JPH09328565A - Prepreg - Google Patents
PrepregInfo
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- JPH09328565A JPH09328565A JP14939296A JP14939296A JPH09328565A JP H09328565 A JPH09328565 A JP H09328565A JP 14939296 A JP14939296 A JP 14939296A JP 14939296 A JP14939296 A JP 14939296A JP H09328565 A JPH09328565 A JP H09328565A
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- JP
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- prepreg
- resin
- thermosetting resin
- bis
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【解決手段】 プレート型粘度計により、せん断速度1
0rad/秒、温度130℃の条件で測定した粘度が、測定
初期5分間が5000〜30000ポイズの範囲内にあ
り、かつ、測定20分後の粘度が10000〜5000
0ポイズの範囲内である熱硬化性樹脂組成物からなり、
ポリマレイミド化合物ナフトール、ナフタレンジオー
ル、または少なくとも一つのナフタレン骨格を含むフェ
ノール樹脂、およびエポキシ樹脂を含有する熱硬化性樹
脂からなるプリプレグ。さらに分子中に少なくとも一つ
の活性水素を有する化合物により変性してなる変性イミ
ド樹脂を含有してなる熱硬化性樹脂からなるプリプレ
グ。
【効果】 プリント板製造時の際、プレス成形後の板厚
精度に優れ、また、ボイドの発生しないプリプレグであ
り、特に、多層プリント配線板製造用として、有用なも
のである。(57) [Summary] (Correction) [Solution] A plate-type viscometer was used to measure shear rate 1
The viscosity measured under the conditions of 0 rad / sec and a temperature of 130 ° C. is in the range of 5000 to 30000 poise for the first 5 minutes of measurement, and the viscosity after 20 minutes of measurement is 10,000 to 5000.
Consisting of a thermosetting resin composition in the range of 0 poise,
A prepreg composed of a thermosetting resin containing a polymaleimide compound naphthol, naphthalene diol, or a phenol resin containing at least one naphthalene skeleton, and an epoxy resin. Further, a prepreg made of a thermosetting resin containing a modified imide resin obtained by modifying with a compound having at least one active hydrogen in the molecule. [Effect] A prepreg which is excellent in plate thickness accuracy after press molding during production of a printed board and does not generate voids, and is particularly useful for producing a multilayer printed wiring board.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板用
積層板に関し、さらに詳しくは、多層積層板を製造する
際の接着プレス成形時の樹脂フロー特性に優れたプリプ
レグに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laminated board for a printed wiring board, and more particularly to a prepreg excellent in resin flow characteristics during adhesive press molding when manufacturing a multilayer laminated board.
【0002】[0002]
【従来の技術】電気・電子機器、通信機器、計算機器等
に広く用いられているプリント配線板については、配線
密度の高度化、高集積化が進展し、これにともなって、
配線用積層板の多層化が進んでいる。この多層基板の要
求としては、薄型化、特性インピーダンスのコントロー
ルがあり、また多層基板の特種な形状のものとして、フ
レキシブル基板と組み合わせたリジッドフレックス基
板、部品またはICチップを搭載する部分を凹状にした
キャビティタイプの多層板が要求されている。多層板の
薄型化および特性インピーダンスのコントロールは積層
板の板厚精度および層間の厚み精度が要求される。板厚
精度を高めるためには、多層板製造に使用するプリプレ
グの樹脂フロー特性が重要であり、一般的ノンフロータ
イプと言われているプリプレグが使用されている。ま
た、リジッドフレックス基板、キャビティタイプの多層
基板の製造時も、フレキシブル基板の接続部、キャビテ
ィ部に樹脂が流れでないように、ノンフロータイプのプ
リプレグが使用されている。2. Description of the Related Art As for printed wiring boards widely used for electric / electronic devices, communication devices, computing devices, etc., the wiring density has been advanced and the integration has been advanced.
Multilayer wiring laminates are being developed. The requirements of this multi-layer board include thinning and control of characteristic impedance. As a special shape of the multi-layer board, a rigid flex board combined with a flexible board, a part or a portion where an IC chip is mounted is made concave. Cavity type multilayer boards are required. In order to reduce the thickness of the multi-layer board and control the characteristic impedance, it is required that the board thickness accuracy of the laminated board and the inter-layer thickness accuracy be high. In order to increase the plate thickness accuracy, the resin flow characteristics of the prepreg used for manufacturing a multilayer board are important, and a prepreg that is generally called a non-flow type is used. Further, even when a rigid flex substrate or a cavity type multilayer substrate is manufactured, a non-flow type prepreg is used so that the resin does not flow to the connecting portion and the cavity portion of the flexible substrate.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ノンフロータイプのプ
リプレグの場合、通常エポキシ樹脂が使用されており、
フロー特性をコントロールするためにエポキシ樹脂の反
応を進めて樹脂の溶融粘度を高めている。この方法で
は、樹脂の溶融粘度を高めフロー特性を変えることがで
きるが、接着プレス時に急激に粘度が上昇したり、ゲル
タイムが短くなるため、多層板製造時にボイドが発生し
やすくなるという問題がある。本発明は、このような事
情に鑑みてなされたものであり、多層板成形時の樹脂流
れが少なく、かつボイドの発生のないプレプリグを提供
することを目的としている。In the case of a non-flow type prepreg, an epoxy resin is usually used,
In order to control the flow characteristics, the reaction of the epoxy resin is promoted to increase the melt viscosity of the resin. With this method, the melt viscosity of the resin can be increased and the flow characteristics can be changed, but there is the problem that voids tend to occur during the production of multilayer boards because the viscosity rises rapidly during adhesive pressing and the gel time is shortened. . The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a prepreg in which a resin flow during molding of a multilayer board is small and voids are not generated.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意研究を重ねた結果、溶融特性が、
プレート型粘度計で測定した際の粘度が高く、また測定
時の粘度変化が少なくさらに、ゲルタイムが長い熱硬化
性樹脂からなるプリプレグが、多層板形成時に樹脂フロ
ーがなく、ボイドが発生しないことを見出し、本発明を
完成することにいたった。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted extensive studies to solve the above problems, and as a result,
The viscosity when measured with a plate viscometer is high, the viscosity change during measurement is small, and the prepreg made of a thermosetting resin with a long gel time has no resin flow when forming a multilayer board, and voids do not occur. Heading, it came to complete the present invention.
