JPH09328312A - メソポア分子ふるいの合成方法 - Google Patents
メソポア分子ふるいの合成方法Info
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- JPH09328312A JPH09328312A JP16662296A JP16662296A JPH09328312A JP H09328312 A JPH09328312 A JP H09328312A JP 16662296 A JP16662296 A JP 16662296A JP 16662296 A JP16662296 A JP 16662296A JP H09328312 A JPH09328312 A JP H09328312A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 メソポア分子ふるいの新規な合成方法を提供
する。 【解決手段】 次の構造（１）で示されるジメチルアル
キルアミンオキサイドの存在下に金属酸化物および／ま
たはその前駆体と水性媒体との混合物から合成すること
を特徴とするメソポア分子ふるいの合成方法。 Ｒ（ＣＨ３）２Ｎ→Ｏ ・・・（１） 〔但し、Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基を示す。〕 【効果】 アルキルアミンオキサイドをテンプレートと
して用いることにより温和な条件でメソポア分子ふるい
を合成することができ、このテンプレートは比較的低い
温度の溶媒抽出で容易に除去できる等の利点も有してい
る。
する。 【解決手段】 次の構造（１）で示されるジメチルアル
キルアミンオキサイドの存在下に金属酸化物および／ま
たはその前駆体と水性媒体との混合物から合成すること
を特徴とするメソポア分子ふるいの合成方法。 Ｒ（ＣＨ３）２Ｎ→Ｏ ・・・（１） 〔但し、Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基を示す。〕 【効果】 アルキルアミンオキサイドをテンプレートと
して用いることにより温和な条件でメソポア分子ふるい
を合成することができ、このテンプレートは比較的低い
温度の溶媒抽出で容易に除去できる等の利点も有してい
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、メソポア分子ふる
いの新規な合成方法に関する。
いの新規な合成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】メソポア分子ふるい（メソポアモレキュ
ラシーブ）は、メソポア領域に均一な細孔径を有する無
機質多孔体として、触媒、吸着剤等幅広い用途が期待さ
れている新しい素材である。これらメソポアモレキュラ
シーブの合成法としては、米国特許第５０９８６８４号
明細書、同第５１０２６４３号明細書、同第５１０８７
２５号明細書、及び特表平５−５０３４９９号公報等に
は長鎖のアルキル基を有する４級アンモニウム塩、ある
いはフォスフォニウム塩をテンプレートとして用い水熱
合成により合成する方法が開示されている。また、特開
平４−２３８８１０号公報には層状シリカより長鎖のア
ルキルアンモニウムカチオンなどを用いたイオン交換法
により合成する方法が開示されている。
ラシーブ）は、メソポア領域に均一な細孔径を有する無
機質多孔体として、触媒、吸着剤等幅広い用途が期待さ
れている新しい素材である。これらメソポアモレキュラ
シーブの合成法としては、米国特許第５０９８６８４号
明細書、同第５１０２６４３号明細書、同第５１０８７
２５号明細書、及び特表平５−５０３４９９号公報等に
は長鎖のアルキル基を有する４級アンモニウム塩、ある
いはフォスフォニウム塩をテンプレートとして用い水熱
合成により合成する方法が開示されている。また、特開
平４−２３８８１０号公報には層状シリカより長鎖のア
ルキルアンモニウムカチオンなどを用いたイオン交換法
により合成する方法が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来、メソポアモレキ
ュラシーブの合成方法は、テンプレートとして４級アン
モニウム塩等の強いカチオン性の界面活性剤を用いアル
カリ性領域で行うものである。これらのテンプレートを
除去することによりメソポア分子ふるいを得るものであ
るが、テンプレートの除去には、空気中で酸化分解（燃
焼）する方法、または酸によるプロトン交換と溶剤によ
