JPH09328537A - Ｌ−アスコルビン酸セグメント含有ポリマー及びその製造方法 - Google Patents
Ｌ−アスコルビン酸セグメント含有ポリマー及びその製造方法Info
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- JPH09328537A JPH09328537A JP8168640A JP16864096A JPH09328537A JP H09328537 A JPH09328537 A JP H09328537A JP 8168640 A JP8168640 A JP 8168640A JP 16864096 A JP16864096 A JP 16864096A JP H09328537 A JPH09328537 A JP H09328537A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 酵素や酸クロライドを利用することなく、簡
便な手法により主鎖にＬ−アスコルビン酸ユニットが導
入された高分子を提供できるようにする。 【解決手段】 Ｌ−アスコルビン酸セグメント含有ポリ
マーは、式（１） 【化１】 （式中、ｎは重合度を示す数であり、Ｒは二塩基酸ジハ
ライド化合物残基又はジイソシアネート系化合物残基で
ある。）で表される構造を有する。
便な手法により主鎖にＬ−アスコルビン酸ユニットが導
入された高分子を提供できるようにする。 【解決手段】 Ｌ−アスコルビン酸セグメント含有ポリ
マーは、式（１） 【化１】 （式中、ｎは重合度を示す数であり、Ｒは二塩基酸ジハ
ライド化合物残基又はジイソシアネート系化合物残基で
ある。）で表される構造を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、酸素還元性高分子
及びその製造方法に関する。
及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来よりＬ−アスコルビン酸は、酸素を
還元するその性質を利用して、酸化防止剤の主成分とし
て、あるいは脱酸素材料の主成分として使用されてい
る。
還元するその性質を利用して、酸化防止剤の主成分とし
て、あるいは脱酸素材料の主成分として使用されてい
る。
【０００３】ところで、Ｌ−アスコルビン酸は、非常に
高い水溶性を有し、しかも酸化に対する安定性が著しく
低いために取扱性が劣るという問題があった。
高い水溶性を有し、しかも酸化に対する安定性が著しく
低いために取扱性が劣るという問題があった。
【０００４】このため、Ｌ−アスコルビン酸をエチレン
−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）に練り込んだ酸素吸収
性ポリマー材料を脱酸素材料として使用することが試み
られたが、酸素吸収能の点で十分でなく、また、Ｌ−ア
スコルビン酸が高分子鎖に結合していないので耐水性や
耐溶媒性が不十分であるという問題があった。また、練
り込み時の加熱によりＬ−アスコルビン酸が分解するこ
とが懸念される。
−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）に練り込んだ酸素吸収
性ポリマー材料を脱酸素材料として使用することが試み
られたが、酸素吸収能の点で十分でなく、また、Ｌ−ア
スコルビン酸が高分子鎖に結合していないので耐水性や
耐溶媒性が不十分であるという問題があった。また、練
り込み時の加熱によりＬ−アスコルビン酸が分解するこ
とが懸念される。
【０００５】そこで、Ｌ−アスコルビン酸の耐水性や酸
化安定性を改善する目的で、高分子鎖にＬ−アスコルビ
ン酸セグメントを導入することが試みられている。この
ようなＬ−アスコルビン酸セグメントが導入された酸素
還元性高分子を製造するために必要なモノマーとして
は、Ｌ−アスコルビン酸の６位の水酸基に重合性の官能
基が導入されたＬ−アスコルビン酸メタクリル酸エステ
ルモノマーを挙げることができ、これらは（ａ）メタク
リル酸エノールエステルとＬ−アスコルビン酸とをリパ
ーゼの存在下で反応させる方法、（ｂ）メタクリル酸ク
ロライドとＬ−アスコルビン酸とを塩基性化合物の存在
