JPH09329404A - 基準平面円盤の支持装置 - Google Patents
基準平面円盤の支持装置Info
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- JPH09329404A JPH09329404A JP15138796A JP15138796A JPH09329404A JP H09329404 A JPH09329404 A JP H09329404A JP 15138796 A JP15138796 A JP 15138796A JP 15138796 A JP15138796 A JP 15138796A JP H09329404 A JPH09329404 A JP H09329404A
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- Japan
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- A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 工作機械あるいは平面度測定器等の移動テー
ブルや回転テーブル等の運動精度を測定する際に、基準
平面円盤の変形を小さくし、安定静止状態が得られる時
間を短縮することのできる支持装置を提供する。 【解決手段】 基準平面円盤の半径の６８％±５％を半
径とする円周上に、等間隔に設けられた３点の支点を有
することを特徴とする。３点の支点の中で２点以上の支
点が高さ調整機構を有していることが好ましい。 【効果】 基準平面円盤の自重による変形を小さくする
ことができるとともに、手で持って移動することがない
ので安定静止状態が得られる時間を短縮できる。再現性
のよい、信頼性の高い測定が可能である。支点の高さ調
整機構を有する場合は、傾斜したテーブルの測定も容易
である。
ブルや回転テーブル等の運動精度を測定する際に、基準
平面円盤の変形を小さくし、安定静止状態が得られる時
間を短縮することのできる支持装置を提供する。 【解決手段】 基準平面円盤の半径の６８％±５％を半
径とする円周上に、等間隔に設けられた３点の支点を有
することを特徴とする。３点の支点の中で２点以上の支
点が高さ調整機構を有していることが好ましい。 【効果】 基準平面円盤の自重による変形を小さくする
ことができるとともに、手で持って移動することがない
ので安定静止状態が得られる時間を短縮できる。再現性
のよい、信頼性の高い測定が可能である。支点の高さ調
整機構を有する場合は、傾斜したテーブルの測定も容易
である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、工作機械あるいは
平面度測定器等の移動テーブルや回転テーブル等の運動
精度を測定する際に使用される基準平面円盤の支持装置
に関するものである。
平面度測定器等の移動テーブルや回転テーブル等の運動
精度を測定する際に使用される基準平面円盤の支持装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】工作機械あるいは平面度測定器等の移動
テーブルや回転テーブル等の運動精度を測定する方法の
一つとして、基準平面円盤（ optical flat とも呼ばれ
る）を用いる方法がある。この基準平面円盤は、使用し
ないときは専用の保管箱に入れておき、測定の際には手
で取り出して、測定すべきテーブル等の上に直接載置し
ていた。
テーブルや回転テーブル等の運動精度を測定する方法の
一つとして、基準平面円盤（ optical flat とも呼ばれ
る）を用いる方法がある。この基準平面円盤は、使用し
ないときは専用の保管箱に入れておき、測定の際には手
で取り出して、測定すべきテーブル等の上に直接載置し
ていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】一般に上記のような各
種テーブルの表面には、凹凸やうねり、あるいは加工屑
や空気中のゴミなどが付着している。このような状態
で、該テーブルの運動精度を測定するために、極めて高
い精度に加工された基準平面円盤をテーブル上におく
と、テーブルの凹凸やゴミなどの影響で基準平面円盤は
変形してしまい、測定基準としての機能を失ってしま
う。また、ミクロンオーダあるいはそれ以下の極めて高
い精度の測定を行おうとすると、基準平面円盤をテーブ
ル上に移動するために手を触れただけでも、体温と円盤
との温度差によって、円盤に熱が流れて熱変形する。
種テーブルの表面には、凹凸やうねり、あるいは加工屑
や空気中のゴミなどが付着している。このような状態
で、該テーブルの運動精度を測定するために、極めて高
い精度に加工された基準平面円盤をテーブル上におく
と、テーブルの凹凸やゴミなどの影響で基準平面円盤は
変形してしまい、測定基準としての機能を失ってしま