る抽出とを組み合わせた処理による方法のいずれかが必
須である。本発明の課題は、メソポア分子ふるい（メソ
ポアモレキュラシーブ）の新しい合成方法を提供するも
のである。
ュラシーブの合成方法は、テンプレートとして４級アン
モニウム塩等の強いカチオン性の界面活性剤を用いアル
カリ性領域で行うものである。これらのテンプレートを
除去することによりメソポア分子ふるいを得るものであ
るが、テンプレートの除去には、空気中で酸化分解（燃
焼）する方法、または酸によるプロトン交換と溶剤によ
る抽出とを組み合わせた処理による方法のいずれかが必
須である。本発明の課題は、メソポア分子ふるい（メソ
ポアモレキュラシーブ）の新しい合成方法を提供するも
のである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、下記の構造式（１）で示される、ジメチルアル
キルアミンオキサイドをテンプレートとして用いること
により温和な条件下でメソポア分子ふるいが合成できる
ことを見い出し、本発明の完成に到ったものである。即
ち、本発明は、下記の構造式（１）で示されるアルキル
アミンオキサイドの存在下に金属酸化物および／または
その前駆体と水性媒体とを混合し、該混合物から合成す
ることを特徴とするメソポア分子ふるいの合成方法、で
ある。 Ｒ（ＣＨ3 ）2 Ｎ→Ｏ ・・・（１） 〔但し、Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基を示す。〕 本発明に用いるジメチルアルキルアミンオキサイド（テ
ンプレート）はアルコール等の有機溶剤で容易に抽出で
きることも本発明の特徴である。
の結果、下記の構造式（１）で示される、ジメチルアル
キルアミンオキサイドをテンプレートとして用いること
により温和な条件下でメソポア分子ふるいが合成できる
ことを見い出し、本発明の完成に到ったものである。即
ち、本発明は、下記の構造式（１）で示されるアルキル
アミンオキサイドの存在下に金属酸化物および／または
その前駆体と水性媒体とを混合し、該混合物から合成す
ることを特徴とするメソポア分子ふるいの合成方法、で
ある。 Ｒ（ＣＨ3 ）2 Ｎ→Ｏ ・・・（１） 〔但し、Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基を示す。〕 本発明に用いるジメチルアルキルアミンオキサイド（テ
ンプレート）はアルコール等の有機溶剤で容易に抽出で
きることも本発明の特徴である。
【０００５】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
メソポア分子ふるいとは、メソポア領域中の１．５ない
し１０ｎｍに均一な細孔径を有する無機質多孔体であっ
て、シリカ、あるいは珪素と下記に挙げる金属との複合
酸化物組成を有する。前者はシリカメソポア分子ふるい
であり、後者はメタロシリケート分子ふるいである。
メソポア分子ふるいとは、メソポア領域中の１．５ない
し１０ｎｍに均一な細孔径を有する無機質多孔体であっ
て、シリカ、あるいは珪素と下記に挙げる金属との複合
酸化物組成を有する。前者はシリカメソポア分子ふるい
であり、後者はメタロシリケート分子ふるいである。
【０００６】上記の珪素と複合酸化物を形成する金属種
としては、２族のマグネシウム、カルシウム等のアルカ
リ土類金属元素、亜鉛、３族のホウ素、アルミニウム、
ガリウム、イットリウム、希土類元素、４族のチタン、
ジルコニウム、ゲルマニウム、錫、５族のリン、バナジ
ウム、６族のクロム、モリブデン、タングステン、７族
のマンガン、テルル、レニウム、８族の鉄、コバルト、
ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金等
の貴金属元素、等を挙げることができる。好ましい金属
酸化物としては、酸化ホウ素（ボリア）、酸化アルミニ
ウム（アルミナ）、酸化チタン（チタニア）、及びその
前駆体から選ばれた少なくとも一種とシリカとである。
これらの金属元素（Ｍ）と珪素の原子比（Ｓｉ／Ｍ）と
しては、通常１０以上が用いられる。
としては、２族のマグネシウム、カルシウム等のアルカ
リ土類金属元素、亜鉛、３族のホウ素、アルミニウム、
ガリウム、イットリウム、希土類元素、４族のチタン、
ジルコニウム、ゲルマニウム、錫、５族のリン、バナジ
ウム、６族のクロム、モリブデン、タングステン、７族
のマンガン、テルル、レニウム、８族の鉄、コバルト、
ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金等
の貴金属元素、等を挙げることができる。好ましい金属
酸化物としては、酸化ホウ素（ボリア）、酸化アルミニ
ウム（アルミナ）、酸化チタン（チタニア）、及びその
前駆体から選ばれた少なくとも一種とシリカとである。
これらの金属元素（Ｍ）と珪素の原子比（Ｓｉ／Ｍ）と
しては、通常１０以上が用いられる。
【０００７】本発明で用いるジメチルアルキルアミンオ
キサイドとしては、炭素数８〜２０の直鎖アルキル基を
有するものが好ましく、具体的には、Ｎ，Ｎ−ジメチル
オクチルアミンＮ−オキサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルノニ
ルアミンＮ−オキサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルデシルアミ
ンＮ−オキサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウンデシルアミン
Ｎ−オキサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルドデシルアミンＮ−
オキサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルトリデシルアミンＮ−オ
キサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルテトラデシルアミンＮ−オ
キサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルペンタデシルアミンＮ−オ
キサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキサデシルアミンＮ−オ
キサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルヘプタデシルアミンＮ−オ
キサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクタデシルアミンＮ−オ
キサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルノナデシルアミンＮ−オキ
サイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルエイコサミンＮ−オキサイド
等を挙げることができる。
キサイドとしては、炭素数８〜２０の直鎖アルキル基を
有するものが好ましく、具体的には、Ｎ，Ｎ−ジメチル
オクチルアミンＮ−オキサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルノニ
ルアミンＮ−オキサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルデシルアミ
ンＮ−オキサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウンデシルアミン
Ｎ−オキサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルドデシルアミンＮ−
オキサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルトリデシルアミンＮ−オ
キサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルテトラデシルアミンＮ−オ
キサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルペンタデシルアミンＮ−オ
キサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキサデシルアミンＮ−オ
キサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルヘプタデシルアミンＮ−オ
キサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクタデシルアミンＮ−オ
キサイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルノナデシルアミンＮ−オキ
サイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルエイコサミンＮ−オキサイド
等を挙げることができる。