下で反応させる方法、（ｃ）メタクリル酸無水物とＬ−
アスコルビン酸とを塩基性縮合剤の存在下で反応させる
方法により製造することが提案されている（特開平５−
３３１１５７号公報）。
化安定性を改善する目的で、高分子鎖にＬ−アスコルビ
ン酸セグメントを導入することが試みられている。この
ようなＬ−アスコルビン酸セグメントが導入された酸素
還元性高分子を製造するために必要なモノマーとして
は、Ｌ−アスコルビン酸の６位の水酸基に重合性の官能
基が導入されたＬ−アスコルビン酸メタクリル酸エステ
ルモノマーを挙げることができ、これらは（ａ）メタク
リル酸エノールエステルとＬ−アスコルビン酸とをリパ
ーゼの存在下で反応させる方法、（ｂ）メタクリル酸ク
ロライドとＬ−アスコルビン酸とを塩基性化合物の存在
下で反応させる方法、（ｃ）メタクリル酸無水物とＬ−
アスコルビン酸とを塩基性縮合剤の存在下で反応させる
方法により製造することが提案されている（特開平５−
３３１１５７号公報）。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
方法（ａ）の場合、酵素反応を利用しているために大量
生産が困難であり、方法（ｂ）の場合、原料として使用
する酸クロライドの皮膚や粘膜に対する刺激性が高く、
しかも加水分解しやすく取扱性が低く、また、方法
（ｃ）の場合、反応系内の酸素の影響のために高い再現
性でアスコルビン酸メタクリル酸エステルモノマーを製
造することが困難である。そのために、従来より、簡便
な手法により、高分子鎖にＬ−アスコルビン酸ユニット
を導入することが求められていた。
方法（ａ）の場合、酵素反応を利用しているために大量
生産が困難であり、方法（ｂ）の場合、原料として使用
する酸クロライドの皮膚や粘膜に対する刺激性が高く、
しかも加水分解しやすく取扱性が低く、また、方法
（ｃ）の場合、反応系内の酸素の影響のために高い再現
性でアスコルビン酸メタクリル酸エステルモノマーを製
造することが困難である。そのために、従来より、簡便
な手法により、高分子鎖にＬ−アスコルビン酸ユニット
を導入することが求められていた。
【０００７】本発明は、以上の従来技術の問題を解決し
ようとするものであり、酵素や酸クロライドを利用する
ことなく、簡便な手法により主鎖にＬ−アスコルビン酸
ユニットが導入された高分子を提供できるようにするこ
とを目的とする。
ようとするものであり、酵素や酸クロライドを利用する
ことなく、簡便な手法により主鎖にＬ−アスコルビン酸
ユニットが導入された高分子を提供できるようにするこ
とを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述の目的は、以下の本
発明により解決される。
発明により解決される。
【０００９】即ち、本発明は、式（１）
【００１０】
【化４】 （式中、ｎは重合度を示す数であり、Ｒは二塩基酸ジハ
ライド化合物残基又はジイソシアネート系化合物残基で
ある。）で表されるＬ−アスコルビン酸セグメント含有
ポリマーを提供する。
ライド化合物残基又はジイソシアネート系化合物残基で
ある。）で表されるＬ−アスコルビン酸セグメント含有
ポリマーを提供する。
【００１１】また、本発明は、式（１）のＲが二塩基酸
ジハライド化合物残基であるＬ−アスコルビン酸セグメ
ント含有ポリマーの製造方法において、ハロゲン化水素
捕捉剤の存在下で、Ｌ−アスコルビン酸に二塩基酸ジハ
ライド化合物を作用させることを特徴とする製造方法を
提供する。
ジハライド化合物残基であるＬ−アスコルビン酸セグメ
ント含有ポリマーの製造方法において、ハロゲン化水素
捕捉剤の存在下で、Ｌ−アスコルビン酸に二塩基酸ジハ
ライド化合物を作用させることを特徴とする製造方法を
提供する。
【００１２】また、本発明は、式（１）のＲがジイソシ
アネート系化合物残基であるＬ−アスコルビン酸セグメ
ント含有ポリマーの製造方法において、スズ系触媒の存
在下で、Ｌ−アスコルビン酸にジイソシアネート系化合
物を作用させることを特徴とする製造方法を提供する。
アネート系化合物残基であるＬ−アスコルビン酸セグメ
ント含有ポリマーの製造方法において、スズ系触媒の存