【0005】すなわち、プレート型粘度計により、せん
断速度10rad /秒、温度130℃の条件で測定した粘
度が、測定初期5分間が5000〜30000ポイズの
範囲内にあり、かつ測定20分後が10000〜500
00ポイズの範囲内であり、さらに、貯蔵弾性率と損失
弾性率の交点で定義されるゲルタイムが20分以上であ
り、170℃熱板上で測定したゲルタイムが120秒以
下である熱硬化性樹脂組成物からなることを特徴とする
プリプレグである。また、この熱硬化性樹脂組成物が、
(a)一般式(1)で示されるポリマレイミド化合物を
含有することを特徴とするプリプレグ。さらに、熱硬化
性樹脂組成物が、(a)一般式(1)で示されるポリマ
レイミド化合物と、(b)ナフトール、ジヒドロキシナ
フタレン、または少なくとも一つはナフタレン骨格を有
するフェノール樹脂、および/または(c)分子中に少
なくとも二つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を
含有してなることを特徴とするプリプレグである。ま
た、さらに熱硬化性樹脂組成物が、(a)一般式(1)
で示されるポリマレイミド化合物を、(b)ナフトー
ル、ジヒドロキシナフタレン、または少なくとも一つは
ナフタレン骨格を有するフェノール樹脂、および/また
は(c)分子中に少なくとも二つ以上のエポキシ基を有
するエポキシ樹脂、および(d)分子中に少なくとも一
つの活性水素を有する化合物により変性してなる変性イ
ミド樹脂を含有してなることを特徴とするプリプレグを
提供する。That is, the viscosity measured by a plate viscometer at a shear rate of 10 rad / sec and a temperature of 130 ° C. is within the range of 5000 to 30000 poise for the first 5 minutes of measurement and 10000 after 20 minutes of measurement. ~ 500
A thermosetting resin having a gel time within the range of 00 poise, a gel time defined by the intersection of the storage elastic modulus and a loss elastic modulus of 20 minutes or more, and a gel time of 120 seconds or less measured on a 170 ° C. hot plate. It is a prepreg characterized by comprising a composition. In addition, this thermosetting resin composition,
(A) A prepreg containing a polymaleimide compound represented by the general formula (1). Further, the thermosetting resin composition is (a) a polymaleimide compound represented by the general formula (1), and (b) naphthol, dihydroxynaphthalene, or at least one phenol resin having a naphthalene skeleton, and / or ( c) A prepreg characterized by containing an epoxy resin having at least two epoxy groups in the molecule. Further, the thermosetting resin composition further comprises (a) the general formula (1)
A polymaleimide compound represented by (b) naphthol, dihydroxynaphthalene, or at least one phenol resin having a naphthalene skeleton, and / or (c) an epoxy resin having at least two epoxy groups in the molecule, and (D) A prepreg characterized by comprising a modified imide resin obtained by modifying with a compound having at least one active hydrogen in the molecule.
【0006】本発明の特徴である溶融特性に関しては、
多層板を成形する際のプレス温度条件としては、120
℃〜140℃、10〜30分間保持後、硬化温度である
約200℃に上昇させるのが、一般的であり、最初の保
持時間での樹脂の溶融特性が、成形時に樹脂のはみ出し
がなく、ボイドがない多層積層板を製造する際に重要で
ある。本発明の特徴は、この120〜130℃における
樹脂の溶融特性に関するものである。プレート型粘度計
で測定した粘度が、130℃、せん断速度10rad/秒の
条件において、最初の5分間が5000〜30000 ポイズであ
り、20分後の粘度が10000 〜50000 ポイズである溶融
粘度特性をもっているものである。言い換えると、13
0℃での粘度が高く、20分程度の時間での粘度変化の
少ない溶融特性をもっている。さらに、この、20分間
ではゲル化の起こらないものである。初期の粘度が5000
ポイズ以下であると、プレス時に樹脂分が流れだし、目
的である高板厚精度、樹脂のはみ出しのない多層積層板
が得られない。30000 ポイズ以上であると粘度が高すぎ
るために、ボイドが発生する。また、初期の粘度が5000
〜30000ポイズであっても、130℃に放置している間
に50000 ポイズ以上になるような樹脂組成物であると、
プレス時に増粘しすぎるために、ボイドが発生する。ま
た、粘度が適切な範囲内にあっても、貯蔵弾性率と損失
弾性率の交点で定義されるゲルタイムが15分以内であ
ると、気泡を十分抜くことができずに、ボイドが発生す
る。さらに、170℃熱板で測定したゲルタイムが12
0秒以上であると、プレス時の硬化特性が悪く、硬化に
長時間必要となり、生産性が劣る。Regarding the melting characteristics which are the characteristics of the present invention,
The press temperature condition for molding the multilayer plate is 120
After being held at ℃ to 140 ℃ for 10 to 30 minutes, it is common to raise the temperature to about 200 ℃ which is the curing temperature, and the melting property of the resin at the first holding time is that the resin does not protrude during molding, It is important in producing void-free multilayer laminates. The feature of the present invention relates to the melting characteristics of the resin at 120 to 130 ° C. Viscosity measured with a plate viscometer is 130 ° C, and shear rate is 10 rad / sec. The melt viscosity is such that the first 5 minutes is 5,000 to 30,000 poise and the viscosity after 20 minutes is 10,000 to 50,000 poise. There is something. In other words, 13
It has a high viscosity at 0 ° C, and has a melting property such that the viscosity does not change much in about 20 minutes. Furthermore, gelation does not occur in this 20 minutes. Initial viscosity is 5000
If it is less than poise, the resin component will flow out at the time of pressing, and the desired high-thickness thickness accuracy and the desired multi-layer laminate without resin protrusion cannot be obtained. If it is more than 30,000 poise, the viscosity is too high and voids are generated. Also, the initial viscosity is 5000
Even if the resin composition is up to 30,000 poise, the resin composition will be 50,000 poise or more while being left at 130 ° C.
