭６０−９１６３８、
特開昭６０−２６３４３１）。
性・パターン精度・感光性樹脂の感度という面で重要で
あり、種々の検討がなされている。加熱処理においては
レジストのダレ等の形状変化防止、あるいは表面平滑性
を保つために、若干低温で加熱した後に所定温度に加熱
するか、接触伝導加熱で段階的に加熱すると良いという
ことが知られている（特開昭６１−２０１４２６、特開
平２−２１４８６４）。また、パターン精度を向上させ
るためには、加熱処理後の冷却工程でスプレー冷却を行
う方法や乱流状態にした冷却ガスを吹き付けて急速冷却
することで冷却速度を制御し、均一冷却を行うのが良い
ということが知られている（特開昭６０−９１６３８、
特開昭６０−２６３４３１）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、カラー
フィルター用等の比較的大型なガラス基板等の場合、理
由は定かではないが加熱工程において、ヒーターでの接
触伝導加熱、又は非接触伝導加熱を実施すると、基板面
内でパターン精度に分布が出るという問題は解消してい
ない。冷却工程においても、ウェハ等の小型の支持体で
あれば均一冷却は容易であるが、カラーフィルター用の
大型ガラス基板においては、均一な冷却は非常に難しい
ものとなっている。
フィルター用等の比較的大型なガラス基板等の場合、理
由は定かではないが加熱工程において、ヒーターでの接
触伝導加熱、又は非接触伝導加熱を実施すると、基板面
内でパターン精度に分布が出るという問題は解消してい
ない。冷却工程においても、ウェハ等の小型の支持体で
あれば均一冷却は容易であるが、カラーフィルター用の
大型ガラス基板においては、均一な冷却は非常に難しい
ものとなっている。
【０００５】近年では液晶表示装置の大画面化に伴い、
更なる高精度化が望まれており、加熱・冷却工程の重要
性が増してきている。又、一方ではカラーフィルター用
ガラス基板においても大型化・薄型化されるようにな
り、上記のような問題点の解決が望まれるようになって
きている。本発明は、上記問題に着目してなされたもの
であり、大型支持体の均一な加熱と冷却の双方を達成す
る方法を提供することにより優れた精度のカラーフィル
ターを製造することを目的とする。
更なる高精度化が望まれており、加熱・冷却工程の重要
性が増してきている。又、一方ではカラーフィルター用
ガラス基板においても大型化・薄型化されるようにな
り、上記のような問題点の解決が望まれるようになって
きている。本発明は、上記問題に着目してなされたもの
であり、大型支持体の均一な加熱と冷却の双方を達成す
る方法を提供することにより優れた精度のカラーフィル
ターを製造することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】通常、ヒーターを用いた
基板の加熱法には接触伝導加熱法あるいは、非接触伝導
加熱法が用いられる。本発明者の検討に依れば、大型の
ガラス基板、特にその塗布面の表面積が１２００ｃｍ2
以上の表面積を有する基板では、加熱処理を実施する
と、いずれの加熱法でも基板面内のパターン精度が一定
しないという現象が起きる。この現象の解析を行った結
果、加熱処理工程の基板面上の温度分布、及び加熱処理
後の冷却工程における基板面上の温度分布とパターン精
度の分布に相関があることを見いだした。
基板の加熱法には接触伝導加熱法あるいは、非接触伝導
加熱法が用いられる。本発明者の検討に依れば、大型の
ガラス基板、特にその塗布面の表面積が１２００ｃｍ2
以上の表面積を有する基板では、加熱処理を実施する
と、いずれの加熱法でも基板面内のパターン精度が一定
しないという現象が起きる。この現象の解析を行った結
果、加熱処理工程の基板面上の温度分布、及び加熱処理
後の冷却工程における基板面上の温度分布とパターン精
度の分布に相関があることを見いだした。
【０００７】又、この基板上の温度分布を一定の条件に
保って加熱処理、冷却処理を実施するためには、加熱処
理前後に加熱処理よりも低温の予熱処理及び冷却処理よ
りも高い温度の予冷処理を実施することでこの問題が回
避できることを見いだし、本発明を達成した。すなわ
ち、本発明は、大型支持体上への感光性樹脂塗布後の加
熱処理及び冷却処理方法において、加熱処理を４０〜１
８０℃で実施し、且つ加熱処理よりも低い温度での予熱
処理を実施し、冷却処理前に冷却処理よりも高い温度で
の予冷処理を実施することを特徴とする。
保って加熱処理、冷却処理を実施するためには、加熱処