【０００８】本発明の合成方法には、溶媒として水、ア
ルコール、ジオールの１種以上が通常用いられるが、水
を含む水性溶媒が好ましい。シリカ源としては、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ等のアルコキシ基を有するテ
トラアルコキシシラン、シリカパウダー、水ガラス、コ
ロイドシリカ等が用いられる。シリカ以外の金属酸化物
源としては、２族のマグネシウム、カルシウム等のアル
カリ土類金属元素、亜鉛、３族のホウ素、アルミニウ
ム、ガリウム、イットリウム、希土類元素、４族のチタ
ン、ジルコニウム、ゲルマニウム、錫、５族のリン、バ
ナジウム、６族のクロム、モリブデン、タングステン、
７族のマンガン、テルル、レニウム、８族の鉄、コバル
ト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白
金等の貴金属元素、等の金属酸化物、あるいは硝酸、硫
酸、塩酸等の金属塩、あるいはアルコキサイド等を通常
用いることができる。
ルコール、ジオールの１種以上が通常用いられるが、水
を含む水性溶媒が好ましい。シリカ源としては、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ等のアルコキシ基を有するテ
トラアルコキシシラン、シリカパウダー、水ガラス、コ
ロイドシリカ等が用いられる。シリカ以外の金属酸化物
源としては、２族のマグネシウム、カルシウム等のアル
カリ土類金属元素、亜鉛、３族のホウ素、アルミニウ
ム、ガリウム、イットリウム、希土類元素、４族のチタ
ン、ジルコニウム、ゲルマニウム、錫、５族のリン、バ
ナジウム、６族のクロム、モリブデン、タングステン、
７族のマンガン、テルル、レニウム、８族の鉄、コバル
ト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白
金等の貴金属元素、等の金属酸化物、あるいは硝酸、硫
酸、塩酸等の金属塩、あるいはアルコキサイド等を通常
用いることができる。
【０００９】更に、公知の方法と同様に細孔径を変化さ
せるために、有機助剤として、炭素数６〜２０の芳香族
炭化水素、炭素数５〜〜２０の脂環式炭化水素、炭素数
３〜１６の脂肪族炭化水素およびこれらのアミンならび
にハロゲン置換体、例えば、トリメチルベンゼン、トリ
エチルベンゼン等を加えることができる。これらの反応
に用いられるシリカ源、他の金属酸化物源、アルキルア
ミンＮ−オキサイド（テンプレート）、水性溶媒からな
る反応混合物の組成としては、ケイ素／他の金属酸化物
の金属原子比としては、５以上、好ましくは１０以上、
シリカ／テンプレートのモル比としては、１〜３０、好
ましくは１〜１０の範囲、溶媒／テンプレートのモル比
としては、１〜１０００、好ましくは５〜５００の範囲
が用いられる。
せるために、有機助剤として、炭素数６〜２０の芳香族
炭化水素、炭素数５〜〜２０の脂環式炭化水素、炭素数
３〜１６の脂肪族炭化水素およびこれらのアミンならび
にハロゲン置換体、例えば、トリメチルベンゼン、トリ
エチルベンゼン等を加えることができる。これらの反応
に用いられるシリカ源、他の金属酸化物源、アルキルア
ミンＮ−オキサイド（テンプレート）、水性溶媒からな
る反応混合物の組成としては、ケイ素／他の金属酸化物
の金属原子比としては、５以上、好ましくは１０以上、
シリカ／テンプレートのモル比としては、１〜３０、好
ましくは１〜１０の範囲、溶媒／テンプレートのモル比
としては、１〜１０００、好ましくは５〜５００の範囲
が用いられる。
【００１０】他の金属酸化物、テンプレート、水性媒体
などの、これら各々を２種以上使用するの場合には、平
均分子量で表した値を用いる。本発明の合成方法におけ
る合成条件は、反応温度としては室温（２０℃）から１
８０℃、好ましくは室温から１００℃の範囲、反応時間
としては５から１００時間、好ましくは１０〜５０時間
の範囲が用いられる。合成混合物組成のＰＨは５〜９の
範囲であって、中性近辺が好ましい。
などの、これら各々を２種以上使用するの場合には、平
均分子量で表した値を用いる。本発明の合成方法におけ
る合成条件は、反応温度としては室温（２０℃）から１
８０℃、好ましくは室温から１００℃の範囲、反応時間
としては５から１００時間、好ましくは１０〜５０時間
の範囲が用いられる。合成混合物組成のＰＨは５〜９の
範囲であって、中性近辺が好ましい。
【００１１】反応生成物は、通常濾過により濾別し、充