Voids occur because the viscosity is excessively increased during pressing. Further, even if the viscosity is within an appropriate range, if the gel time defined by the intersection of the storage elastic modulus and the loss elastic modulus is within 15 minutes, bubbles cannot be sufficiently removed and voids are generated. Furthermore, the gel time measured with a 170 ° C. hot plate is 12
When the time is 0 seconds or more, the curing characteristics at the time of pressing are poor, the curing requires a long time, and the productivity is poor.
【0007】本発明で使用される(a)ポリマレイミド
化合物としては、1分子中に2個以上のマレイミド基を
有する化合物ならば全て使用可能である。このようなポ
リマレイミド化合物としては、例えばN,N'-[1,3-(2- メ
チルフェニレン)]ビスマレイミド、N,N'-(1,4-フェニレ
ン) ビスマレイミド、ビス(4- マレイミドフェニル) メ
タン、ビス(3- メチル-4- マレイミドフェニル) メタ
ン、ビス(4- マレイミドフェニル) エーテル、ビス(4-
マレイミドフェニル) スルホン、ビス(4- マレイミドフ
ェニル) スルフィド、ビス(4- マレイミドフェニル)ケ
トン、ビス(4- マレイミドシクロヘキシル) メタン、1,
4-ビス(4- マレイミドフェニル) シクロヘキサン、1,4-
ビス( マレイミドメチル) シクロヘキサン、1,4-ビス(
マレイミドメチル) ベンゼン、1,3-ビス(4- マレイミド
フェノキシ) ベンゼン、1,3-ビス(3- マレイミドフェノ
キシ) ベンゼン、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フ
ェニル] メタン、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ) フ
ェニル]メタン、1,1-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)
フェニル] エタン、1,1-ビス[4-(4-マレイミドフェノ
キシ) フェニル] エタン、1,2-ビス[4-(3-マレイミドフ
ェノキシ) フェニル] エタン、1,2-ビス[4-(4-マレイミ
ドフェノキシ) フェニル]エタン、2,2-ビス[4-(3-マレ
イミドフェノキシ) フェニル] プロパン、2,2-ビス[4-
(4-マレイミドフェノキシ) フェニル] プロパン、2,2-
ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フェニル] ブタン、
2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ) フェニル] ブタ
ン、2,2-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フェニル]-
1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(4-
マレイミドフェノキシ) フェニル]-1,1,1,3,3,3 ヘキサ
フルオロプロパン、4,4'- ビス(3- マレイミドフェノキ
シ) ビフェニル、4,4'- ビス(4- マレイミドフェノキ
シ) ビフェニル、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フ
ェニル] ケトン、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ) フ
ェニル] ケトン、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フ
ェニル] スルフィド、ビス[4-(4-マレイミドフェノキ
シ) フェニル] スルフィド、ビス[4-(3-マレイミドフェ
ノキシ) フェニル] スルホキシド、ビス[4-(4-マレイミ
ドフェノキシ) フェニル] スルホキシド、ビス[4-(3-マ
レイミドフェノキシ) フェニル] スルホン、ビス[4-(4-
マレイミドフェノキシ) フェニル] スルホン、ビス[4-
(3-マレイミドフェノキシ) フェニル] エーテル、ビス
[4-(4-マレイミドフェノキシ) フェニル] エーテル、1,
4-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-α, α- ジメチル
ベンジル] ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-マレイミドフェノ
キシ)-α, α- ジメチルベンジル] ベンゼン、1,4-ビス
[4-(3-マレイミドフェノキシ)-α, α- ジメチルベンジ
ル] ベンゼン、1,3-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-
α, α- ジメチルベンジル] ベンゼン、1,4-ビス[4-(4-
マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル- α, α- ジメチ
ルベンジル] ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-マレイミドフェ
ノキシ)-3,5-ジメチル-α, α- ジメチルベンジル] ベ
ンゼン、1,4-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジ
メチル- α, α- ジメチルベンジル] ベンゼン、1,3-ビ
ス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル- α, α
- ジメチルベンジル] ベンゼン、一般式(2)(化2)As the (a) polymaleimide compound used in the present invention, any compound having two or more maleimide groups in one molecule can be used. Examples of such polymaleimide compounds include N, N '-[1,3- (2-methylphenylene)] bismaleimide, N, N'-(1,4-phenylene) bismaleimide, bis (4-maleimide) Phenyl) methane, bis (3-methyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (4-maleimidophenyl) ether, bis (4-
Maleimidophenyl) sulfone, bis (4-maleimidophenyl) sulfide, bis (4-maleimidophenyl) ketone, bis (4-maleimidocyclohexyl) methane, 1,
4-bis (4-maleimidophenyl) cyclohexane, 1,4-
Bis (maleimidomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (
Maleimidomethyl) benzene, 1,3-bis (4-maleimidophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-maleimidophenoxy) benzene, bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] methane, bis [4- ( 4-maleimidophenoxy) phenyl] methane, 1,1-bis [4- (3-maleimidophenoxy)
Phenyl] ethane, 1,1-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (4 -Maleimidophenoxy) phenyl] ethane, 2,2-bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4-
(4-Maleimidophenoxy) phenyl] propane, 2,2-
Bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] butane,
2,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] butane, 2,2-bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl]-
1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-
Maleimidophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3 hexafluoropropane, 4,4'-bis (3-maleimidophenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (4-maleimidophenoxy) biphenyl, bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] ketone ) Phenyl] sulfide, bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4 -(Four-
Maleimidophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4-
(3-Maleimidophenoxy) phenyl] ether, bis
[4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] ether, 1,
4-bis [4- (4-maleimidophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-maleimidophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,4- Screw
[4- (3-maleimidophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-maleimidophenoxy)-
α, α-Dimethylbenzyl] benzene, 1,4-bis [4- (4-
Maleimidophenoxy) -3,5-dimethyl-α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-maleimidophenoxy) -3,5-dimethyl-α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1 , 4-bis [4- (3-maleimidophenoxy) -3,5-dimethyl-α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-maleimidophenoxy) -3,5-dimethyl- α, α
-Dimethylbenzyl] benzene, general formula (2)
【0008】[0008]
【化2】 (式中、nは平均値で 0〜10である)で表されるポリマ
レイミド化合物、及び一般式(3)(化3)Embedded image (In the formula, n is 0 to 10 on average), and a polymaleimide compound represented by the general formula (3)
【0009】[0009]
【化3】 (式中、mは平均値で 0〜10である)で表されるポリマ
レイミド化合物等が挙げられる。また、これらのポリマ
レイミド化合物は、単独で用いても2種類以上を混合し
て用いてもよい。Embedded image (Wherein, m is an average value of 0 to 10). These polymaleimide compounds may be used alone or as a mixture of two or more.