理前後に加熱処理よりも低温の予熱処理及び冷却処理よ
りも高い温度の予冷処理を実施することでこの問題が回
避できることを見いだし、本発明を達成した。すなわ
ち、本発明は、大型支持体上への感光性樹脂塗布後の加
熱処理及び冷却処理方法において、加熱処理を４０〜１
８０℃で実施し、且つ加熱処理よりも低い温度での予熱
処理を実施し、冷却処理前に冷却処理よりも高い温度で
の予冷処理を実施することを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明に使用される支持体は、塗
布面の表面積が１２００ｃｍ2 以上の大型透明支持体で
ある。その材質、形状、厚み等はカラーフィルターの製
造に使用されるものであれば、特に限定されるものでは
ないが、好ましくは、支持体の厚みは１ｍｍ以下がよ
い。支持体には、常法に従って顔料を分散させた感光性
樹脂が塗布される。本発明に使用される、顔料、樹脂あ
るいは加熱処理後使用される現像液等は一般にカラーフ
ィルター製造に使用されるものであれば特に限定される
ものではない。例えば、顔料としては、カーボンブラッ
ク、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２４，３
１，５３，８３，１３９；Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＯｒ
ａｎｇｅ ４３；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ
９，９７，１０５，１２２，１２３，１４９，１６８，
１７６，１７７，１８０，１９２，２１５；Ｃ．Ｉ．Ｐ
ｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ １４，２３，２９；Ｃ．
Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５，１５；３，２
２，２８，６０，６４；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒ
ｅｅｎ ７，１５，２５，３６；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎ
ｔ Ｂｒｏｗｎ ２８；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌ
ａｃｋ １，７などを単独又はこれらを任意の比率で混
合した有機顔料あるいは各種無機顔料等が挙げられる。
布面の表面積が１２００ｃｍ2 以上の大型透明支持体で
ある。その材質、形状、厚み等はカラーフィルターの製
造に使用されるものであれば、特に限定されるものでは
ないが、好ましくは、支持体の厚みは１ｍｍ以下がよ
い。支持体には、常法に従って顔料を分散させた感光性
樹脂が塗布される。本発明に使用される、顔料、樹脂あ
るいは加熱処理後使用される現像液等は一般にカラーフ
ィルター製造に使用されるものであれば特に限定される
ものではない。例えば、顔料としては、カーボンブラッ
ク、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２４，３
１，５３，８３，１３９；Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＯｒ
ａｎｇｅ ４３；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ
９，９７，１０５，１２２，１２３，１４９，１６８，
１７６，１７７，１８０，１９２，２１５；Ｃ．Ｉ．Ｐ
ｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ １４，２３，２９；Ｃ．
Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５，１５；３，２
２，２８，６０，６４；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒ
ｅｅｎ ７，１５，２５，３６；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎ
ｔ Ｂｒｏｗｎ ２８；Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌ
ａｃｋ １，７などを単独又はこれらを任意の比率で混
合した有機顔料あるいは各種無機顔料等が挙げられる。