う。また、ミクロンオーダあるいはそれ以下の極めて高
い精度の測定を行おうとすると、基準平面円盤をテーブ
ル上に移動するために手を触れただけでも、体温と円盤
との温度差によって、円盤に熱が流れて熱変形する。
【０００４】さらに、移動のために円盤を持ち、外力を
加えることによっても円盤は変形してしまう。このよう
な変形が起きると、元の安定静止状態が得られるのに時
間を要し、場合によっては安定するまでに半日から１日
以上もかかる場合があった。しかも、安定した場合でも
前述の凹凸やゴミ等の影響で、円盤本来の精度を測定時
に再現できないという問題があった。
加えることによっても円盤は変形してしまう。このよう
な変形が起きると、元の安定静止状態が得られるのに時
間を要し、場合によっては安定するまでに半日から１日
以上もかかる場合があった。しかも、安定した場合でも
前述の凹凸やゴミ等の影響で、円盤本来の精度を測定時
に再現できないという問題があった。
【０００５】本発明は、工作機械あるいは平面度測定器
等の移動テーブルや回転テーブル等の運動精度を測定す
る際に、基準平面円盤の変形を小さくし、安定静止状態
が得られる時間を短縮することのできる支持装置を提供
することを目的とする。
等の移動テーブルや回転テーブル等の運動精度を測定す
る際に、基準平面円盤の変形を小さくし、安定静止状態
が得られる時間を短縮することのできる支持装置を提供
することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、基準平面円盤の半径の６８％±５％を半径
とする円周上に、等間隔に設けられた３点の支点を有す
ることを特徴とする基準平面円盤の支持装置である。そ
して、３点の支点の中で２点以上の支点が高さ調整機構
を有していることが好ましい。
の本発明は、基準平面円盤の半径の６８％±５％を半径
とする円周上に、等間隔に設けられた３点の支点を有す
ることを特徴とする基準平面円盤の支持装置である。そ
して、３点の支点の中で２点以上の支点が高さ調整機構
を有していることが好ましい。
【０００７】
【発明の実施の態様】本発明装置を具体例により説明す
る。図１は本発明装置例の平面図であり、基準平面円盤
１は破線で示す位置に載置される。図２は基準平面円盤
１を載置した状態の断面図であり、図１のＡ−Ａ矢視を
示す。載置に際しては、基準平面円盤の中心点２を、本
発明支持装置の３つの支点３のなす中心点１２に一致さ
せる。本発明支持装置の３つの支点３は、基準平面円盤
１の半径の６８％±５％を半径とする一点鎖線で示す円
周上に等間隔に設けられている。すなわち、該円周の中
心点１２と各支点３を結ぶ３本の直線のなす角は、１２
０°である。
る。図１は本発明装置例の平面図であり、基準平面円盤
１は破線で示す位置に載置される。図２は基準平面円盤
１を載置した状態の断面図であり、図１のＡ−Ａ矢視を
示す。載置に際しては、基準平面円盤の中心点２を、本
発明支持装置の３つの支点３のなす中心点１２に一致さ
せる。本発明支持装置の３つの支点３は、基準平面円盤
１の半径の６８％±５％を半径とする一点鎖線で示す円
周上に等間隔に設けられている。すなわち、該円周の中
心点１２と各支点３を結ぶ３本の直線のなす角は、１２
０°である。
【０００８】各支点３の位置を、上記のように、基準平
面円盤１の半径の６８％を半径とする円周上に等間隔に
設けると、載置した該円盤１の自重による変形が最も少
なく、かつ最短時間で安定静止状態に達することができ
る。そして、各支点３を設ける円周の半径が、基準平面
円盤１の半径の６８％±５％の範囲、より好ましくは６
８％±１％の範囲であれば、その優れた性能を発揮する
ことができる。
面円盤１の半径の６８％を半径とする円周上に等間隔に
設けると、載置した該円盤１の自重による変形が最も少
なく、かつ最短時間で安定静止状態に達することができ
る。そして、各支点３を設ける円周の半径が、基準平面
円盤１の半径の６８％±５％の範囲、より好ましくは６
８％±１％の範囲であれば、その優れた性能を発揮する
ことができる。
【０００９】各支点３は、ファインセラミックス等のヤ
ング率の高い材料からなる球面形状のもので構成され、
本例では、支持台４の円錐状の穴に嵌入された球からな
る。そして、図３（ａ）の拡大図に示すように、支点３
の上部が、支持台４の上面から露出し、基準平面円盤１
を点接触で支持するように保持されている。
ング率の高い材料からなる球面形状のもので構成され、
本例では、支持台４の円錐状の穴に嵌入された球からな
る。そして、図３（ａ）の拡大図に示すように、支点３
の上部が、支持台４の上面から露出し、基準平面円盤１
を点接触で支持するように保持されている。
【００１０】図２に示すように、支持台４は３点の支点
３の位置にて、下側からボール５を介して３個の昇降ね
じ６で支持され、各昇降ねじ６は、基台７に螺入して、
高さ調整可能となっている。そして、支持台４の中心部