【0010】(b)成分としては、ナフトール、ジヒド
ロキシナフタレン、または少なくとも一つのナフタレン
骨格を有するフェノール樹脂であれば全て使用すること
ができる。ナフタレン骨格を有するフェノール樹脂につ
いて、以下に例示する。ナフトール、またはジヒドロキ
シナフタレン等のナフトール類とフェノール、クレゾー
ル、レゾルシノール、ジヒドロキシビフェニル等のフェ
ノール類またはナフトール類とホルムアルデヒド、アセ
トアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズア
ルデヒド、グルオキザール、アルカンジアール等のアル
デヒド類との反応生成物であるノボラック樹脂、および
上記ナフトール類とアラルキルアルコール誘導体または
アラルキルハライド誘導体との反応生成物であるアラル
キル樹脂が挙げられ、これらナフトール、ジヒドロキシ
ナフタレン、フェノール樹脂の1種類または2種類以上
の混合物が使用される。As the component (b), any phenol resin having naphthol, dihydroxynaphthalene, or at least one naphthalene skeleton can be used. The phenol resin having a naphthalene skeleton will be exemplified below. A reaction product of naphthols or naphthols such as dihydroxynaphthalene with phenols such as phenol, cresol, resorcinol, dihydroxybiphenyl or naphthols with aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, glucoxal, alkanedial. Examples include certain novolac resins and aralkyl resins that are reaction products of the above naphthols with aralkyl alcohol derivatives or aralkyl halide derivatives, and one or a mixture of two or more of these naphthols, dihydroxynaphthalenes, and phenol resins is used. .
【0011】(c)成分であるエポキシ樹脂としては、
分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物
が全て使用できる。このようなエポキシ化合物を例示す
ると、フェノール、クレゾール、レゾルシノール、ナフ
トール等のフェノール類、あるいはこれらをハロゲン化
したフェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、グリオキザ
ール、アルカンジアール等のアルデヒド類との縮合反応
により得られる反応生成物とエピクロルヒドリンとの反
応により得られるエポキシ樹脂。上記フェノール類とア
ラルキルアルコール誘導体またはアラルキルハライド誘
導体との反応物とエピクロルヒドリンとの反応により得
られるエポキシ樹脂。さらに、次に示した1分子中に2
個以上の活性水素を有する化合物から誘導されるエポキ
シ樹脂、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノール
F、レゾルシン、ビスヒドロキシジフェニルエーテル、
ビスヒドロキシビフェニル、ビスヒドロキシナフタレ
ン、トリヒドロキシフェニルメタン等の多価フェノール
類、エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、グ
リセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリト
ール、ジエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等の多価アルコール類;エチレンジアミン、アニリ
ン、ビス(4ーアミノフェニル)メタン等のアミン類;
アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸等の多価カルボン
酸類とエピクロルヒドリンを反応させて得られるエポキ
シ樹脂が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は1種類ま
たは2種類以上の混合物が使用できる。また、臭素化フ
ェノールノボラック樹脂、臭素化ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂等の各種のハロゲン化エポキシ樹脂を使用す
ることができる。As the epoxy resin as the component (c),
All epoxy compounds having two or more epoxy groups in the molecule can be used. Examples of such an epoxy compound include phenols such as phenol, cresol, resorcinol, and naphthol, or phenols obtained by halogenating them, and aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, tolualdehyde, glyoxal, and alkandial. An epoxy resin obtained by reacting a reaction product obtained by condensation reaction with epichlorohydrin. An epoxy resin obtained by reacting a reaction product of the above phenols with an aralkyl alcohol derivative or an aralkyl halide derivative and epichlorohydrin. Furthermore, 2 in 1 molecule shown below
Epoxy resins derived from compounds having one or more active hydrogens, such as bisphenol A, bisphenol F, resorcin, bishydroxydiphenyl ether,
Polyhydric phenols such as bishydroxybiphenyl, bishydroxynaphthalene and trihydroxyphenylmethane, polyhydric alcohols such as ethylene glycol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, diethylene glycol and polypropylene glycol; ethylenediamine, aniline, Amines such as bis (4-aminophenyl) methane;
Epoxy resins obtained by reacting polychlorocarboxylic acids such as adipic acid, phthalic acid and isophthalic acid with epichlorohydrin are exemplified. One or a mixture of two or more of these epoxy resins can be used. In addition, various halogenated epoxy resins such as a brominated phenol novolak resin and a brominated bisphenol A type epoxy resin can be used.
【0012】本発明の組成物においては、(a)成分の
一般式(1)で表されるポリマレイミド化合物と(b)
成分のナフトール類またはフェノール樹脂および(c)
成分のエポキシ樹脂の配合量は、(a)成分100重量
部に対して、(b)成分と(c)成分の合計量が10〜
500重量部、好ましくは25〜300重量部であり、
(b)成分のナフトール類またはフェノール樹脂に対し
て(c)成分のエポキシ樹脂が当量比で0.1〜10の
範囲、好ましくは、0.5〜2.0の範囲である。In the composition of the present invention, the component (a), a polymaleimide compound represented by the general formula (1), and the component (b) are used.