【０００９】感光性樹脂としては、種々の樹脂を種々の
組み合わせで使用できるが、特に、アクリル系樹脂、分
散剤、光重合性モノマー、光重合開始剤を含有する組成
物が好適に使用される。アクリル系樹脂としては、アク
リル酸、メタクリル酸、各種アクリレートまたはメタク
リレート等の単独、または共重合体が挙げられる。光重
合性モノマーとしては２官能性、３官能性または多官能
性モノマーが使用される。光重合開始剤としては、例え
ばベンゾフェノン或いはその置換体、トリアジン誘導
体、置換チオキサントン等の光分解型、水素移動型開始
剤が例示される。
組み合わせで使用できるが、特に、アクリル系樹脂、分
散剤、光重合性モノマー、光重合開始剤を含有する組成
物が好適に使用される。アクリル系樹脂としては、アク
リル酸、メタクリル酸、各種アクリレートまたはメタク
リレート等の単独、または共重合体が挙げられる。光重
合性モノマーとしては２官能性、３官能性または多官能
性モノマーが使用される。光重合開始剤としては、例え
ばベンゾフェノン或いはその置換体、トリアジン誘導
体、置換チオキサントン等の光分解型、水素移動型開始
剤が例示される。
【００１０】現像液は、アルカリ剤と界面活性剤を含有
する。アルカリ剤としては、水酸化ナトリウム等の無機
アルカリ、アルキルアミン等の有機アルカリのいずれで
もよく、また、界面活性剤としては、カチオン系、アニ
オン系、ノニオン系の活性剤を組み合わせて使用され
る。好ましくはノニオン系活性剤である。顔料を分散さ
せた感光性樹脂の透明支持体への塗布も常法に従って行
われる。
する。アルカリ剤としては、水酸化ナトリウム等の無機
アルカリ、アルキルアミン等の有機アルカリのいずれで
もよく、また、界面活性剤としては、カチオン系、アニ
オン系、ノニオン系の活性剤を組み合わせて使用され
る。好ましくはノニオン系活性剤である。顔料を分散さ
せた感光性樹脂の透明支持体への塗布も常法に従って行
われる。
【００１１】本発明は、塗布後の支持体を順次、予熱、
加熱、予冷、冷却することに特徴を有する。予熱処理
は、支持体を後続する加熱処理より低い温度に、約３０
〜９０秒保持することにより行われる。なお、本明細書
における熱処理の温度は、特に断らない限り、加熱され
る支持体の到達温度を意味する。支持体を加熱する手段
は、一般に基板のベークに用いられる手段であればよ
く、通常、ヒーター、オーブン等による接触或いは非接
触伝導加熱が採用される。特に、支持体をヒーター上に
少なくとも６点で支持するようにして非接触伝導加熱法
により予熱処理すると、本発明の対象とする大型の支持
体においても温度ムラを回避して所望の温度で均一加熱
が可能である。支持点が余り多くなると非接触伝導加熱
の効果が奏されなくなる。好ましい支持方法としては、
例えば、６点支持（図１）、８点支持（図２）が示され
る。また、特に加熱処理温度が７０℃以上の高温の場合
には加熱処理工程で加熱される支持体の到達温度の４０
〜６５％の温度になるような範囲で予熱処理することが
望ましい。
加熱、予冷、冷却することに特徴を有する。予熱処理
は、支持体を後続する加熱処理より低い温度に、約３０
〜９０秒保持することにより行われる。なお、本明細書
における熱処理の温度は、特に断らない限り、加熱され
る支持体の到達温度を意味する。支持体を加熱する手段
は、一般に基板のベークに用いられる手段であればよ
く、通常、ヒーター、オーブン等による接触或いは非接
触伝導加熱が採用される。特に、支持体をヒーター上に
少なくとも６点で支持するようにして非接触伝導加熱法
により予熱処理すると、本発明の対象とする大型の支持
体においても温度ムラを回避して所望の温度で均一加熱
が可能である。支持点が余り多くなると非接触伝導加熱
の効果が奏されなくなる。好ましい支持方法としては、
例えば、６点支持（図１）、８点支持（図２）が示され
る。また、特に加熱処理温度が７０℃以上の高温の場合
には加熱処理工程で加熱される支持体の到達温度の４０
〜６５％の温度になるような範囲で予熱処理することが
望ましい。
【００１２】次いで支持体は加熱処理される。加熱処理
は、塗布される感光性樹脂の種類により特性が異なる
が、通常、４０〜１８０℃の範囲で６０〜２４０秒程度
行われる。この加熱工程は、接触伝導加熱法、非接触伝
導加熱法のどちらを選んでも良い。加熱後の冷却工程に
おいても、冷却処理よりも高い温度で約３０〜９０秒保
持する予冷処理が必要である。特に、加熱処理温度が７
０℃以上の高温の場合には加熱される支持体の到達温度