分に水洗後、乾燥し、次いで含有しているテンプレート
をアルコール等の有機溶媒により抽出除去するか、ある
いは空気中で仮焼除去する等の方法で除去することによ
り、メソポア分子ふるいを得ることができる。有機溶媒
により除去されたテンプレートは抽出溶媒を除くことで
再利用することができる。
分に水洗後、乾燥し、次いで含有しているテンプレート
をアルコール等の有機溶媒により抽出除去するか、ある
いは空気中で仮焼除去する等の方法で除去することによ
り、メソポア分子ふるいを得ることができる。有機溶媒
により除去されたテンプレートは抽出溶媒を除くことで
再利用することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下に実施例を挙げて本発明を具
体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定され
るものではない。実施例において、Ｘ線回折パターンは
理学電気製ＲＡＤＩＩＩ型を用いて測定した。細孔分
布、及び比表面積の測定にはカルロエルバ製ソープトマ
チック１８００型装置を用い、窒素を用いたＢＥＴ法に
より測定した。
体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定され
るものではない。実施例において、Ｘ線回折パターンは
理学電気製ＲＡＤＩＩＩ型を用いて測定した。細孔分
布、及び比表面積の測定にはカルロエルバ製ソープトマ
チック１８００型装置を用い、窒素を用いたＢＥＴ法に
より測定した。
【００１３】（実施例１） シリカメソポア分子ふるいの合成 ３００ｍｌのビーカーを用い、蒸留水５０ｇにＮ，Ｎ−
ジメチルドデシルアミンＮ−オキサイド４ｇを添加し溶
解させ、ついで撹拌下にテトラエチルオルトシリケート
２０ｇを添加した。この反応混合物のＰＨは７．３であ
った。この混合物を室温下で攪拌しながら４０時間反応
させた。ついで反応物を濾過し、水洗後１１０℃で５時
間乾燥し、白色粉末状生成物２．５ｇを得た。
ジメチルドデシルアミンＮ−オキサイド４ｇを添加し溶
解させ、ついで撹拌下にテトラエチルオルトシリケート
２０ｇを添加した。この反応混合物のＰＨは７．３であ
った。この混合物を室温下で攪拌しながら４０時間反応
させた。ついで反応物を濾過し、水洗後１１０℃で５時
間乾燥し、白色粉末状生成物２．５ｇを得た。
【００１４】この乾燥粉末２ｇを３００ｍｌのエタノー
ルに分散させ、５０〜６０℃下で１時間抽出処理し、濾
過した。この操作を３回繰り返した。ついで１００℃で
３時間乾燥し、白色粉末１．２ｇを得た。この試料の比
表面積は１０００ｍ2 ／ｇを示し、平均細孔径は３．８
ｎｍであった。抽出液のエタノールをエバポレータを用
い蒸発除去したところ乾燥粉末に含まれていたテンプレ
ートのジメチルドデシルアミンＮ−オキサイドの０．７
ｇが回収された。尚、反応物を濾過した濾液中にはジメ
チルドデシルアミンＮ−オキサイド３ｇが含まれてい
た。
ルに分散させ、５０〜６０℃下で１時間抽出処理し、濾
過した。この操作を３回繰り返した。ついで１００℃で
３時間乾燥し、白色粉末１．２ｇを得た。この試料の比
表面積は１０００ｍ2 ／ｇを示し、平均細孔径は３．８
ｎｍであった。抽出液のエタノールをエバポレータを用
い蒸発除去したところ乾燥粉末に含まれていたテンプレ
ートのジメチルドデシルアミンＮ−オキサイドの０．７
ｇが回収された。尚、反応物を濾過した濾液中にはジメ
チルドデシルアミンＮ−オキサイド３ｇが含まれてい
た。
【００１５】（実施例２）実施例１と同様の処方で調製
した反応混合物を室温下攪拌しながら４０時間反応させ
た。ついで反応物を濾過し、水洗した後、１１０℃で５
時間乾燥し、白色粉末状生成物を得た。得られた乾燥生
成物を空気中で３００℃で２時間、次いで５５０℃で３
時間仮焼し、白色粉末状のシリカメソポア体１．４ｇを
得た。この試料の粉末Ｘ線回折パターンはｄ値、４６．
５オングストロームに強いピークが見られた。ＢＥＴ法
による比表面積、細孔分布の測定結果は、比表面積が９
００ｍ2 ／ｇであり、平均細孔径が３．８ｎｍであっ
た。
した反応混合物を室温下攪拌しながら４０時間反応させ
た。ついで反応物を濾過し、水洗した後、１１０℃で５
時間乾燥し、白色粉末状生成物を得た。得られた乾燥生
成物を空気中で３００℃で２時間、次いで５５０℃で３
時間仮焼し、白色粉末状のシリカメソポア体１．４ｇを
得た。この試料の粉末Ｘ線回折パターンはｄ値、４６．
５オングストロームに強いピークが見られた。ＢＥＴ法