Component naphthols or phenolic resins and (c)
The compounding amount of the component epoxy resin is such that the total amount of the component (b) and the component (c) is 10 to 100 parts by weight of the component (a).
500 parts by weight, preferably 25 to 300 parts by weight,
The equivalent ratio of the epoxy resin of the component (c) to the naphthol or the phenol resin of the component (b) is in the range of 0.1 to 10, preferably 0.5 to 2.0.
【0013】本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、フ
ェノールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂等
のナフタレン骨格を有しないフェノール樹脂、ジアミノ
ジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジシ
アンジアミド等に代表されるアミン類、無水フタル酸、
無水ピロメリット酸等の酸無水物を併用することもでき
る。The resin composition of the present invention may optionally contain a phenol resin having no naphthalene skeleton such as a phenol novolac resin or a phenol aralkyl resin, an amine represented by diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, dicyandiamide or the like. Phthalic acid,
An acid anhydride such as pyromellitic dianhydride can also be used in combination.
【0014】変性イミド樹脂を製造する際に用いられる
(d)成分としては、分子中に少なくとも一つの活性水
素を有する化合物なら全て使用できる。分子中に少なく
とも一つの活性水素を有する化合物としては、フェノー
ル、ビスフェノールA、ビスフェノールF、クレゾー
ル、レゾルシノール、ナフトール、ジヒドロキシナフト
ール等のフェノール類、アニリン、アミノフェノール、
フェニレンジアミン、エチレンジアミン、ビス(4−ア
ミノフェニル)メタン等のアミン類、グリシドール、グ
リセリンジグリシジルエーテル、エチレングリコールモ
ノグリシジルエーテル、レゾルシノールモノグリシジル
エーテル、ナフトレゾルシノールモノグリシジルエーテ
ル等、一分子中に一つのアルコール性もしくはフェノー
ル性OH基と、一つ以上のエポキシ基とを含む化合物、
プロパギルアルコール等のOH基とアセチレン基を有す
る化合物等が挙げられる。As the component (d) used for producing the modified imide resin, any compound having at least one active hydrogen in the molecule can be used. Compounds having at least one active hydrogen in the molecule include phenol, bisphenol A, bisphenol F, cresol, resorcinol, naphthol, phenols such as dihydroxynaphthol, aniline, aminophenol,
One alcohol in one molecule such as phenylenediamine, ethylenediamine, amines such as bis (4-aminophenyl) methane, glycidol, glycerin diglycidyl ether, ethylene glycol monoglycidyl ether, resorcinol monoglycidyl ether, naphthoresorcinol monoglycidyl ether, etc. A compound comprising an acidic or phenolic OH group and one or more epoxy groups,
Compounds having an OH group and an acetylene group such as propargyl alcohol are exemplified.
【0015】変性イミド樹脂を製造する方法としては、
(a)成分であるポリマレイミド樹脂、(b)成分、
(c)成分および(d)成分を同時に80〜200℃
で、0.1〜10時間加熱混合するのが一般的である
が、さらに、有機溶媒中で加熱混合してもよい。有機溶
媒中で加熱混合する場合は、使用する有機溶媒の沸点に
もよるが、一般的には、50〜200℃で、0.1〜2
0時間である。変性イミド樹脂の内容については明かで
はないが、主にポリマレイミド樹脂のオリゴマー化と考
えられている。変性の際、ポリマレイミド樹脂(a)成
分に対して(b)および/または(c)成分のみ、また
は(d)成分のみでは、安定な変性イミド樹脂を製造す
ることは困難である。As a method for producing the modified imide resin,
(A) a polymaleimide resin as a component, (b) a component,
The components (c) and (d) are simultaneously heated to 80 to 200 ° C.
In general, the mixture is heated and mixed for 0.1 to 10 hours, but may be further mixed by heating in an organic solvent. In the case of heating and mixing in an organic solvent, it is generally 50 to 200 ° C. and 0.1 to 2 depending on the boiling point of the organic solvent to be used.
0 hours. Although the content of the modified imide resin is not clear, it is considered to be mainly oligomerization of the polymaleimide resin. In the modification, it is difficult to produce a stable modified imide resin only with the component (b) and / or the component (c) or only the component (d) with respect to the component (a).
【0016】(d)成分としては、ポリマレイミド樹脂
100重量部に対し、5〜100重量部用いるのが好ま
しいが、特に、耐熱性の保持等の目的では、10〜30
重量部用いるのが好ましい。The component (d) is preferably used in an amount of 5 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymaleimide resin, but 10 to 30 is particularly used for the purpose of maintaining heat resistance.
It is preferable to use parts by weight.
【0017】(b)成分のナフトール類またはフェノー
ル樹脂および(c)成分のエポキシ樹脂の量は、(a)
成分100重量部に対して、(b)成分と(c)成分の
合計量が10〜500重量部、好ましくは25〜300
重量部であり、(b)成分のフェノール樹脂に対して
(c)成分のエポキシ樹脂が当量比で0.1〜10の範
囲、好ましくは、0.5〜2.0の範囲である。The amount of the naphthols or phenolic resin as the component (b) and the epoxy resin as the component (c) is (a)
The total amount of the components (b) and (c) is 10 to 500 parts by weight, preferably 25 to 300, relative to 100 parts by weight of the components.
It is a part by weight, and the equivalent ratio of the epoxy resin of the component (c) to the phenol resin of the component (b) is in the range of 0.1 to 10, preferably in the range of 0.5 to 2.0.