の４０〜６５％の温度になるような範囲での予冷処理を
実施することが好ましく、かかる処理により大型支持体
の均一な冷却が可能である。また、予冷処理後は室温と
同じ温度に制御されたプレート上での接触冷却を行うこ
とで、露光時の温度振れを無くしパターン精度を向上さ
せることができる。これらの工程を実施することによ
り、加熱処理における基板面上の温度分布が一定になる
理由は明らかではないが、接触伝導加熱の場合は基板面
が加熱される際の基板の上面と下面の膨張率の違い、非
接触伝導加熱の場合はガラス基板の撓みが原因の一つで
あると推定される。
は、塗布される感光性樹脂の種類により特性が異なる
が、通常、４０〜１８０℃の範囲で６０〜２４０秒程度
行われる。この加熱工程は、接触伝導加熱法、非接触伝
導加熱法のどちらを選んでも良い。加熱後の冷却工程に
おいても、冷却処理よりも高い温度で約３０〜９０秒保
持する予冷処理が必要である。特に、加熱処理温度が７
０℃以上の高温の場合には加熱される支持体の到達温度
の４０〜６５％の温度になるような範囲での予冷処理を
実施することが好ましく、かかる処理により大型支持体
の均一な冷却が可能である。また、予冷処理後は室温と
同じ温度に制御されたプレート上での接触冷却を行うこ
とで、露光時の温度振れを無くしパターン精度を向上さ
せることができる。これらの工程を実施することによ
り、加熱処理における基板面上の温度分布が一定になる
理由は明らかではないが、接触伝導加熱の場合は基板面
が加熱される際の基板の上面と下面の膨張率の違い、非
接触伝導加熱の場合はガラス基板の撓みが原因の一つで
あると推定される。
【００１３】〔実施例〕以下、本発明を実施例により具
体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り以
下の実施例に制約されるものではない。 実施例１ ３７０ｍｍ×４７０ｍｍ×０．７ｍｍｔの支持体上に酸
化処理されたカーボンブラックを分散させたアクリル系
樹脂を含む感光性組成物を１μｍの膜厚に塗布し、予熱
処理を図１に示す６点支持の非接触伝導加熱法で７０℃
で６０秒実施した。次いで、加熱処理を図３に示す端部
４点支持の非接触加熱法で１７０℃の温度になるように
実施した。その時の支持体の加熱６０秒後の表面温度を
図４に示すＡ〜Ｄの位置で測定した。加熱処理後、７０
℃設定の接触法で予冷処理を実施後、接触法で２３℃に
冷却した。その支持体を、線幅が２５μｍのパターンの
マスクを使用して所定の露光量で露光後、現像処理し、
上記、温度測定点でのパターン精度を評価した。結果を
表１に示した。
体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り以
下の実施例に制約されるものではない。 実施例１ ３７０ｍｍ×４７０ｍｍ×０．７ｍｍｔの支持体上に酸
化処理されたカーボンブラックを分散させたアクリル系
樹脂を含む感光性組成物を１μｍの膜厚に塗布し、予熱
処理を図１に示す６点支持の非接触伝導加熱法で７０℃
で６０秒実施した。次いで、加熱処理を図３に示す端部
４点支持の非接触加熱法で１７０℃の温度になるように
実施した。その時の支持体の加熱６０秒後の表面温度を
図４に示すＡ〜Ｄの位置で測定した。加熱処理後、７０
℃設定の接触法で予冷処理を実施後、接触法で２３℃に
冷却した。その支持体を、線幅が２５μｍのパターンの
マスクを使用して所定の露光量で露光後、現像処理し、
上記、温度測定点でのパターン精度を評価した。結果を
表１に示した。
【００１４】実施例２ ３７０ｍｍ×４７０ｍｍ×０．７ｍｍｔの支持体上に、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６を分散さ
せたアクリル系樹脂を含む感光性組成物を１μｍの膜厚
に塗布し、予熱処理を図１に示す６点支持の非接触伝導
加熱法で６５℃、６０秒実施後、加熱処理を１００℃の
非接触伝導加熱法で実施した。その時の支持体の加熱３
０秒後の表面温度を図４に示すＡ〜Ｄの位置で測定し
た。加熱処理後６５℃設定の接触法で予冷処理を実施
後、接触法で２３℃に冷却した。その支持体を、線幅が
２５μｍのパターンのマスクを使用して所定の露光量で
露光後、現像処理し、上記、温度測定点でのパターン精
度を評価した。結果を表１に示した。
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６を分散さ
せたアクリル系樹脂を含む感光性組成物を１μｍの膜厚