在下で、Ｌ−アスコルビン酸にジイソシアネート系化合
物を作用させることを特徴とする製造方法を提供する。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【００１４】本発明の式（１）のＬ−アスコルビン酸セ
グメント含有ポリマーは、その主鎖の一部がＬ−アスコ
ルビン酸で構成されている。しかも、酸素の還元に大き
く寄与すると考えられているＬ−アスコルビン酸セグメ
ントの３位の水酸基はそのまま保持されている。従っ
て、このＬ−アスコルビン酸セグメント含有ポリマーは
酸素還元性高分子となる。
グメント含有ポリマーは、その主鎖の一部がＬ−アスコ
ルビン酸で構成されている。しかも、酸素の還元に大き
く寄与すると考えられているＬ−アスコルビン酸セグメ
ントの３位の水酸基はそのまま保持されている。従っ
て、このＬ−アスコルビン酸セグメント含有ポリマーは
酸素還元性高分子となる。
【００１５】なお、式（１）において、ｎは重合度を示
す数であり、Ｒは公知の二塩基酸ジハライド化合物残基
又はジイソシアネート系化合物残基である。
す数であり、Ｒは公知の二塩基酸ジハライド化合物残基
又はジイソシアネート系化合物残基である。
【００１６】Ｒの二塩基酸ジハライド化合物残基として
は、式（２）又は（３）
は、式（２）又は（３）
【００１７】
【化５】 で表される二価結合基を好ましく挙げることができる。
ここで、式（２）の結合基は、セバコイルジクロリドか
ら誘導できる。また、式（３）の結合基は、テレフタロ
イルジクロリドから誘導できる。
ここで、式（２）の結合基は、セバコイルジクロリドか
ら誘導できる。また、式（３）の結合基は、テレフタロ
イルジクロリドから誘導できる。
【００１８】また、Ｒのジイソシアネート系化合物残基
としては、式（４）又は（５）
としては、式（４）又は（５）
【００１９】
【化６】 で表される二価結合基を好ましく挙げることができる。
ここで、式（４）のジイソシアネート系化合物残基は、
イソホロンジイソシアネートから誘導できる。また、式
（５）の結合基は、１，４−フェニレンジイソシアネー
トから誘導できる。
ここで、式（４）のジイソシアネート系化合物残基は、
イソホロンジイソシアネートから誘導できる。また、式
（５）の結合基は、１，４−フェニレンジイソシアネー
トから誘導できる。
【００２０】式（１）において、Ｒが二塩基酸ジハライ
ド化合物残基であるＬ−アスコルビン酸セグメント含有
ポリマーは、次のように製造することができる。
ド化合物残基であるＬ−アスコルビン酸セグメント含有
ポリマーは、次のように製造することができる。
【００２１】まず、Ｌ−アスコルビン酸０．１モルに対
して、ピリジン、イミダゾールなどのハロゲン化水素捕
捉剤０．１〜２．０モル当量の存在下、必要に応じてア
セトン、ジメチルホルムアミドなどのプロトン性溶媒中
に５〜３０℃で溶解させる。次いで、その溶液に、窒素
雰囲気下、０〜５℃で二塩基酸ジハライド化合物（例え
ば、セバコイルジクロリド、テレフタロイルジクロリド
等）０．０１〜０．２重量部を滴下し、同じ温度で０．
５〜２．０時間反応させ、更に必要に応じて室温程度で
１〜６時間反応させる。
して、ピリジン、イミダゾールなどのハロゲン化水素捕
捉剤０．１〜２．０モル当量の存在下、必要に応じてア
セトン、ジメチルホルムアミドなどのプロトン性溶媒中
に５〜３０℃で溶解させる。次いで、その溶液に、窒素
雰囲気下、０〜５℃で二塩基酸ジハライド化合物（例え
ば、セバコイルジクロリド、テレフタロイルジクロリド
等）０．０１〜０．２重量部を滴下し、同じ温度で０．
５〜２．０時間反応させ、更に必要に応じて室温程度で
１〜６時間反応させる。
【００２２】反応終了後、沈殿物を濾取し、水、メタノ
ール、アセトンの順に繰り返し洗浄し、最後に減圧乾燥
することにより、式（１）においてＲが二塩基酸ジハラ
イド化合物残基であるＬ−アスコルビン酸セグメント含
有ポリマーが得られる。
ール、アセトンの順に繰り返し洗浄し、最後に減圧乾燥
することにより、式（１）においてＲが二塩基酸ジハラ
イド化合物残基であるＬ−アスコルビン酸セグメント含
有ポリマーが得られる。
【００２３】式（１）において、Ｒがジイソシアネート