には、基台７に固設された昇降ガイド８が遊嵌され、横
方向の位置ずれを防止している。ボール５を介した支持
台４と昇降ねじ６の接触部は、図３（ｂ）の拡大図に示
すように、ボール５が双方の円錐状の穴に嵌入されてい
るので、昇降ねじ６を回転したとき、支持台４は横方向
に位置ずれせず円滑に上下動する。各昇降ねじ６は、基
準平面円盤１を載置した状態で容易に回転できるよう、
図１に示すように、一部が該円盤１の外側に出ている。
３の位置にて、下側からボール５を介して３個の昇降ね
じ６で支持され、各昇降ねじ６は、基台７に螺入して、
高さ調整可能となっている。そして、支持台４の中心部
には、基台７に固設された昇降ガイド８が遊嵌され、横
方向の位置ずれを防止している。ボール５を介した支持
台４と昇降ねじ６の接触部は、図３（ｂ）の拡大図に示
すように、ボール５が双方の円錐状の穴に嵌入されてい
るので、昇降ねじ６を回転したとき、支持台４は横方向
に位置ずれせず円滑に上下動する。各昇降ねじ６は、基
準平面円盤１を載置した状態で容易に回転できるよう、
図１に示すように、一部が該円盤１の外側に出ている。
【００１１】基台７は枠体９に固設され、枠体９にはハ
ンドル１０が設けてある。本発明装置で基準平面円盤１
を支持し、ハンドル１０を把持して、測定しようとする
テーブル１３上に載置し、必要に応じて昇降ねじ６を回
し、傾斜調整をする。昇降ねじ６は、２個または３個が
昇降可能になっていればよい。
ンドル１０が設けてある。本発明装置で基準平面円盤１
を支持し、ハンドル１０を把持して、測定しようとする
テーブル１３上に載置し、必要に応じて昇降ねじ６を回
し、傾斜調整をする。昇降ねじ６は、２個または３個が
昇降可能になっていればよい。
【００１２】また、止めピン１１は支持台４に設置され
ており、基準平面円盤１の外周を該ピン１１に接触させ
たとき、上記のように３個の支点３の中心点１２と該円
盤１の中心点２とが一致する位置に設けてある。したが
って、本発明装置に基準平面円盤１を載置するとき、該
円盤の外周を止めピン１１に軽く接触させることで、両
中心点２および１２を一致させることができる。
ており、基準平面円盤１の外周を該ピン１１に接触させ
たとき、上記のように３個の支点３の中心点１２と該円
盤１の中心点２とが一致する位置に設けてある。したが
って、本発明装置に基準平面円盤１を載置するとき、該
円盤の外周を止めピン１１に軽く接触させることで、両
中心点２および１２を一致させることができる。
【００１３】本発明装置において、被測定テーブルが基
準平面円盤の水平調整器を有している場合、あるいは常
に水平に保たれている場合は、基準平面円盤の傾斜を調
整する必要がなく、各支点３の高さ調整機構は不要であ
る。
準平面円盤の水平調整器を有している場合、あるいは常
に水平に保たれている場合は、基準平面円盤の傾斜を調
整する必要がなく、各支点３の高さ調整機構は不要であ
る。
【００１４】本発明装置によれば、基準平面円盤の自重
による変形が最小に抑えられ、短時間で安定静止状態に
達することができる。そして、被測定テーブルに載置す
るにあたっては、高精度に製作された高価な基準平面円
盤に手を触れることなく、本発明装置を把持して移動す
ることができるので、温度変化による不安定状態を回避
できる。
による変形が最小に抑えられ、短時間で安定静止状態に
達することができる。そして、被測定テーブルに載置す
るにあたっては、高精度に製作された高価な基準平面円
盤に手を触れることなく、本発明装置を把持して移動す
ることができるので、温度変化による不安定状態を回避
できる。
【００１５】
本発明例： （１）購入した直径２００mm、厚さ３０mm、表面の平面
度が０．０３μｍ以下のＢＫ７ガラス製基準平面円盤
を、恒温室に設けた平面度１μｍ以下の高精度定盤上に
４８時間静置して安定状態にした。 （２）上記基準平面円盤を、同上恒温室内にて、図１お
よび図２に示す本発明支持装置に載置した。このとき、
該円盤を手で持って移動したため小変形が生じ、平面度
が約１μｍとなり、この変形がなくなるまで、６時間静
置した。 （３）基準平面円盤に手を触れることなく、本発明支持
装置のハンドル１０を持って、同上恒温室内の被測定体
上に載置した。このとき、移動による基準平面円盤の変
形は生じないので、被測定体に載置後、直ちに測定可能
であった。被測定体に載置した後の基準平面円盤の変形
状態を等高線図で示すと、図４のように、正三角形の頂
点にある各支点の位置が最高点の規則的なパターンとな
り、中心点を通り上記正三角形の一辺に平行なｘ軸上の
高低差ｈ1 は極めて小さい。なお、最高点を通るｙ軸上
の高低差ｈ2 は、ｈ1 に比べて大きくはなるが、従来例
に比べて小さい。等高線の数字は相対的な高さを示すも
のである。したがって、ｘ方向を被測定体の運動方向に
一致させることで、極めて高精度の運動精度測定が可能