【0018】本発明において、樹脂組成物を硬化するに
あたっては、硬化促進剤を含有させることが望ましく、
かかる硬化促進剤としては、2−メチルイミダゾール、
2−メチル−4−エチルイミダゾール、2−ヘプタデシ
ルイミダゾール等のイミダゾール類;トリエタノールア
ミン、トリエチレンジアミン、N−メチルモルホリン等
のアミン類;トリブチルホスフィン、トリフェニルホス
フィン、トリトリルホスフィン等の有機ホスフィン類;
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、
トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート等のテ
トラフェニルボロン塩類;1,8−ジアザ−ビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7およびその誘導体が挙げ
られる。これらの硬化促進剤は、単独で用いても2種類
以上を併用してもよく、また、必要に応じて、有機過酸
化物やアゾ化合物を併用することもできる。これら硬化
促進剤の含有量は、樹脂100 重量部に対して、0.005 〜
10重量部の範囲で用いられる。In the present invention, when the resin composition is cured, it is desirable to include a curing accelerator,
As such a curing accelerator, 2-methylimidazole,
Imidazoles such as 2-methyl-4-ethylimidazole and 2-heptadecylimidazole; amines such as triethanolamine, triethylenediamine and N-methylmorpholine; organic phosphines such as tributylphosphine, triphenylphosphine and tolylphosphine. ;
Tetraphenylphosphonium tetraphenylborate,
Tetraphenylboron salts such as triethylammonium tetraphenylborate; and 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7 and derivatives thereof. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more, and if necessary, an organic peroxide or an azo compound may be used in combination. The content of these curing accelerators is 0.005 to 100 parts by weight of the resin.
Used in the range of 10 parts by weight.
【0019】本発明の樹脂材料は上記各種成分の他、必
要に応じてジアリルフタレート、トリアリルイソシアヌ
レート、o,o'- ジアリルビスフェノールA、ビスフェノ
ールAジアリルエーテル、ビスフェノールAジシアネー
ト等のイミド樹脂に対して一般的に使用される反応性希
釈剤;各種シリコーンオイル;ブロム化合物、アンチモ
ン、リン等の難燃剤;シリカ、タルク、アルミナ、窒化
アルミ等の充填剤、ポリエーテルスルホン、ポリフェニ
レンエーテル、芳香族ポリエステル、ポリスルホン、ポ
リフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリパラバン酸等の直鎖状高分子、その他の適宜な
添加物等を配合してもよい。In addition to the above-mentioned various components, the resin material of the present invention may be used for imide resins such as diallyl phthalate, triallyl isocyanurate, o, o'-diallyl bisphenol A, bisphenol A diallyl ether and bisphenol A dicyanate, if necessary. Commonly used reactive diluents; various silicone oils; flame retardants such as bromine compounds, antimony and phosphorus; fillers such as silica, talc, alumina and aluminum nitride, polyether sulfones, polyphenylene ethers, aromatic polyesters A linear polymer such as polysulfone, polyphenylene sulfide, polyetheretherketone, polyimide, polyetherimide, polyamideimide, polyparabanic acid, and other appropriate additives may be added.
【0020】以上のようなこの発明の樹脂組成物を用い
てプリプレグを製造するには、この樹脂樹脂組成物であ
る(a)成分、(b)成分、(c)成分、硬化促進剤と
その他添加剤を溶剤に溶かし樹脂ワニスとする。また
は、(a)成分、(b)成分、(c)成分および(e)
成分からなる変性イミド樹脂とその他添加剤を溶剤に溶
かし樹脂ワニスとする。ワニス中の熱硬化性樹脂組成物
の濃度は40〜80重量%の範囲が望ましい。この際に
使用される溶剤としては、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレング
リコールモノブチルエーテル、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジオキサン、
アセトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスル
ホキシド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサン、2−ヘプタノン等が使用できる。In order to produce a prepreg using the resin composition of the present invention as described above, the resin resin composition (a) component, (b) component, (c) component, curing accelerator and other The additives are dissolved in a solvent to form a resin varnish. Alternatively, the component (a), the component (b), the component (c) and the component (e)
A modified imide resin composed of components and other additives are dissolved in a solvent to form a resin varnish. The concentration of the thermosetting resin composition in the varnish is preferably 40 to 80% by weight. As the solvent used at this time, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether,
Propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dioxane,
Acetone, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexane, 2-heptanone and the like can be used.
【0021】基材としてはガラスクロス、炭素繊維、有
機繊維布、ガラス不織布、紙等の公知の基材が全て使用
可能である。前記ワニスを前記基材に塗布・含浸した
後、乾燥工程を経てプリプレグを製造するが、塗布方
法、含浸方法、乾燥方法は特に限定されるものではな
い。乾燥条件については、使用する溶剤の沸点により適
宜決められるが、あまり高温は好ましくなく、また、プ
リプレグ中の残存溶剤の量が1重量%以下となることが
望ましい。As the base material, all known base materials such as glass cloth, carbon fiber, organic fiber cloth, glass non-woven cloth and paper can be used. After applying and impregnating the varnish on the substrate, a prepreg is manufactured through a drying step, but the application method, impregnation method, and drying method are not particularly limited. The drying conditions are appropriately determined depending on the boiling point of the solvent used. However, a high temperature is not preferable, and the amount of the residual solvent in the prepreg is desirably 1% by weight or less.
【0022】積層板は前記プリプレグを一枚または複数
枚重ねた物を加熱加圧して一体化する事により製造され
るが、この際、最外層となる片面または両面に金属箔ま
たは金属板を重ねることができる。加熱温度としては1
00〜300℃、加圧圧力としては、5〜100kg/
cm2が望ましい。金属箔または金属板としては銅、ア
ルミニウム、鉄、ステンレス等が使用できる。また、内
層コア材を用いて多層プリント配線板用積層板としても
よい。The laminated plate is manufactured by heating and pressurizing one or a plurality of the above prepregs which are stacked, and at this time, a metal foil or a metal plate is stacked on one or both outermost layers. be able to. The heating temperature is 1
00 to 300 ° C, pressurization pressure is 5 to 100 kg /
cm2 is desirable. Copper, aluminum, iron, stainless steel or the like can be used as the metal foil or metal plate. Further, a laminated board for a multilayer printed wiring board may be formed by using an inner layer core material.