による比表面積、細孔分布の測定結果は、比表面積が９
００ｍ2 ／ｇであり、平均細孔径が３．８ｎｍであっ
た。
【００１６】（実施例３）テンプレートとしてＮ，Ｎ−
ジメチルドデシルアミンＮ−オキサイドに替えてＮ ，
Ｎ−ジメチルノニルＮ−オキサイド３ｇ用い、テトラエ
チルオルトシリケートを１０ｇを用いた以外は実施例１
と同様にして合成し、乾燥白色粉末を得た。この粉末を
空気中、３００℃で２時間、次いで５５０℃で３時間仮
焼することにより１．６ｇの白色粉末状のメソポア分子
ふるいを得た。焼成試料の粉末Ｘ線回折パターンはｄ
値、３５．８オングストロームに強いピークを示した。
ＢＥＴ法による比表面積、細孔分布の測定結果は、比表
面積が１０００ｍ2 ／ｇであり、平均細孔径が２．４ｎ
ｍであった。
ジメチルドデシルアミンＮ−オキサイドに替えてＮ ，
Ｎ−ジメチルノニルＮ−オキサイド３ｇ用い、テトラエ
チルオルトシリケートを１０ｇを用いた以外は実施例１
と同様にして合成し、乾燥白色粉末を得た。この粉末を
空気中、３００℃で２時間、次いで５５０℃で３時間仮
焼することにより１．６ｇの白色粉末状のメソポア分子
ふるいを得た。焼成試料の粉末Ｘ線回折パターンはｄ
値、３５．８オングストロームに強いピークを示した。
ＢＥＴ法による比表面積、細孔分布の測定結果は、比表
面積が１０００ｍ2 ／ｇであり、平均細孔径が２．４ｎ
ｍであった。
【００１７】（実施例４）テンプレートとしてＮ，Ｎ−
ジメチルドデシルアミンＮ−オキサイドに替えてＮ，Ｎ
−ジメチルデシルアミンＮ−オキサイドを３ｇを用いた
以外は実施例１と同様にして実施した。得られた粉末状
生成物を実施例２と同様に仮焼処理して、白色粉末２．
３ｇを得た。乾燥後の試料の粉末Ｘ線回折パターンはｄ
値 ４４．４オングストロームに強いピークを示した。
焼成後の試料の粉末Ｘ線回折パターンはｄ値、４３．１
オングストロームに強いピークを示した。ＢＥＴ法によ
る比表面積、及び細孔分布の測定結果は、比表面積が１
１００ｍ2 ／ｇであり、平均細孔径が３．２ｎｍであっ
た。
ジメチルドデシルアミンＮ−オキサイドに替えてＮ，Ｎ
−ジメチルデシルアミンＮ−オキサイドを３ｇを用いた
以外は実施例１と同様にして実施した。得られた粉末状
生成物を実施例２と同様に仮焼処理して、白色粉末２．
３ｇを得た。乾燥後の試料の粉末Ｘ線回折パターンはｄ
値 ４４．４オングストロームに強いピークを示した。
焼成後の試料の粉末Ｘ線回折パターンはｄ値、４３．１
オングストロームに強いピークを示した。ＢＥＴ法によ
る比表面積、及び細孔分布の測定結果は、比表面積が１
１００ｍ2 ／ｇであり、平均細孔径が３．２ｎｍであっ
た。
【００１８】（実施例５）実施例４と同様にして合成
し、得られた乾燥粉末状生成物２ｇを２００ｍｌのエタ
ノールに分散させ、５０〜６０℃下で１時間抽出処理
し、濾過した。この操作を３回繰り返した。ついで、１
００℃で３時間乾燥し、白色粉末１．３ｇを得た。抽出
処理した後、乾燥した試料の粉末Ｘ線回折パターンはｄ
値 ４４．０オングストロームに強いピークを示した。
ＢＥＴ法による比表面積、及び細孔分布の測定結果は、
比表面積が１１５０ｍ2 ／ｇであり、平均細孔径が３．
２ｎｍであった。
し、得られた乾燥粉末状生成物２ｇを２００ｍｌのエタ
ノールに分散させ、５０〜６０℃下で１時間抽出処理
し、濾過した。この操作を３回繰り返した。ついで、１
００℃で３時間乾燥し、白色粉末１．３ｇを得た。抽出
処理した後、乾燥した試料の粉末Ｘ線回折パターンはｄ
値 ４４．０オングストロームに強いピークを示した。
ＢＥＴ法による比表面積、及び細孔分布の測定結果は、
比表面積が１１５０ｍ2 ／ｇであり、平均細孔径が３．
２ｎｍであった。
【００１９】（実施例６）実施例１と同様にして、但
し、テンプレートとしてＮ，Ｎ−ジメチルドデシルアミ
ンＮ−オキサイドに替えてＮ，Ｎ−ジメチルウンデシル
アミンＮ−オキサイドを４ｇを用いて実施した。実施例
２と同様に焼成後白色粉末３ｇを得た。粉末Ｘ線回折パ
ターンはｄ値、４５．７オングストロームに強いピーク
を示した。ＢＥＴ法による比表面積、及び細孔分布の測
定結果は、比表面積が９１０ｍ2／ｇであり、平均細孔
径が３．８ｎｍであった。
し、テンプレートとしてＮ，Ｎ−ジメチルドデシルアミ
ンＮ−オキサイドに替えてＮ，Ｎ−ジメチルウンデシル
アミンＮ−オキサイドを４ｇを用いて実施した。実施例
２と同様に焼成後白色粉末３ｇを得た。粉末Ｘ線回折パ
ターンはｄ値、４５．７オングストロームに強いピーク
を示した。ＢＥＴ法による比表面積、及び細孔分布の測