である。 （４）測定終了後も、基準平面円盤に手を触れることな
く、本発明支持装置のハンドル１０を持って、被測定体
から元の所定位置に移した。このときの移動による基準
平面円盤の変形も生じないので、直ちに別の被測定体に
載置して、同様に直ちに測定可能であった。また、同一
の被測定体についての、載置位置を変えた繰返し測定も
直ちに可能であった。
度が０．０３μｍ以下のＢＫ７ガラス製基準平面円盤
を、恒温室に設けた平面度１μｍ以下の高精度定盤上に
４８時間静置して安定状態にした。 （２）上記基準平面円盤を、同上恒温室内にて、図１お
よび図２に示す本発明支持装置に載置した。このとき、
該円盤を手で持って移動したため小変形が生じ、平面度
が約１μｍとなり、この変形がなくなるまで、６時間静
置した。 （３）基準平面円盤に手を触れることなく、本発明支持
装置のハンドル１０を持って、同上恒温室内の被測定体
上に載置した。このとき、移動による基準平面円盤の変
形は生じないので、被測定体に載置後、直ちに測定可能
であった。被測定体に載置した後の基準平面円盤の変形
状態を等高線図で示すと、図４のように、正三角形の頂
点にある各支点の位置が最高点の規則的なパターンとな
り、中心点を通り上記正三角形の一辺に平行なｘ軸上の
高低差ｈ1 は極めて小さい。なお、最高点を通るｙ軸上
の高低差ｈ2 は、ｈ1 に比べて大きくはなるが、従来例
に比べて小さい。等高線の数字は相対的な高さを示すも
のである。したがって、ｘ方向を被測定体の運動方向に
一致させることで、極めて高精度の運動精度測定が可能
である。 （４）測定終了後も、基準平面円盤に手を触れることな
く、本発明支持装置のハンドル１０を持って、被測定体
から元の所定位置に移した。このときの移動による基準
平面円盤の変形も生じないので、直ちに別の被測定体に
載置して、同様に直ちに測定可能であった。また、同一
の被測定体についての、載置位置を変えた繰返し測定も
直ちに可能であった。
【００１６】従来例： （１）上記本発明例と同じ基準平面円盤を上記本発明例
と同じ恒温室内にて、同様に安定状態にした。 （２）上記基準平面円盤を、手で持って、同上恒温室内
の被測定体上に直接載置した。このとき、該円盤を手で
持って移動したことによる小変形を、元の状態に復帰さ
せるため、本発明例（２）と同様６時間静置した。しか
し、被測定体上のゴミやうねりあるいは凹凸の影響によ
り、静置後の基準平面円盤の変形状態は、図５に示すよ
うに、不規則なパターンでかつ高低差ｈ3 が大であっ
た。 （３）測定終了後は、基準平面円盤を手で持って被測定
体から元の所定位置に移した。このときも、該円盤を手
で持って移動したことによる小変形を元の状態に復帰さ
せるため、同様に６時間の静置を要した。そして、さら
に別の被測定体に上記基準平面円盤を同様にして載置し
た後も、安定化に６時間の静置を要した。静置後の基準
平面円盤の変形状態も、図６に示すように不規則なパタ
ーンでかつ高低差ｈ4 が大であった。
と同じ恒温室内にて、同様に安定状態にした。 （２）上記基準平面円盤を、手で持って、同上恒温室内
の被測定体上に直接載置した。このとき、該円盤を手で
持って移動したことによる小変形を、元の状態に復帰さ
せるため、本発明例（２）と同様６時間静置した。しか
し、被測定体上のゴミやうねりあるいは凹凸の影響によ
り、静置後の基準平面円盤の変形状態は、図５に示すよ
うに、不規則なパターンでかつ高低差ｈ3 が大であっ
た。 （３）測定終了後は、基準平面円盤を手で持って被測定
体から元の所定位置に移した。このときも、該円盤を手
で持って移動したことによる小変形を元の状態に復帰さ
せるため、同様に６時間の静置を要した。そして、さら
に別の被測定体に上記基準平面円盤を同様にして載置し
た後も、安定化に６時間の静置を要した。静置後の基準
平面円盤の変形状態も、図６に示すように不規則なパタ
ーンでかつ高低差ｈ4 が大であった。
【００１７】
【発明の効果】本発明の基準平面円盤の支持装置は、基
準平面円盤の半径の６８％±５％を半径とする円周上
に、等間隔に設けられた３点の支点を有しているので、
工作機械のテーブルや平面度測定器のテーブル等の運動
精度を測定するとき、基準平面円盤の自重による変形を
小さくすることができるとともに、手で持って移動する
ことがないので安定静止状態が得られる時間を短縮する
ことができる。そして、運動精度の測定に際しては、再
現性のよい、信頼性の高い測定が可能である。支点の高
さ調整機構を有する場合は、傾斜したテーブルの測定も
容易である。したがって、短時間での高精度測定が達成
される。
準平面円盤の半径の６８％±５％を半径とする円周上
に、等間隔に設けられた３点の支点を有しているので、
工作機械のテーブルや平面度測定器のテーブル等の運動
精度を測定するとき、基準平面円盤の自重による変形を
小さくすることができるとともに、手で持って移動する
ことがないので安定静止状態が得られる時間を短縮する