【0023】[0023]
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお、実施例における性能の試験方法は次の通りで
ある。 ・粘度:プレート型粘度計(レオメトリックス社製 ダ
イナミック・スペクトロメータRDS−2) 測定条件 温度 130℃ 回転速度 10rad /
秒 ・ゲルタイム(1):粘度測定時の貯蔵弾性率と損失弾
性率の交点より求めた。 ・ゲルタイム(2): JIS−C6487に従い、1
70℃熱板上で測定。 ・板厚精度: プリプリグ10枚の両側に35μ厚の銅
箔を重ね、130℃、20分(圧力:接触圧)180
℃、90分(圧力:40kg/cm2)の条件でプレス
成形を行い、銅張り積層板を作製後、積層板の中央部お
よび端部をマイクロメ−タにより、板厚の差を測定。 ・ボイド発生数:35μ銅箔により、IPC−TMー6
50のくし型電極を形成した0.2mm厚のコア材上
に、プリプレグおよび銅箔を重ね、板厚精度測定と同一
プレス条件で、プレス後、エッチングにより銅箔を除去
し、X線により、ボイドの発生数を測定した。The present invention will be described below in more detail with reference to examples. In addition, the test method of the performance in an Example is as follows. -Viscosity: Plate-type viscometer (Dynamic Spectrometer RDS-2 manufactured by Rheometrics Co., Ltd.) Measurement conditions Temperature 130 ° C Rotation speed 10rad /
Second-Gel time (1): Calculated from the intersection of the storage elastic modulus and the loss elastic modulus during viscosity measurement.・ Gel time (2): 1 according to JIS-C6481
Measured on a 70 ° C hot plate.・ Plate thickness accuracy: 35 μm thick copper foil is laid on both sides of 10 prepregs, 130 ° C, 20 minutes (pressure: contact pressure) 180
After forming a copper-clad laminate by press molding under conditions of 90 ° C. and 90 minutes (pressure: 40 kg / cm 2), the difference in sheet thickness between the central portion and the end portion of the laminated sheet was measured by a micrometer.・ Number of voids: IPC-TM-6 with 35μ copper foil
A prepreg and a copper foil were laid on a 0.2 mm thick core material on which 50 comb-shaped electrodes were formed, the copper foil was removed by etching after pressing under the same press conditions as the measurement of plate thickness accuracy, and X-ray The number of generated voids was measured.
【0024】また、実施例および比較例で使用した原料
は、次のものを使用した。 ・ポリマレイミド化合物:ビス(4−マレイミドフェニ
ル)メタン(三井東圧化学(株)製) ・ジヒドロキシナフタレン:1,6-ナフタレンジオール
(関東化学(株)製) ・フェノール樹脂(1):ナフトールザイロック(三井
東圧化学(株)製) ・フェノール樹脂(2):ナフトール、クレゾールノボ
ラック樹脂(カヤハードNHN(日本化薬(株)製) ・エポキシ樹脂;ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エ
ピコート1001、油化シェルエポキシ(株)製) ・グリシドール;エピオールOH(日本油脂(株)製) ・硬化促進剤;2エチル4メチルイミダゾール(2E4MZ
、四国化成(株)製) ・エポキシ樹脂プリプレグ:R1776(松下電工
(株)製)100μ厚 ・ボリアミノビスマレイミド樹脂プリプレグ:R477
5(松下電工(株)製)100μ厚 ・変性イミド樹脂プリプレグ:BT830(三菱瓦斯化
学(株)製)100μ厚The raw materials used in Examples and Comparative Examples were as follows. -Polymaleimide compound: bis (4-maleimidophenyl) methane (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.)-Dihydroxynaphthalene: 1,6-naphthalenediol (manufactured by Kanto Chemicals, Inc.)-Phenolic resin (1): naphtholzai Lock (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) ・ Phenol resin (2): Naphthol, cresol novolac resin (Kayahard NHN (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ・ Epoxy resin; Bisphenol A epoxy resin (Epicoat 1001, oil conversion) Shell Epoxy Co., Ltd.-Glycidol; Epiol OH (Nippon Oil & Fats Co., Ltd.)-Curing accelerator; 2 ethyl 4-methyl imidazole (2E4MZ)
, Manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd. ・ Epoxy resin prepreg: R1776 (manufactured by Matsushita Electric Works Ltd.) 100μ thick ・ Polyamino bismaleimide resin prepreg: R477
5 (Matsushita Electric Works, Ltd.) 100 μ thick Modified imide resin prepreg: BT830 (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) 100 μ thick
【0025】変性イミド樹脂(1)の製造例 撹拌機、温度計および冷却器を装着した反応容器に、ポ
リマレイミド樹脂100重量部、ナフトールザイロック
30重量部、エポキシ樹脂50重量部、グリシドール2
0重量部、メチルエチルケトン100重量部を挿入し
て、80℃、10時間反応させ、変性イミド樹脂(1)
を得た。Production Example of Modified Imido Resin (1) In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a cooler, 100 parts by weight of polymaleimide resin, 30 parts by weight of naphthol zylok, 50 parts by weight of epoxy resin, and glycidol 2
Insert 0 parts by weight and 100 parts by weight of methyl ethyl ketone and react at 80 ° C. for 10 hours to obtain modified imide resin (1)
I got
【0026】実施例1〜3および比較例1〜3 第1表に示す組成(重量部)の配合物を、フラスコ中で
溶解し、熱硬化性樹脂ワニスを得た。このようにして得
られた熱硬化性樹脂ワニスを、104g/m2 のガラス
クロス(100μ厚)に含浸し、150℃で5分間乾燥
して、約190g/m2 のプリプレグを得た。得られた
プリプレグの樹脂の粘度特性、ゲルタイム、板厚精度、
ボイド発生数を、表2に示す。比較のために、エポキシ
樹脂プリプレグ(比較例1)、ポリアミノビスマレイミ
ド樹脂プリプレグ(比較例2)、変性イミド樹脂プリプ
レグ(比較例3)についても、同様な評価を行い、その
結果を表2に示す。この発明に較べ、比較例1および3
の場合、粘度が低すぎるため板厚精度が悪く、また、ゲ
ルタイム(1)が短いため、ボイドが若干発生する。比
較例2の場合、粘度が高いことにより、板厚精度は良好
であるが、粘度の増粘が大きいため、ボイドの発生が多
い。以上、本実施例に比べ、板厚精度、ボイドの未発生
両者の特性を満たしていない。Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 The compositions (parts by weight) shown in Table 1 were dissolved in a flask to obtain a thermosetting resin varnish. The thermosetting resin varnish thus obtained was impregnated in a glass cloth (100 μm thick) of 104 g / m 2 and dried at 150 ° C. for 5 minutes to obtain a prepreg of about 190 g / m 2 . The viscosity characteristics of the obtained prepreg resin, gel time, plate thickness accuracy,
Table 2 shows the number of voids generated. For comparison, an epoxy resin prepreg (Comparative Example 1), a polyamino bismaleimide resin prepreg (Comparative Example 2), and a modified imide resin prepreg (Comparative Example 3) were also evaluated in the same manner, and the results are shown in Table 2. . Compared with the present invention, Comparative Examples 1 and 3
In the case of 1, the plate thickness accuracy was poor because the viscosity was too low, and some voids occurred because the gel time (1) was short. In the case of Comparative Example 2, the plate thickness accuracy is good due to the high viscosity, but voids are often generated due to the large increase in viscosity. As described above, the characteristics of both the plate thickness accuracy and the non-occurrence of voids are not satisfied as compared with the present embodiment.