定結果は、比表面積が９１０ｍ2／ｇであり、平均細孔
径が３．８ｎｍであった。
【００２０】（実施例７）実施例１と同様にして、但
し、テンプレートとしてＮ，Ｎ−ジメチルドデシルアミ
ンＮ−オキサイドに替えてＮ，Ｎ−ジメチルテトラデシ
ルアミンＮ−オキサイドを２ｇ，テトラエチルオルトシ
リケート１０ｇを用いて実施した。実施例２と同様に焼
成後白色粉末状生成物１．１ｇを得た。焼成試料の粉末
Ｘ線回折パターンはｄ値４６オングストロームに強いピ
ークが認められた。ＢＥＴ法による比表面積、及び細孔
分布の測定結果は、比表面積が１０００ｍ2 ／ｇであ
り、平均細孔径が４．０ｎｍであった。
し、テンプレートとしてＮ，Ｎ−ジメチルドデシルアミ
ンＮ−オキサイドに替えてＮ，Ｎ−ジメチルテトラデシ
ルアミンＮ−オキサイドを２ｇ，テトラエチルオルトシ
リケート１０ｇを用いて実施した。実施例２と同様に焼
成後白色粉末状生成物１．１ｇを得た。焼成試料の粉末
Ｘ線回折パターンはｄ値４６オングストロームに強いピ
ークが認められた。ＢＥＴ法による比表面積、及び細孔
分布の測定結果は、比表面積が１０００ｍ2 ／ｇであ
り、平均細孔径が４．０ｎｍであった。
【００２１】（実施例８）実施例１と同様にして、但し
テンプレートとしてＮ，Ｎ−ジメチルドデシルアミンＮ
−オキサイドに替えてＮ，Ｎ−ジメチルオクタデシルア
ミンＮ−オキサイド３０％水溶液を６ｇ、テトラエチル
オルトシリケート１０ｇを用いて反応温度４０℃で５０
時間で実施した。実施例２と同様に焼成後白色粉末状生
成物１．２ｇを得た。焼成試料の粉末Ｘ線回折パターン
は明確なピークは認められなかった、ｄ値が大きいため
低角散乱のベースラインに隠れたものと考えられる。Ｂ
ＥＴ法による比表面積、及び細孔分布の測定結果は、比
表面積が７２０ｍ2／ｇであり、平均細孔径が４．２ｎ
ｍであった。
テンプレートとしてＮ，Ｎ−ジメチルドデシルアミンＮ
−オキサイドに替えてＮ，Ｎ−ジメチルオクタデシルア
ミンＮ−オキサイド３０％水溶液を６ｇ、テトラエチル
オルトシリケート１０ｇを用いて反応温度４０℃で５０
時間で実施した。実施例２と同様に焼成後白色粉末状生
成物１．２ｇを得た。焼成試料の粉末Ｘ線回折パターン
は明確なピークは認められなかった、ｄ値が大きいため
低角散乱のベースラインに隠れたものと考えられる。Ｂ
ＥＴ法による比表面積、及び細孔分布の測定結果は、比
表面積が７２０ｍ2／ｇであり、平均細孔径が４．２ｎ
ｍであった。
【００２２】（実施例９） シリカ・アルミナメソポア分子ふるいの合成 実施例１と同様にして、但し、蒸留水２００ｇにジメチ
ルドデシルアミンＮ−オキサイド水溶液（ライオン油脂
製アロモックスＤＭ１２Ｄ−Ｗ；固形分３３〜３５％）
２４ｇおよびテトラエチルオルトシリケート４０ｇに加
えてアルミニウムイソポロポキサイド１．３ｇを微粉化
して（シリカ／アルミナ比６０）添加し合成した。実施
例１同様に処理し、次いで実施例２と同様にして焼成粉
末２．５ｇを得た。蛍光Ｘ線分光分析法によるシリカ／
アルミナ比は７０であった。ＢＥＴ法による比表面積測
定の結果、比表面積は７００ｍ2 ／ｇであった。
ルドデシルアミンＮ−オキサイド水溶液（ライオン油脂
製アロモックスＤＭ１２Ｄ−Ｗ；固形分３３〜３５％）
２４ｇおよびテトラエチルオルトシリケート４０ｇに加
えてアルミニウムイソポロポキサイド１．３ｇを微粉化
して（シリカ／アルミナ比６０）添加し合成した。実施
例１同様に処理し、次いで実施例２と同様にして焼成粉
末２．５ｇを得た。蛍光Ｘ線分光分析法によるシリカ／
アルミナ比は７０であった。ＢＥＴ法による比表面積測
定の結果、比表面積は７００ｍ2 ／ｇであった。
【００２３】（実施例１０）テトラエチルオルトシリケ
ートに加えてテトラエチルチタネート０．３６ｇ（ケイ
素／チタン比６０）を添加し、実施例１同様にして、メ
ソポア分子ふるいを合成した。この分子ふるいの蛍光Ｘ
線分光分析法によるケイ素／チタン原子比は６２であっ
た。ＢＥＴ法による比表面積、及び細孔分布の測定結果
は、比表面積が１０２０ｍ2 ／ｇであり、平均細孔径が
３．７ｎｍであった。
ートに加えてテトラエチルチタネート０．３６ｇ（ケイ
素／チタン比６０）を添加し、実施例１同様にして、メ
ソポア分子ふるいを合成した。この分子ふるいの蛍光Ｘ
線分光分析法によるケイ素／チタン原子比は６２であっ
た。ＢＥＴ法による比表面積、及び細孔分布の測定結果
は、比表面積が１０２０ｍ2 ／ｇであり、平均細孔径が
３．７ｎｍであった。
【００２４】