系化合物残基であるＬ−アスコルビン酸セグメント含有
ポリマーは次の様に製造することができる。
系化合物残基であるＬ−アスコルビン酸セグメント含有
ポリマーは次の様に製造することができる。
【００２４】まず、Ｌ−アスコルビン酸０．１モルに対
して、ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶
媒１００〜２５０ｍｌを加え、窒素雰囲気下で溶解させ
る。この溶液に、触媒としてスズ系触媒（例えば、ジブ
チルラウリル酸スズ）０．１〜１．５ｇの存在下で、こ
の溶液にジイソシアネート系化合物（例えば、イソホロ
ンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネ
ート等）を徐々に滴下し、４０〜８０℃の温度で２〜８
時間反応させる。
して、ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶
媒１００〜２５０ｍｌを加え、窒素雰囲気下で溶解させ
る。この溶液に、触媒としてスズ系触媒（例えば、ジブ
チルラウリル酸スズ）０．１〜１．５ｇの存在下で、こ
の溶液にジイソシアネート系化合物（例えば、イソホロ
ンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネ
ート等）を徐々に滴下し、４０〜８０℃の温度で２〜８
時間反応させる。
【００２５】反応終了後、反応液を室温まで放冷し、３
０℃以下の温度で反応液を減圧濃縮する。濃縮物をアセ
トンに溶解させ、その溶液を大量のベンゼンに投入して
沈殿物を得る。この沈殿物をベンゼン、ｎ−ヘキサン、
あるいはエタノール、アセトンで洗浄し、減圧乾燥する
ことにより式（１）においてＲがジイソシアネート系化
合物残基であるＬ−アスコルビン酸セグメント含有ポリ
マーが得られる。
０℃以下の温度で反応液を減圧濃縮する。濃縮物をアセ
トンに溶解させ、その溶液を大量のベンゼンに投入して
沈殿物を得る。この沈殿物をベンゼン、ｎ−ヘキサン、
あるいはエタノール、アセトンで洗浄し、減圧乾燥する
ことにより式（１）においてＲがジイソシアネート系化
合物残基であるＬ−アスコルビン酸セグメント含有ポリ
マーが得られる。
【００２６】以上説明した本発明のＬ−アスコルビン酸
セグメント含有ポリマーは、それ自体が高分子なので、
Ｌ−アスコルビン酸をＥＶＡなどに練り込んだ場合に比
べて、耐水性や耐熱性、更に成形性が向上したものとな
る。
セグメント含有ポリマーは、それ自体が高分子なので、
Ｌ−アスコルビン酸をＥＶＡなどに練り込んだ場合に比
べて、耐水性や耐熱性、更に成形性が向上したものとな
る。
【００２７】また、本発明のＬ−アスコルビン酸セグメ
ント含有ポリマーは、そのＬ−アスコルビン酸セグメン
トに由来する良好な酸素還元能（酸素吸収能）を有する
ので、その性質を利用して脱酸素材料の酸素吸収成分と
して好ましく使用することができる。この脱酸素材料を
構成する他の成分としては、特に制限はなく、酸素吸収
成分として本発明の酸素還元性高分子を使用する以外
は、従来の脱酸素材料の配合組成に準じて構成すること
ができる。
ント含有ポリマーは、そのＬ−アスコルビン酸セグメン
トに由来する良好な酸素還元能（酸素吸収能）を有する
ので、その性質を利用して脱酸素材料の酸素吸収成分と
して好ましく使用することができる。この脱酸素材料を
構成する他の成分としては、特に制限はなく、酸素吸収
成分として本発明の酸素還元性高分子を使用する以外
は、従来の脱酸素材料の配合組成に準じて構成すること
ができる。
【００２８】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。
る。
【００２９】実施例１ フラスコ（２００ｍｌ）に、ピリジン／アセトン（２／
１）の混合溶媒１５０ｍｌを入れ、窒素雰囲気下でＬ−
アスコルビン酸８．８ｇを室温で溶解させた。この溶液
にセバコイルジクロライド１２．６ｇを徐々に滴下し
た。滴下終了後、０〜５℃で１時間撹拌し、更に室温で
２時間撹拌した。
１）の混合溶媒１５０ｍｌを入れ、窒素雰囲気下でＬ−
アスコルビン酸８．８ｇを室温で溶解させた。この溶液
にセバコイルジクロライド１２．６ｇを徐々に滴下し