【0027】[0027]
【表1】 [Table 1]
【0028】[0028]
【表2】 [Table 2]
【0029】[0029]
【発明の効果】実施例および比較例にて説明したごと
く、本発明によるプリプレグは、プレス成形後の板厚精
度が良く、また、ボイドの発生しないものであり、特
に、多層プリント配線板用のプリプレグとして、有効な
ものである。As described in Examples and Comparative Examples, the prepreg according to the present invention has good plate thickness accuracy after press molding and does not generate voids, and is particularly suitable for multilayer printed wiring boards. It is effective as a prepreg.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 1/03 610 H05K 1/03 610T (72)発明者 志摩 健二 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 桜庭 仁 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 朝比奈 浩太郎 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical display location H05K 1/03 610 H05K 1/03 610T (72) Inventor Kenji Shima 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Address: Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. (72) Inventor, Hitoshi Sakuraba, 1190, Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama, Kanagawa Prefecture Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. (72) Inventor: Kotaro Asahina, 1190, Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama, Kanagawa Prefecture Mitsui Toatsu Inside Chemical Co., Ltd.
Claims (5)
0rad /秒、温度130℃の条件で測定した粘度が、測
定初期5分間が5000〜30000ポイズの範囲内に
あり、かつ測定20分後が10000〜50000ポイ
ズの範囲内である熱硬化性樹脂組成物からなることを特
徴とするプリプレグ。1. A shear rate of 1 using a plate viscometer.
Thermosetting resin composition having a viscosity measured at 0 rad / sec and a temperature of 130 ° C. within the range of 5000 to 30,000 poise for the initial 5 minutes of measurement and within the range of 10,000 to 50,000 poise after 20 minutes of measurement A prepreg characterized by being made of objects.
性率と損失弾性率の交点で定義されるゲルタイムが、1
30℃で20分以上であり、かつ、170℃熱板上で測
定したゲルタイムが120秒以下である請求項1記載の
熱硬化性樹脂組成物からなることを特徴とするプリプレ
グ。2. The gel time defined by the intersection of the storage elastic modulus and the loss elastic modulus is 1 when measured with a plate type viscometer.
A prepreg comprising the thermosetting resin composition according to claim 1, which has a gel time of 30 seconds or longer at 30 ° C. and a gel time of 120 seconds or shorter as measured on a 170 ° C. hot plate.
脂組成物が、(a)一般式(1)(化1)で示されるポ
リマレイミド化合物 【化1】 (式中、R1はm価の有機基、Xa,Xbは水素原子、
ハロゲン原子および有機基から選ばれた同一または異な
る一価の原子または基、mは2以上の整数)を含有する
ことを特徴とするプリプレグ。3. The thermosetting resin composition according to claim 1 or 2, wherein (a) is a polymaleimide compound represented by the general formula (1) (In the formula, R 1 is an m-valent organic group, Xa and Xb are hydrogen atoms,
A prepreg, which contains the same or different monovalent atoms or groups selected from a halogen atom and an organic group, and m is an integer of 2 or more).
脂組成物が、(a)一般式(1)で示されるポリマレイ
ミド化合物と、(b)ナフトール、ジヒドロキシナフタ
レン、または少なくとも一つはナフタレン骨格を有する
フェノール樹脂、および/または(c)分子中に少なく
とも二つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を含有
してなることを特徴とするプリプレグ。4. The thermosetting resin composition according to claim 1 or 2, wherein (a) a polymaleimide compound represented by the general formula (1) and (b) naphthol, dihydroxynaphthalene, or at least one. Is a prepreg containing a phenol resin having a naphthalene skeleton, and / or (c) an epoxy resin having at least two epoxy groups in the molecule.
脂組成物が、(a)一般式(1)で示されるポリマレイ
ミド化合物を、(b)ナフトール、ジヒドロキシナフタ
レン、または少なくとも一つはナフタレン骨格を有する
フェノール樹脂、および/または(c)分子中に少なく
とも二つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、およ
び(d)分子中に少なくとも一つの活性水素を有する化
合物により変性してなる変性イミド樹脂を含有してなる
ことを特徴とするプリプレグ。5. The thermosetting resin composition according to claim 1 or 2, wherein (a) the polymaleimide compound represented by the general formula (1), (b) naphthol, dihydroxynaphthalene, or at least one. Is modified by a phenol resin having a naphthalene skeleton, and / or (c) an epoxy resin having at least two epoxy groups in the molecule, and (d) a compound having at least one active hydrogen in the molecule. A prepreg containing an imide resin.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP14939296A JPH09328565A (en) | 1996-06-11 | 1996-06-11 | Prepreg |
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| JP14939296A JPH09328565A (en) | 1996-06-11 | 1996-06-11 | Prepreg |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
| JP (1) | JPH09328565A (en) |
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1996
- 1996-06-11 JP JP14939296A patent/JPH09328565A/en active Pending
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