に塗布し、予熱処理を図１に示す６点支持の非接触伝導
加熱法で６５℃、６０秒実施後、加熱処理を１００℃の
非接触伝導加熱法で実施した。その時の支持体の加熱３
０秒後の表面温度を図４に示すＡ〜Ｄの位置で測定し
た。加熱処理後６５℃設定の接触法で予冷処理を実施
後、接触法で２３℃に冷却した。その支持体を、線幅が
２５μｍのパターンのマスクを使用して所定の露光量で
露光後、現像処理し、上記、温度測定点でのパターン精
度を評価した。結果を表１に示した。
【００１５】実施例３ 加熱処理を接触伝導加熱法にした以外は、実施例１と同
様の操作を実施した。結果を表１に示した。 実施例４ 加熱処理を接触伝導加熱法にした以外は、実施例２と同
様の操作を実施した。結果を表１に示した。
様の操作を実施した。結果を表１に示した。 実施例４ 加熱処理を接触伝導加熱法にした以外は、実施例２と同
様の操作を実施した。結果を表１に示した。
【００１６】実施例５ 予熱処理を端部４点支持の非接触加熱法で実施した以外
は、実施例１と同様の操作を実施した。結果を表１に示
した。 実施例６ 予熱処理温度を１２０℃にした以外は、実施例１と同様
の操作を実施した。結果を表１に示した。
は、実施例１と同様の操作を実施した。結果を表１に示
した。 実施例６ 予熱処理温度を１２０℃にした以外は、実施例１と同様
の操作を実施した。結果を表１に示した。
【００１７】実施例７ 予熱処理温度を４０℃にした以外は、実施例１と同様の
操作を実施した。結果を表１に示した。 比較例１ 加熱前の予熱処理を実施しなかった以外は、実施例１と
同様の操作を実施した。結果を表１に示した。
操作を実施した。結果を表１に示した。 比較例１ 加熱前の予熱処理を実施しなかった以外は、実施例１と
同様の操作を実施した。結果を表１に示した。
【００１８】比較例２ 予冷処理を行わなかった以外は、実施例１と同様の操作
を行った。結果を表１に示した。なお、温度分布の測定
及びパターン精度の評価は以下の方法で行った。 基板内温度分布判定法 加熱６０秒後、及び冷却６０秒後の温度測定の結果を、
下記判定法により判定した。 ◎ ： ３℃以内 ○ ： ３〜９℃ △ ： １０〜１９℃ × ： ２０℃以上
を行った。結果を表１に示した。なお、温度分布の測定
及びパターン精度の評価は以下の方法で行った。 基板内温度分布判定法 加熱６０秒後、及び冷却６０秒後の温度測定の結果を、
下記判定法により判定した。 ◎ ： ３℃以内 ○ ： ３〜９℃ △ ： １０〜１９℃ × ： ２０℃以上
【００１９】パターン精度評価法 ニコン（株）製光学顕微鏡ＸＤ−２０にＳａｎｋｅｉ
（株）製ＣＣＤカラーカメラＣＳ５７２ＢとＦｌｏｖｅ
ｌ（株）製Ｍｅａｓｕｒｅ Ｕｎｉｔ ＭＣ−５０を装
着し、図４の位置でパターンの線幅を測定して、その線
幅の差を評価した。 ◎ ： 線幅の差が０．５μｍ以内。 ○ ： 線幅の差が０．５〜１μｍ以内。 × ： 線幅の差が１μｍ以上。
（株）製ＣＣＤカラーカメラＣＳ５７２ＢとＦｌｏｖｅ
ｌ（株）製Ｍｅａｓｕｒｅ Ｕｎｉｔ ＭＣ−５０を装
着し、図４の位置でパターンの線幅を測定して、その線
幅の差を評価した。 ◎ ： 線幅の差が０．５μｍ以内。 ○ ： 線幅の差が０．５〜１μｍ以内。 × ： 線幅の差が１μｍ以上。
【００２０】
【表１】
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は次のよう
な効果を奏するものである。カラーフィルター用として
使用される塗布面の表面積１２００ｃｍ2 以上の大型の
ガラス基板の加熱処理、及び冷却処理においての基板面
内の温度分布を均一化でき、パターン精度の均一なカラ
ーフィルターを製造することが出来る。特に高精度を要
求される、黒色顔料を用いてブラックマトリックスを製
造する場合にも、本発明方法では均一なパターン形成が
可能である。
な効果を奏するものである。カラーフィルター用として
使用される塗布面の表面積１２００ｃｍ2 以上の大型の
ガラス基板の加熱処理、及び冷却処理においての基板面
内の温度分布を均一化でき、パターン精度の均一なカラ
ーフィルターを製造することが出来る。特に高精度を要
求される、黒色顔料を用いてブラックマトリックスを製
造する場合にも、本発明方法では均一なパターン形成が
可能である。
【図１】実施例で実施した、非接触伝導加熱法での基板
の６点支持の支持位置を示す。
の６点支持の支持位置を示す。
【図２】非接触伝導加熱法での基板の８点支持の支持位
置の例を示す。
置の例を示す。