た。滴下終了後、０〜５℃で１時間撹拌し、更に室温で
２時間撹拌した。
【００３０】反応終了後、沈殿物を濾取し、沈殿物を
水、メタノール、アセトンの順に十分に洗浄し、減圧乾
燥することにより、Ｒが式（２）のセバコイルジクロラ
イド残基である式（１）のＬ−アスコルビン酸セグメン
ト含有ポリマーが得られた。
水、メタノール、アセトンの順に十分に洗浄し、減圧乾
燥することにより、Ｒが式（２）のセバコイルジクロラ
イド残基である式（１）のＬ−アスコルビン酸セグメン
ト含有ポリマーが得られた。
【００３１】実施例２ フラスコ（２００ｍｌ）に、ジメチルホルミアミド１５
０ｍｌを入れ、窒素雰囲気下でＬ−アスコルビン酸８．
８ｇとイミダゾール３．４ｇとを室温で溶解させた。こ
の溶液にテレフタロイルジクロライド１２．６ｇを徐々
に滴下した。滴下終了後、０〜５℃で１時間撹拌し、更
に室温で２時間撹拌した。
０ｍｌを入れ、窒素雰囲気下でＬ−アスコルビン酸８．
８ｇとイミダゾール３．４ｇとを室温で溶解させた。こ
の溶液にテレフタロイルジクロライド１２．６ｇを徐々
に滴下した。滴下終了後、０〜５℃で１時間撹拌し、更
に室温で２時間撹拌した。
【００３２】反応終了後、沈殿物を濾取し、沈殿物を
水、メタノール、アセトンの順に十分に洗浄し、減圧乾
燥することにより、Ｒが式（３）のテレフタロイルジク
ロライド残基である式（１）のＬ−アスコルビン酸セグ
メント含有ポリマーが得られた。
水、メタノール、アセトンの順に十分に洗浄し、減圧乾
燥することにより、Ｒが式（３）のテレフタロイルジク
ロライド残基である式（１）のＬ−アスコルビン酸セグ
メント含有ポリマーが得られた。
【００３３】実施例３ フラスコ（３００ｍｌ）に、ジメチルホルムアミド１５
０ｍｌを入れ、窒素雰囲気下でＬ−アスコルビン酸８．
８ｇを室温で溶解させた。この溶液に、触媒としてジブ
チルラウリル酸スズ０．７ｇを添加し、続いて、イソホ
ロンジイソシアネート４．９ｇをジメチルホルムアミド
５０ｍｌに溶解させた溶液を徐々に添加した。滴下終了
後に、反応液の温度を５０〜６０℃に上昇させ、約５時
間反応させた。
０ｍｌを入れ、窒素雰囲気下でＬ−アスコルビン酸８．
８ｇを室温で溶解させた。この溶液に、触媒としてジブ
チルラウリル酸スズ０．７ｇを添加し、続いて、イソホ
ロンジイソシアネート４．９ｇをジメチルホルムアミド
５０ｍｌに溶解させた溶液を徐々に添加した。滴下終了
後に、反応液の温度を５０〜６０℃に上昇させ、約５時
間反応させた。
【００３４】反応終了後、反応液を室温まで放冷し、３
０℃以下の温度で減圧濃縮し、濃縮物をアセトンで溶解
させ、その溶液を大量のベンゼン中に注ぎ入れて沈殿物
を生じさせた。得られた沈殿物を、ベンゼン、ｎ−ヘキ
サンの順で十分に洗浄し、減圧乾燥することにより、Ｒ
が式（４）のイソホロンジイソシアネート残基である式
（１）のＬ−アスコルビン酸セグメント含有ポリマーが
得られた。
０℃以下の温度で減圧濃縮し、濃縮物をアセトンで溶解
させ、その溶液を大量のベンゼン中に注ぎ入れて沈殿物
を生じさせた。得られた沈殿物を、ベンゼン、ｎ−ヘキ
サンの順で十分に洗浄し、減圧乾燥することにより、Ｒ
が式（４）のイソホロンジイソシアネート残基である式
（１）のＬ−アスコルビン酸セグメント含有ポリマーが
得られた。
【００３５】実施例４ フラスコ（３００ｍｌ）に、ジメチルホルムアミド１５
０ｍｌを入れ、窒素雰囲気下でＬ−アスコルビン酸８．
８ｇを室温で溶解させた。この溶液に、触媒としてジブ
チルラウリル酸スズ０．７ｇを添加し、続いて、１，４
−フェニレンジイソシアネート８．０ｇをジメチルホル
ムアミド５０ｍｌに溶解させた溶液を徐々に添加した。
滴下終了後に、反応液の温度を５０〜６０℃に上昇さ
せ、約５時間反応させた。
０ｍｌを入れ、窒素雰囲気下でＬ−アスコルビン酸８．
８ｇを室温で溶解させた。この溶液に、触媒としてジブ
チルラウリル酸スズ０．７ｇを添加し、続いて、１，４
−フェニレンジイソシアネート８．０ｇをジメチルホル
ムアミド５０ｍｌに溶解させた溶液を徐々に添加した。
滴下終了後に、反応液の温度を５０〜６０℃に上昇さ
せ、約５時間反応させた。
【００３６】反応終了後、反応液を室温まで放冷し、３