ことができる。そして、運動精度の測定に際しては、再
現性のよい、信頼性の高い測定が可能である。支点の高
さ調整機構を有する場合は、傾斜したテーブルの測定も
容易である。したがって、短時間での高精度測定が達成
される。
【図１】本発明装置の例を示す平面図である。
【図２】本発明装置で基準平面円盤を支持した状態の例
を示し、図１のＡ−Ａ矢視断面図である。
を示し、図１のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図３】本発明装置の例を示し、図２の一部拡大図であ
る。
る。
【図４】本発明装置で支持した基準平面円盤の、自重に
よる変形パターンの例を示す図である。
よる変形パターンの例を示す図である。
【図５】基準平面円盤を被測定面に直接載置した場合
の、自重による変形パターンの例を示す図である。
の、自重による変形パターンの例を示す図である。
【図６】基準平面円盤を被測定面に直接載置した場合
の、自重による変形パターンの別の例を示す図である。
の、自重による変形パターンの別の例を示す図である。
１…基準平面円盤 ２…中心点 ３…支点 ４…支持台 ５…ボール ６…昇降ねじ ７…基台 ８…昇降ガイド ９…枠体 １０…ハンドル １１…止めピン １２…中心点 １３…テーブル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 林 孝 神奈川県川崎市幸区下平間239番地 黒田 精工株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 基準平面円盤の半径の６８％±５％を半
径とする円周上に、等間隔に設けられた３点の支点を有
することを特徴とする基準平面円盤の支持装置。 - 【請求項２】 ３点の支点の中で２点以上の支点が高さ
調整機構を有していることを特徴とする請求項１記載の
基準平面円盤の支持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15138796A JPH09329404A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 基準平面円盤の支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15138796A JPH09329404A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 基準平面円盤の支持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09329404A true JPH09329404A (ja) | 1997-12-22 |
Family
ID=15517477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15138796A Pending JPH09329404A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 基準平面円盤の支持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09329404A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1629738A1 (en) | 2004-08-26 | 2006-03-01 | Solveig Kesby | Disposable sweat and odour absorbing insoles or inserts for shoes |
-
1996
- 1996-06-12 JP JP15138796A patent/JPH09329404A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1629738A1 (en) | 2004-08-26 | 2006-03-01 | Solveig Kesby | Disposable sweat and odour absorbing insoles or inserts for shoes |
| WO2006021934A1 (en) | 2004-08-26 | 2006-03-02 | Solveig Kesby | Disposable sweat and odour absorbing insoles or inserts for shoes |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20050228 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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