【発明の効果】本発明は、メソポア分子ふるいの新規な
合成方法を提供するものであり、本発明の方法によれ
ば、室温、中性条件等の温和な条件でメソポア分子ふる
いが合成できる。また反応固体生成物に含有されている
テンプレートは、抽出等の方法では高温焼成することな
しに容易に除くことができる等の利点も有している。
合成方法を提供するものであり、本発明の方法によれ
ば、室温、中性条件等の温和な条件でメソポア分子ふる
いが合成できる。また反応固体生成物に含有されている
テンプレートは、抽出等の方法では高温焼成することな
しに容易に除くことができる等の利点も有している。
【図１】実施例１で合成したメソポア分子ふるいの細孔
分布を測定した細孔分布図である。
分布を測定した細孔分布図である。
【図２】実施例３で合成したメソポア分子ふるいの細孔
分布を測定した細孔分布図である。
分布を測定した細孔分布図である。
【図３】実施例６で合成したメソポア分子ふるいの細孔
分布を測定した細孔分布図である。
分布を測定した細孔分布図である。
【図４】実施例１で合成したメソポア分子ふるいの粉末
Ｘ線回折を測定した粉末Ｘ線回折チュートである。
Ｘ線回折を測定した粉末Ｘ線回折チュートである。
【図５】実施例３で合成したメソポア分子ふるいの粉末
Ｘ線回折を測定した粉末Ｘ線回折チュートである。
Ｘ線回折を測定した粉末Ｘ線回折チュートである。
【図６】実施例４で合成したメソポア分子ふるいの粉末
Ｘ線回折を測定した粉末Ｘ線回折チュートである。
Ｘ線回折を測定した粉末Ｘ線回折チュートである。
Claims (1)
- 【請求項１】 下記の構造式（１）で示されるジメチル
アルキルアミンオキサイドの存在下に金属酸化物および
／またはその前駆体と水性媒体との混合物から合成する
ことを特徴とするメソポア分子ふるいの合成方法。 Ｒ（ＣＨ3 ）2 Ｎ→Ｏ ・・・（１） 〔但し、Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基を示す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16662296A JPH09328312A (ja) | 1996-06-07 | 1996-06-07 | メソポア分子ふるいの合成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16662296A JPH09328312A (ja) | 1996-06-07 | 1996-06-07 | メソポア分子ふるいの合成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09328312A true JPH09328312A (ja) | 1997-12-22 |
Family
ID=15834713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16662296A Withdrawn JPH09328312A (ja) | 1996-06-07 | 1996-06-07 | メソポア分子ふるいの合成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09328312A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999026881A1 (fr) * | 1997-11-21 | 1999-06-03 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Silice mesoporeuse, son procede de preparation et son utilisation |
-
1996
- 1996-06-07 JP JP16662296A patent/JPH09328312A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999026881A1 (fr) * | 1997-11-21 | 1999-06-03 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Silice mesoporeuse, son procede de preparation et son utilisation |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030902 |