０℃以下の温度で減圧濃縮し、濃縮物をアセトンで溶解
させ、その溶液を大量のエタノール中に注ぎ入れて沈殿
物を生じさせた。得られた沈殿物を、エタノール、アセ
トンの順で十分に洗浄し、減圧乾燥することにより、Ｒ
が式（５）の１，４−フェニレンジイソシアネート残基
である式（１）のＬ−アスコルビン酸セグメント含有ポ
リマーが得られた。
０℃以下の温度で減圧濃縮し、濃縮物をアセトンで溶解
させ、その溶液を大量のエタノール中に注ぎ入れて沈殿
物を生じさせた。得られた沈殿物を、エタノール、アセ
トンの順で十分に洗浄し、減圧乾燥することにより、Ｒ
が式（５）の１，４−フェニレンジイソシアネート残基
である式（１）のＬ−アスコルビン酸セグメント含有ポ
リマーが得られた。
【００３７】実施例５ 実施例１で得られたＬ−アスコルビン酸セグメント含有
ポリマー１ｇをフィルム状に成形することにより脱酸素
材料を作製し、それを多孔質フィルム袋（旭化成（株）
製）に入れ、更にそれを酸素バリヤー材料としてアルミ
ニウムを使用した５００ｍｌの容器中に、２ｍｌの水と
２００ｍｌの空気と共に密封し、密封時（０日）、１日
後、３日後及び７日後の密封容器中の酸素濃度（％）を
測定した。その結果（サンプル数ｎ＝３の平均）を表１
に示す。
ポリマー１ｇをフィルム状に成形することにより脱酸素
材料を作製し、それを多孔質フィルム袋（旭化成（株）
製）に入れ、更にそれを酸素バリヤー材料としてアルミ
ニウムを使用した５００ｍｌの容器中に、２ｍｌの水と
２００ｍｌの空気と共に密封し、密封時（０日）、１日
後、３日後及び７日後の密封容器中の酸素濃度（％）を
測定した。その結果（サンプル数ｎ＝３の平均）を表１
に示す。
【００３８】また、フィルム状のＬ−アスコルビン酸セ
グメント含有ポリマー１ｇを、水中に浸漬してその耐水
性を調べた。その結果、Ｌ−アスコルビン酸は水に溶け
出さず、優れた耐水性を示した。
グメント含有ポリマー１ｇを、水中に浸漬してその耐水
性を調べた。その結果、Ｌ−アスコルビン酸は水に溶け
出さず、優れた耐水性を示した。
【００３９】実施例６ 実施例３で得られたＬ−アスコルビン酸セグメント含有
ポリマー１ｇをフィルム状に成形することにより脱酸素
材料を作製し、それを多孔質フィルム袋（旭化成（株）
製）に入れ、更にそれを酸素バリヤー材料としてアルミ
ニウムを使用した５００ｍｌの容器中に、２ｍｌの水と
２００ｍｌの空気と共に密封し、密封時（０日）、１日
後、３日後及び７日後の密封容器中の酸素濃度（％）を
測定した。その結果（サンプル数ｎ＝３の平均）を表１
に示す。
ポリマー１ｇをフィルム状に成形することにより脱酸素
材料を作製し、それを多孔質フィルム袋（旭化成（株）
製）に入れ、更にそれを酸素バリヤー材料としてアルミ
ニウムを使用した５００ｍｌの容器中に、２ｍｌの水と
２００ｍｌの空気と共に密封し、密封時（０日）、１日
後、３日後及び７日後の密封容器中の酸素濃度（％）を
測定した。その結果（サンプル数ｎ＝３の平均）を表１
に示す。
【００４０】また、フィルム状のＬ−アスコルビン酸セ
グメント含有ポリマー１ｇを水中に浸漬してその耐水性
を調べた。その結果、Ｌ−アスコルビン酸は水に溶け出
さず、優れた耐水性を示した。
グメント含有ポリマー１ｇを水中に浸漬してその耐水性
を調べた。その結果、Ｌ−アスコルビン酸は水に溶け出
さず、優れた耐水性を示した。
【００４１】比較例１ 式（１）のＬ−アスコルビン酸変性ポリビニルアルコー
ルに代えてＬ−アスコルビン酸０．１モルをＥＶＡ１
７．６ｇに練り込みシート状に成形したもの１ｇを使用
して、実施例１と同様に耐水性を調べた。その結果、Ｌ
−アスコルビン酸が水に溶け出してしまい、耐水性が不
十分であった。
ルに代えてＬ−アスコルビン酸０．１モルをＥＶＡ１
７．６ｇに練り込みシート状に成形したもの１ｇを使用
して、実施例１と同様に耐水性を調べた。その結果、Ｌ
−アスコルビン酸が水に溶け出してしまい、耐水性が不
十分であった。
【００４２】
【表１】 密封容器中の酸素濃度（％） ０日 １日後 ３日後 ７日後 実施例５ 20.9 15.72 12.66 9.94 実施例６ 20.9 18.58 15.34 12.06
【００４３】表１から、実施例５及び６の脱酸素材料は