【図３】実施例で実施した、非接触伝導加熱法での基板
の４点支持位置を示す。
の４点支持位置を示す。
【図４】実施例、比較例における加熱処理工程での基板
面上の温度測定点、及び現像後のパターン精度測定点を
示す。
面上の温度測定点、及び現像後のパターン精度測定点を
示す。
Claims (6)
- 【請求項１】 透明支持体上に、顔料を分散させた感光
性樹脂を塗布し加熱処理をした後、支持体を冷却し、露
光、現像処理を実施するフォトリソグラフィー法により
カラーフィルターを製造する方法において、塗布面の表
面積が１２００ｃｍ2 以上の支持体を用い、該加熱処理
温度が４０〜１８０℃の範囲であり、且つ加熱処理前に
加熱処理よりも低い温度での予熱処理を実施し、次いで
冷却処理前に該冷却処理よりも高い温度での予冷処理を
実施することを特徴とするカラーフィルターの製造方
法。 - 【請求項２】 加熱処理温度が７０〜１８０℃の範囲で
あり、予熱処理が該加熱処理による到達温度の４０〜６
５％の温度になるように支持体をヒーター非接触伝導加
熱することにより実施されることを特徴とする請求項１
記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項３】 透明支持体の厚さが１ｍｍ以下であるこ
とを特徴とする請求項１または２記載のカラーフィルタ
ーの製造方法。 - 【請求項４】 感光性樹脂が酸化処理されたカーボンブ
ラックを分散させたアクリル系樹脂を含む感光性組成物
であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項
に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項５】 予熱処理が、少なくとも６点支持による
非接触伝導加熱であることを特徴とする請求項１乃至３
のいずれか１項に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項６】 加熱処理後の支持体の温度を、室温と同
じ温度になるように冷却処理することを特徴とする請求
項１乃至５のいずれか１項に記載のカラーフィルターの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14008596A JPH09325205A (ja) | 1996-06-03 | 1996-06-03 | カラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14008596A JPH09325205A (ja) | 1996-06-03 | 1996-06-03 | カラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09325205A true JPH09325205A (ja) | 1997-12-16 |
Family
ID=15260618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14008596A Pending JPH09325205A (ja) | 1996-06-03 | 1996-06-03 | カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09325205A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6303624B1 (en) * | 1997-03-18 | 2001-10-16 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | Preventives and remedies for hyperphosphatemia |
-
1996
- 1996-06-03 JP JP14008596A patent/JPH09325205A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6303624B1 (en) * | 1997-03-18 | 2001-10-16 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | Preventives and remedies for hyperphosphatemia |
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