十分な酸素吸収能を示していることがわかる。
十分な酸素吸収能を示していることがわかる。
【００４４】
【発明の効果】本発明によれば、酵素や酸クロライドを
利用することなく、簡便な手法により主鎖にＬ−アスコ
ルビン酸ユニットが導入された高分子を提供できる。ま
た、得られる高分子は、良好な酸素還元性を有するの
で、この酸素還元性高分子を使用することにより、良好
な脱酸素能を有する脱酸素材料が得られる。
利用することなく、簡便な手法により主鎖にＬ−アスコ
ルビン酸ユニットが導入された高分子を提供できる。ま
た、得られる高分子は、良好な酸素還元性を有するの
で、この酸素還元性高分子を使用することにより、良好
な脱酸素能を有する脱酸素材料が得られる。
Claims (5)
- 【請求項１】 式（１） 【化１】 （式中、ｎは重合度を示す数であり、Ｒは二塩基酸ジハ
ライド化合物残基又はジイソシアネート系化合物残基で
ある。）で表されるＬ−アスコルビン酸セグメント含有
ポリマー。 - 【請求項２】 Ｒの二塩基酸ジハライド化合物残基が、
式（２）又は（３） 【化２】 で表される二価結合基である請求項１記載のＬ−アスコ
ルビン酸セグメント含有ポリマー。 - 【請求項３】 Ｒのジイソシアネート系化合物残基が、
式（４）又は（５） 【化３】 で表される二価結合基である請求項１記載のＬ−アスコ
ルビン酸セグメント含有ポリマー。 - 【請求項４】 Ｒが二塩基酸ジハライド化合物残基であ
る請求項１記載のＬ−アスコルビン酸セグメント含有ポ
リマーの製造方法において、ハロゲン化水素捕捉剤の存
在下で、Ｌ−アスコルビン酸に二塩基酸ジハライド化合
物を作用させることを特徴とする製造方法。 - 【請求項５】 Ｒがジイソシアネート系化合物残基であ
る請求項１記載のＬ−アスコルビン酸セグメント含有ポ
リマーの製造方法において、スズ系触媒の存在下で、Ｌ
−アスコルビン酸にジイソシアネート系化合物を作用さ
せることを特徴とする製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8168640A JPH09328537A (ja) | 1996-06-07 | 1996-06-07 | Ｌ−アスコルビン酸セグメント含有ポリマー及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8168640A JPH09328537A (ja) | 1996-06-07 | 1996-06-07 | Ｌ−アスコルビン酸セグメント含有ポリマー及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09328537A true JPH09328537A (ja) | 1997-12-22 |
Family
ID=15871792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8168640A Pending JPH09328537A (ja) | 1996-06-07 | 1996-06-07 | Ｌ−アスコルビン酸セグメント含有ポリマー及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09328537A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021049472A1 (ja) * | 2019-09-10 | 2021-03-18 | 学校法人 関西大学 | 化合物、樹脂、組成物、レジスト膜、パターン形成方法、下層膜、及び光学物品 |
-
1996
- 1996-06-07 JP JP8168640A patent/JPH09328537A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021049472A1 (ja) * | 2019-09-10 | 2021-03-18 | 学校法人 関西大学 | 化合物、樹脂、組成物、レジスト膜、パターン形成方法、下層膜、及び光学物品 |
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